TWI511778B - 高分離效率的複合聚矽氧薄膜、其用途及製造彼之方法 - Google Patents
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Description
本發明係關於具有分離薄膜層之複合薄膜，其特徵在於藉由固化側向改質之通式I聚矽氧丙烯酸酯來製造分離薄膜層：
聚矽氧薄膜適用於許多分離方法。聚矽氧薄膜之一優點尤其為其對許多有機溶劑具有抗性且因此可大量使用於基於溶劑之薄膜方法(如例如親有機物奈米過濾或類似分離方法)中而無問題。基於溶劑之奈米過濾為一種基於薄膜之壓力驅動分離方法，其在分子層次上分離溶於有機溶劑中之分子。當前，耐溶劑薄膜尤其在食品工業、石油化學、化學工業中使用且在醫藥工業中用於製造醫藥活性成分。
此外，聚矽氧薄膜亦用於氣體分離(GS)。典型氣體分離過程為自空氣分離氮氣、氫氣回收、空氣乾燥、解析烴及移除揮發性有機組分之過程。相較於用於氣體分離過程中之其他聚合物，聚矽氧薄膜通常具有顯著較高之滲透性，但通常具有較低之選擇性。在氣體分離領域中之各種應用詳述於以下文獻來源中：Ind. Eng. Chem. Res.,第41卷，第6期,2002。
聚矽氧薄膜所適用之基於溶劑之奈米過濾的一實例為植物油製造中的己烷回收。藉由在己烷回收中使用薄膜，可節約顯著量之能量。
油製造製造中之第一步為油提取。在提取期間，將油性原料與己烷混合。此製造油於己烷中之溶液，其亦稱為油與溶劑混合物(miscella)。溶解之油含有多達95%以上之三醯基甘油酯，及作為微量組分的磷脂、自由脂肪酸(FFA)、色素、固醇、碳水化合物、蛋白質及其降解產物。
油與溶劑混合物包含70至75%之己烷。油及己烷可例如藉由多級蒸餾分離來分離。此需要比用於使己烷汽化較高的能量消耗。相對照地，若將薄膜用於分離至少大多數己烷，則可節約可觀數量之能量。
可能存在於聚矽氧薄膜使用中之一個問題為在含己烷系統中之長期穩定性不足，以及不需要的物質累積在薄膜表面上。
亦稱為複合矽薄膜之聚矽氧複合薄膜在植物油工業中之用途為熟知的。此領域中已進行之研究描述於例如以下參考文獻中：Fett. Lipid 98(1996),第10-14頁、JAOCS 79(2002)第937-942頁。豆油的油與溶劑混合物溶液中表面疏水性與組分在薄膜表面上之累積之間的關係已描述於以下參考文獻中：in Colloids and Surfaces,A:Physicochemical and Engineering Aspects 204(2002)31-41。
聚矽氧薄膜原則上所適用之基於溶劑之奈米過濾應用的另一實例為例如自水調配(hydroformulation)反應混合物分離均相觸媒：Elements,Degussa-ScienceNewsletter,18,(2007) 30-35、EP-A1-1 931 472；自複分解反應混合物分離均相觸媒：Recovery of Enlarged Olefin Metathesis Catalysts by Nanofiltration in an Eco-Friendly Solvent,A. Keraani,T. Renouard,C. Fischmeister,C. Bruneau,M. Rabiller-Baudry,ChemSusChem 2008,1,927、EP 1817097；自鈴木偶合(Suzuki coupling)反應混合物分離均相觸媒：Solvent-Resistant Nanofiltration of Enlarged(NHC)Pd(allyl)Cl Complexes for Cross-Coupling Reactions,Dirk Schoeps,Volodymyr Sashuk,Katrin Ebert,Herbert Plenio,Organometallics 2009,28,3922；或自短鏈聚合反應混合物分離均相觸媒：US2009 0032465A1。
各種基於溶劑之奈米過濾方法(有機溶劑奈米過濾，OSN)之廣泛調查見於參考文獻：Chem. Soc. Rev.,2008,37,365-405。此處亦陳述先前技術之聚矽氧薄膜在薄膜處至多截留來自己烷溶液之90%的三酸甘油酯。彼處描述之三酸甘油酯由900 g/mol(± 10%)之莫耳質量區分。
市面上可用之聚矽氧薄膜之一製造商為GMT Membrantechnik GmbH(德國)。其薄膜之聚矽氧分離層係例如使用德國專利19507584中描述之方法來製造製造。在此方法中，藉由照射來另外交聯聚矽氧塗層。據稱從而降低了分離層在含溶劑系統中之膨脹。然而，該等薄膜在諸如低分子量正烷烴之疏水性介質中顯著膨脹，且顯著喪失效能及截留性。此外，該等薄膜極疏水，此導致例如在油與溶劑混合物中或在醫藥活性成分濃縮期間或在均相觸媒系統濃縮中或在染料濃縮中，疏水性組分顯著累積在薄膜表面上。
在專利申請案US 2007 0007195、EP 1 741 481及 EP 0 979 851中，描述了其中的分離層藉由固化聚矽氧丙烯酸酯來製造之薄膜。在此方法中，使用僅在鏈末端改質之聚矽氧丙烯酸酯。彼處亦給出製造方法之指示，其中所有方法皆共有以下事實：亦使用必須在製造期間蒸發掉之溶劑。此為不利的，因為必須處理掉溶劑蒸汽。
此外，已發現此等薄膜不具有超越DE19507584或其他先前技術薄膜之改良選擇性。足以滿足工業分離任務之選擇性通常僅在顯著大於95%之欲截留組分被截留在薄膜處時存在。所有先前已知的基於聚矽氧或聚矽氧丙烯酸酯之薄膜皆不具有此類足以用於該等應用之截留能力。
在此背景下，本發明之目的在於提供基於聚矽氧之薄膜，其可自莫耳質量<200 g/mol、較佳<150 g/mol、尤其較佳<120 g/mol之有機溶劑分離至少95%的具有小於800 g/mol分子質量的組分。此等溶劑之實例為四氫呋喃、己烷、庚烷、異丙醇、甲苯、二氯甲烷、丙酮及乙酸乙酯。
目的另外為藉由適合交聯來降低先前已知聚矽氧薄膜尤其例如在脂族溶劑，諸如己烷及庚烷中之高膨脹趨勢。
在以上提及之溶劑中的膨脹之成功降低顯露於隨時間保持分離性質方面。例如在溶劑甲苯至強烈膨脹溶劑己烷之變化中，根據先前技術之薄膜在其他條件相同的情況下展現分子排除極限(相應分子量MWCO之聚苯乙烯之90%截留)的加倍。雖然此處聲明已製造降低的膨脹趨勢，但此亦明確適用於根據EP 1741 481製造之薄膜。EP 1 741 481中揭示之實施例顯示截留能力改變，此證實膨脹的確發生。此處對於所聲明之效應=不膨脹，短期性考慮為不足的。
本發明之目的另外為藉由將親水性組分併入薄膜聚合物中來減小先前已知聚矽氧薄膜之極疏水性質而加強親水性。
令人驚訝地，頃發現具有一或多個分離薄膜層之矽複合薄膜在該等目的的內容中具有尤其有利之性質。
若藉由固化側向改質之通式I聚矽氧丙烯酸酯來製造至少一個分離薄膜層，則本發明之目的因此經由具有一或多個分離薄膜層之聚矽氧複合薄膜而達成。
其中：a=25-500、較佳25-300、尤其30-200，b=1-25、較佳1-15、尤其1-8，c=0-20、較佳0-10、尤其0，R1
=彼此獨立之相同或不同的具有1至30個碳原子之視情況帶有醚及/或酯及/或環氧基及/或醇官能基的烷基或芳基，較佳為具有1至30個碳原子之相同或不同烷基或芳基，尤其甲基或苯基，R2
=彼此獨立之相同或不同的來自以下基團之基團：R1
、R3
及R4
，R3
=相同或不同的帶有一或多個丙烯酸酯基團之有機基團，較佳為通式II或III的取代基，
d=0至12，e=0或1，f=0-12，g=0-2，h=1-3，其中：g+h=3，R6
=彼此獨立之具有1至30個碳原子之相同或不同烷基或芳基或H，R7
=相同或不同的二價烴基團，較佳-CR6 2
-，尤其-CH2
-R4
=相同或不同的聚醚基團，較佳相同或不同通式IV之聚醚基團
i=0-12，較佳3-7，尤其3，j=0-50，k=0-50，l=0-50，R8
=具有2-30個碳原子之相同或不同烷基或芳基，較佳乙基及苯基，R9
=相同或不同的具有2-30個碳原子之烷基或芳基，或H或烷醯基，較佳甲基、H或乙醯基。
本發明亦係關於藉由固化式I聚矽氧丙烯酸酯製造之由複數個不同聚矽氧丙烯酸酯層構成的複合薄膜。
此外，頃發現可藉由固化不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物來製造的聚矽氧薄膜之尤其有利家族。藉助於選擇混合物，截留極限(cut-off limit)、交聯度及親水性等性質可實際上無級地被設定在先前未知範圍內。
因此，此等發明進一步係關於具有已藉由固化不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物製造之一或多個分離薄膜層的聚矽氧複合薄膜。
不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物尤其有利地包含至少以下組分：
a)一或多種平均矽含量>29重量%之聚矽氧丙烯酸酯，較佳一或多種平均矽含量>29重量%之通式I之聚矽氧丙烯酸酯，尤其一或多種矽含量>29重量%之通式I之聚矽氧丙烯酸酯(其中b=c=0)，
其中，對於組分a：
a=25-500，較佳25-300，尤其30-200，
b=0-15，較佳0-8，尤其0
c=0-20，較佳0-10，尤其0
限制條件為在b=0，R2
=R3
時，
b)一或多種矽含量<27.5重量%之聚矽氧丙烯酸酯，較佳一或多種矽含量<27.5重量%之通式I之聚矽氧丙烯酸酯，尤其一或多種矽含量<27.5重量%之通式I之聚矽氧丙烯酸酯(其中c>3)，其中，對於組分b：a=1-24，較佳5-20，尤其較佳10-20，且尤其10、11、12、13、14、15、16或尤其17，b=0-25，較佳3-10，尤其較佳3、4、5、6、7或8，c=0-20，較佳0-10，尤其較佳0或1、2、3或4，限制條件為在b=0，R2
=R3
時。
較佳地，組分a)及b)以10比1至1比10之質量比，尤其2比8至8比2之比率存在於混合物中。
所述結構式為具有分子量分佈之聚合物。下標a、b、c、j、k及l因此為平均值且可能不為整數。
式中所述組分之不同單體單元(矽氧烷鏈或聚環氧烷鏈)可彼此間逐段構成，具有任何所要數目之嵌段及任何所要順序，或服從統計分佈。式中所用下標必須視為統計平均值。
聚矽氧丙烯酸酯之矽含量受有機改質程度影響。結合至矽氧烷主鏈之有機配位體越多，矽含量越低。頃發現當聚矽氧複合薄膜具有藉由固化不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物而製造的分離層時，獲得具有有利性質之聚矽氧複合薄膜。在此情況下，將一或多種Si含量小於27.5重量%之相對高度改質聚矽氧丙烯酸酯(組分b)固化成與一或多種Si含量>29重量%之相對較少改質之聚矽氧丙烯酸酯(組分a)的混合物。
如下文所示，根據本發明使用聚矽氧丙烯酸酯之混合物獲得之薄膜性質具有有利性質。
若使用僅在鏈末端改質之聚矽氧丙烯酸酯(稱為α,ω-改質聚矽氧丙烯酸酯)作為組分a)，則產生尤其有利之性質。此外，若使用側向改質聚矽氧丙烯酸酯作為組分b)，則顯示有利性質。
除聚矽氧丙烯酸酯以外，可適宜向混合物中添加許多其他物質，諸如填充劑、穩定劑、著色劑或有機丙烯酸酯。此列舉不應視為全面的。
本發明描述經由特殊聚矽氧丙烯酸酯或聚矽氧丙烯酸酯之混合物製造之具有至少一個分離層的新穎複合薄膜。
為了製造本發明複合薄膜，一般而言，溶劑持久性及多孔三維結構可用作支撐物(如例如纖維織物(fibrous web)、組織或微濾或超濾薄膜或隔板(如例如電池隔板Separion(Evonik Degussa股份有限公司之商標)或Solupor(Evonik Degussa股份有限公司之商標))的次結構或基底材料。原則上所有適用於過濾及/或相分離目的且可經由本發明矽丙烯酸酯改質之多孔結構皆適於形成複合薄膜。
本發明進一步亦係關於藉由使用光引發劑，藉由波長小於800 nm之電磁輻射及/或經由電子束來固化式I之本發明聚矽氧丙烯酸酯所獲得的複合薄膜。特定言之，固化藉由波長小於400 nm之紫外線輻射來進行。
本發明進一步亦係關於含有經固化之式I聚矽氧丙烯酸酯的複合薄膜，其具有作為支撐薄膜之超濾薄膜。
特定言之，使用不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物允許有針對性地設定薄膜性質。藉由設定經界定之混合比，有可能使薄膜適應某些要求且處理特殊的分離問題。
Evonik Goldschmidt股份有限公司提供許多適於製造本發明之薄膜的市售聚矽氧丙烯酸酯。
Evonik Goldschmidt股份有限公司之典型產品為RC 902、RC 715。RC 902及RC 715為僅在鏈末端改質之直鏈聚合物。RC 902具有例如34重量%之矽分數且RC 715具有例如32重量%之矽分率-此等為在相對較低程度上改質之產品。亦可獲得具有例如24重量%之矽分率的側向改質矽氧烷。相較於氧化矽主鏈，有機組分/基團之分率相對較高。當使用不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物時，RC 902及RC 715對應於例如組分a)之直鏈鏈末端改質聚合物，而側向改質聚合物對應於組分b)。
藉由塗佈例如基於超濾薄膜或隔板之多孔支撐材料來製造上述聚矽氧複合薄膜。在此情況下可用作支撐材料的材料原則上為所有已知大孔材料：K.-V. Peinemann及S. Nunes,Membrane Technology in the Chemical Industry,Wiley-VCH Verlag股份有限公司,2006。尤其適合作為多孔支撐材料的材料為選自以下材料之群的薄膜：聚丙烯腈(PAN)、聚醯亞胺(PI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚醯胺(PA)、聚醯胺-醯亞胺(PAI)、聚醚碸(PES)、聚苯并咪唑(PBI)磺酸化聚醚酮(SPEEK)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)；以及使用氧化鋁、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化矽及/或亞硝酸鈦製造之無機多孔材料及/或陶瓷薄膜或聚合物陶瓷薄膜；以及指定之各種支撐薄膜材料之混合物及/或改質形式或複合物。
上述聚矽氧複合薄膜適用於在有機溶劑中進行之分離任務。視具體實例而定，其能夠以分子量小於2000 g/mol、較佳小於1000 g/mol、且尤其較佳小於500 g/mol之溶解分子之至少90重量%、較佳>95重量%、更佳>98重量%且尤其>99重量%的截留分率進行分離或截留。
在本發明之一尤其較佳具體實例中，藉助於本發明之薄膜，可自溶於有機溶劑中之具有不同分子質量的組分分離至少95%的分子質量小於800 g/mol、較佳莫耳質量<200 g/mol、尤其較佳<150 g/mol且尤其<120 g/mol之組分。此等可截留溶劑之實例為四氫呋喃、己烷、庚烷、異丙醇、甲苯、二氯甲烷、丙酮及乙酸乙酯，較佳為己烷或庚烷。
溶解之分子原則上可為所有可溶於各別溶劑中之分子。因此，本發明進一步係關於使用本發明聚矽氧複合薄膜(例如)自反應混合物分離均相觸媒系統、自溶劑(如例如己烷、庚烷、乙醇或丙酮)分離三酸甘油酯、自單體溶液分離寡聚物、或自反應混合物或溶液分離(醫藥)活性成分或其前驅體。
本發明亦進一步係關於使用矽-聚丙烯酸酯複合薄膜自反應混合物截留或分離均相觸媒系統、自分子量小於200 g/mol之溶劑分離三酸甘油酯、自單體溶液分離寡聚物、或自反應混合物或溶液分離(醫藥)活性成分或其前驅體。前述用途中之較佳溶劑為具有1至8個碳原子之烴，較佳己烷或庚烷、其異構體或混合物或CO2
。
本發明複合薄膜尤其適用於純化物質，因為例如在固定分離參數(諸如溫度、壓力及溶劑)的情況下，可有針對性地自溶液分離在固定範圍以下之分子量部分(fraction)。在典型系統條件(諸如30℃、30巴壓力(TMP-跨薄膜壓力))下，以此方式可自正庚烷溶液分離小於1000 g/mol、較佳小於600 g/mol、且尤其小於300 g/mol之分子量部分。
自側向改質及末端α,ω-改質聚矽氧丙烯酸酯的混合物開始，可(在廣泛極限內)有針對性地設定不同溶劑系統之薄膜分離效率(關於此點亦參見圖1或圖2)。
本發明進一步係關於用於製造複合薄膜之方法，其中支撐薄膜經至少一種式I聚矽氧丙烯酸酯及/或各種聚矽氧丙烯酸酯之混合物塗佈，並隨後在室溫下藉由電磁輻射及/或電子束輻射固化。
視情況將聚矽氧丙烯酸酯或適當時聚矽氧丙烯酸酯混合物與共使用之溶劑一起添加至如習知用於例如塗佈支撐材料之抗黏附塗層以用於例如標記用途(尤其有利地，為此目的，不使用其他溶劑)的滾筒系統中。預先將光引發劑添加至聚矽氧丙烯酸酯中。藉助於滾筒系統，聚矽氧丙烯酸酯以0.3-2微米之層厚度塗覆於薄膜材料並經由自由基機制藉助於紫外線輻射或電子束輻射來固化。不需要其他熱能。聚矽氧丙烯酸酯在穿過反應室之後即刻固化。在反應室中，自由基位點被氧中止，出於該原因必需用氮氣使反應室惰性化。
實施例
在下文描述之實施例中，將描述本發明以用於說明本發明而不意欲將本發明、由整個描述及申請專利範圍產生的本發明之應用範圍限制於實施例中引用之具體實例。若在下文中引用化合物之範圍、通式或類別，則此等應不僅包含明確提及之化合物的相應範圍或群組，而且亦應包含可藉由抽取個別值(範圍)或化合物而獲得的所有化合物子範圍及子群組。在本描述之情形下，若引用文件，則其內容應完全併入本發明之揭示內容中。在本發明之情形下，若描述可具有多個各種單體單元之化合物，諸如有機改質聚矽氧丙烯酸酯，則此等單體單元在此等化合物中可以統計分佈(統計寡聚物)或排列(嵌段寡聚物)方式存在。必須將關於此等化合物中的單元數目之陳述理解為意謂統計平均值(對所有相應化合物取平均值)。
薄膜之製造
基於市場上可購得之由聚丙烯腈製備之超濾薄膜(可得自例如GMT公司，Rheinfelden或GE-Osmonics公司，Vista，USA，由Desalogics公司,Ratzeburg經銷)，以Evonik Goldschmidt股份有限公司之TEGO聚矽氧丙烯酸酯進行塗佈。用具有5個輥之光輥塗佈設備分層進行塗佈。在0.6至1.5 g/m2
之塗層重量下進行塗佈。在惰性氮氣氣氛中經由紫外線燈使塗層交聯。為此目的，將諸如羥基酮之適合光引發劑以1/100之量(以矽質量計)添加至聚矽氧丙烯酸酯中。以此方式，基於該超濾薄膜，製造具有對應於聚矽氧丙烯酸酯之組分a)及組分b)之不同混合物及層順序的複合薄膜。製造具有組分a)及組分b)的不同質量分率(在各情況下皆以聚矽氧丙烯酸酯之總量計)之以下塗層：‧90重量%的a)及10重量%的b)；‧80重量%的a)及20重量%的b)，及以聚矽氧丙烯酸酯之總量計額外3重量%之無機填充劑；‧70重量%的a)及30重量%的b)，及以聚矽氧丙烯酸酯之總量計額外3重量%之無機填充劑及無無機填充劑，以及‧100重量%的b)。
如實施例中使用之式1組分a)及b)具有以下組成：
組分a)a=83,b=0、c=0,R1
=CH3
、
R2
=(CH2
)3
-O-CH2
-C(C2
H5
)(CH2
O-C(O)-CH=CH2
)2
Si含量=34,2重量%
組分b)a=13、b=5、c=0、R1
=R2
=CH3
R3
=通式II取代基
Si含量=23,8重量%
組分已根據如例如於DE 392094-C1中教示之目前先進技術方法來製備。
使用無機填充劑二氧化矽。
作為比較類型之先前技術薄膜，對僅基於對應於組分a)之RC 902製造之薄膜進行研究。
製造之薄膜經由稱為分子量截留(MWCO)法之方法於正庚烷中來特性化。MWCO法描述於例如以下文獻中：Journal of Membrane Science 291(2007)120-125。該法係基於量測各種苯乙烯寡聚物依賴其分子量之截留(MWCO曲線)。
藉由使用MWCO法，有可能估計具有經界定分子量之溶解物質可經分離之程度。在圖1及圖2中，針對在各情況下研究之薄膜處的截留(以重量%計，由質量濃度導出)繪製溶解物質(此處為聚苯乙烯)之莫耳質量(Mw)。
藉由測定薄膜在正庚烷中歷時較長時期之MWCO曲線及滲透性來測定分離層之穩定性。
藉助於交叉流過濾對薄膜進行測試。操作溫度為30℃且跨膜壓力(TMP) 30巴。在長期實驗中，使用10巴之壓力。使用純溶劑調節薄膜直至達成穩態通量。隨後，純溶劑由溶劑與寡苯乙烯指示劑之混合物替換。在再次達成穩態通量之後，取出滲透物及進料流之樣品，且藉由以MWCO法類比來測定苯乙烯寡聚物之分率。
圖1及圖2展示具有不同分子量之聚苯乙烯之截留能力的結果以及不同組成之聚矽氧丙烯酸酯薄膜的溶劑通量。滲透物液體為正庚烷。
圖1中之結果證實分離薄膜層之性質可經由具有極佳分離效率但通量較低之薄膜至具有較高通量但分離效率較低之薄膜的各種TEGO RC產品之混合物來有針對性地設定。以此方式，藉由混合各種聚矽氧丙烯酸酯，可對於某一應用有針對性地設定薄膜之性質特徵。
自MWCO曲線可見具有組分a)的90%之最高分率之薄膜具有最低相對截留及最高滲透物通量。另一方面，由100%的組分b)組成之薄膜對於正庚烷實際上不再具有任何滲透物通量且具有極高截留。有及無填充劑之20/80及30/70混合物之所展示結果展示可實際上平滑地設定該等性質。
如上所述在正庚烷中進行具有30% b)及70% a)的組成之本發明薄膜與先前技術聚矽氧薄膜(100% a))之比較測試。在10巴及30℃下於己烷中又恆定操作薄膜11天之後，再次進行MWCO測試。
圖2中展示之結果說明本發明薄膜具有向較低分子量顯著偏移之分離極限。
由先前技術薄膜之分離曲線向較高分子量之明顯偏移及滲透物通量之增加可得出結論此薄膜在庚烷中不穩定。本發明薄膜展示滲透物通量效能及分離性質沒有隨操作時間的相關變化，此證實該薄膜在正庚烷中之穩定性。
圖1表示不同分子量之聚苯乙烯之截留及不同組成之聚矽氧丙烯酸酯薄膜之溶劑通量。滲透物液體為正庚烷。(TMP=跨薄膜壓力(以巴計)，MW=分子量(以g/mol計))。
圖2表示本發明薄膜(30% b)及70% a))及先前技術薄膜(100% a))隨時間變化之聚苯乙烯截留及溶劑通量。
Claims (20)
- 一種具有一或多個分離薄膜層之具有分離薄膜層及支撐薄膜之複合薄膜，其特徵在於至少一個分離薄膜層係藉由固化不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物來製造，其特徵在於該混合物含有至少以下組分：a)一或多種平均矽含量>29重量%之通式I之聚矽氧丙烯酸酯
- 如申請專利範圍第1項之複合薄膜，其特徵在於使用通式II或III之基團作為取代基R3 ，
- 如申請專利範圍第1項或第2項中任一項之複合薄膜，其特徵在於使用相同或不同的通式IV聚醚基團作為式I中之基團R4 -(CH2 )i -O-(CH2 CH2 O)j -(CH2 CH(CH3 )O)k -(CH2 CHR8 O)l -R9 式IV i=0-12，j=0-50，R8 =具有2-30個碳原子之相同或不同的烷基或芳基，R9 =相同或不同的具有2-30個碳原子之烷基或芳基，或H或烷醯基。
- 如申請專利範圍第1項或第2項之複合薄膜，其特徵在於此係由複數個不同聚矽氧丙烯酸酯層構成。
- 如申請專利範圍第3項之複合薄膜，其特徵在於此係由複數個不同聚矽氧丙烯酸酯層構成。
- 如申請專利範圍第4項之複合薄膜，其特徵在於使用兩種不同聚矽氧丙烯酸酯，其中使用末端α,ω-改質聚矽氧丙烯酸酯作為第一組分a)且使用側向改質之式I聚矽氧丙烯酸酯作為第二組分b)。
- 如申請專利範圍第5項之複合薄膜，其特徵在於使用兩種不同聚矽氧丙烯酸酯，其中使用末端α,ω-改質聚矽氧丙烯酸酯作為第一組分a)且使用側向改質之式I聚矽氧丙烯酸酯作為第二組分b)。
- 如申請專利範圍第4項之複合聚矽氧薄膜，其特徵在於該等組分a)及b)以10比1至1比10之質量比存在於該混合物中。
- 如申請專利範圍第5項之複合聚矽氧薄膜，其特徵在 於該等組分a)及b)以10比1至1比10之質量比存在於該混合物中。
- 如申請專利範圍第6項之複合聚矽氧薄膜，其特徵在於該等組分a)及b)以10比1至1比10之質量比存在於該混合物中。
- 如申請專利範圍第7項之複合聚矽氧薄膜，其特徵在於該等組分a)及b)以10比1至1比10之質量比存在於該混合物中。
- 如申請專利範圍第1項之複合薄膜，其特徵在於該等聚矽氧丙烯酸酯使用光引發劑藉由波長小於800nm之電磁輻射及/或藉由電子束來固化。
- 如申請專利範圍第1項之複合薄膜，其特徵在於該支撐薄膜為選自纖維織物、組織或微濾薄膜或超濾薄膜或隔板之群的溶劑持久性三維支撐結構。
- 如申請專利範圍第1項之複合薄膜，其特徵在於該支撐結構係選自以下材料之群：聚丙烯腈(PAN)、聚醯亞胺(PI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚醯胺(PA)、聚醯胺-醯亞胺(PAI)、聚醚碸(PES)、聚苯并咪唑(PBI)、磺酸化聚醚酮(SPEEK)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)；或使用氧化鋁、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化矽及/或亞硝酸鈦製造之無機多孔材料及/或陶瓷薄膜或聚合物陶瓷薄膜；以及指定之各種支撐薄膜材料之混合物及/或改質形式或複合物。
- 如申請專利範圍第13項之複合薄膜，其特徵在於該 支撐結構係選自以下材料之群：聚丙烯腈(PAN)、聚醯亞胺(PI)、聚醚醚酮(PEEK)、聚偏二氟乙烯(PVDF)、聚醯胺(PA)、聚醯胺-醯亞胺(PAI)、聚醚碸(PES)、聚苯并咪唑(PBI)、磺酸化聚醚酮(SPEEK)、聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)；或使用氧化鋁、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化矽及/或亞硝酸鈦製造之無機多孔材料及/或陶瓷薄膜或聚合物陶瓷薄膜；以及指定之各種支撐薄膜材料之混合物及/或改質形式或複合物。
- 一種如申請專利範圍第1項至第15項中任一項之複合薄膜的用途，其係用於以至少90重量%之截留分率截留分子量小於2000g/mol之溶解分子。
- 如申請專利範圍第16項之用途，其為自反應混合物截留或分離均相觸媒系統、自分子量小於200g/mol之溶劑分離三酸甘油酯、自單體溶液分離寡聚物、或自反應混合物或溶液分離(醫藥)活性成分或其前驅體。
- 如申請專利範圍第17項之用途，其特徵在於將具有1至8個碳原子之烴、其異構體或混合物或CO2 用作溶劑。
- 如申請專利範圍第16項至第18項中任一項之用途，其特徵在於在30℃、30巴壓力下自正庚烷溶液分離分子量小於1000g/mol之部分。
- 一種用於製造如申請專利範圍第1項至第15項中至少一項之具有分離薄膜層及支撐薄膜之複合薄膜的方法，其包含：以不同聚矽氧丙烯酸酯之混合物塗佈該支撐薄膜，並 隨後藉由電磁輻射及/或電子束輻射來固化。
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