UA48147C2 - Спосіб виготовлення відбивної багатошарової плівки (варіанти) та пластмасова плівка з двобічним відбивним покриттям - Google Patents
Спосіб виготовлення відбивної багатошарової плівки (варіанти) та пластмасова плівка з двобічним відбивним покриттям Download PDFInfo
- Publication number
- UA48147C2 UA48147C2 UA97041607A UA97041607A UA48147C2 UA 48147 C2 UA48147 C2 UA 48147C2 UA 97041607 A UA97041607 A UA 97041607A UA 97041607 A UA97041607 A UA 97041607A UA 48147 C2 UA48147 C2 UA 48147C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- film
- deposition
- sputtering
- layer
- glow discharge
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 84
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 78
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 239000004033 plastic Substances 0.000 title claims abstract description 11
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 title claims abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 title abstract description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 41
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 41
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 18
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 claims description 63
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 53
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 50
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 46
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 claims description 33
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 claims description 31
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 25
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 25
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 13
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims 6
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims 5
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims 3
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 claims 2
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 claims 2
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 48
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 11
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 10
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 10
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 8
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 7
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 6
- 238000009718 spray deposition Methods 0.000 description 6
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 3
- 239000012791 sliding layer Substances 0.000 description 3
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000008733 Citrus aurantifolia Nutrition 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011941 Tilia x europaea Nutrition 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 2
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004571 lime Substances 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000120 polyethyl acrylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010012335 Dependence Diseases 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010073306 Exposure to radiation Diseases 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 229910009973 Ti2O3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000012864 cross contamination Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 229920005570 flexible polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000005923 long-lasting effect Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen(.) Chemical compound [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940127240 opiate Drugs 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-OUBTZVSYSA-N oxygen-17 atom Chemical compound [17O] QVGXLLKOCUKJST-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N titanium(III) oxide Chemical compound O=[Ti]O[Ti]=O GQUJEMVIKWQAEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/08—Mirrors
- G02B5/0816—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers
- G02B5/085—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal
- G02B5/0858—Multilayer mirrors, i.e. having two or more reflecting layers at least one of the reflecting layers comprising metal the reflecting layers comprising a single metallic layer with one or more dielectric layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/021—Cleaning or etching treatments
- C23C14/022—Cleaning or etching treatments by means of bombardment with energetic particles or radiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
- C23C14/205—Metallic material, boron or silicon on organic substrates by cathodic sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12542—More than one such component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
- Y10T428/12556—Organic component
- Y10T428/12569—Synthetic resin
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12889—Au-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12896—Ag-base component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/24—Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
- Y10T428/24355—Continuous and nonuniform or irregular surface on layer or component [e.g., roofing, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
- Y10T428/31681—Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31786—Of polyester [e.g., alkyd, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Aerials With Secondary Devices (AREA)
Abstract
Спосіб виготовлення дзеркальної багатошарової плівки(варіанти) та пластмасова плівка з двобічним дзеркальним покриттям. Пластмасова плівка (10) з двох боків покрита шарами металу (20 і 22), які нанесені на плівку методом напилення. Сторона (14) ковзання плівки попередньо не оброблена тліючим розрядом, а сторона (18), що не ковзається, оброблена. Така плівка із однією обробленою тліючим розрядом стороною, а іншою - не обробленою, має необхідну довговічність.
Description
Опис винаходу
Настоящее изобретение относится к пластмассовьм пленкам, обе сторонь! которьїх покрьїть! слоями 2 металлсодержащего отражающего покрьїтия. В частности изобретение относится к пластмассовьм пленкам с двусторонним металлсодержащим покрьітием, которне пропускают свет и сохраняют свои свойства в течение длительного времени.
В настоящее время общепринятьм считается использование в качестве остекления различньїх пленок с металлическим покрьїтием, которье частично отражают и частично пропускают свет. Такие пленки можно 70 крепить к поверхности используємьх при остеклений оконнньїх материалов. Такие пленки можно использовать также в качестве ламинирующего покрьїтия различньїх стекол. Их можно подвешивать как к окнам, не имеющим другого остекления, так и к окнам, зарьітьім другими листами стекла. Такого рода пленки обьічно имеют основу, представляющую собой пленку из пластмассьі), поверхность которой покрьта отражающим слоем металла.
Пластмассовье пленки часто вьшпускаются с нанесенньм на одну сторону пленки покрьїтием, известньм как 79 скользящеє покрьїтиє, которое облегчаєт работу с пленкой при ее изготовлении и использований (как более подробно описано ниже). Ту сторону пленки, на которую нанесено скользящее покрьітие, назьмшвают (с определенньїм смьіслом) "скользящей" стороной. Другую сторону пленки назьівают "нескользящей" стороной.
Нанесение отражающего слоя на пленку при изготовлении таких отражающих свет пленок осуществляется самьми различньми химическими методами, используемьми при получениий зеркальньїх поверхностей, методами вакуумной металлизации и осаждением методом распьіления. При осаждений методом распьіления в камере с вьсоким вакуумом между двумя злектродами образуется плазма. При образований плазмь происходит вьібивание атомов из одного из злектродов, изготовленного из металла или металлсодержащего соединения (мишень при ионном распьілении), и их перемещение к другому злектроду. Между злектродами помещают пластмассовую пленку, на которой образуется покрьїтие из оседающих на ней атомов мишени. с 29 Перед осаждением методом распьіления пленку часто предварительно обрабатьвают тлеющим разрядом Го) постоянного тока. При такой предварительной обработке пленки также используют плазму, которую генерируют в определенньїх условиях, при которьїх на пленке либо вообще не осаждается, либо осаждается очень незначительное количество содержащегося в плазме материала.
Одним из примеров таких используемьїх в настоящее время пленок являются пленки с односторонним - 30 покрьтием в виде частично прозрачного отражающего слоя металла. Другим примером подобньїх пленок «І являются широко используемье в настоящее время пленки, одна из сторон которьїх покрьта частично прозрачньім и частично отражающим многослойньм покрьтием, состоящим из отдельньїх слоеєв дизлектрикай (77 металла. Ге)
Известньії также пленки с двусторонним отражающим покрьтием. Однако такие пленки не получили 35 Широкого распространения, поскольку их пластмассовая основа обьчно сравнительно бьістро разлагаєтся или М обесцвечивается.
Такое свойство существующих пленок является особенно негативньм, поскольку теоретически пленки с двусторонним покрьїтием обладают цельм рядом существенньїх преимуществ. «
Согласно настоящему изобретению предлагаєется способ изготовления устойчивьх, долговечньх З 740 пластмассовьх пленок с двусторонним содержащим два слоя металла отражающим покрьтием, нанесенньм на с пленку осаждением методом распьления. з» При разработке предлагаемого способа бьіло установлено, что при определенном режиме предварительной обработки пленки тлеющим разрядом можно получить устойчивье, долговечнье пленки с двусторонним отражающим покрьтием. В частности бьіло установлено, что при нанесений соответствующих отражающих 45 покрьтий на предварительно обработанную тлеющим разрядом нескользящую сторону пленки, а также на не е обработанную предварительно тлеющим разрядом скользящую сторону пленки можно получить долговечную и о более устойчивую пленку с покрьтием, пригодную для широкого применения.
Таким образом, одним из предметов настоящего изобретения является способ изготовления отражающей - многослойной пленки. Зтот способ предусматривает использование пластмассовой пленки со скользящей и ї» 20 нескользящей сторонами. При озтом после предварительной обработки тлеющим разрядом только нескользящей стороньі пленки на ее обе стороньї методом распьіиления осаждают отражающий слой. т Предлагаемьй способ позволяет получить в качестве конечного продукта пленку с покрьтием, которая по сравнению с аналогичньми пластмассовьми пленками с двусторонним покрьтием с двумя предварительно обработанньми тлеющим разрядом сторонами обладает существенно большей долговечностью и в течение более длительного времени сохраняєт свой свойства.
ГФ) Другим предметом настоящего изобретения является продукт, полученньій способом по изобретению, т.е. собственно пленка с двусторонним отражающим покрьїтием. В качестве основьі в зтой пленке используется о пленка из пластмассь. Пленка из пластмассьй имеет нескользящую сторону, которая модифицирована предварительной обработкой тлеющим разрядом и покрьта отражающим слоем, содержащим металл, 60 нанесенньй на неє осаждением методом распьіления. Пленка имеет также скользящую сторону, которая не обработана предварительно тлеющим разрядом и не модифицирована и которая также покрита нанесенньїм на нее осаждением методом распьіления отражающим слоем.
В соответствий с еще одним предметом настоящего изобретения предлагается пластмассовая пленка, скользящая и нескользящая стороньі! которой покрьїтьї отражающими покрьтиями, которье обеспечивают бо проникновение в пластмассовую пленку необходимого для стабилизиции єе свойств количества кислорода.
Ниже изобретение более подробно описано со ссьіІлкой на прилагаемье к нему чертежи. На чертежах, в частности, изображено: фиг. 1 - схематичное изображение поперечного сечения предлагаемой в изобретениий пленки; фиг. 2 и З - изображение в увеличенном масштабе двух участков показанной на фиг. 1 пленки; фиг. 4 - схема одного из вариантов установки, на которой по предлагаемому способу можно изготовить пленку по изобретению, и фиг. 5 - график, из которого следует, что предлагаемая в изобретении пленка обладаєт более вьісоким, чем известнье пленки, сопротивлением обесцвечиванию. 70 В настоящем изобретениий предлагаются вьісококачественнье долговечнье пленки с двусторонним отражающим покрьттием. Типичньім примером таких пленок является пленка 10, показанная на фиг. 1. Пленка имеет основу, представляющую собой пластмассовую пленку 12. Толщина пластмассовой пленки 12 обьічно составляет от приблизительно 0,5 до приблизительно 5-10мил (1 мил - 25,4мкм); в зтой связи следует однако подчеркнуть, что настоящее изобретение не ограничивается пленками такой толщинь.
В качестве пластмассовой пленки 12 обьічно используется гибкая органическая полимерная пленка. К полимерам, которье используются при изготовлений такой пленки, относятся полимернье материаль! на основе углерода. Примерами таких материалов являются органические полимерь», такие, как полиуглеводородьї, полиоксиуглеводородьї и полисульфоуглеводородьїі, и фторуглерод и полисульфоуглеводородьі), а также материаль на основе фторуглерода и фторуглеводорода. Характерньіми 2о Оорганическими полимерами являются полизфирь, такие, как полизтилентерефталат (ПЗ) и полибутилентерефталат, полиакрилатьь и метакрилать, такие, как полиметилметакрилат ("ПММА"), полиметакрилат и полизтилакрилат, сополимерь, такие, как сополимер метилметакрилата с зтилакрилатом, и поликарбонать (Информацию о пригодньїх для изготовления пленок полизфирньх и поликарбонатньх материалах можно найти на стр. 129-135 в Месгам/-НІЇЇ Епсусіоредіа ої Зсіепсе апа Тесппоіоду, том 14 (1987). сч Помимо перечисленньїх вьше материалов для изготовления пленок можно таюке использовать фторуглеродистье полимерь, такие, как тефлон, и различнье хорошо известнье специалистам і) фторуглеводородистье полимерь. Предпочтительньми полимерами, используемьми при изготовлений пластмассовой пленки, служащей основой пленки 12, являются полизфирь), такие как полиакрилать, полиметакрилатьї, полизтилентерефталат (ПЗТ) и полибутилентерефталат, при зтом наиболее М зо предпочтительньм является ПОТ. Для получения вьісококачественньїх пленок с двусторонним отражающим покрьтием в качестве их основьі найболее целесообразно использовать чистье, прозрачнье и бесцветнье - пластмассовье пленки (такое требование, строго говоря, необязательно и не ограничивает обьем настоящего «- изобретения). Если говорить о пластмассовьїх или полимерньїх материалах, то под "чистой, прозрачной и бесцветной" пластмассой или полимером подразумевается пластмасса или полимер, которьій после придания со зв ему конечного вида суммарно в видимой части спектра (длина волн от 400 до 70О0нм) пропускает по крайней «Е мере 7595 светового потока, в частности от 70 до 9595 светового потока, без образования заметньїх пиков поглощения или отражения излучения в зтом диапазоне. Перечисленнье вьіше полимерь! в конечном виде (т.е. в виде пластмассовьїх листов или пленок толщиной от 0,5 до 5мил) обьічно отражают и поглощают от 5 до 2095 светового потока в видимой части спектра и позтому пропускают в зтой части спектра суммарно от 80 до 9590 « светового потока, что позволяет считать их "чистьіми, прозрачньми, бесцветньми" материалами, которье в с можно использовать в качестве основь! предлагаемой в изобретениий пленки. Так, например, пленка из обьічного
ПЗТ толщиной от 1 до Змил суммарно отражаеєт и поглощает в видимой части спектра от 10 до 1595 падающего ;» на нее светового потока.
Сами полимернье пленки либо можно приобрести у различньїх производителей, либо их можно изготовить
Хорошо известньми в данной области техники способами, й они ни по отдельности, ни в совокупности не ї5» являются предметом настоящего изобретения.
Пластмассовая пленка имеет две сторонь! 14 и 18. Одна из зтих сторон (14) покрьіта слоем грунта или слоем со скользящего покрьїтия 16, толщина которого обьічно меньше толщинь! самой пленки и составляет десятьіе доли - мила. Скользящий слой обьічно состоит из акрилата, полизфира или других органических полимеров, которье повьішают долговечность пластмассовой пленки и делают ее более удобной при работе с ней и при обработке. ве На скользящий слой 16 нанесен металлсодержащий отражающий слой 20 и такой же отражающий слой 22 "М нанесен на другую сторону 18 пленки 12. Отражающие слои 20 и 22 частично отражают и частично пропускают свет и имеют в своем составе тонкие слой металла. Обьічно каждьй из отражающих слоев пропускает по крайней мере 2095 общего светового потока в видимой части спектра. Цель, с которой на пленку наносится ов двустороннее покрьітие (слой 20 и 22), заключаєтся в том, чтобьі пленка с таким покрьітием по-разному пропускала и отражала волньї, лежащие в разньїх участках спектра злектромагнитного излучения. Обьічно (Ф, пленка с таким покрьтием отражает излучение с большой длиной волньі (тепловое) и пропускает волнь, ка лежащие в видимой части спектра, что при использовании таких пленок в качестве злементов остекления в строительстве или в автомобилестроений позволяет в определенной степени поддерживать необходимую бр температуру в помещениях или в салоне автомобиля.
Ни один из отражающих слоев 20 или 22 не обеспечиваєет 10095-ного отражения всех волн определенной длиньі. Неотраженнье волнь!ї проходят через слои 12 и 16 и вніходят с другой сторонь! пленки. При наличий на другой стороне пленки 10 второго отражающего слоя зтот слой частично отражает проходящее через пленку излучение и тем самьмм улучшает отражающие свойства всей пленки. 65 Нанесение на пленку двух отражающих покрьїтий 20 и 22, которнше улучшают ее отражающие свойства, создает, как известно, определеннье проблемьі. В соответствии с настоящим изобретением поверхность 18,
которая представляет собой нескользящую сторону пленки, до нанесения на нее отражающего покрьїтия 22 подвергается предварительной обработке тлеющим разрядом. В отличие от зтого скользящая сторона 14 или 17 пленки до нанесения на нее отражающего покрьїтия предварительно не обрабатьівается тлеющим разрядом.
Предварительная обработка тлеющим разрядом только одной сторонь! пленки 12 (т.е. сторонь! 18) позволяет получить пленку с большей долговечностью, которая не желтеет или не теряет существенно каких-либо других своих качеств в течение достаточно длительного времени.
Тлеющий разряд, которьім предварительно обрабатьвшают нескользящую сторону пластмассовой основьї, обьічно относят к категории слабого или среднего тлеющего разряда. Такую обработку проводят в атмосфере /о аргона или воздуха или другого кислородсодержащего газа (в частности газа, в котором содержится от 5 до 5090 кислорода). Для создания тлеющего разряда используют источник постоянного тока с напряжением от приблизительно 750 до приблизительно 500Овольт, обьічно от приблизительно 1000 до приблизительно
ЗО0ООвольт.
Отражающие слои 20 и 22 наносят на необработанную тлеющим разрядом скользящую и обработанную 7/5 тлеющим разрядом нескользящую сторонь! пленки осаждением методом распьіления. Такие отражающие слой могут представлять собой однослойное тонкое покрьітие из металла, например, серебра, меди, золота, иридия, палладия, никеля, платиньі и т.п. В предлагаемьх в изобретений пленках для нанесения таких покрьїтий используется серебро или смесь металлов, в которьїх основньім компонентом является серебро, обладающее, как известно, прекрасной цветовой нейтральностью, или же используются не обладающие таким свойством, но более дешевне металль, такие, как медь или никель.
Более часто лучшие результать! дает комбинированное покрьітие пленки слоями металла и дизлектрика, как показано на фиг. 2 и 3. На фиг. 2 показан скользящий слой 16 с отражающим металлическим слоем 24, которьй с двух сторон покрьїт слоями 26 и 28 дизлектрика. Наличие таких слоев дизлектрика повьішаєт качество и улучшает избирательность отражающих слоев. с
Как показано на фиг. 3, нижнюю нескользящую сторону 18 пластмассовой пленки 12 можно покрьїть слоем
ЗО металла и слоями 32 и 34 дизлектрика. Толщина металлических слоев составляет, от приблизительно 30 до (8) приблизительно 1000А. Толщина слоев дизлектрика составляет от приблизительно 30 до приблизительно 1500
А. Такие слоим хорошо известньь и не являются предметом настоящего изобретения. Помимо такой конфигурации слоев изобретение предполагает возможность использования и других покрьїтий, в частности ї- зо покрьїтий с несколькими слоями металла.
В качестве не оограничивающих изобретение примеров используемьх в предлагаемьх пленках - дизлектрических материалов можно назвать окисльї металлов, нитридьі и сульфидь с такими окислами -ж металлов, как ТіО», Ті2О3, 2п0, ВІ2Оз, Іп2Оз, ЗпО», 2гО», А»2Оз, а также их смеси, которне предпочтительнь.
Металлсодержащие отражающие покрьїтия наносят на обработаннье пластмассовье пленки осаждением со з5 Методом распьіления. Осаждение методом распьіления представляет собой широко распространенньй способ «г осаждения на различньїх поверхностях неорганических материалов, таких, как металль!, окисль! и др. Такой способ и установка для нанесения покритий осаждением методом распьіления описаньї, например, в патентах
США 4204942 и 4948087, которье включень! в настоящее описание в качестве ссьлок.
Процесс осаждения методом распьіления предусматривает образование плазмь! путем приложения в « присутствий газа напряжения к распьіляющему катоду (мишени при ионном распьлений), изготовленному из в с металла или металлсодержащего соединения. Воздействие плазмь! распьиляющего газа на мишень
Й сопровождается вьбиванием из мишени ее атомов, которье, перемещаясь, оседают на подложке, а расположенной рядом с мишенью.
Толщина слоя образующегося на подложке покрьїтия регулируется изменением подаваемого на катоднье
Мишени напряжения и тока, расходом плазменного газа, а в системах непрерьввного действия, в которьх ї5» поверхность полимера и распьіляющая мишень перемещаются друг относительно друга, регулируется также скоростью, с которой обрабатьваемая поверхность перемещается относительно мишени. со Обьчно распьляющий газ представляет собой инертньій газ типа криптона или аргона или другой - аналогичньій газ. Более часто в качестве распьіляющего газа используют аргон, обладающий сравнительно 5р ниЗзКой стоимостью. В некоторьїх случаях, известньїх как химически активнье распьілительнье процессь, в о процессе нанесения покрьїтия к аргону добавляют достаточно большое количество химически активньїх газов,
І таких, как кислород или азот. В присутствии таких газов образуется соединение типа окисла или нитрида, которое оседает на поверхности подложки.
На фиг. 4 показана схема предназначенной для нанесений покрьтий осаждением методом распьіления ов установки 40 непрерьівного действия, которую можно использовать для нанесения на подложку описанньх вьше слоев. Установка 40 имеет вакуумную камеру 42, для создания разрежения в которой используется
Ф) трубопровод 44. Внутри камерьі 42 имеется приводной механизм, перемещающий лист гибкой полимерной ка пленки 16 через несколько распьілительньїх магнетронов 80, 78 и 76. Механизм перемещения пленки содержит подающий ролик 48, холостье ролики 50, 52, 54, 58, 60 и 62 и приемньй ролик 64. 60 В процессе нанесения покрьтий пленка, как обьічно, проходит вокруг охлаждаемого направляющего барабана 66. Пленка, кроме того, проходит через пару измерительньїх устройств 68 и 70, с помощью которьх измеряются соответственно ее козффициенть! пропускания и отражения до нанесения на нее покрьїтий, и через пару аналогичньїх измерительньїх устройств 72 и 74, измеряющих зти козффициенть! после нанесения на пленку покрьїтий. Установка 40 позволяет одновременно осаждением методом распьіления наносить на пленку 65 из пластмассь три слоя покрьтия, используя для зтого три работающих на постоянном токе отдельньх магнетронньїх катода 76, 78 и 80. Обьчно катод 76 используется для нанесения на пленку первого дизлектрического активирующего слоя. Катод 78 используется для нанесения на пленку слоя металла. И, наконец, катод 80 используется при необходимости для нанесения на слой металла второго дизлектрического слоя. В установке имеется также блок 82 предварительной обработки пленки тлеющим разрядом, с помощью
Которого до нанесения на пленку из пластмассь покрьтий осуществляется обработка тлеющим разрядом нескользящей сторонь! пленки. Зти четьіре блока изолировань! друг от друга и вьіполненьі в виде миникамер (см. патент США 4298444), внутри которьїх находятся различнье плазменньсе газьі. Вьіполненная таким образом установка позволяет одновременно проводить на ней не связаннье друг с другом процессь! с различной в каждой миникамере атмосфере и при минимальном перекрестном загрязненийи всех миникамер. 70 Для контроля и управления распьілительной установкой она оборудуется такими же устройствами контроля и управления и датчиками, которье обьічно используются в установках подобного типа. К зтим, показанньім на фиг. 4, устройствам относятся: 1) регулятор 90 расхода (фирма МК5), с помощью которого регулируется расход газа, поступающего в катоднье миникамерь; 2) источники 92 питания постоянного тока мощностью 5-10 киловатт (фирма Адмуапсей Епегду) для всех трех распьілительньїх катодов и источник 94 питания станции /5 предварительной обработки пленки тлеющим разрядом; 3) оптическое измерительное устройство 96 (фирма
Нехаїгоп/Зоційпмаї!! Тесппоіодіев), с помощью которого измеряются козффициентьі отражения и пропускания пленки на участке спектра от 360 до 2000 Нм; и 4) устройство (98) для контроля за движением пленки (фирма
Огімех), с помощью которого регулируется натяжение, скорость и длина проходящей через установку пленки.
Последовательность операций по предварительной обработке пленки тлеющим разрядом и нанесению на 2о нее покрьїтий предлагаемьм в изобретений способом может бьть различной. Так, в частности, вначале можно нанести двойное отражающее покрьттие на нескользящую сторону пленки после ее предварительной обработки тлеющим разрядом. Можно также сначала нанести отражающее покрьтие на скользящую сторону пленки и уже после зтого нанести отражающее покрьтие на о нескользящую сторону, соответственно после ее предварительной обработки тлеющим разрядом. Кроме того, при изготовлений пленки с несколькими с ов отражающими слоями можно, по крайней мере теоретически, весь процесс нанесения покрьїтий разделить на отдельнье стадии. Однако исходя из опьта изготовления подобньх пленок предпочтительно наносить і) отражающее покрьтие на нескользящую сторону пленки сразу же после ее предварительной обработки тлеющим разрядом.
Ниже рассмотреньь иллюстрирующие изобретение примерьй и оприведеньі сравнительнье даннье, М. зо полученнье в результате проведения специальньх зкспериментов. Зти примерь, в которьїх речь идет о конкретньїх вариантах вьіполнения изобретения, не ограничивают обьем изобретения, которьй характеризуется - только приложенной к описанию формулой изобретения. «-
В примере 1 описан способ получения предлагаемой в изобретении пленки. В сравнительньїх опьтахл и Б описаньії способьї получения пленок с односторонним и двусторонним покрьтием, которье не являются со з5 предметом настоящего изобретения. «г
В примере 2 описаньї результатьь испьтаний на бьстроту пожелтения трех различньх пленок. При проведений опьітов определялась также проницаемость кислорода для различньїх пленок.
Пример 1
Предлагаемую в изобретений пленку получали следующим образом. В качестве основьі использовали « пленку из полизтилентерефталата толщиной З мила. Зта пленка вьіпускаеєется под маркой "теп" и покрьїта соту с одной стороньі! скользящим покрьїітием из полизфира и акрилата. Другая сторона пленки не имеет покрьтия. изготовление из зтой пленки пленки с двусторонним отражающим покрьтием осуществлялось следующим ;» образом. Для нанесения покрьїтий на пленку использовалась лабораторная вакуумную установка, вьіполненная по схеме, показанной на фиг. 4, и предназначенная для нанесения покрьїтия на движущуюся пленку осаждением
Методом распьіления. ї5» Нанесение покрьтия на пленку вьполняли в два прохода, при зтом на обе стороньі пленки наносили трехслойное катодное покрьїітие, состоящее из слоев дизлектрика, металла и дизлектрика ("ДМД"). Во время со первого прохода покрьїтие наносили на нескользящую сторону пленки, которую предварительно обрабатьівали - тлеющим разрядом постоянного, тока. Во время второго прохода без предварительной обработки тлеющим разрядом постоянного тока покрьітие ДМД наносили на скользящую сторону пленки. о Проход І. Условия нанесения покрьїтия методом осаждения: "М Линейная скорость пленки: 7,74мм/с
Покрьіваемая сторона: нескользящая
Состав и размерь! покрьїтия: 410А Іп»Оу/90А Ад/410А Іп»Оз
Предварительная обработка тлеющим разрядом: 15008 при 32,5мМА, 13,бкуб.см при СТД воздуха, давление 10х103 торр о Катод 1: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2Оз ко 36б,4куб.см при СТД кислорода 16,4куб.см при СТД водорода во 4куб.см при СТД) азота
Бкуб.см при СТД аргона давление: 4,5х1 о торр 16,24А при 3398 (5,51кВт)
Катод 2: Осаждение серебра распьлением в поле постоянного тока 65 12,3куб.см при СТД аргона давлениє: 3,0х103 торр
1,13А при 4478 (0,51кВт)
Катод 3: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2Оз 34 4куб.см при СТД кислорода 32,бкуб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота
Бкуб.см при СТД аргона давлениє: 5,2х103 торр 18,52А при 3028 (5,60кВт) 70 Проход ІІ. Условия нанесения покрьїтия методом осаждения:
Линейная скорость пленки: 7,74мм/с Покрьіваемая сторона: скользящая
Состав и размерь! покрьїтия: 410А Іп»Оу/90А Ад/410А Іп»2Оз
Предварительная обработка тлеющим разрядом: не проводится, 11,О0куб.см при СТД воздуха, давление около 10х1073 торр
Катод 1: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2О3 36,вкуб.см при СТД кислорода 16,б6куб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота
Бкуб.см при СТД аргона давление: 4,7х1 о торр 16,22А при 3398 (5,50кВт)
Катод 2: Осаждение серебра в поле постоянного тока 12,3куб.см при СТД аргона давлениє: 3,0х103 торр с 1,14А при 4418 (0,50кКВт) о
Катод З Осаждение, расплением химически активного индия для получения Іп2Оз 33,2куб.см при СТД кислорода 31,5куб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота -
Бкуб.см при СТД аргона « давлениє; 5,2х103 торр 18,66А при З00В (5,60кВт) -
Сравнительньй оптьт А с
Для сравнения на той же самой установке изготавливали пленку с односторонним покрьїтием. Состоящее из трех слоев (дизлектрик/металл/дизлектрик) покриітие за один проход наносили с предварительной обработкой З тлеющим разрядом постоянного тока на скользящую сторону использованной в примере 1 пленки из ПЗТ толщиной З мила (пленка Теїп). Покрьїтие наносили методом распьіления с использованием трех катодов.
Условия предварительной обработки тлеющим разрядом постоянного тока при изготовлении зтой пленки « бьіли теми же, что и условия предварительной обработки тлеющим разрядом, при которьїх можно бьіло при З 70 нанесений серебра на скользящую сторону пленки из ПОТ получить пленку, обладающую такими же с оптическими свойствами, что и пленка с покритием, нанесенньмм на ее нескользящую сторону. При зтом, в
Із» частности с целью свести к минимуму поглощение света в видимой части спектра, напряжение и ток при обработке пленки тлеющим разрядом бьли соответствующим образом увеличень». Условия нанесения покрьїтия методом осаждения:
Линейная скорость пленки: 6,4бмм/с е Покрьіваемая сторона: скользящая (ее) Состав и размерь! покрьіїтия: ЗО0А Іп2О3/90А Аад/550А Іп»Оз з Предварительная обработка тлеющим разрядом: 250088 при 100мА, 8,2куб.см при СТД воздуха, давление 10х10 торр «» 20 Катод 1: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2Оз . 22,вкуб.см при СТД кислорода
У 10,Зкуб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота
Бкуб.см при СТД аргона 59 давление: 3,5х103 торр
ГФ) 7,7А при 3328 (2,56кВт) 7 Катод 2: Осаждение серебра распьлением в поле постоянного тока 1Зкуб.см при СТД аргона давление: З3,0Хх10 торр 60 0,92А при 4388 (0,40КВт)
Катод 3: Осаждение расплением химически активного индия для получения Іп2О3 35,вкуб.см при СТД кислорода 34 Окуб.см при СТД водорода 4куб «см при СТД азота бо Бкуб.см при СТД аргона давление:
5,4х10 3 торр 17,84А при 3138 (5,58кВт)
Сравнительньй опьїт Б
Для сравнения бьіла изготовлена пленка с двусторонним покрьітием. Пленка изготавливалась на той же основе, что и пленка в примере 1, и на той же самой установке, однако у зтой пленки до нанесения отражающих покрьїтий обе стороньї били предварительно обработаньі тлеющим разрядом.
Покрьїтие (дизлектрик/металл/дизлектрик) на обе стороньії пленки наносили в два прохода с помощью трех катодов. Во время первого прохода покрьтие наносили на предварительно обработанную тлеющим разрядом постоянного тока нескользящую поверхность такой же, что и в примере 1 пленки из ПЗТ толщиной З мила. При 70 втором проходе после предварительной обработки тлеющим разрядом постоянного тока ДМД покрьтие наносили на скользящую сторону пленки из ПЗТ. Во время второго прохода условия предварительной обработки тлеющим разрядом бьіли такими же, что и при нанесений серебра на скользящую сторону пленки из
ПОТ, обладающей такими же оптическими свойствами, что и пленка с покрьітой нескользящей стороной.
Проход І. Условия нанесения покрьїтия методом осаждения:
Линейная скорость пленки: 17,25 мм/с
Покрьіваемая сторона: нескользящая
Состав и размерь! покрьїтия: 200А Іп»О3/90А Аад/200А Іп»Оз
Предварительная обработка тлеющим разрядом: 150088 при 40мА, 14,4куб.см при СТД воздуха, давление 11х103 торр.
Катод 1: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп»2Оз 38,4куб.см при СТД кислорода 17 4куб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота
Бкуб.см при СТД аргона давление: 4,7х107 торр с 15,9А при 3458 (5,49кВт) о
Катод 2: Осаждение серебра распьлением в поле постоянного тока 12,бкуб.см при СТД аргона давлениє: 3,0х103 торр 2,12А при 5448 (1,15кКВт) -
Катод 3: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп»2Оз «г 36,2куб.см при СТД кислорода 34 4куб.см при СТД водорода -- 4куб.см при СТД азота со
Бкуб.см при СТД аргона давлениє: 5,4х103 торр в 17,54А при 3178 (5,56кВт)
Проход ІІ. Условия нанесения покрьїтия методом осаждения:
Линейная скорость пленки: 6,4бмм/с «
Покрьіваемая сторона: скользящая З 70 Состав и размерь! покрьіїтия: ЗО0А Іп2Оз /90А Ад/550А Іп2Оз с Предварительная обработка тлеющим разрядом: 25008 при 100мА, 8,О0куб.см при СТД воздуха, давление
Із» 11х103 торр.
Катод 1: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2Оз 22,5куб.см при СТД кислорода 1» 75 10,2куб.см при СТД водорода 4куб.см при СТД азота (ее) Бкуб.см при СТД аргона - давление: 3,5х103 торр 7,16А при 3328 (2,58КкВт) - Катод 2: Осаждение серебра распьлением в поле постоянного тока «м 13,Окуб.см М при СТД аргона давление: 3,0х103 торр 0,92А при 4378 (0,40кВт)
Катод 3: Осаждение распьілением химически активного индия для получения Іп2Оз 35,2куб.см при СТД кислорода (Ф) 33,Б5куб.см при СТД водорода ка 4куб.см при СТД азота
Бкуб.см при СТД аргона во давлениє: 5,4х103 торр 17,90А при 3118 (5,57кВт)
Пример 2
Опьїт на пожелтение с использованием кварцевой ультрафиолетовой лампь!
Для определения бьістротьї пожелтения пленок на основе ПЗТ с отражающим покрьтием под действием 685 Ссолнечного света бьли проведень ускореннье испьтания. Во время зтих испьтаний образцьі пленок подвешивали в герметичньїх заполненньїх воздухом стеклянньїх камерах. Зти камерь! со стороньі воздействия излучения бьли )изготовленьь из стекла с мальм содержанием железа (те. стекла, пропускающего ультрафиолетовье лучи). В соответствии с методикой АЗТМ (0353-84 во время зтих испьтаний образць подвергали воздействию излучения от УФ-лампьі О МА-351 через стекло с низким содержанием железа толщиной З мм, изготавливаемое фирмой Зспой. Воздействие УФ излучения на образць! бьіло постоянньм, а его интенсивность била равна интенсивности солнечного света. Испьітания проводили при температуре 60"С и относительной влажности 40965.
Результатьі, полученнье при испьтаниях трех различньїхх образцов пленки (пример 1, опьіть! А и Б), представлень в виде графиков на фиг. 5. 70 Образец Б представляєт собой пленку из ПЗТ с двусторонним отражающим покрьтием. Ранее при изготовлений пленок из ПОТ с односторонним отражающим покрьтием отражающий слой наносили на нескользящую сторону пленки, предварительно обработав ее тлеющим разрядом постоянного тока для повьішения адгезии покрьїтия к ПЗТ. При нанесений отражающего покрьїтия на скользящую сторону пленки в обьічньїх условиях увеличивается поглощение пленкой с таким покрьїтием видимой части спектра, и такая /5 пленка становится менее прозрачной. Избежать зтого можно путем увеличения напряжения и тока при предварительной обработке пленки тлеющим разрядом. Именно позтому в опьіте Б при нанесений покрьїтия на скользящую сторону пленки ее предварительная обработка тлеющим разрядом постоянного тока осуществлялась током в более интенсивном режиме. Как показано на фиг. 5, показатель пожелтения пленки с нанесенньм на нее таким способом двусторонним покрьтием бьістро увеличивается. (Визуально можно определить почти трехкратное увеличение показателя пожелтения).
В опьїте А покрьїтие наносили на скользящую сторону пленки из ПОТ в том же, что и в опьіте Б режиме (т.е. с более интенсивной обработкой пленки тлеющим разрядом постоянного тока). Пленка, полученная в опьїте А, отличается от пленки, полученной в опьїте Б тем, что у нее только одна сторона основьі имеет покрьітие. Как видно из графиков, приведенньх на фиг. 5, у изготовленной из ПЗТ пленки А, не имеющей покрьтия на лицевой сч об стороне и имеющей, как и пленка Б, покрьітие на скользящей стороне, показатель пожелтения остается во о времени практически постоянньм.
У пленки, полученной в примере 1, покритие наносилось непосредственно на скользящую сторону пленки из
ПОТ (пленка Те|Іп) без предварительной обработки тлеющим разрядом. Как следует из графика, приведенного на фиг. 5, зта пленка желтеет намного медленней, чем другая пленка с двусторонним покрьітием (т.е. пленка Б). М. з0 Связано зто с повиішенной кислородной проницаемостью, которой обладаеєт пленка, полученная при нанесений покрьтия плазменньм распьилением на не обработанную предварительно тлеющим разрядом скользящую - сторону основьї (пленки, поставляемой фирмой Те||Іп). «-
На основе предьдущих исследований, результатьі которьїх приведень вьше, и результатов по исследованию кислородной проницаемости, о которьїх речь идет ниже, можно сделать вьівод о том, что пленка со з5 Б желтеет бьістрее других пленок за счет того, что в ее основу (пленку из ПЗТ) попадает очень незначительное «г количество кислорода. Обьясняется зто скорее всего вьісоким качеством (те. плотностью и небольшим количеством открьїтьїх микропор) нанесенного на пленку осаждением методом распьіления слоя серебра, которьїм покрьїть! обе сторонь! пленки.
Справедливость такого обьяснения подтверждаєтся тем, что при воздействий на пленку из ПЗТ с « отражающим слоем ультрафиолетовьм излучением при отсутствии кислорода (т.е. в атмосфере криптона или /7-З с аргона) скорость пожелтения пленки возрастает.
Вьіполненнье измерения показали, что при нанесений плазменньм распьлением на пленку из ПОТ ;» многослойного отражающего покрьтия без ее предварительной обработки тлеющим разрядом кислородная проницаемость такого покриьітия приблизительно в три раза превьішает кислородную проницаемость покрьтия, нанесенного на нескользящую сторону пленки с ее обьічной предварительной обработкой тлеющим разрядом. ї5» Так, в частности, у образцов пленки с покрьтием на скользящей стороне, нанесенньм на нее без предварительной обработки тлеющим разрядом, средняя кислородная проницаемость составляет со 0,056Зкуб.см/10О0кв.дюймов/24ч4, а у образцов пленки с покрьтием, нанесенньм на нескользящую сторону с - обьічной предварительной обработкой тлеющим разрядом средняя кислородная проницаемость составляет 0,0179куб.см/100кв.дюймов/24ч. о На оснований зтих результатов можно сделать вьівод о том, что пленка с двумя отражающими слоями, "М кислородная проницаемость которой меньше 0,035куб.см/100кв.дюймов/24ч4, менее предпочтительна, и что более предпочтительньіми являются пленки, оба отражающих слоя которьіїх обеспечивают проницаемость кислорода вьіше 0,035, в частности от 0, 035 до 0,1 и прежде всего от 0,05 до 0,09куб.см/100кв.дюймов/24ч в (предпочтительнье количества), что обеспечиваєт проникновениє в пленку стабилизирующего ее свойства о количества кислорода. о
Claims (29)
1. Способ изготовления отражающей многослойной пленки, вбіполненной из пленки из пластмассь! со скользящей и нескользящей сторонами, которье покрьїтьії металлосодержащим отражающим слоем, включающий следующие стадии: а) предварительную обработку нескользящей стороньії пленки тлеющим разрядом; 65 б) осаждение методом распьиления на предварительно обработанную тлеющим разрядом нескользящую сторону пленки отражающего слоя и в) осаждение методом распьиления на скользящую не обработанную предварительно тлеющим разрядом сторону пленки отражающего слоя.
2. Способ по п. 1, в котором стадия б осаждения методом распьіиления на нескользящую сторону пленки Оотражающего слоя включает следующие подстадии: 61) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; 62) осаждение методом распьіления слоя металла и 63) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика.
З. Способ по п. 2, в котором стадия в осаждения методом распьіления на скользящую сторону пленки 7/0 отражающего слоя включает следующие подстадии: в1) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; в2) осаждение методом распьіления слоя металла и в3) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика.
4. Способ по п. 1, в котором обработка пленки тлеющим разрядом осуществляется при подаче в зону 7/5 обработки воздуха.
5. Способ по п. 3, в котором обработка пленки тлеющим разрядом при вьіполненийи стадии а осуществляется при подаче в зону обработки воздуха.
6. Способ по п. 5, в котором при проведений стадий 62 и в2 на пленку в качестве металла наносят слой серебра.
7. Способ по п. 1, в котором пленка из пластмассь! представляет собой полизфирную пленку.
8. Способ по п. 7, в котором в качестве полизфира используют полизтилентерефталат.
9. Способ по п. 5, в котором пленка из пластмассь! представляет собой полизфирную пленку.
10. Способ по п. 9, в котором в качестве полизфира используют полизтилентерефталат.
11. Способ изготовления отражающей многослойной пленки, вбіполненной из пленки из пластмассь! со с скользящей и нескользящей сторонами, которье покрьїтьї металлосодержащим отражающим слоем, о включающий следующие стадии: а) предварительную обработку нескользящей стороньії пленки тлеющим разрядом; б) осаждение методом распьіления на не обработанную предварительно тлеющим разрядом скользящую сторону пленки отражающего слоя и ї- зо в) осаждение методом распьіления на нескользящую предварительно обработанную тлеющим разрядом сторону пленки отражающего слоя. -
12. Способ по п. 11, в котором стадия б осаждения методом распьіления на скользящую сторону пленки «- отражающего слоя включаєт следующие подстадии: 61) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; со 62) осаждение методом распьіления слоя металла и «г 63) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика, а стадия в осаждения методом распьіления на нескользящую сторону пленки отражающего слоя включаєт следующие подстадии: в1) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; « в2) осаждение методом распьіления слоя металла и в с в3) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика.
13. Способ по п. 11, в котором обработка пленки тлеющим разрядом при вьшполнении стадии а ;» осуществляется при подаче в зону обработки воздуха.
14. Способ по п. 13, в котором при проведений стадий 62 и в2 на пленку в качестве металла наносят слой Серебра. їх
15. Способ по п. 14, в котором пленка из пластмассь! представляет собой полизфирную пленку.
16. Способ по п. 15, в котором в качестве полизфира используют полизтилентерефталат. со
17. Способ изготовления отражающей многослойной пленки, вьіполненной - из пленки из пластмассь! со скользящей и нескользящей сторонами, которье покрьїть! металлосодержащим отражающим слоем, включающий следующие стадии: о а) осаждение методом распьления на не обработанную предварительно тлеющим разрядом скользящую І сторону пленки отражающего слоя; б) предварительную обработку нескользящей стороньії пленки тлеющим разрядом и в) осаждение методом распьіления на нескользящую предварительно обработанную тлеющим разрядом сторону пленки отражающего слоя.
18. Способ по п. 17, в котором стадия а осаждения методом распьления на скользящую сторону пленки (Ф, отражающего слоя включаєт следующие подстадии: ка ат) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; аг) осаждение методом распьіления слоя металла и 60 аз) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика, а стадия в осаждения методом распьіления на нескользящую сторону пленки отражающего слоя включаєт следующие подстадии: в1) осаждение методом распьіления первого слоя дизлектрика; в2) осаждение методом распьіления слоя металла и 65 в3) осаждение методом распьіления второго слоя дизлектрика.
19. Способ по п. 18, в котором обработка пленки тлеющим разрядом при вьшполнении стадиий б осуществляется при подаче в зону обработки воздуха.
20. Способ по п. 19, в котором при проведений стадий а2 и в2 на пленку в качестве металла наносят слой серебра.
21. Способ по п. 20, в котором пленка из пластмассь! представляет собой полизфирную пленку.
22. Способ по п. 21, в котором в качестве полизфира используют полизтилентерефталат.
23. Многослойная пленка с двусторонним отражающим покрьітием, изготовленная способом по п. 1.
24. Многослойная пленка с двусторонним отражающим покрьітием, изготовленная способом по п. 11.
25. Многослойная пленка с двусторонним отражающим покрьітием, изготовленная способом по п. 17. 70 26. Пленка из пластмассьї с двусторонним отражающим покрьїтием, содержащая: пленку из пластмассь! со скользящей и нескользящей сторонами, причем нескользящая сторона пленки модифицирована обработкой тлеющим разрядом, а скользящая сторона пленки не модифицирована обработкой тлеющим разрядом, осажденньій методом распьіления первьій отражающий слой, которьім покрита скользящая сторона пленки,
75. М Й Й Й Й осажденньій методом распьіления второй отражающий слой, которьім покрьта нескользящая сторона пленки.
27. Пленка по п. 26, в которой пленка из пластмассь! представляет собой полизфирную пленку.
28. Пленка по п. 27, в которой в качестве полизфира используют полизтилентерефталат.
29. Пленка из пластмассьї с двусторонним отражающим покрьїтием, содержащая: полизфирную пленку со скользящей и нескользящей сторонами, покрьїтьми слоями отражающего покрьтия, через которье в находящуюся на воздухе пленку проникаеєт стабилизирующее ее свойства количество кислорода. с щі 6) у « «- (ее) «
- . и? щ» (ее) - щ» що іме) 60 б5
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US30334294A | 1994-09-09 | 1994-09-09 | |
| PCT/US1995/011277 WO1996007770A1 (en) | 1994-09-09 | 1995-09-08 | Double-sided reflector films |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA48147C2 true UA48147C2 (uk) | 2002-08-15 |
Family
ID=23171642
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UA97041607A UA48147C2 (uk) | 1994-09-09 | 1995-08-09 | Спосіб виготовлення відбивної багатошарової плівки (варіанти) та пластмасова плівка з двобічним відбивним покриттям |
Country Status (12)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US6333084B1 (uk) |
| EP (1) | EP0779938B1 (uk) |
| JP (1) | JP3821844B2 (uk) |
| KR (1) | KR100348656B1 (uk) |
| AT (1) | ATE231931T1 (uk) |
| AU (1) | AU706820B2 (uk) |
| CA (1) | CA2199634C (uk) |
| DE (1) | DE69529528T2 (uk) |
| NO (1) | NO971091L (uk) |
| RU (1) | RU2146303C1 (uk) |
| UA (1) | UA48147C2 (uk) |
| WO (1) | WO1996007770A1 (uk) |
Families Citing this family (39)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6333084B1 (en) * | 1994-09-09 | 2001-12-25 | Southwall Technologies, Inc. | Double-sided reflector films |
| DE19744953A1 (de) * | 1997-10-10 | 1999-04-15 | Giesecke & Devrient Gmbh | Sicherheitselement und Verfahren zu seiner Herstellung |
| US6964731B1 (en) | 1998-12-21 | 2005-11-15 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6660365B1 (en) | 1998-12-21 | 2003-12-09 | Cardinal Cg Company | Soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6974629B1 (en) | 1999-08-06 | 2005-12-13 | Cardinal Cg Company | Low-emissivity, soil-resistant coating for glass surfaces |
| US6153060A (en) * | 1999-08-04 | 2000-11-28 | Honeywell International Inc. | Sputtering process |
| US6338776B1 (en) * | 1999-08-04 | 2002-01-15 | Honeywell International Inc. | Dielectric processing with included stabilization periods |
| JP2001186967A (ja) * | 1999-12-28 | 2001-07-10 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 冷凍・冷蔵庫用ガラスと該ガラスを使用したガラス物品 |
| RU2206634C2 (ru) * | 2001-07-10 | 2003-06-20 | Брагин Вадим Игоревич | Отражающее покрытие |
| US6632491B1 (en) | 2002-05-21 | 2003-10-14 | Guardian Industries Corp. | IG window unit and method of making the same |
| US6707610B1 (en) * | 2002-09-20 | 2004-03-16 | Huper Optik International Pte Ltd | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack |
| WO2004092440A1 (ja) * | 2003-04-16 | 2004-10-28 | Bridgestone Corporation | 多孔質薄膜の形成方法 |
| US20050068245A1 (en) * | 2003-09-25 | 2005-03-31 | Cheng-Chung Chen | Reflective signal booster for omini-antenna |
| CA2550331A1 (en) | 2003-12-22 | 2005-07-14 | Cardinal Cg Compagny | Graded photocatalytic coatings |
| US7229520B2 (en) * | 2004-02-26 | 2007-06-12 | Film Technologies International, Inc. | Method for manufacturing spandrel glass film with metal flakes |
| US7244325B2 (en) * | 2004-03-05 | 2007-07-17 | Film Technologies International, Inc. | Method of manufacturing an insulated glass unit |
| US7258757B2 (en) * | 2004-10-28 | 2007-08-21 | Film Technologies International, Inc. | Method of manufacturing an impact resistant and insulated glass unit composite with solar control and low-E coatings |
| EP1773729B1 (en) | 2004-07-12 | 2007-11-07 | Cardinal CG Company | Low-maintenance coatings |
| WO2006080968A2 (en) * | 2004-11-15 | 2006-08-03 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing coatings having sequenced structures |
| US7923114B2 (en) | 2004-12-03 | 2011-04-12 | Cardinal Cg Company | Hydrophilic coatings, methods for depositing hydrophilic coatings, and improved deposition technology for thin films |
| US8092660B2 (en) | 2004-12-03 | 2012-01-10 | Cardinal Cg Company | Methods and equipment for depositing hydrophilic coatings, and deposition technologies for thin films |
| US20060159874A1 (en) * | 2005-01-18 | 2006-07-20 | Solutia, Inc. | Windows having multiple polymer layers |
| US20060157186A1 (en) * | 2005-01-18 | 2006-07-20 | Solutia, Inc. | Methods for producing windows having multiple polymer layers |
| JP2006240893A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-14 | Sekisui Chem Co Ltd | 合わせガラス用着色中間膜および合わせガラス |
| AT502021B1 (de) * | 2005-06-01 | 2007-01-15 | Hueck Folien Gmbh | Sicherheitselemente mit funktionsschichten und verfahren zu deren herstellung |
| US8025941B2 (en) * | 2005-12-01 | 2011-09-27 | Guardian Industries Corp. | IG window unit and method of making the same |
| JP2009534563A (ja) | 2006-04-19 | 2009-09-24 | 日本板硝子株式会社 | 同等の単独の表面反射率を有する対向機能コーティング |
| US20080011599A1 (en) | 2006-07-12 | 2008-01-17 | Brabender Dennis M | Sputtering apparatus including novel target mounting and/or control |
| KR101512166B1 (ko) | 2007-09-14 | 2015-04-14 | 카디날 씨지 컴퍼니 | 관리가 용이한 코팅 기술 |
| RU2398045C1 (ru) * | 2008-12-25 | 2010-08-27 | Борис Львович Горберг | Способ модификации поверхности текстильного материала |
| RU2426559C1 (ru) * | 2010-05-31 | 2011-08-20 | Борис Львович Горберг | Способ изготовления антимикробного текстильного материала |
| US9726795B2 (en) | 2010-10-25 | 2017-08-08 | Covestro Deutschland Ag | Multilayer plastic structure having low energy transmission |
| US8728636B2 (en) | 2010-12-13 | 2014-05-20 | Southwall Technologies Inc. | Insulating glass unit with crack-resistant low-emissivity suspended film |
| US8530011B2 (en) * | 2010-12-13 | 2013-09-10 | Southwall Technologies Inc. | Insulating glass unit with crack-resistant low-emissivity suspended film |
| RU2572176C1 (ru) * | 2014-09-11 | 2015-12-27 | Федеральное государственное унитарное предприятие "18 Центральный научно-исследовательский институт" Министерства обороны Российской Федерации | Способ получения флуоресцирующей полиэтилентерефталатной пленки |
| WO2018093985A1 (en) | 2016-11-17 | 2018-05-24 | Cardinal Cg Company | Static-dissipative coating technology |
| US11512384B2 (en) | 2017-05-11 | 2022-11-29 | Medtronic Minimed, Inc. | Analyte sensors and methods for fabricating analyte sensors |
| WO2023013768A1 (ja) * | 2021-08-05 | 2023-02-09 | 大日本印刷株式会社 | バリア性積層体、蓋材及び包装容器 |
| US20260084400A1 (en) * | 2024-09-20 | 2026-03-26 | Winpak Ltd. | Easy tear laminates for food packaging |
Family Cites Families (24)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE1009883B (de) * | 1953-05-15 | 1957-06-06 | Heraeus Gmbh W C | Hochvakuumbedampfungsanlage |
| US4337990A (en) * | 1974-08-16 | 1982-07-06 | Massachusetts Institute Of Technology | Transparent heat-mirror |
| US4322276A (en) * | 1979-06-20 | 1982-03-30 | Deposition Technology, Inc. | Method for producing an inhomogeneous film for selective reflection/transmission of solar radiation |
| EP0057330B1 (en) * | 1980-12-26 | 1985-03-27 | Teijin Limited | Selective light-transmitting laminate |
| JPS57116139A (en) * | 1981-01-09 | 1982-07-20 | Hitachi Ltd | Emergency operating device for electrically controlled injection pump |
| US4354911A (en) * | 1981-08-07 | 1982-10-19 | Western Electric Company Inc. | Method of selectively depositing a metal on a surface by means of sputtering |
| DE3136283C1 (de) * | 1981-09-12 | 1983-02-03 | Nukem Gmbh, 6450 Hanau | Verfahren zum Metallisieren kohlefaserverstaerkter Kunststoffteile |
| DE3211753C2 (de) * | 1982-03-30 | 1985-03-28 | Interpane Entwicklungs- und Beratungsgesellschaft mbH & Co. KG, 3471 Lauenförde | Hochtransparenter, in Durch- als auch Außenansicht neutral wirkender und wärmedämmender Belag für ein Substrat aus transparentem Material sowie Verwendung des Belages |
| US5009761A (en) * | 1984-09-24 | 1991-04-23 | Spafax Holdings Plc., | Method of producing an optical component, and components formed thereby |
| DE3534398A1 (de) * | 1985-09-27 | 1987-04-09 | Hoechst Ag | Verfahren zum herstellen einer transfermetallisierungsfolie |
| US4828346A (en) * | 1985-10-08 | 1989-05-09 | The Boc Group, Inc. | Transparent article having high visible transmittance |
| JPS62282030A (ja) * | 1986-05-26 | 1987-12-07 | 尾池工業株式会社 | ジヨ−ゼツト用金銀糸 |
| US5071206A (en) * | 1986-06-30 | 1991-12-10 | Southwall Technologies Inc. | Color-corrected heat-reflecting composite films and glazing products containing the same |
| US4769261A (en) * | 1987-01-08 | 1988-09-06 | Exxon Chemical Patents Inc. | Retort pouch and coextruded film therefor |
| US4886681A (en) * | 1987-01-20 | 1989-12-12 | International Business Machines Corporation | Metal-polymer adhesion by low energy bombardment |
| US5156894A (en) * | 1989-08-02 | 1992-10-20 | Southwall Technologies, Inc. | High performance, thermally insulating multipane glazing structure |
| US5024895A (en) * | 1990-06-18 | 1991-06-18 | Monsanto Company | Laminate for a safety glazing |
| JP2574707B2 (ja) * | 1990-08-09 | 1997-01-22 | ワイケイケイ株式会社 | 金属薄膜を表面に有するフアスナ− |
| US5306547A (en) * | 1990-12-14 | 1994-04-26 | Southwall Technologies Inc. | Low transmission heat-reflective glazing materials |
| FR2685350A1 (fr) * | 1991-12-24 | 1993-06-25 | Du Pont | Procede nouveau d'amelioration des proprietes de films de polyester metallises. |
| EP0560384A1 (en) * | 1992-03-12 | 1993-09-15 | Kimberly-Clark Corporation | Elastomeric metallized fabric and process of making same |
| FR2690451B1 (fr) * | 1992-04-23 | 1994-07-01 | Du Pont | Film polyester ultrafin sec et applications de celui-ci. |
| DE69400638T2 (de) * | 1993-01-21 | 1997-02-27 | Du Pont | Metallisierte polymilchsäurefolie |
| US6333084B1 (en) * | 1994-09-09 | 2001-12-25 | Southwall Technologies, Inc. | Double-sided reflector films |
-
1995
- 1995-01-17 US US08/373,633 patent/US6333084B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-08-09 UA UA97041607A patent/UA48147C2/uk unknown
- 1995-09-08 CA CA002199634A patent/CA2199634C/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-08 DE DE69529528T patent/DE69529528T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-08 KR KR1019970701559A patent/KR100348656B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-08 RU RU97105699A patent/RU2146303C1/ru active
- 1995-09-08 JP JP50964396A patent/JP3821844B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-08 EP EP95931722A patent/EP0779938B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-08 AU AU35051/95A patent/AU706820B2/en not_active Ceased
- 1995-09-08 AT AT95931722T patent/ATE231931T1/de not_active IP Right Cessation
- 1995-09-08 WO PCT/US1995/011277 patent/WO1996007770A1/en not_active Ceased
-
1996
- 1996-11-01 US US08/743,418 patent/US5840161A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-10 NO NO971091A patent/NO971091L/no not_active Application Discontinuation
-
1998
- 1998-03-30 US US09/050,745 patent/US6117559A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA2199634A1 (en) | 1996-03-14 |
| US6117559A (en) | 2000-09-12 |
| DE69529528D1 (de) | 2003-03-06 |
| WO1996007770A1 (en) | 1996-03-14 |
| JPH10505133A (ja) | 1998-05-19 |
| US6333084B1 (en) | 2001-12-25 |
| RU2146303C1 (ru) | 2000-03-10 |
| NO971091D0 (no) | 1997-03-10 |
| JP3821844B2 (ja) | 2006-09-13 |
| EP0779938A1 (en) | 1997-06-25 |
| KR970705654A (ko) | 1997-10-09 |
| EP0779938A4 (en) | 1999-04-28 |
| ATE231931T1 (de) | 2003-02-15 |
| US5840161A (en) | 1998-11-24 |
| EP0779938B1 (en) | 2003-01-29 |
| DE69529528T2 (de) | 2003-08-14 |
| KR100348656B1 (ko) | 2002-09-18 |
| AU706820B2 (en) | 1999-06-24 |
| NO971091L (no) | 1997-04-29 |
| CA2199634C (en) | 2006-11-28 |
| AU3505195A (en) | 1996-03-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| UA48147C2 (uk) | Спосіб виготовлення відбивної багатошарової плівки (варіанти) та пластмасова плівка з двобічним відбивним покриттям | |
| Martinu et al. | Plasma deposition of optical films and coatings: A review | |
| EP0745872B1 (en) | Reflecting film and reflector making use of the same | |
| JPH024967A (ja) | 薄膜形成装置及び方法 | |
| TW200415380A (en) | Reducing the susceptibility of titanium nitride optical layers to crack | |
| JPH01159380A (ja) | 被覆製品およびその製造方法 | |
| RU2410341C2 (ru) | Способ обработки подложки | |
| JP2008304795A (ja) | 光反射板及びその製造方法及び光反射装置 | |
| JP2001295032A (ja) | 光学複合薄膜の形成方法およびそれを用いた光学物品 | |
| WO2004079409A1 (ja) | 可視光反射部材 | |
| CN100374389C (zh) | 涂覆高强度放电灯的石英喷燃器的方法 | |
| JP3835261B2 (ja) | 機能性薄膜の形成方法、機能性薄膜積層体、光学フィルム及び画像表示素子 | |
| JP2004255635A (ja) | 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 | |
| JP3250888B2 (ja) | 艶消し反射フィルム | |
| RU2235802C1 (ru) | Способ изготовления гибкой зеркально отражающей структуры и структура, полученная этим способом | |
| JP3433845B2 (ja) | 耐擦傷性と耐久性に優れた反射防止フィルム | |
| JP2004285412A (ja) | 光学機能性フィルムの製造方法及び製造装置 | |
| JP2004223769A (ja) | 透明積層フィルム、反射防止フィルム及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 | |
| US20240240305A1 (en) | Composite film manufacturing method and organic/inorganic hybrid film manufacturing method | |
| JP2004532423A (ja) | 強健な高反射性光学構造物 | |
| JP2002239396A (ja) | 光触媒担持構造体及びその製造方法 | |
| JPH1073721A (ja) | ディスプレイ用光学フィルター | |
| TW202537823A (zh) | 積層體與反射膜 | |
| JP2004138762A (ja) | シリカ薄膜とその製造装置、及びシリカ薄膜を用いた透明積層フィルム | |
| JP2011104830A (ja) | 誘電体膜積層体及び誘電体膜積層体の製造方法 |