明 細 書
3 , 3 ' ージフルォロビフエニル誘導体、 液晶組成物および液晶表示素子 技術分野
本発明は、 新規液晶性化合物および液晶組成物に関し、 さらに詳しくは、 3 , 3 ' ージフルォロビフエ二ルー 4 , 4 ' —ジィル基を有する液晶性化合物、 この 化合物を含有する液晶組成物、 およびこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示 素子に関する。
背景技術
液晶性化合物 (本願において、 液晶性化合物なる用語は、 液晶相を示す化合物 および液晶相を示さないが液晶組成物の構成成分として有用である化合物の総称 として用いられる。 ) を用いた表示素子は、 時計、 電卓、 ワープロ等のディスプ レイに広く利用されている。 近年では、 安価に視野角を改善することができるィ ンプレースイッチング ( I P S ) 方式およびヴアーティ カルアラインメ ン ト (V A ) 方式の研究が盛んに行われている。
I P S方式および V A方式用の液晶組成物では、 負の誘電率異方性値を有する ものが好適であり、 さらに、 高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、 そ れらの温度依存性が小さく、 広い液晶相温度範囲を有し、 他の液晶材料との相溶 性に優れ、 低粘性であること等の物性が求められている。
このような液晶組成物の成分として側方位がフッ素置換された液晶性化合物が 数多く検討され、 例えば、 下記の化合物が開示された文献がある。
しかしながら、 1 ) の化合物はエステル結合を有することから粘性が大きく
電圧保持率も低い。 2) および 3) の化合物はスメクチック相を示しやすく、 液 晶組成物の成分として使用した場合、 特に低温下で安定なネマチック相を形成し 難い等の問題点を有していた。
発明の開示
本発明の目的は、 前記の要求特性に鑑み、 負の誘電率異方性値を示すと同時に 極めて高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、 それらの温度依存性が極 めて小さく、 スメクチック相を示しにく く、 他の液晶材料との相溶性に優れた液 晶性化合物、 これを含有する液晶組成物および該液晶組成物を用いて構成した液 晶表示素子を提供することにある。
本発明者らは、 上記課題の解決のため鋭意研究の結果、 一般式 ( 1 )
(式中、 R aおよび Rbは各々独立して炭素数 1〜2 0の直鎖または分岐したァ ルキル基を示し、 これらの基中の相隣接しない任意のメチレン基 (一 CH2— ) は酸素原子で置換されていてもよく、 基中の任意の水素原子はハロゲン原子で置 換されていてもよく ; A!、 A2および A3は各々独立してトランス— し 4—シ クロへキシレン、 ジォキサン一 2, 5—ジィル、 テトラヒ ドロピラン一 2, 5 - ジィル、 1 —シラシクロへキサン一 1 , 4ージィル、 4ーシラシクロへキサン—
1 , 4—ジィル、 または 1つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されてもよいし 4一フエ二レン基を示し ; Z,、 Z 2および Z3は各々独立して一 (CH2) 2—、 一 (CH2) 4一、 — CH20—、 - (CH2) 30—または単結合を示し ; mおよ び nは各々独立して 0または 1を示し; ただし mおよび nが共に 0であり、 かつ 八2が 1 , 4一フヱニレンである場合は、 環 A 2上の水素原子の少なく とも 1つは フッ素原子で置換されている。 また、 この化合物を構成する原子はいずれもその 同位体で置換されてもよい。 ) で表される 3, 3 ' ージフルォロビフヱニル誘導 体が所期の性能を有することを知り本発明を完成するに至つた。
一般式 ( 1 ) で表される化合物の一部は、 前記先行文献 3) の特許請求項等に 形式的には包含されるが、 前記先行文献には本発明の化合物に関して物性値等の
データが一切記載されておらず、 その特性について具体的な言及もなく、 本発明 の有用性を示唆するものではなかった。
一般式 ( 1 ) で表される化合物は下記の (a— 1 ) 〜(a - 1 5 3) のように 類別される。
式中、 R aおよび R bは前記と同様の意味を示し、 Bは環上の 1つ以上の水素 原子がフッ素原子で置換されていてもよい 1 , 4一フ 二レン基を示し、 Cはト ランス一 1 , 4ーシクロへキシレンを示し、 Dは向きを限定しないジォキサン一 2, 5—ジィルを示し、 TPは向きを限定しないテトラヒドロピラン— 2, 5 - ジィルを示し、 S iは 1—シラシクロへキサン一 し 4一ジィルまたは 4ーシラ シクロへキサン一 1, 4—ジィルを示し、 BPは 3, 3 ' ージフルォロビフエ二 ル— 4, 4 ' 一ジィルを示す。
Ra -B-BP-Rb (a- 1 ) Ra -C-BP-Rb (a - 2) Ra -D-BP-Rb (a - 3) Ra -TP-BP-Rb (a- 4) R a - S i一 BP Rb (a- 5) R a - B- (CH2)2 — BP— Rb (a - 6) Ra— C - (CH2)2 一 BP— Rb (a - 7) R a - D - (CH2)2 - B P— Rb (a - 8) R a - TP— (CH2); 一 BP - Rb (a - 9) Ra -S i - (CH2); 一 BP Rb (a - 1 0) Ra -B- (CH2)4 BP - Rb (a— 1 1 ) Ra -C- (CH2)4 BP— Rb (a - 1 2) R a -D- (CH2)4 -BP— Rb (a- 1 3) Ra - TP— (CH2)4 - BP - Rb (a - 1 4) Ra -S i - (CH2)4 - BP - Rb (a - 1 5) Ra - B - CH2 0 - BP - Rb (a- 1 6) R a -C-CH2 0— BP Rb (a - 1 7) R a -D- CH2 0— BP— Rb (a— 1 8)
Ra - TP - CH2 0-B P-Rb (a - 1 9) Ra— S i -CH2 0— BP - Rb (a - 20 ) R a - B-OCH2 一 BP - Rb (a - 2 1 ) Ra - C一〇CH2 - BP - Rb (a - 22) R a -D-OCH2 一 BP - Rb (a— 23) Ra— TP - 0CH2 - B P - Rb (a— 24) R a - S i -OCH2 — BP - Rb (a - 25) Ra -B- (CH2)3 0- B P-Rb (a - 2 6) Ra -C- (CH2)3 0— BP— Rb (a - 27) R a -D— (CH2)3 0— BP— Rb (a - 28) R a—TP— (CH2)3 〇一 BP— Rb (a - 29) Ra— B— 0 (CH2)3 — B P— Rb (a - 30) R a -C-0 (CH2)3 — BP— Rb (a - 3 1 ) R a -D-0 (CH2)3 - B P -Rb (a - 32) Ra— TP— 0 (CH2)3 — BP— Rb (a - 3 3) Ra -B-B-BP-Rb (a - 34) Ra -C-B-BP-Rb (a - 35) Ra -D-B-B P-Rb (a - 36) Ra - TP - B - BP— Rb (a - 37) Ra - S i— B - BP— Rb (a - 3 8) Ra - B - C一 BP - Rb (a - 3 9) Ra -B-D-BP-Rb (a - 4 0) Ra - B - TP— BP—Rb (a - 4 1 ) Ra -C-C-BP-Rb (a - 42) Ra— C - D— BP - Rb (a- 4 3) Ra -C-TP-BP-Rb (a - 44 ) Ra -D-C-BP-Rb (a - 4 5) Ra— TP - C - BP-Rb (a - 4 6) Ra— C一 S i一 BP— Rb (a - 4 7)
R a -S i 一 C一 BP - Rb (a 48) R a -B- B P-B-Rb (a 49) R a - C一 B P - B - Rb (a 50) R a -D- B P-B-Rb (a 5 1) R a - TP - BP - B - Rb (a 52) R a -C-BP-C-Rb (a 53) R a -D- B P-C-Rb (a 54 ) R a - TP - BP - C一 Rb (a 55) R a - S i -BP-C-Rb (a 56) R a - B- B- (CH2)2 ― B P-Rb (a 57) R a— C— B— (CH2)2 - B P-Rb (a 58 ) R a— D— B— (CH2)2 - B P-Rb (a 59) R a -TP-B - (CH2)2 -B P-Rb (a 60) R a— S i - B— (CH2)2 - BP-Rb (a 6 1) R a - B - C - (CH2)2 ― BP-Rb (a 62) R a - B -D- (CH2)2 - BP-Rb (a 63) R a -B-TP- (CH2)2 - B P-Rb (a 64) R a -C- C- (CH2)2 一 B P-Rb (a 65) Ra -C-D- (CH2)2 一 B P-Rb (a 66) R a— C- TP - (CH2)2 -BP-Rb (a 67) R a -D-C- (CH2)2 ― B P-Rb (a 68) R a -TP-C- (CH2)2 -BP-Rb (a 69) R a -C-S i - (CH2)2 -B P-Rb (a 70) R a -S i —C - (CH2)2 -B P-Rb (a 71) R a -B- B- (CH2)4 一 BP-Rb (a 72) R a -C-B- (CH2)4 - BP-Rb (a 73) R a -B-C- (CH2)4 - B P-Rb (a 74) R a -C-C- (CH2)4 - B P-Rb (a 75) R a - B- B-CH2 0一 B P-Rb (a 76 )
Ra— C - B - CH2 0 - BP - Rb (a- 77) Ra - D - B— CH2 0 - BP - Rb (a- 78) Ra - TP - B - CH2 0 - BP— Rb (a - 79) Ra -S i -B-CH2 〇— BP - Rb (a - 80 ) Ra - B - C一 CH2 0 - BP— Rb (a - 8 1 ) Ra— B - D— CH2 0 - BP - Rb (a - 82) Ra— B - TP— CH2 0 - BP- Rb (a - 8 3) Ra -C-C-CH2 0 - BP - Rb (a - 84) Ra -C-D-CH2 0 - BP - Rb (a - 8 5) Ra - C一 TP— CH2 0— BP - Rb (a - 8 6) Ra -D-C-CH2 0 - BP - Rb (a - 8 7) Ra -TP-C-CH2 0— BP - Rb (a - 8 8) Ra -C-S i -CH2 O— BP— Rb (a - 8 9 ) Ra -S i— C— CH2 O— B P—Rb (a - 9 0) Ra - B - B OCH2 - BP - Rb (a- 9 1 ) Ra -C-B-OCH2 — BP— Rb (a - 9 2) Ra -D-B-OCH2 — BP— Rb (a - 9 3) Ra - TP B - OCH2 - BP - Rb (a - 9 4 ) Ra -B-C-OCH2 一 BP - Rb (a - 9 5) Ra— B— D- OCH2 - BP - Rb (a - 9 6) Ra— B - TP— OCH2 — BP— Rb (a- 9 7) Ra— C— C- OCH2 - BP— Rb (a - 9 8) Ra -C-D-OCH2 一 BP - Rb (a - 9 9) Ra - C一 TP -〇CH2 - BP - Rb (a - 1 0 0) Ra -D-C-OCH2 -BP-Rb (a- 1 0 1 ) Ra -TP-C-OCH2 -BP-Rb (a - 1 02) Ra— B - (CH2)2 -B-B P-Rb (a - 1 0 3) Ra -C- (CH2)2 -B-BP-Rb (a - 1 04) R a -D- (CH2)2 - B- BP-Rb (a— 1 05)
R a— TP /^ ヽ 7~)
一 (CH2)2 — B— BP— Rb (a— 1 0
K a ~ 1 ― 〔し H2J2 — D— b r— K b a— [ ϋ ( ) a — ΰ— し 2 —し一 tJ — K b a— 1 0ヽ a — hi— し 2 —U— or— K b a— l u yヽ
K a r> ヽ ) ~) "
— D — (a— ί 1 0ヽ )
K a —し一 (し ti2 2 —し一 U — K b ( a - ί 1
K a \
—し一 (し H2>2 — U~ D r~-K b ( a― 【 Γ>ヽ
K a *-p o n
—し一 (し U 2 -" 1 r— Br-K b ( a― l 1 3 )
K a — D— (■C 2 —し一 — R b ( a一 1 1
K a — I F一 (し H2)2 —し一 BP— Rb ( a— l 1 5 )
R a t ヽ 一し一 (CH2)2 - S i - BP— Rb ( a一 l l 6 )
R a一 S l一 (CH2)2 - C- BP-Rb ( a一 I l 7 )
R a一 B— (CH2) 4 - B- BP-Rb ( a一 t l 8 )
K a一し一 ( C H
2)4 — B— BP— Rb ( a一 I l 9 ) a一 hi— (し
—し一 — K b ( a— . 20) a —し一 し M2 4 一し一 ti — K t) (a— ] ヽ
D a — ΰ —し H2 (J— D— Jb r— K b (a— ] 2 2 ) a —し一し H2 J— D — or— K b (a— ] 2 3)
I KD a — jj一し L2 U~ D — or— b ( a - I 24)
"D a — 1 r一し (J— D — b r—K b (a— ] 25) a ― 1 —し ϋ2 U— — o r— K b ( a - 1 26) a D
— D —し l2 J—し一 t5 — K b C a - I 2 n 7
K a —し一し l2 ϋ—し一 hir— K b ( a - ] 28 aハ
—し一 L ri 2 U— JJ— Br— b C a - l 29) r> a —し一し l2 U— 1 r— or— K b C a - 1 3 Ο ハ 0ヽ
R a — D - CH2 〇- C— BP— Rb (a - 1 3 1 )
R a -TP ~CH2 〇一 C一 BP - Rb (a— 1 32)
R a - S i -CH2 〇- C- BP - Rb (a- 1 3 3)
R a -B- 0CH2 -B-BP-Rb (a— 1 34 )
Ra -C-OCH2 -B-BP-Rb (a 1 3 5) Ra -D-OCH2 -B-BP-Rb (a 1 3 6) Ra - TP— OCH2 -B-BP-Rb (a 1 3 7) Ra -B-OCH2 — C一 BP - Rb (a 1 38) Ra -B-OCH2 -D-BP-Rb (a 1 3 9) R a -B-OCH2 — TP— BP— Rb (a 1 4 0) R a -C-OCH2 -C-BP-Rb (a 1 4 1 ) R a— C OCH2 -D-BP-Rb (a 1 4 2) Ra - C - OCH2 - TP - BP - Rb (a 1 4 3) R a -D-OCH2 -C-BP-Rb (a 1 44) R a -TP-OCH2 -C-BP-Rb (a 1 4 5) R a - B - (CH2)3 O-B-B P-Rb (a 1 4 6) Ra - C— (CH2)3 O-B-B P-Rb (a 1 4 7) R a - B - (CH2)3 O-C-BP-Rb (a 1 4 8) Ra— C - (CH2)3 O-C-BP-Rb (a 1 4 9) Ra— B— 0 (CH2)3 -B-BP-Rb (a 1 5 0) R a - C - 0 (CH2)3 -B-BP-Rb (a 1 5 1 ) R a - B -0 (CH2)3 -C-BP-Rb (a 1 5 2)
R a - C - 0 (CH2)3 -C-BP-Rb (a 1 5 3)
(a— l ) 〜 (a - 1 5 3) で示される化合物はいずれも好ましい特性を示す ものであるが、 これらの一群の中で特に好ましい特性を示すものとして (a— l ) 〜 (a— 1 0) 、 (a— 1 6) 〜 (a - 22) 、 (a— 26) 〜 (a— 2 9) 、 (a— 34:) 〜 (a— 3 8) 、 ( a— 4 2 ) 〜 ( a— 5 3 ) 、 (a - 5 6) 〜 (a— 6 1 ) 、 (a— 6 5:) 〜 (a - 7 1 ) 、 (a— 76) 〜 (a— 8 0) 、 (a - 84 ) 〜 (a— 9 1 ) 、 ( a— 1 0 3 ) 〜 ( a - 1 0 7 ) 、 (a - 1 1 1 ) 〜 (a— 1 1 7) 、 (a— 1 22) 〜 (a— 1 2 6) 、 (a - 1 28) 、 (a— 1 3 3) 、 (a— 1 34) および (a— 1 3 8) 〜 (a— 1 4 0) を示す ことができる。
式中、 R aおよび R bは炭素数 1〜20の直鎖または分岐アルキル基であるが、
具体的には直鎖アルキル基としてはメチル、 ェチル、 プロピル、 プチル、 ペンチ ル、 へキシル、 ヘプチル、 デシル、 ペン夕デシル、 イコンル等を、 また分岐アル キル基としてはイソプロピル、 s e c—ブチル、 t e r t—ブチル、 2—メチル プチル、 イソペンチル、 イソへキシル、 3—ェチルォクチル、 3, 8 —ジメチル テトラデシル、 5—ェチルー 5—メチルノナデシル等を例示することができる。 なお、 分岐アルキル基は光学活性を示すものであってもよく、 そのような化合物 はキラルド一プ剤として有用である。
これらのアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換され ていてもよく、 具体的には、 メ トキシ、 エトキシ、 プロボキシ、 ブトキシ、 ペン チルォキシおよびノニルォキシ等のアルコキシ基、 メ トキシメチル、 メ 卜キシェ チル、 メ トキシプロピル、 メ トキシブチル、 メ トキシペンチル、 メ トキシォクチ ル、 エトキシメチル、 エトキンェチル、 エトキシプロピル、 エトキシへキシル、 プロポキシメチル、 プロポキシェチル、 プロポキシプロピル、 プロポキシペンチ ノレ、 ブトキシメチル、 ブトキシェチル、 ブトキシブチル、 ペンチルォキシメチル、 ペンチルォキシブチル、 へキシルォキシメチル、 へキシルォキシェチル、 へキシ ルォキシプロピル、 ヘプチルォキシメチルおよびォクチルォキシメチル等のアル コキシアルキル基等を例示することができる。
また、 これらの基中の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、 具体 的にはフルォロメチル、 ジフルォロメチル、 トリフルォロメチル、 2—フルォロ ェチル、 1 , 2—ジフルォロェチル、 1 , 1 , 2, 2—テトラフルォロェチル、 2—ブロモ一 1 , 2—ジフルォロェチル、 3—フルォロプロピル、 1 , 2, 3, 3—テトラフルォロプロピル、 1 , 1 , 3, 3, 3—ペン夕フルォロプロピル、 1 , 1 , 2, 3, 3, 3, —へキサフルォロプロピル、 3—フルォロブチル、 4 一フルォロブチル、 1 , 1 , 2, 4 —テトラフルォロブチル、 3—フルォロペン チル、 5—フルォロペンチル、 2, 3, 3, 4 , 5—ペン夕フルォロペンチル、 6—フルォ口へキシル、 2, 3, 4 , 6—テトラフルォ口へキシル、 7—フルォ 口へプチル、 8, 8—ジフルォロォクチル等のハロゲン置換アルキル基、 ジフル ォロメ トキシ、 トリフルォロメ トキシ、 1 , 1 —ジフルォロエトキシ、 2, 2— ジフルォロエトキシ、 2, 2, 2— トリフルォロエトキン、 1, 1 , 2, 2—テ
トラフルォロエトキシ、 ペルフルォロエトキシ、 1 , 1 , 2, 3, 3, 3—へキ サフルォロプロポキシ、 ペルフルォロプロポキシ等のハロゲン置換アルコキシ基 等を例示することができるが、 好ましくは、 直鎖アルキル基、 分岐アルキル基、 直鎖アルコキシ基、 分岐アルコキシ基、 直鎖ハロゲン置換アルキル基および直鎖 ハロゲン置換アルコキシ基であり、 より好ましくは、 直鎖アルキル基、 分岐アル キル基、 直鎖ァルコキシ基および分岐ァルコキン基である。
A,、 A2および A3はトランス一 1 , 4—シクロへキシレン、 1 , 3—ジォキ サン一 2, 5—ジィル、 1 , 4一ジォキサン一 2, 5—ジィル、 テトラヒドロピ ラン一 2, 5—ジィル、 i—シラシクロへキサン一 し 4—ジィル、 4—シラシ クロへキサン一 1 , 4—ジィルまたは 1つ以上の水素原子がフッ素原子で置換さ れてもよいし 4—フヱニレンであるが、 粘性等の点からトランス— 1 , 4—シ クロへキシレン、 1—シラシクロへキサン一 し 4—ジィル、 4—シラシクロへ キサン一 1 , 4一ジィルまたは 1つ以上の水素原子がフッ素原子で置換されても よい 1 , 4—フヱニレンが好ましく、 より好ましくは 1 —シラシクロへキサン一
1 , 4—ジィル、 4—シラシクロへキサン一 1 , 4一ジィルはトランス型である c Z,、 Z2および Z3は一 (CH2) 2—、 一 (CH2) 一、 一 CH2〇一、 - (C H2) 30—およ単有結合からなる群から選択されるが、 拈性等の点から— (CH 2) 2—、 —CH20—または単結合であるものが好ましい。
本発明の一般式 ( 1 ) で表される 3, 3' —ジフルォロビフヱニル誘導体は、 公知の一般的な有機合成法によつて製造することができるが、 例えば以下のよう な方法で簡便に製造することができる。
Mg
Xb- /)— / Z3-A3)-Rb r -,
(schemel)
(scheme2)
(scheme4)
(式中、 R a、 Rb、 A,〜A3、 Z Z3、 mおよび nは前記と同様の意味を示 し、 X a〜X eはハロゲン原子を示し、 0は 1 または 2を示し、 pは 1 または 3 を示し、 ベンゼン環上の水素原子は力ッコ内の原子で置換されていてもよいこと を示す。 )
すなわち、 s c h e m e 1に示したごとく、 トルエンあるいはキシレン等とェ 夕ノ一ル等のアルコール類および水の混合溶媒中、 K2C〇3あるいは Na 2C03 等の塩基および炭素担持パラジゥ厶 (P d— C) 、 P d (PP h3) 4、 P d C l 2 (P Ph3) 2等の触媒存在下、 化合物 (丄) と化合物 ( ) を反応 (M. H I RD等, リキッ ド クリスタルズ, J_J_ ( 1 ) , 1 ( 1 9 9 5 ) ) させて化合物 (_3_) とした後、 s e c—ブチルリチウム等のリチウム化合物、 次いでハロゲン 分子 (特に臭素またはヨウ素) と反応させて化合物 ( ) を得る。 化合物 ( ) とマグネシウムから調製した G r i g n a r d試薬 (あるいは、 n—プチルリチ ゥム等から調製したリチウム化合物) と化合物 ( ) を反応させて化合物 ( ) を得る。 次いで p— トルエンスルホン酸 (PTS) 等の酸触媒存在下、 脱水反応 を行った後、 ラネー N iまたは P d— C等の触媒存在下、 水素添加して本発明の 化合物 (__) を製造することができる。
s c h em e 2に示したごとく、 化合物 (丄) および化合物 ( ) に代えてそ れぞれ化合物 (丄) および化合物 ( ) を用いる以外 s c h eme 1 と同様の方 法により本発明化合物例の (JJ_) を製造することができる
s c h em e 3に示したごとく、 化合物 (JJ_) をリチォ化した後、 Z n B r 2等の亜鉛化合物と反応させ、 次いで化合物 (丄) と反応 (林等, ジャーナル
ォブ ジ アメ リカン ケミカル ソサイエティ一, 1 0 6, 1 5 8 ( 1 9 8 4) ) させることにより本発明の化合物 (U_) を製造することができる。
s c h em e 4に示したごとく、 化合物 (丄) に代えて化合物 (J_^_) を用い る以外 s c h em e 1 と同様の方法により化合物 (J_i_) とした後、 脱保護して 化合物 ( _ ) を得る。 次いで、 化合物 (丄— と化合物 (上 _) をナトリウム アミ ド (J. B. ライ ト等, ジャーナル ォブ ジ アメリカン ケミカル ソ サイエティ一, 3 0 9 8 ( 1 94 8 ) ) 、 炭酸力リウム (W. T. オルソ ン等, ジャーナル ォブ ジ アメリカン . ケミカル ソサイエティ—, 6 9,
24 5 1 ( 1 9 4 7) ) 、 トリエチルァミ ン ( R . L . M e r k e r等, ザ ジ ヤーナル ォブ オーガニック ケミストリー, J_, 5 1 8 0 ( 1 9 6 1 ) ) 、 水酸化ナト リウム (C. W i l k i n s, シンセシス, 1 9 7 3, 1 5 6 ) 、 水 酸化カリウム (J. R e b e k等, ザ ジャーナル ォブ オーガニック ケミ ストリ一, _iJ_, 1 4 8 5 ( 1 9 7 9 ) ) 、 水酸化バリウム (カヮベ等, ザ ジ ャ一ナル ォブ オーガニック ケミストリー, 3 7, 4 2 1 0 ( 1 9 72 ) ) または水素化ナ ト リウム (C. J. S t a r k, テトラへドロン レターズ, , 20 8 9 ( 1 9 8 1 ) , K. 夕カイ等, テトラへドロン レ夕一ズ, U_, 1 6 5 7 ( 1 9 8 0 ) ) 等の塩基の存在下、 ジメチルスルホキシド、 ジメチルホ ルムアミ ド、 1, 2—ジメ トキシェタン、 テトラヒ ドロフラン、 へキサメチルリ ン酸トリアミ ドまたはトルエン等の溶媒中で反応させることにより本発明の化合 物 (JJL) を製造することができる。
一般式 ( 1 ) において、 Raおよび Rb中に一 0—を含む化合物も同様の方法 で製造することができる。
mCPBA . Π CF3COOH
Ra-f A -Z, A2-(CH2)q- j ra
(20.
(scheme5)
(scheme6)
(式中、 R a、 Rb、 A,〜A3、 Z3、 m、 および nは前記と同様の意味を 示し、 X aおよび X f はハロゲン原子を示し、 qは 2または 4を示し、 Rはァ ルキル基を示す。 )
s c h em e 5に示したごとく、 化合物 (J_J とメチルト リ フエニルホスホ 二ゥ厶ハライ ドから W i t t i g反応 (オーガ二ック リアクショ ンズ, 第 1 4 巻, 第 3章) を行って化合物 とし、 過舴酸 (D. Swe r n等, ジャー ナル ォブ ジ アメ リカン ケミカル ソサイエティ一, 1 5 0 4 ( 1 9 4 6 ) ) 、 過安息香酸 ( J. G r i g 0 r等, ジャーナル ォブ ザ ケミカ ル ソサイエティ一, 2 3 3 3, ( 1 9 5 4) ) 、 ト リ フルォロ過酢酸 (E. J. C o r e y等, ジャーナル ォブ ジ アメ リカン ケミカル ソサイエティー, 1 0 1 , 5 8 4 1 ( 1 9 7 9 ) ) 、 m クロ口過安息香酸 (mCPB A) (A. G. Ho r t ma n n等, ザ ジャーナル ォブ オーガニッ ク ケミス ト リ一, 3 5, 4 9 2 0 ( 1 9 7 0 ) 、 M. S w o r i n等, ジャーナル ォブ ジ 了 メ リカン ケミカル ソサイエティ一, 1 1 1 , 1 8 1 5 ( 1 9 8 9 ) ) 等の過 酸化物により化合物 (U_) とする。
次いでト リ フルォロ酢酸 (A. C. C o p e等, ジャーナル ォブ ジ ァメ
リカン ケミカル ソサイエティー, J_, 3 7 5 2 ( 1 9 6 3 ) ) 、 トリクロ 口酢酸 (G. B e r t i等, テトラへドロン レ夕一ズ, 3 4 2 1, ( 1 9 6 5) ) 、 トリニトロベンゼンスルホン酸 (M. A. Kh u d d u s等, ジャーナ ノレ ォブ ジ アメリカン ケミカル フサイエティ一, ^ _5, 8 3 9 3 ( 1 9 7 3 ) ) 等で加水分解して化合物 (U_) とした後、 t e r t—プチルジメチル シリルクロリ ド (TBDMS— C 1 ) (K. K. 0 g 1 i v i e等, テトラへド ロン レターズ, 3 1 7 ( 1 9 7 3) 、 S. K. C h a u d h a r y等, テトラ へドロン レ夕一ズ, 9 9, ( 1 9 7 9 ) ) 等で保護し、 トリフルォロメ夕ンス ルホン酸エステル (T. G r am s t a d等, ジャーナル ォブ ケミカル ソ サイエティ一, 4 0 6 9 ( 1 9 5 7 ) ) 、 スルホン酸エステル (小倉等, ブルテ イ ン ォブ ザ ケミカル ソサイエティー ォブ ジャパン, 1 2 5 7 ( 1 9 8 3 ) ) またはシユウ酸エステル (E. E. Sm i s s m a n等, ザ ジ ャ一ナル ォブ オーガニック ケミストリ一, 3 9 4 4 ( 1 9 7 2 ) ) 等に誘導し、 化合物 と反応を行い化合物 とする。 次いで、 脱保 護 ( I . J. B o I t o n等, ジャーナル ォブザ ケミカル ソサイエティ一, 2 9 4 4 ( 1 9 7 1 ) ) し、 PTS等の酸触媒存在下、 脱水反応を行うことによ り本発明の化合物 を製造することができる。
s c h em e 6に示したごとく、 化合物 ( _) をクロ口クロ厶酸ピリジニゥ ム (P CC) (G. Me 1 V i n等, ジャーナル ォブ ザ ケミカル ソサイ エティ一 パーキン トランスアクション, 1 , 5 9 9 ( i 9 8 1 ) またはニク ロム酸ピリジニゥ厶等の酸化剤で酸化した後、 化合物 (^) と反応させて化合 物 ( 3 0) を得る。 塩酸、 硫酸等の鉱酸または PTS (W. J. J o h n s o n 等, ジャーナル ォブ ジ アメ リカン ケミカル フサイエティー, 8 3 , 6 0 6 ( 1 9 6 1 ) ) 等の酸触媒存在下、 脱水して化合物 ( 丄) を得る。 次いで、 水素化ジイソブチルアルミニウム (D I BAL) (E. J. C o r e y等, ジャ —ナル ォブ ジ アメリカン ケミカル ソサイエティー, J_, 5 6 7 5 ( 1 9 6 9 ) ) または水素化ビス ( 2—メ トキシェトキシ) アルミニゥ厶ナトリ ゥ厶 (トコロャマ等, テトラへドロン レターズ, 3 3 7 7 ( 1 9 8 0 ) ) 等の還元剤で還元して化合物 を得る。 さらに化合物 をトリ
ェチルンラン (G. A. K r a u s等, ジャーナル ォブ ザ ケミカル ソサ イエティ一 ケミカル コミュニケイシヨンズ, 1 5 6 8 ( 1 9 8 6 ) ) 等のヒ ドロシランで還元することによつて本発 1リ]の化合物 を製造することがで きる。
また、 一般式 ( 1 ) 中にシラシクロへキサン環を含む化合物は、 特開平 7— 7 0 1 4 8、 特開平 7— 1 1 2 9 9 0、 特開平 7— 1 7 3 1 7 6および特開平 7 - 2 5 2 2 7 3等で開示されている方法に従って、 容易に製造することができる。 原料であるジヒ ドロキシボラン誘導体 (^) および ( ) も公知の一般的な有 機合成法によって製造することができるが、 例えば以下のような方法で簡便に製 造することができる。
(scheme7)
(式中、 Rb、 A3、 Z3、 nおよび X aは前記と同様の意味を示す。 ) すなわち、 s c h em e 7に示したごとく、 化合物 (^J_) とマグネシウムか ら調製したグリニャール試薬とトリメ トキシボランまたはトリィソプロピルォキ シボラン等のトリアルコキシボランとを反応させた後、 塩酸等で加水分解するこ とによって ( ) を製造することができる。
上述の反応は全て公知のものであるが、 必要によりさらに他の既知反応を使用 できることは言うまでもない。
このようにして得られる本発明の液晶性化合物は、 極めて高い電圧保持率およ び低いしきい値電圧を有し、 それらの温度依存性が極めて小さく、 スメクチック 相を示しにくい上、 種々の液晶材料と容易に混合し、 低温下でも溶解性が良好で ある。
また、 これらの本発明液晶性化合物は、 液晶表示素子が通常使用される条件下 において物理的および化学的に十分安定であり、 ネマチック液晶組成物の構成成 分として極めて優れている。
本発明の化合物は、 TN、 STNおよび TFT用の液晶組成物においても、 そ の構成成分として好適に使用することができる。
一般式 ( 1 ) で表される化合物のうち、 3個の六員環を有する化合物は高い等 方相転移温度と比較的低い枯性を示し、 4個の六員環を有する化合物は格別に高 い等方相転移温度とやや大きな粘性を示す。 分子内にシクロへキサン環、 ジォキ サン環、 テ卜ラヒ ドロビラン環またはシラシクロへキサン環を有する化合物は小 さな屈折率異方性値を示し、 シクロへキサン環、 シラシクロへキサン環またはべ ンゼン環を有する化合物は低粘性を示し、 ベンゼン環を有する化合物は比較的大 きな屈折率異方性値を示す。
また、 以下の部分構造を有する化合物は、 特に大きな負の誘電率異方性値を示 す。
環構造中の水素原子をフッ素原子に置換することによって、 より大きな誘電率 異方性値をとることが可能であり、 同時に相溶性も改善され得る。
さらに、 本発明化合物中の原子が、 その同位体で置換された化合物も同様の特 性を示すことから好ましいものといえる。
これらのことから環、 側鎖、 置換基および結合基を適当に選択することにより 所望の物性を有する新たな液晶性化合物を得ることができる。
以下、 本発明の液晶組成物に関して説明する。 本発明に係る液晶組成物は、 一 般式 ( 1 ) で表される化合物の少なく とも 1槌を 0 . 〖〜 9 9 . 9重量%の割合 で含有すること力 優良な特性を発現せしめるために好ましく、 より好ましくは その割合は 1〜5 0重量%の範囲である。
さらに詳しくは、 本発明で提供される液晶組成物は、 一般式 ( 1 ) で表される 化合物を少なく とも 1種含有する第一成分に加え、 一般式 ( 2 ) 〜 ( 1 2 ) で表 される化合物群から液晶組成物の目的に応じて選択される化合物を混合すること により完成する。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式 (2 ) 〜 ( 4 ) で表される化合物の好 ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
9iv S,fcIDd i
(s2)-
)ε-
s τ
S9ZtO/,6Jf/XDJ Z9S£Z786 O/A
0
2 (
(式中、 R,および X,は前記と同様の意味を示す。 )
一般式 (2) 〜 (4) で表される化合物は誘電率異方性値が正の化合物であり、 熱的安定性や化学的安定性が非常に優れており、 特に電圧保持率の高い、 あるい は比抵抗値の大きいといった高信頼性が要求される T F T用の液晶組成物を調製 する場合に、 極めて有用な化合物である。
T FT用の液晶組成物を調製する場合、 一般式 (2) 〜 (4) で表される化合 物の使用量は、 液晶組成物の全重量に対して 0. 1〜9 9. 9重量%の範囲で使 用できる力 \ 好ましくは 1 0〜9 7重量%、 より好ましくは 4 0〜9 5重量%で ある。 また、 一般式 (7) 〜 ( 9) で表される化合物を、 粘度調整の目的でさら に含有してもよい。
STNまたは TN用の液晶組成物を調製する場合も一般式 (2) 〜 (4) で表 される化合物を使用することができるが、 5 0重量%以下の使用量が好ましい。 本発明の液晶組成物に用いられる一般式 (5) および (6) で表される化合物 の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
(式中、 R2、 R3および X2は前記と同様の意味を示す。 )
—般式 ( 5) および ( 6) で表される化合物は誘電率異方性値が正でその値が 大きく、 特に液晶組成物のしきい値電圧を小さくする目的で使用される。 また、 屈折率異方性値の調整、 透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的に も使用される。 さらに、 STNまたは ΤΝ用の液晶組成物の電圧一透過率特性の 急峻性を改良する目的にも使用される。
—般式 (5) および (6) で表される化合物は、 STNおよび ΤΝ用の液晶組 成物を調製する場合には、 特に有用な化合物である。
液晶組成物中に一般式 (5) および (6) で表される化合物の量が増加すると、 液晶組成物のしきい値電圧は小さくなるが、 粘度が上昇する。 したがって、 液晶 組成物の粘度が要求値を満足している限り、 多量に使用した方が低電圧駆動でき るので有利である。 STNまたは ΤΝ用の液晶組成物を調製する場合に、 一般式
(5) および (6) で表される化合物の使用量は 0. 1〜99. 9重量%の範囲 で使用できるが、 好ましくは 1 0〜97重量%、 より好ましくは 40〜95重量 %である。
本発明の液晶組成物に用いられる一股式 (7)〜(9) で表される化合物の好 ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
9 SS0 / 67卜fc13¾ sss/86 OAV-
じ (Z-
CO
(9-
(8-
(6-
(cn-
9 ε
(式中、 R4および R5は前記と同様の意味を示す。 )
一般式 ( 7) 〜 (9) で表される化合物は、 誘電率異方性の絶対値が小さく、 中性に近い化合物である。 一般式 (7) で表される化合物は主として粘度調整ま たは屈折率異方性値の調整の目的で使用される。 また、 一般式 (8) および ( 9) で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的ま たは屈折率異方性値の調整の目的で使用される。
一般式 ( 7) 〜 (9) で表される化合物の使用量を増加させると液晶組成物の しきい値電圧が大きくなり、 粘度が小さくなる。 したがって、 液晶組成物のしき い値電圧が要求値を満足している限り、 多量に使用することが望ましい。 TFT 用の液晶組成物を調製する場合に一般式 (7) 〜 ( 9) で表される化合物の使用 量は、 好ましくは 4 0重量%以下、 より好ましくは 3 5重量%以下である。 また、 STNまたは TN用の液晶組成物を調製する場合には、 一般式 (7) 〜 ( 9) で 表される化合物の使用量は、 好ましくは 70重量%以下、 より好ましくは 6 0重 量%以下である。
本発明の液晶組成物に用いられる一般式 ( 1 0) 〜 ( 1 2) で表される化合物 の好ましい例として以下の化合物を挙げることができる。
8 ε
S9ひ 0/ム 6df/IDd
(式中、 R5および R6は前記と同様の意味を示す。 )
一般式 ( 1 0) 〜 ( 1 2) で表される化合物は、 誘電率異方性値が負の化合物 である。 一般式 ( 1 0) で表される化合物は 2環化合物であるので、 主としてし きい値電圧の調整、 粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。 一般式 ( 1 1 ) で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広 げる目的または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。 一般式 ( 1 2) で表 される化合物はネマチックレンジを広げる目的の他、 しきい値電圧を小さくする 目的および屈折率異方性値を大きくする目的で使用される。
一般式 ( 1 0) 〜 ( 1 2) で表される化合物は主として誘電率異方性値が負で ある液晶組成物に使用される。 その使用量を増加させると組成物のしきい値電圧 が小さくなるが、 粘度が大きくなる。 したがって、 しきい値電圧の要求値を満足 している限り、 少なく使用することが望ましい。 しかしながら、 誘電率異方性の 絶対値が 5以下であるので、 4 0重量%より少なくなると電圧駆動ができなくな る場合がある。 一般式 ( 1 0) 〜 ( 1 2) で表される化合物の使用量は、 誘電率 異方性値が負である T FT用の組成物を調製する場合には 4 0重量%以上が好ま しいが、 5 0〜9 5重量%が好適である。 また、 弾性定数をコントロールし、 組 成物の電圧一透過率曲線を制御する目的で、 一般式 ( 1 0) 〜 ( 1 2) で表され る化合物を誘電率異方性値が正である組成物に混合する場合もある。 この場合の 一般式 ( 1 0 ) 〜 ( 1 2 ) の化合物の使用量は 3 0重量%以下が好ましい。 また、 本発明の液晶組成物では、 OC B (Op t i c a 1 1 y C omp e n s a t e d B i r e f r i n g e n c e) モ一ド用液晶組成物等の特別な場合 を除き、 液晶組成物のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、 逆ねじれ (r e v e r s e tw i s t) を防ぐ目的で、 通常、 光学活性化合物を添加す る。 このような目的で公知のいずれの光学活性化合物も使用できるが、 好ましい 例として以下の光学活性化合物を挙げることができる。
C3H7- ^ CH2 - CH— C2H 記号: C M 43 L
CH3
CaH170 己号: C M 47
記号: C N
CaHi7 ~ ^
本発明の液晶組成物は、 通常、 これらの光学活性化合物を添加して、 ねじれの ピッチを調整する。 ねじれのピッチは、 TFT用および TN用の液晶組成物であ れば 40〜200〃mの範囲に調整するのが好ましい。 STN用の液晶組成物で あれば 6〜 20 mの範囲に調整するのが好ましい。 また、 双安定 TN (B i s t ab l e TN) モード用の場合は、 1. 5〜 4〃mの範囲に調整するのが好 ましい。 また、 ピッチの温度依存性を調整する目的で、 2種以上の光学活性化合 物を添加してもよい。
本発明の液晶組成物は、 慣用な方法で調製される。 一般には、 種々の成分を高 い温度で互いに溶解させる方法がとられている。
また、 本発明の液晶組成物は、 メロシアニン系、 スチリル系、 ァゾ系、 ァゾメ チン系、 ァゾキシ系、 キノフタロン系、 アントラキノン系、 およびテトラジン系 等の二色性色素を添加してゲストホスト (GH) モー ド用の液晶組成物としても 使用できる。 あるいは、 ネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製した NC A Pや液晶中に三次元網目伏高分子を作製したポリマーネッ トワーク液晶表示素 子 (PNLCD) に代表されるポリマー分散型液晶表示素子 (PDLCD) 用の 液晶組成物としても使用できる。 その他、 複屈折制御 (ECB) モードや動的散 乱 (DS) モード用の液晶組成物としても使用できる。
本発明の化合物を含有する液晶組成物例として以下のものを示すことができる なお、 組成物例および後述の実施例中の化合物は、 以下に示される定義に従って 記号化して表記し、 化合物の No. は後述の実施例中に示されるそれと同一であ る。
CaH2a+iO— aO- し 3Π2& 1Uし b 2b一 aOb— a 2a 1 b 2b
^a- 11 l2(a-1) + 1 ^^ b' ,213+1メ1 1 ^c1 '2c
ρしρ ΓμΠ
2し a-i μn^ ,g^)― ― CT t_l |_| |"'■ 1 "
1し a-lMsta-l)一 FFa—
FFFa— ^「Η
2〇
3-1Η2(
3-·|)0一 FaO-
CFn2 a-ln2(a.1)Ov--bn2b— FaOb-
Ca 2a CFHCbh2b― a(F)b-
CaH2a+iCF2CbH2b― a(FF)b-
CaH2a 1。 2 bH2b― a(Si)b- a' ,23· 1 i— 1 '2b aVb—
CaH2a+i CH=CHCbH2bCH=CHCcH2r― aVbVc-
。
£11"1
2& 1(^=0["1(^1
_1 0し(:1"1
2― aVbOc-
aObVc—
CFH2Ca.1 H2(a-i CH=CHCbH2b― FaVb-
FFC=CHCaH2a— FFVa-
F(CN)C=CHCaH2a— FCVa— =3 σ 1 -] o fid
-(CH2)a- a
-CH2〇- CH O
-OCH2- 0CH2
-C3H60- C3H60
-0 C3H6- OC3H6
-C〇〇- E
-C≡C- T
-CH=CH- V
-CF20- CF20
右末端基 R b . R 5. R 7 , X 1. X 2 記号 一 O F — F III
-CI Ω 一一しlし
-CN -c
Ω
一 OCFク H 一 OCF2H
-CF2CF2H -CF2CF2H 一 r Hg q ― CF2CH2CF3
-CF2CFHCF3 -CF2CFHCF3
-OCH2CF2H -OCH2CF2H
-OCF2CF2H -OCF2CF2H
-OCF2CH2CF3 一〇CF2CH2CF3
-OCF2CFHCF3 -OCF2CFHCF3 し I 1 — w
—〇CwH2w+1 -Ow
― CwH2wOCxH2x+i — wOx 一〇CwH2w〇CxH2x+i -OwOx
― C
wH2wCH=CHC
xH2 CH= : CH
2 -wVxV 一 C〇OCH
3 一 EMe
-CH=CF2 -VFF
― CwH2WCn=CF2 -wVFF
— TC
また、 例えば下記の部分構造式において、 トランス一 し 4ーシクロへキシレ ンの水素原子が Q,、 Q2、 Q 3の位置で重水素原子により置換された場合には、 記号: H [ 1 D, 2D, 3 D] とし、 また Q5、 Q6、 Q■;の位置で置換された場 合は、 記号: H [5 D, 6 D, 7 D] として [ ] 内の番号で重水素置換位置を 示すこととする。
また、 組成物例および実施例中において、 特に断りのない限り 「%」 は 「重量 %\ を示し、 化合物にシス一 トランス異性体が存在する場合には、 その化合物は トランス型である。
組成物例 1
3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) 一〇 3 (化合物 No. 27 6 ) 1 5 0 %
3 - HE B - 04 24 0 %
4 - HEB-02 1 7 0 %
5 - HEB-01 1 7 0 % 3 -HE B - 02 1 5 0 % 5 -HEB-02 1 2 0 % 組成物例 2
3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 03 (化合物 N o. 1 8 3) 1 5 0 %
3 - HE B-04 24. 0 %
4 - HEB-02 1 7, 0 %
5 - HE B-01 1 7, 0 % 3 -HE B-02 1 5 , 0 % 5 -HEB-02 1 2, 0 % 組成物例 3
3 - HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 N o. 1 8 3) 1 0 0 %
3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 2 7 6 ) 1 0 0 %
3 -HH- 2 5 0 %
3 -HH- 4 3 0 %
3 -HH- 0 1 7 0 %
3 -HH- 03 5 0 % 5 -HH-0 1 4 0 %
3 -HB (2, 3 F) -02 1 2 0 %
5 -HB C 2, 3 F) -02 1 1 0 %
3 -HHB (2, 3 F) -02 1 4 0 %
5 -HHB ( 2, 3 F) -02 1 5 0 % 3 -HHB ( 2, 3 F) - 2 4 0 % 組成物例 4
3 -HHCH2 0 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 3 8 3 ) 5 0 %
3 -HH- 5 5 0 %
3一 HH - 4 5 0 % 3 -HH-0 1 6 0 %
3 - HH - 03 6 0 %
3 - HB -〇 1 5 0 %
3 - HB— 02 6 0 %
3 -HB C 2, 3 F) -02 1 0 0 % 5 -HB (2, 3 F) -02 1 0 0 %
3 -HHB (2, 3 F) -02 1 2 0 %
5 -HHB ( 2, 3 F) -02 1 3 0 %
3 -HHB ( 2, 3 F) - 2 4 0 %
2 -HHB ( 2, 3 F) - 1 4 0 % 3 -HHEH- 3 5 0 %
3 -HHEH- 5 4 0 % 組成物例 5
30-B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 1 ) 4. 0 %
3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 N o. 1 8 3) 5. 0 %
3 - B B C 2, 3 F) -02 1 3. 0 %
3 - BB ( 2, 3 F) -〇 4 1 0. 0 %
5 - B B C2, 3 F) -04 1 0. 0 %
2 - B B ( 2, 3 F) B - 3 2 5. 0 % 3 -B B (2, 3 F) B- 5 1 3. 0 %
5 -B B C 2, 3 F) B- 5 1 4. 0%
5 - B B C2, 3 F) B- 7 6. 0 % 組成物例 6
30— B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 1 ) 3. 0 % 3 -HB ( 2 F) B (3 F) -03 (化合物 No. 1 8 3) 3. 0 %
3 ~HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 2 7 6 ) 1 0. 0 % 3— BB (2, 3 F) - 02 1 0. 0% 5 - B B— 5 7. 0 % 5 - B B - 06 9. 0% 5 - BB— 08 8. 0 %
1 — B E B— 5 6. 0%
3 - B E B - 5 6. 0 %
5 - BEB - 5 3. 0%
3 -HEB-02 22. 0 % 5 - B B B C2, 3 F) - 7 9. 0%
3 -H 2 B B (2 F) - 5 4. 0% 組成物例 7
30— B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 1 ) 4. 0 %
3 -HB (2 F) B (3 F) 一 03 (化合物 No. 1 8 3) 1 3. 0% 3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) -03 (化合物 No. 2 7 6 ) 1 3. 0 %
3 -HHCH2 OB (2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 3 8 3 ) 4. 0 %
3 -HB - O 1 1 5. 0%
3 -HB - O 2 6. 0%
3 -HEB C2, 3 F) -02 9. 0 %
4 -HEB (2, 3 F) - 02 9. 0 %
5 -HE B ( 2, 3 F) -02 4. 0 %
2 - BB 2 B-02 6. 0% 1 -B 2 BB (2 F) - 5 7. 0% 5 -B (3 F) BB-02 3. 0%
3 - BB (2, 3 F) B- 3 7. 0% 組成物例 8
30- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 1 ) 3. 0 %
3 -HB (2 F) B (3 F) 一 03 (化合物 No. 1 8 3) 3. 0% 3 -HB -01 9. 0%
3— HB - 02 1 1. 0%
3— HB - 04 9. 0 %
2 - BTB - 01 5. 0% 1 - BTB - 02 3. 0 % 3 -BTB C2, 3 F) -02 1 3. 0%
5 - BTB (2, 3 F) - 02 1 3. 0%
3 - B (2, 3 F) TB ( 2, 3 F) - 04 4. 0 % 5 - B (2, 3 F) TB ( 2, 3 F) - 04 4. 0 % 3一 HBTB 01 5. 0% 3— HBTB— 02 4. 0 %
3 -HHB C2, 3 F) -02 6. Q%
5—HBB (2, 3 F) -〇 2 5. 0%
5— BP r ( 3 F) —〇 2 3. 0% 組成物例 9
30— B ( 2 F) B (2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 1 ) 3. 0 %
3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 N 0. 1 8 3) 5. 0%
3 - HB - 02 1 0. 0%
5 -HB - 3 8. 0%
5 -BB (2, 3 F) -02 1 0. 0%
3 -HB C2, 3 F) -02 1 0 0 %
5 -HB (2, 3 F) -02 8 0 %
3 -HHB ( 2, 3 F) -02 1 2 0 %
5 -HHB (2, 3 F) -02 4 0 % 5 -HHB ( 2, 3 F) - 1〇 1 4 0 %
2 -HHB ( 2, 3 F) - 1 5 0 % 3 -HB B - 2 6 0 %
3 - BB (2, 3 F) B - 3 8 0 % 5 -B 2 BB C2, 3 D B-02 7 0 % 組成物例 1 0
3—HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 3 0 % 3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No. 276 ) 3 0 %
3 -HHCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 3 8 3 ) 3 0 % 3 -HB-02 20 0 % 1〇 1一 HH— 3 6 0 %
101 -HH- 5 5 0 %
3 - HH- EMe 1 2 0 %
4 - HE B - 01 9 0 %
4 - HEB- 02 7 0 % 5 -HEB -01 8, 0 %
3 -HHB - 1 3, 0 %
4 -HEB (2, 30 -04 3, 0 %
6 -HEB (2, 30 -04 3, 0 %
3 -HEB (2, 3 C) -05 4. 0 % 4 -HEB (2, 3 C) - 05 3, 0 %
5 - HEB (2, 3 C) -05 2, 0 % 2 -HBEB C2, 30 -02 2. 0 %
4 -HBEB (2, 30 -04 4, 0 % 組成物例 1 1
3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 03 (化合物 No. 1 8 3) 1 0 0 % 1 V 2 - B E B ( 3, 5 F) C 5 0 % 3 -HB-C 2 4 0 % V 2 -HB-C 6 0 % 1 -BTB- 3 3 0 %
2 - BTB- 1 1 0 0 %
1 01 一 HH - 3 3 0 %
3 - HH- 4 9 0 %
3 -HHB- 1 4 0 % 3 -H 2 BTB- 2 4 0 % 3 -H 2 BTB- 3 4 0 % 3 -H 2 BTB- 4 4 0 % 3 -HB ( 3 F) TB- 2 6 0 % 3 -HB ( 3 F) TB- 3 5 0 % 3 -HHB-C 3 0 % 組成物例 1 2
3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 8 0 % 5 -P B-F 4 0 %
3 - P y B ( 3 F) 一 F 4 0 % 2 -B B-C 5 0 %
4 - BB-C 4 0 %
5 - BB-C 5 0 %
2 - P y B - 2 2 0 %
3 - P y B - 2 2 0 % 4— P y B— 2 2 0 %
6 - P y B - 05 3 0 % 6 - P y B -06 3 0 % 6 -P y B-07 3 0 % 6 - P y B - 08 3 0 %
5 o
3 -Py B B-F 6. 0 %
4 -PyB B-F 6. 0 %
5 - P y B B-F 6. 0 %
3 -HHB - 1 6. 0 %
2 -H 2 BTB- 2 4. 0 %
2 -H2 BTB- 3 4. 0 %
2 - H 2 BTB- 4 5. 0 % 3 -H 2 BTB- 2 5. 0 % 3 -H 2 BTB- 3 5. 0 %
3 - H2 BTB- 4 5. 0 % 組成物例 1 3
3— HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 4. 0 % 3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 27 6 ) 5. 0 %
201 - BE B ( 3 F) 一 C 5. 0 %
301 -BEB ( 3 F) 一 C 1 2. 0 %
5〇 1一 BEB ( 3 F) 一 C 4. 0 %
1 V 2 - B E B (3, 5 F) -C 1 0. 0 %
3 -HEB-04 4. 0 %
3 -HH-EMe 6. 0 %
3 -HB-02 1 8. 0 %
7 -HE B - F 2. 0 %
3 -HHEB-F 2. 0 %
5 -HHEB-F 2. 0 %
3 -HBEB-F 4. 0 %
201 -HBEB ( 3 F) - C 2. 0 %
3 -HB ( 3 F) E B ( 3 F) - C 2. 0 %
3 -HBE B (3, 5 F) -C 2. 0 %
3 -HHB - F 4. 0 %
3 -HHB -01 4. 0 %
3 -HE B E B-F 2. 0 % 3 -HE B E B- 1 2. 0 % 3 -HHB ( 3 F) 一 C 4. 0 % 組成物例 1 4
3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) 〇 3 (化合物 No. 2 7 6 )
1 0 0 %
5 -B E B ( 3 F) C 5 0 % V-HB-C 1 1 0 % 5 - P y B - C 6 0 % 4 - B B - 3 1 1 0 %
5 -HH- V 2 V 4 0 % 3一 HH - 2 V 1 0 0 % 5 -HH- V 7 0 % V - HHB - 1 7 0 % V 2 -HHB- 1 1 0 0 % 3 -HHB - 1 4 0 % 1 V 2 -HB B- 2 1 0 0 % 3 -HHE BH- 3 5 0 % 組成物例 1 5
3— HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 1 1 0 %
5 - BTB ( 3 F) TB - 3 1 0 0 %
V 2 -HB-TC 1 0 0 %
3 -HB-TC 1 0 0 %
3 -HB-C 1 2 0 % 5 -HB-C 0 %
5 -BB-C 3 0 %
2 - BTB- 1 1 0 0 % 2 -BTB-O 1 4 0 %
3一 HH— 4 4 0 %
3 -HHB - 1 1 0 0 %
3 -H 2 BTB- 2 3 0 %
3 -H 2 BTB - 3 3 0 %
3 -HB ( 3 F) TB- 2 3 0 % 組成物例 1 6
30- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03 (化合物 No 1 ) 2 0 %
3— HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 5 0 %
1 V 2 -BEB ( 3, 5 F) -C 6 0 %
3 -HB-C 1 8 0 % 2 - BTB- 1 1 0 0 %
5 -HH- VF F 3 0 0 %
1 - BHH- VF F 8 0 %
1 - BHH- 2 VF F 4 0 %
3 -H 2 BTB- 2 5 0 % 3 -H 2 BTB - 3 4 , 0 %
3 -H 2 BTB- 4 4, 0 %
3 -HHB- 1 4 , 0 % 組成物例 1 7
3 - HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 N o. 1 8 3) 5 0 % 7 -HB ( 3 F) -F 5 0 % 5 -H 2 B ( 3 F) - F 5 0 % 3 - HB - 02 1 0 0 % 3 -HH- 2 0 %
3 -HH [ 5 D, 6 D, 7 D] - 4 3 0 % 2 -HHB ( 3 F) - F 1 0 0 % 3 -HHB ( 3 F) - F 1 0 0 % 5 -HH [5 D, 6 D, 7 D] B (3 F) -F 1 0 0 % 3 -H 2 HB ( 3 F) —F 5 0 % 2 -HB B ( 3 F) - F 3 0 %
3 -HBB ( 3 F) -F 3 0 % 5 -HBB ( 3 F) -F 6 0 %
2 -H 2 B B ( 3 F) - F 5 0 % 3 -H2 BB ( 3 F) -F 6 0 % 3 - HHB— 1 3 0 % 3 -HHB - 01 5 0 %
3 - HHB - 3 4 0 % 組成物例 1 8
3 -HCH2 0 B ( 2 F) B ( 3 F) 03 (化合物 No. 2 6) 6 0 % 7 -HB ( 3, 5 F) -F 5 0 %
3 -H 2 HB (3, 5 F) -F 2 0 %
3 -HHB ( 3, 5 F) -F 1 0 0 %
4 -HHB (3, 5 F) - F 5 0 %
3 -HB B (3, 5 F) - F 1 0 0 % 3 -HHE B (3, 5 F) -F 1 0 0 %
4 -HHE B (3, 5 F) - F 3 0 %
5 -HHE B (3, 5 F) -F 3 0 %
2 - HBE B (3, 5 F) -F 3 0 %
3 HBEB (3, 5 F) -F 5 0 % 5— HBEB (3, 5 F) - F 3 0 %
3 -HD ( 3, 5) B (3, 5 F) - F 1 5, 0 %
3 -HHBB (3, 5 F) -F 6 , 0 % 組成物例 1 9
3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) 03 (化合物 No. 27 6) 5. 0 % 3 -HB-CL 1 0. 0 % 5 -HB - C L 4. 0 % 7 -HB-CL 4. 0 % 1〇 1 -HH- 5 5. 0 %
2 -HB B ( 3 F) -F 8 0 %
3 -HB B ( 3 F) -F 8 0 % 5—HBB ( 3 F) - F 1 4 0 %
4 - HHB-CL 8 0 % 5 -HHB-CL 3 0 %
3 -H 2 HB ( 3 F) - C L 4 0 % 3 - HBB (3, 5 F) - F 1 0 0 % 5 -H 2 B B (3, 5 F) -F 9 0 % 3 -HB ( 3 F) VB - 2 4 0 % 3 -H2 BTB- 2 4 0 % 組成物例 2 0
3— HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 5 0 %
5 - HB-F 1 2 0 %
6 - HB-F 9 0 % 7 -HB-F 0 %
2 -HHB-OCFs 7 0 %
3 -HHB -OC F3 7 0 %
3 -HHB ( 3, 5 F) - OC F3 5 0 % 3—HBB ( 3 F) -F 1 0 0 %
5 -HB B ( 3 F) -F 1 0 0 %
3 -HH 2 B ( 3 F) — F 3 0 % 3 -HB ( 3 F) BH- 3 3 0 % 5 -HB BH- 3 3 0 %
3 -HHB (3, 5 F) -OCF2 H 4 0 % 組成物例 2 1
3— HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 No. 1 8 3) 5. 0 %
3 -HCH2 OB ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No. 2 7 6 ) 5. 0 %
5 -H 4 HB (3, 5 F) F 7 0 % 5 -H4 HB-OCF3 1 5 0 % 3 -H 4 HB (3, 5 F) CF3 8 0 % 5 -H4 HB (3, 5 F) CF3 1 0 0 % 3 -HB-CL 6 0 % 5 -HB-CL 4 0 %
2 -H 2 B B ( 3 F) 一 F 5 0 % 5 -HVHB (3, 5 F) F 5 0 %
3 -H 2HB-OCF3 5 0 % V - HHB ( 3 F) — F 5 0 %
3 - HBEB (3, 5 F) -F 5 0 % 5 -HH- V 2 F 3 0 % 組成物例 22
30— B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) —03 (化合物 No 1 ) 2 0 % 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 (化合物 N o. 1 8 3) 3 0 % 3 -HCH2 OB (2 F) B (3 F) -03 (化合物 No. 27 6 )
1 0 0 %
2 -HHB ( 3 F) — F 2 0 %
3 -HHB ( 3 F) -F 2 0 % 5 -HHB ( 3 F) - F 2 0 % 2 -HBB ( 3 F) -F 6 0 % 3 -HBB ( 3 F) -F 0 %
2 -H 2 B B ( 3 F) 一 F 9 0 %
3 -H 2 B B ( 3 F) -F 4 0 %
3 -HB B ( 3, 5 F) - F 25 0 %
5 -HB B C 3, 5 F) -F 1 9. 0 %
1 0 1 -HB BH- 4 5. 0 %
1 01 -HB BH- 5 4. 0 % 発明を実施するための最良の形態
以下、 実施例により本発明をより詳細に説明する。 なお、 各実施例中において、 Cは結晶を、 S まスメクチック A相を、 SBはスメクチック B相を、 Sxは相構 造未解析のスメクチック相を、 Nはネマチック相を、 I s oは等方相を示し、 相 転移温度の単位は全てでである。
実施例 1
3, 3' , 3 " — トリフルオロー 4, 4 " ージプロボキシテルフエニル ( 30
— B ( 2 F) B (2 F) B (3 F) 一 03 (化合物 No. 1 ) ) の製造。
(第一段) 3, 3* —ジフルオロー 4—プロボキシビフヱニルの製造
3—フルオロー 4一プロボキシブ口モベンゼン 2 2. 0 g ( 9 4. 4 mm o 1 ) 、 ジヒ ドロキシ 〔3—フルオロフヱニル)ボラン (3—フルォロブ口モベン ゼンとマグネシウムから調製した G r i g n a r d試薬をトリメ トキシボランと 反応させた後、 塩酸で加水分解して得た。 〕 2 2. 5 g ( 1 4 1. 6mmo l ) 、 K2C 03 2 6. 1 g ( 1 8 8. 8mmo l ) 、 5 %P d - C 2. O gおよびト ルェン エタノ一ル/水 ( 1 Z 1 / 1 ) の混合溶媒 1 5 0m lの混合物を 2 7時 間加熱還流させた。 次に P d— Cを濾過により除去した後、 トルエン 1 5 Om l で抽出し、 得られた有機層を水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム上で乾 燥した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ フィー (溶出液:ヘプタン/トルエン = 1 / 1 ) に付して、 粗製の 3, 3' —ジ フルオロー 4一プロボキシビフエニル 2 0. 1 gを得た。 (収率: 8 6. 1 %) このものは、 これ以上の精製を行わずに次反応に使用した。
(第二段) 3, 3 ' —ジフルオロー 4' ーョ一ドー 4一プロボキシビフエニルの 製造
前段で得られた 3, 3' —ジフルオロー 4—プロボキシビフエニル 5. 0 g (2 0. 1 mmo 1 ) のテトラヒドロフラン (THF) 3 5m l溶液中に s e c 一ブチルリチウム 2 3m l ( 1. 0 4M、 シクロへキサン溶液、 2 4. 2mmo
1相当) を一 6 0°C以下を保ちながら滴下し、 滴下終了後、 同温度で 1時間攪拌 した。 反応混合物にヨウ素 6. 6 g (2 6. 2mmo 1 ) の THF 4 0 Om 1溶 液を一 6 0°C以下を保ちながら滴下し、 同温度で 1時間攪拌した。
反応液に希塩酸 2 0 0 m lを滴下した後、 ヘプタン 1 5 0m lで抽出した。 得 られた有機層を希炭酸水素ナトリウム水溶液で 2回、 水で 3回洗浄した後、 無水 硫酸マグネシウム上で乾燥した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカ ゲルカラムクロマ トグラフィー (溶出液:ヘプタンノトルエン = 8Z2) に付し て、 粗製の 3, 3 ' ージフルオロー 4' —ョ一ドー 4—プロボキシビフエニル 5. 6 gを得た。 (収率: 7 4. 2 %)
このものは、 これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
(第三段) 3, 3* , 3 " — トリフルオロー 4, 4 " ージプロポキシテルフエ二 ルの製造
前段で得られた 3, 3 ' —ジフルオロー 4' —ョードー 4—プロボキシビフエ ニル 3. 0 g ( 8. Ommo 1 ) 、 ジヒドロキシ(3—フルオロー 4—プロボキ シフエ二ル)ボラン 2. 1 g ( 1 0. 4mmo l ) 、 K2C03 2. 2 g ( 1 6. 0mmo l ) 、 5 %P d— C O. 3 g、 およびトルエン Zエタノール Z水 ( 1 / 1 / 1 ) の混合溶媒 4 5m lの混合物を 3 0時間加熱還流させた。 次に P d— C を濾過により除去した後、 トルエン 1 0 0m lで抽出し、 得られた有機層を水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出液:ヘプタン Zトル ェン = 6Z4 ) に付して、 粗製の 3, 3' , 3 " —トリフルォロ— 4, 4 " ージ プロポキシテルフヱニル 2. 7 gを得た。 このものをヘプ夕ン 酢酸ェチル (7 /3) 混合溶媒から再結晶して標題化合物 1. 9 gを得た。 (収率: 5 8. 6 %)
この化合物は液晶相を示し、 その転移温度は
C 1 2 9. 4〜 1 2 9. 5 SA 1 5 5. 4〜1 5 5. 5 N 1 5 8. 8〜 1 5 8. 9 I s 0であった。
また、 各スペク トルデータはよくその構造を支持した。
質量分析: 4 0 0 (M+)
'H-NMR (CDC 1 TMS内部標準)
δ ( p p m)
1. 0 6 ", 6 H)
1. 8 8 ( t q, 4 H)
4. 0 4 ( t , 4 H)
7. 0 1 - 7. 3 7 (m, 9 H)
実施例 1の方法に準じて以下の化合物を合成することができる。 化合物 No. 2 : 2 -B (2 F) B (2 F) B (3 F) 一 3
化合物 No. 3 : 5 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化化兮合物物 J NOo.. 4 4 : 1 0 -B (2 F) B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 5 : 1 6 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 1 化合物 No. 6 : 301 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) — 3 化合物 No. 7 : 104 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 8 : 50- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 01 2 化合物 No. 9 : 3 - B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 1 0 : 4 -B ( 3 F) B (2 F) B (3 F) - 5 化合物 No. 1 1 : 7 - B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 2 : 201 -B ( 3 F) B (2 F) B (3 F) -03 化合物 No. 1 3 : F 3 - B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 3 化化台合物物 N N oo.. 11 44 : 2 -B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 5 化合物 No. 1 5 6 -B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 4 化合物 No. 1 6 40- B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 1 7 : 50-B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -02 化合物 No. 1 8 : F 2 - B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 1 9 : F 2 - B ( 2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -03 化合物 No. 20 : 3 -BBB (2 F) B (3 F) 一 4
化合物 N 0. 2 1 : 5 -BBB (2 F) B (3 F) - 2
化合物 No. 22 : 7 -BBB ( 2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 23 : 7 -B BB (2 F) B (3 F) -03
化合物 No 2 4 : 30- B BB (2 F) B ( 3 F) - 6
化合物 No 2 5 : 70- B B B (2 F) B ( 3 F) - 1 3
化合物 No 2 6 : 3 - B B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No 2 7 : 4 - B B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 3
化合物 No 2 8 : 7 - B B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 No 2 9 : F 5 - B B ( 3 F) B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No 3 0 : 3 - B B (2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No 3 1 : 30 1 - B B (2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No 3 2 : 1 05 - B B ( 2 F) B ( 2 F) B (3 F) -05 化合物 No 3 3 : 3 - B ( 3 F) B B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No, 3 4 : 5 - B ( 3 F) B B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No, 3 5 : 20- B ( 2 F) B B (2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No, 3 6 : 50- B ( 2 F) B B (2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No, 3 7 : 3 - B B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No, 3 8 : 5 - B B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 No. 3 9 : 5 - B B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No, 4 0 : 30- B ( 2, 3 F) B B ( 2 F) B ( 3 F) 一 4 化合物 No. 4 1 : 50- B (2, 3 F) B B ( 2 F) B ( 3 F) -01 化合物 No. 4 2 : 2 - B ( 2 F) B ( 2 ' 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 4 3 : 5 - B ( 2 F) B (2 , 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 4 4 : 2〇一 B ( 2 F) B ( 2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) 0 3
化合物 No. 4 5 : 30- B ( 2 F) B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 4 6 : 70- B (2 F) B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 4 7 : 1 03 - B ( 2 F) B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 4 8 : F 3 - B ( 2 F) B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 4 9 : 3 - B ( 2 F) B (2 F) B (3 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 5 0 : 5 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) — 2
化合物 No. 5 1 : 4 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) - 3 化合物 N o. 5 2 : 5 -B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 5 3 : 20- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) - 3 化合物 N o. 5 4 : 30- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 5 5 : 2 - B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B- 1
化合物 No. 5 6 : 2 - B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B- 9
化合物 No. 5 7 : 30- B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) B- 2 化合物 No. 5 8 : 40- B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B- 3 化合物 N o. 5 9 : 50-B ( 2, 3 F) B (2 F) B (3 F) B- 3 化合物 No. 6 0 : 3 - B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) 1
化合物 No. 6 1 : 3 - B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) 一 5
化合物 No. 6 2 : 5 - B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 2
化合物 No. 6 3 : 30- B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) B (2, 3 F) 一 4
化合物 No. 6 4 : 30- B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) 一 5
化合物 No. 6 5 : 30- B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -02
化合物 N o. 6 6 3 - B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 6 7 3 - B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 68 3 -B 2 B (2, 3 F) B (2F) B (3 F) - 5 化合物 No. 6 9 1 2 -B 2 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 70 5 -B 2 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -02 化合物 No. 7 1 5 - B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -05 化合物 No. 72 5 -B 2 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -01 0 化合物 N o. 7 3 101 - B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No. 7 4 : 301 - B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 7 5 : 1 04 -B 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 N o. 7 6 : 2 - B (2, 3 F) 2 BB ( 2 F) B (3 F) - 1 化合物 No. 7 7 : 2 -B (2, 3 F) 2 BB (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 7 8 : 2 - B (2, 3 F) 2 BB ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 7 9 : 2 - B (2, 3 F) 2 BB (2 F) B (3 F) - 7 化合物 No. 8 0 : 1 0- B (2, 3 F) 2 B B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 8 1 : 30- B (2, 3 F) 2 BB ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 8 2 : 40 - B (2, 3 F) 2 BB (2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 8 3 : 50- B ( 2, 3 F) 2 B B ( 2 F) B ( 3 F) -〇 3 化合物 N o. 8 4 : 202 - B ( 2, 3 F) 2 B B ( 2 F) B ( 3 F) -〇 4 化合物 No. 8 5 : F 4 - B ( 2, 3 F) 2 B B ( 2 F) B ( 3 F) -〇 4 化合物 No. 8 6 : 3 - B ( 2 F) 2 B (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 2 化合物 No. 8 7 : 50- B ( 2, 3 F) 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 8 8 : 3 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) - 5 化合物 No. 8 9 : 5 - B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) — 3 化合物 No. 9 0 : 30- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) 一 2 化合物 No. 9 1 : 50- B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) - 〇 2 化合物 No. 9 2 : 30- B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B - 2 化合物 No. 9 3 : 30 - B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B- 5 化合物 No. 9 4 : 80- B ( 2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) 2 B- 3 化合物 No. 9 5 : 3 - B B ( 2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F) - 5 化合物 No. 9 6 : 4 -BB (2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F) - 02 化合物 No. 9 7 : F 6 - B B (2 F) B (3 F) 2 B (2, 3 F) -03 化合物 No. 9 8 : 3 -HB B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 No. 9 9 : 3 -HB B ( 2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No. 1 0 0 : 1 0 -HB B ( 2 F) B ( 3 F) - 1 0
化合物 No. 1 0 1 : 4 -HB B (2 F) B ( 3 F) -O 2
化合物 No. 1 0 2 : 4 -HBB (2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No. 1 0 3 : F 3 -HB B ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No. 1 0 4 : F 4 -HBB (2 F) B (3 F) -O 3
化合物 No. 1 0 5 : 2 -HB (3 F) B (2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 1 0 6 : 2 -HB ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No. 1 0 7 : 3 - HB ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 1 0 8 : 3 -HB (2 F) B (2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No. 1 0 9 : 2 -HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 1 0 : 3 -HB (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 1 1 1 : 3 -HB ( 2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 4 化合物 No. 1 1 2 : 3 - HB (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 1 1 3 : 5 -HB (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 1 4 : 5 - HB (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 1 5 : 3 -HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -01 化合物 No. 1 1 6 : 3 -HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 1 1 7 : 5 -HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 1 8 : 1 4 - HB (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -01 化合物 No. 1 1 9 : 4 O-HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 1 2 0 : 301 -HB (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 03 化合物 No. 1 2 1 : F 2 -HB (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 3 化合物 No. 1 22 : F 3 -HB ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 2 3 : 3 -S i ( 1 ) B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) — 0
4
化合物 No. 1 24 : 3 -D (2, 5) B (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 05
化合物 No. 1 25 : 3 -P (3) B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -05 化合物 No. 1 2 6 : 1 -H 2 B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 1 27 : 3 -H 2 B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 1 28 : 5 -H 2 B ( 3 F) B (2 F) B (3 F) — 3
化合物 No. 1 2 9 : 5 -H 2 B ( 3 F) B ( 2 F) B (3 F) -04 化合物 No. 1 3 0 : F 3 -H 2 B ( 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 3 1 : 2 -H 2 B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4
化合物 No. 1 3 2 : 3 -H 2 B (2 F) B (2 F) B (3 F) - 4
化合物 No. 1 3 3 : 4 -H 2 B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 4
化合物 No. 1 3 4 : 1 03 -H 2 B ( 2 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 1 3 5 : 2 -H 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 3 6 : 3 -H 2 B (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 3 化合物 No. 1 3 7 : 5 -H 2 B (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 3 化合物 No. 1 3 8 : 5 -H 2 B ( 2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 8 化合物 No. 1 3 9 : 3 -H 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 4 0 : 3 -H 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -05 化合物 No. 1 4 1 : 3 - H 2 B (2, 3 F ) B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 01 2 化合物 No. 1 4 2 : 20-H 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 1 4 3 : 4 O-H 2 B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 4 4 : 40 1 — H 2 B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 N o. 1 4 5 : 202 -H 2 B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 4 6 : F 2 -H 2 B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 1 4 7 : F 3 -H 2 B ( 2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 1 4 8 : F 5 -H 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 9 : 5 - S i (4) 2 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 03
化合物 No. 1 5 0 : 5 -D ( 3, 5) 2 B ( 2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) 一 03
化合物 No. 1 5 1 : 3 - B ( 2 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) - 4
化合物 No. 1 5 2 : 3 O-B ( 2 F) 4 B B (2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 5 3 : 2— B 4 B (2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 5 4 : 3 - B 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 5 5 : 3 - B 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) 一 5
化合物 No. 1 5 6 4 - B 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 5 7 5 - B 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 1 5 8 F 3 -B 4 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -02 化合物 No. 1 5 9 F 5 - B 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 6 0 2 - B (2, 3 F) 4 B B (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 6 1 2 - B (2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 6 2 4 - B (2, 3 F) 4 B B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 1 6 3 4 - B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 1 6 4 1 1 - B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -01 化合物 No. 1 6 5 3 O-B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -0 1 化合物 No. 1 6 6 30- B (2, 3 F) 4 B B (2 F) B (3 F) -03 化合物 No. 1 6 7 50- B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -〇 2 化合物 No. 1 6 8 50-B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -04 化合物 No. 1 6 9 303 - B (2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No 1 7 0 F 2 -B (2, 3 F) 4 B B (2 F) B (3 F) -02 化合物 No 1 7 1 F 3 - B ( 2, 3 F) 4 B B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No 1 7 2 3 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No 1 7 3 4 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 7 4 5 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 7 5 7 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 1 7 6 1 0 -H 4 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 2 -H4 B (2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) -03 化合物 N 0 1 7 8 3 -H 4 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -03 化合物 No 1 7 9 5 -H4 B (2, 3 F) B (2 F) B (3 F) -03 化合物 No 1 8 0 F 3 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No 1 8 1 F 4 -H 4 B (2, 3 F) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No 1 8 2 F 5 -H 4 B (2, 3 F) B (2 F) B ( 3 F) -03 以下に本発明の化合物を液晶組成物の成分として用いた場合の例を示す。 各使 用例において、 N Iはネマチック相—等方相転移温度 (で) を、 厶 εは誘電率異
方性値を、 Δηは屈折率異方性値を、 は粘度 (mP a · s) を、 V t hはしき い値電圧 (V) を、 VHRは電圧保持率 (%) を示す。
なお、 7?は 2 0 °Cで測定し、 Δ ε、 Δ η、 V t hおよびねじれのピッチ ( m) は各々 2 5°Cで測定し、 VHRは左から順に 2 5 °C、 8 0°Cおよび 1 0 0 °C で測定した値を示した。
実施例 2 (使用例 1 )
下記のシァノフエニルシクロへキサン系液晶化合物を含む液晶組成物 (A) :
3 -HB C 2 4 %
5 -HB C 3 6 %
7 -HB C 2 5 %
5 -HB B - C 1 5 %
は、 以下の物性値を有する,
N I : 7 1. 7、 Δ £ 1 1. 0、 Δη : 0. 1 3 7, 7? : 2 6. 7、 V t h : 1. 7 8。
この組成物 (A) 8 5 %と、 実施例 1で得られた 3, 3' 3 " 一 トリフルォ 口— 4, 4 " ―ジプロボキシテルフエニル (化合物 N 0. 1 ) 1 5 %とからなる 液晶組成物 (B) の物性値は次の通りであった。
N I : 7 2. 7、 Δ ε : 1 0. 7、 Δη : 0. 1 4 2、 : 2 9. 3、 V t h : 1. 6 9、 。
この液晶組成物 (B) を— 2 0 °Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越え てもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 3 (使用例 2)
下記のエステル系液晶化合物を含む液晶組成物 (C) :
3 -HEB-02 1 7 2 %
3 - HE B-04 2 7 6 %
4 - HE B-02 2 0 7 %
5 - HE B-01 2 0 7 %
5 -HE B-02 1 3 8 %
は、 以下の物性値を有する。
N I : 7 4. 0、 Δ ε : — 1. 4 3。
この組成物 (C) 9 5 %と、 実施例 1で得られた 3, 3' , 3" — トリフルォ 口— 4, 4 " ―ジプロポキシテルフエニル (化合物 N 0. 1 ) 5 %とからなる液 晶組成物 (D) の物性値は次の通りであった。
N I : 7 6. 6, Δ ε : - 1. 5 3。
この液晶組成物 (D) を— 2 0°Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越え てもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 4
3, 3 ' —ジフルォロ一 4' 一 (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) 一 4 —プロボキシビフエニル ( 3— HB ( 2 F) B ( 3 F) —〇 3 (化合物 No. 1 8 3) ) の製造
(第一段) 3, 3 ' —ジフルォロ— 4' — ( 1 —ヒドロキシ一 4—プロピルシク 口へキシル) — 4一プロポキシビフ ニルの製造
実施例 1の第一段で得られた 3, 3' —ジフルオロー 4—プロボキシビフエ二 ル 1 5. 0 g ( 6 0. 4 mm 0 1 ) の THF 8 5 m 1溶液中に s e c—ブチルリ チウ厶 7 0m l ( 1. 0 4 M、 シクロへキサン溶液、 7 2. 5 mm o 1相当) を - 6 0°C以下を保ちながら滴下し、 滴下終了後、 同温度で 1時間攪拌した。 次い で、 4一プロビルシクロへキサノン 1 1. 0 g ( 7 8. 5mmo l ) の THF 5 5m 1の溶液を - 6 0°Cを保ちながら滴下し、 同温度で 3時間攪拌後、 室温で 2 時間攪拌した。 反応液に希塩酸 2 0 0 m 1を滴下した後、 トルエン 2 0 0 m lで 抽出した。 得られた有機層を希炭酸水素ナトリウム水溶液で 2回、 水で 3回洗浄 した後、 無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (溶出液:ヘプタン Z酢酸ェチル二 8Z2) に付して、 粗製の 3, 3 ' ージフルオロー 4' — ( 1 —ヒドロキシ一 4 —プロビルシクロへキシル) — 4一プロボキシビフヱニル 2 1. 2 gを得た。 (収率: 9 0. 6 %)
このものは、 これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
(第二段) 3, 3 ' ージフルオロー 4' — ( 4—プロピル一 1 ーシクロへキセニ ル) 一 4一プロボキジビフヱニルの製造
前段で得られた 3, 3' ージフルオロー 4' — ( 1ーヒ ドロキシ— 4一プロピ ルシクロへキシル) — 4一プロポキシビフエニル 2 1. 2 g (5 4. 6 mm o 1 ) 、 p— トルエンスルホン酸 '一水和物し 0 gおよびトルエン 2 0 0 m 1の 混合物を、 留出してくる水を抜きながら 2時間加熱還流させた。 反応終了後、 希 炭酸水素ナ ト リウム水溶液で 2回、 水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム 上で乾燥した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマ トグラフィー (溶出液:ヘプタン/トルエン = 3Z 1 ) に付して、 粗製の 3, 3 ' —ジフルオロー 4' 一 ( 4—プロピル— 1 ーシクロへキセニル) — 4一プロ ポキシビフエニル 1 4. 9 gを得た。 (収率: 6 6. 8 %)
このものは、 これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
(第三段) 3, 3 ' —ジフルオロー 4' — (トランス一 4—プロビルシクロへ キシル) 一 4一プロポキシビフヱニルの製造
前段で得られた 3, 3 ' —ジフルオロー 4' 一 ( 4一プロピル— 1ーシクロへ キセニル) — 4—プロボキシビフエニル 1 4. 9 g ( 0. 2mmo l ) 、 ラネ —ニッケル 4. 5 gおよびトルエン/エタノール ( 1ノ 1 ) の混合溶媒 1 0 0m 1を混合して水素添加を行った。 水素の吸収が停止した後、 触媒を濾過して除去 した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ ィ一 (溶出液:ヘプタン トルエン = 7ノ3) に付して、 粗製の 3, 3' —ジフ ルォ口一 4' ― (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) — 4一プロポキシビ フエニル 1 4. 2 gを得た。 このものをエタノール/酢酸ェチル ( 7 3 ) 混合 溶媒から再結晶して標題化合物 6. 5 gを得た。 (収率: 4 3. 3%)
この化合物は液晶相を示し、 その転移温度は
C 78. 4〜7 8. 9 N 1 4 4. 2 I s oであった。
また、 各スペク トルデータはよくその構造を支持した。
質量分析: 3 72 (M+)
Ή-NMR (CDC 13、 TMS内部標準)
δ ( p p m)
0. 8 3 - 2. 0 3 (m, 2 1 H)
2. 8 3 ( t , 1 H)
4. 0 2 ( t , 2 H)
6. 8 8 - 7. 3 6 (m, 6 H)
実施例 4の方法に準じて以下の化合物を合成することができる。 化合物 No. 1 8 4 : 3 -HB (2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No. 1 8 5 2 -HB ( 2 F) B ( 3 F) — 3
化合物 N 0. 1 8 6 4 -HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 1 8 7 5 -HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 1 8 8 1 1 -HB (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N 0. 1 8 9 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) - 02
化合物 No. 1 9 0 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) —05
化合物 No. 1 9 1 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 一 09
化合物 N 0. 1 9 2 302 -HB ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N 0. 1 9 3 F 2 -HB (2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 1 9 4 F 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 1 9 5 F F 4 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 一 02 化合物 No. 1 9 6 3 (F F) 1 -HB ( 2 F) B ( 3 F) -〇 3 化合物 No. 1 9 7 3 -D (2, 5) B (2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 N 0. 1 9 8 3 -D ( 2, 5 ) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 N 0. 1 9 9 3 - P (2) B (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 2 0 0 4 - P ( 3) B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 0 1 5 - S i ( 4) B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N 0. 2 0 2 2 -HHB (2 F) B ( 3 F) - 4
化合物 N 0. 2 0 3 3 -HHB (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N 0. 2 0 4 4 -HHB (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 2 0 5 5 -HHB ( 2 F) B ( 3 F) 一 2
化合物 N 0. 2 0 6 30-HHB ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N 0. 2 0 7 50-HHB (2 F) B ( 3 F) -01 化合物 No. 2 0 8 1 04 -HHB (2 F) B (3 F) - 3 化合物 N 0. 2 0 9 3 -HS i ( 1 ) B (2 F) B ( 3 F) —02
化合物 No. 2 1 0 : 5 -HD ( 2, 5) B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 N o. 2 1 1 : 3 -BHB (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N o. 2 1 2 : 3 -BHB (2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No. 2 1 3 : 3 -B (2, 3 F ) H B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 2 化合物 No. 2 1 4 : 3 -B (2, 3 F ) H B ( 2 F ) B ( 3 F ) — 5 化合物 No. 2 1 5 : 3 - B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 2 1 6 : 5 - B (2, 3 F) HB (2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 1 7 : 30-B (2, 3 F ) H B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 2 化合物 No. 2 1 8 : 50-B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 2 1 9 : 1 80— B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 2 0 : F 8 -B ( 2, 3 F ) H B ( 2 F ) B ( 3 F ) - 2 化合物 No. 2 2 1 : FF 5 -B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -04 化合物 No. 2 2 2 : FF F 3 -B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 2 3 : F 20-B (2, 3 F) HB ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 2 2 4 : 1 -HB ( 2 F) B ( 3 F) H- 3
化合物 No. 2 2 5 : 2 -HB ( 2 F) B ( 3 F) H- 5
化合物 No. 2 2 6 : 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) H- 5
化合物 No. 2 2 7 : F 2 -HB ( 2 F) B ( 3 F) H- 2
化合物 No. 2 2 8 : F 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) H- 5
化合物 No. 2 2 9 : F 1 01 -HB (2 F) B ( 3 F) H- 4
化合物 No. 2 3 0 : 3 (F) 1 — HB (2 F) B ( 3 F) H— 3
化合物 N o. 2 3 1 : 20 -HB (2 F) B ( 3 F) H- 9
化合物 N o. 2 3 2 : 5 - P ( 3) B (2 F) B (3 F) P (2) - 3 化合物 N o. 2 3 3 : 3 - S i ( 1 ) B ( 2 F) B ( 3 F) S i (4 ) 一 5 化合物 No. 2 3 4 : 3 -HB (2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 2 3 5 : 5 -HB (2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) 一 02
化合物 No. 2 3 6 : 3 -HB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 2 3 7 : 5 -HB ( 2 F) B (3 F) B (2, 3 F) — 3 化合物 No. 2 3 8 : 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) — 02
化合物 No. 2 3 9 : 5 -HB ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) -02 化合物 No. 2 4 0 : 2 ( 1 ) 1 -HB ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 2 4 1 : 1 (F) 3 -HB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -0 5
化合物 No. 2 4 2 : 2 -H 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N o. 2 4 3 : 4 -H 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 4 4 : 5 -H 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 8
化合物 No. 2 4 5 : 3 O-H 2 HB (2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No. 2 4 6 : 4 O-H 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 4 7 : 5 O 1 -H 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 N o. 2 4 8 : 3 - B ( 2 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 4 9 : 5 O- B ( 2 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) — 03 化合物 No. 2 5 0 : 2 - B ( 2, 3 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 2 5 1 : 3 - B ( 2, 3 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 2 5 2 : 5 - B (2, 3 F) 2HB ( 2 F) B ( 3 F) - OCF2
CF2H
化合物 N o. 2 5 3 : 3 O- B (2, 3 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 N o. 2 5 4 : 40- B ( 2, 3 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 5 5 : F 4 - B (2, 3 F) 2 HB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 2 5 6 : 3 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 2 F) - 4
化合物 No. 2 5 7 : 5 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 5 8 : 4 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B ( 3 F) -02 化合物 No. 2 5 9 : 2 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F) - 5 化合物 No. 2 6 0 : 5 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 2 6 1 : 3 -HB (2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F) -02 化合物 No. 2 6 2 : F F 2 (F) 2 -HB ( 2 F) B (3 F) 2 B (2, 3
F) -03
化合物 No. 2 6 3 : 2 (F) 2 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 2 B (2, 3 F)
〇 3
化合物 No. 2 6 4 I - H 4 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 6 5 2 -H 4 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 6 6 5 -H 4 HB (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 2 6 7 3 -H 4 HB (2 F) B (3 F) -02
化合物 No. 2 6 8 5 -H 4 HB ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No. 2 6 9 3 -H 4 HB ( 2 F) B ( 3 F) -O 3
化合物 No. 2 70 7 - B 4 HB ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 27 1 30- B (2, 3 F) 4 HB (2 F) B (3 F) -02 化合物 No. 272 4 -HB ( 2 F) B ( 3 F) 4 B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 27 3 I I - HB ( 2 F) B ( 3 F) 4 B (2, 3 F) - 2 化合物 No. 274 3 -HB (2 F) B (3 F) 4 B (2, 3 F) -05 化合物 No. 27 5 F 7 -HB (2 F) B (3 F) 4 B (2, 3 F) -03 実施例 5 (使用例 3)
実施例 3における組成物 (C) 8 5 %と、 実施例 4で得られた 3, 3' ージフ ルオロー 4' 一 (トランス一 4一プロビルシクロへキシル) 一 4—プロボキシビ フエニル (化合物 No. 1 8 3) 1 5%とからなる液晶組成物 (E) の物性値は 次の通りであった。
N I : 8 1. 7、 Δ ε : — 1. 54。
この液晶組成物 (D) を— 2 0 °Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越え てもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 6
3, 3 ' ージフルォロ一 4' - ( (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) メ トキシ) — 4—プロボキシビフヱニルの製造 ( 3— HCH20B (2 F) B ( 3 F) -03 (化合物 No. 27 6 ) ) の製造
(第一段) 3, 3' —ジフルオロー 4' —ヒ ドロキシ一 4—プロボキシビフエ二 ルの製造
3, 3 ' ージフルオロー 4' —メ トキシメ トキシ一 4一プロボキシビフエニル CP d触媒存在下、 3—フルオロー 4ーメ トキシメ トキシブロモベンゼンとジヒ ドロキシ ( 3—フルオロー 4一プロボキシフヱニル) ボランとのクロスカツプリ
ング反応によって得た。 〕 1 0. 0 g (3 2. 4 mm o l ) 、 メタノール 5 0m 1および濃塩酸 1 0m 1の溶液を 3時間加熱還流させた。 反応溶液に水 5 0m l を加え、 ジェチルエーテル 1 5 0m lで抽出した。 得られた有機層を希炭酸水素 ナトリゥム水溶液で 2回、 水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥム上で乾燥 した。 減圧下に溶媒を留去して、 粗製の 3, 3 ' —ジフルオロー 4' —ヒ ドロキ シ— 4—プロボキシビフエニル 8. 5 gを得た。 (収率: 9 9. 8 %)
このものは、 これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
(第二段) 3, 3 ' —ジフルオロー 4' — ( (トランス— 4—プロビルシクロへ キシル) メ トキシ) 一 4—プロポキシビフ ニルの製造
水素化ナトリウム 0. 7 g ( 6 0 %油性、 1 8. 2 mm 0 1相当) およびジメ チルホルムアミ ド (DMF) 5m 1の混合物中に、 前段で得られた 3, 3 ' ージ フルオロー 4 ' —ヒ ドロキシ一 4—プ αポキシビフヱニル 4. 0 g ( 1 5. 1 m mo 1 ) の DMF 2 0m l溶液を室温で滴下し、 同温度で 1時間攪拌した。 次い で、 反応液にトランス— 4—プロピル— 1 ーョ一ドメチルシクロへキサン 6. 0 g ( 2 2. 7mmo 1 ) の DMF 2 0m 1溶液を室温で滴下し、 同温度で 1時間 攪拌後、 3時間加熱還流させた。 反応終了後、 反応溶液を希塩酸 5 0m l中に注 ぎ、 トルエン 1 5 0m 1で抽出した。 得られた有機層を希水酸化ナトリウム水溶 液で 3回、 水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。 減圧下に 溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出液: ヘプタン/トルエン = 7Z3) に付して、 粗製の 3, 3' ージフルオロー 4' - ( (トランス— 4—プロビルシクロへキシル) メ トキシ) ― 4—プロポキシビフ ェニル 2. 3 gを得た。 このものをエタノール/酢酸ェチル ( 7 3) 混合溶媒 から再結晶して標題化合物 1. 8 gを得た。 (収率: 4 8. 2%)
この化合物は液晶相を示し、 その転移温度は
C 8 6. 6〜8 7. 0 N 1 2 6. 8 I s oであった。
また、 各スペク トルデータはよくその構造を支持した。
質量分析: 4 0 2 (M+)
Ή-NMR (CDC 13 TMS内部標準)
δ ( p p m)
0. 8 1 - 1. 9 8 (m, 22 H)
3. 8 5 ( d, 2 H)
4. 0 2 ( t , 2 H)
6. 8 8 - 7. 3 1 (m, 6 H)
実施例 4の方法に準じて以下の化合物を合成することができる。 なお、 ここに 示した物性値は実施例 3に準じて測定した組成物の値である。
化合物 No. 2 7 7 : 2 -HCH2OB (2 F) B (3 F) - 3
化合物 N o. 2 7 8 2 -HCH2OB ( 2 F) B (3 F) - 5
化合物 No 27 9 3 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No 28 0 5 -HCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No 2 8 1 8 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 1 3
化合物 No 28 2 2 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No 28 3 4 - HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No 2 8 4 4 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No 2 8 5 5 -HCH2O B ( 2 F) B (3 F) -03
化合物 No 28 6 30-HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No 28 7 501 -HCH2OB (2 F) B ( 3 F) — CF2CFHC F3
化合物 No 2 8 8 F 5 -HCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No 2 8 9 F 3 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 2 F
化合物 No 2 9 0 FF 2 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 N o. 2 9 1 F F F 3 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 2 9 2 3 (F) 1 -HCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 2 9 3 5 -D (2, 5) CH2OB (2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 2 9 4 5 - S i (4) CH20B (2 F) B ( 3 F) - 03 化合物 No. 2 9 5 5 -H0CH2B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N o. 2 9 6 3 -H0CH2B (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N o. 2 9 7 3 -HOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 0 3
化合物 N o. 2 9 8 5 -H0CH2B (2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No 2 9 9 : 3 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N o 3 0 0 : 3 -BCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 5
化合物 No 3 0 1 : 1 3 -BCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) 一 1 5
化合物 No 30 2 : 4 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No 3 0 3 : 5 - B CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 03
化合物 No 3 0 4 : F 2 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No 3 0 5 : F 3 -BCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 05
化合物 No 3 0 6 : FF 4 -BCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 02 化合物 No 3 0 7 : 2 -BOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No 3 0 8 : 4 - BOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) — 4
化合物 No 3 0 9 : 7 - B 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) 一 02
化合物 No, 3 1 0 : 1 0 -BOCH2B (2 F) B ( 3 F) — 2 F
化合物 No. 3 1 1 : 204 - BOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) —〇 3 化合物 No. 3 1 2 : F 4 -BOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 F
化合物 No. 3 1 3 : 2 -B ( 3 F) CH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 3 1 4 : 4一 B ( 3 F) CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 3 1 5 : 3 - B ( 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 3 1 6 : 5 - B ( 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 3 1 7 : 5 - B ( 2 F) CH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 3 1 8 : 30- B ( 2 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) 02 化合物 No. 3 1 9 : 7 - B ( 2 F) OCH2B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 3 20 : 20— B ( 2 F) 〇CH2B ( 2 F) B ( 3 F) -04 化合物 No. 32 1 : 103 - B ( 2 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) -05 化合物 No. 322 : 3 - B ( 2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No. 3 2 3 : 5 -B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 4 化合物 No. 324 : 7 - B ( 2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 1 3 化合物 No. 3 2 5 : 20- B (2, 3 F) CH20B (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 3 2 6 : 40- B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 3 27 : 3 O-B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) -0
2
化合物 N o. 3 2 8 : 1 03 - B ( 2, 3 F) CH2O B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N o. 3 2 9 : 30 1 — B ( 2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N o. 3 3 0 : F 30- B ( 2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N o. 3 3 1 : F 4 0- B ( 2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N o. 3 3 2 : 2 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 1 化合物 N o. 3 3 3 : 3 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N o. 3 3 4 : 3 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 N o. 3 3 5 : 3 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 N o. 3 3 6 : 30— B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N o. 3 3 7 : 5 O- B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N o. 3 3 8 : 20— B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) -0 3
化合物 N o. 3 3 9 : 30- B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) -0 4
化合物 N o. 3 4 0 : 204 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 N o. 3 4 1 : 808 — B ( 2, 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N o. 3 4 2 : F 2 - B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 7 化合物 N o. 3 4 3 : F 5 - B ( 2, 3 F) 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 3 4 4 : F F 3 - B ( 2 , 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 N o. 3 4 5 : F F F 4 - B ( 2, 3 F) 0CH2B ( 2 F) B ( 3 F) 一 3
化合物 N o. 34 6 : 3 - BBCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 34 7 : 5 -BBCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 34 8 : 7 -BBCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 1 1
化合物 No. 34 9 : 2 - B B CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No. 35 0 : 3 - B B CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -01 2 化合物 No. 3 5 1 : 4 -BBOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 3 5 2 : 9 - B B 0 CH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 3 5 3 : 5 -BBOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) -04
化合物 No. 3 5 4 : F 3 - B BOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 3 5 5 : 3 (F) 2 -BBOCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No. 3 5 6 : 3 (FF) 1 - B B OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 3 5 7 : 2 - B ( 2, 3 F) BCH2OB (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 3 5 8 : 5 - B (2, 3 F) BCH20B (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 35 9 : 1 6 - B ( 2, 3 F) B CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 3 6 0 : 30- B (2, 3 F) BCH2OB (2 F) B (3 F) - 2
化合物 No. 3 6 1 : 5 O- B (2, 3 F) BCH20B (2 F) B ( 3 F) -
3
化合物 No. 3 6 2 : 1 70— B (2, 3 F) B CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 2
化合物 No. 3 6 3 : 4 O-B (2, 3 F) B CH20 B (2 F) B ( 3 F) - 〇 3
化合物 No. 3 6 4 : 20— B (2, 3 F) B0CH2B (2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 3 6 5 30-B (2, 3 F) BOCH2B (2 F) B ( 3 F) - 〇C F2C F 2H
化合物 No. 36 6 3 - B B (2, 3 F) CH20B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 3 6 7 5 - B B (2, 3 F) CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) —〇
2
化合物 No. 3 6 8 : 2 - BB (2, 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 3 6 9 : 3— B B (2, 3 F) OCH2B (2 F) B ( 3 F) -0 3
化合物 No. 3 7 0 : 5 - B (2, 3 F) CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) B- 3 化合物 No. 3 7 1 : 7 - B ( 2, 3 F) CH2OB ( 2 F) B (3 F) B- 2 化合物 No. 3 7 2 : 7— B (2, 3 F) CH2OB ( 2 F) B (3 F) B- 2 F
化合物 No. 3 7 3 : 30— B ( 2, 3 F) CH2OB (2 F) B ( 3 F) B- 2
化合物 No. 3 7 4 : 40- B ( 2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) B - 3 F
化合物 No. 3 7 5 : F 4 - B ( 2, 3 F) CH2OB (2 F) B ( 3 F) B- 2 F
化合物 No. 3 7 6 : 3 -BCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 2 化合物 No. 3 7 7 : 4 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 3 7 8 : 5 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -0 2
化合物 No. 3 7 9 : F F 2 - B CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) -03
化合物 No. 3 8 0 : 3 (F) 1 -BCH2OB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -05
化合物 No. 3 8 1 : 2 - BCH2OB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 0 3
化合物 No. 3 8 2 : 30— B (2, 3 F) CH20B (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -01
化合物 No. 3 8 3 : 3 -HHCH20B ( 2 F) B ( 3 F) -03
N I : 8 8. 9、 Δ ε : - 1. 5 7
化合物 No. 3 8 4 : 5 -HHCH2OB (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No 3 8 5 : 5 -HHCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No 3 8 6 : 7 -HHCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) 一 01
化合物 No 3 8 7 : 402 -HHCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) 一 02 化合物 No 3 8 8 : 4 (FF) 1 -HHCH2OB (2 F) B (3 F) - 1 化合物 No 3 8 9 : 5 -D ( 3, 5) HCH2OB (2 F) B (3 F) -02 化合物 No 3 9 0 : 5 -HS i ( 1 ) CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No 3 9 1 : 5 -HB CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No 3 9 2 : 3 -HB (2, 3 F) CH20B (2 F) B (3 F) - 2 化合物 No 3 9 3 : 5 -HB (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No 3 9 4 : 8 -HB (2, 3 F) CH20B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No 3 9 5 : 1 4 -HB (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) - 5
化合物 No 3 9 6 : 2 -HB (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) -O 2
化合物 No 3 9 7 : 3 -HB (2, 3 F) CH2OB ( 2 F) B ( 3 F) -0 2
化合物 No, 3 9 8 : 5 -HB (2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) -0 3
化合物 No. 3 9 9 : F 9 -HB (2, 3 F) CH20 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 0 0 : 3 -HB (2, 3 F) OCH2B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 4 0 1 : 5 -HB ( 2, 3 F) OCH2B (2 F) B (3 F) -O 2
化合物 No. 4 0 2 : 2 O-B (2, 3 F) HCH2OB (2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 4 0 3 : 5 O-B (2, 3 F) 0CH2B (2 F) B (3 F) -O 3
化合物 No. 4 0 4 : 3 - B (2, 3 F) CH2〇B (2 F) B (3 F) H - 3 化合物 No. 4 0 5 : 3 O- B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) H-
2
化合物 No. 4 0 6 50- B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B (3 F) H- 3 F
化合物 No. 4 0 7 8 O-B (2, 3 F) CH2OB (2 F) B ( 3 F) H- 102
化合物 No. 4 0 8 4— HCH2〇B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) -03 化合物 N o. 4 0 9 5 -HCH2O B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 4 1 0 3 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -〇 5
化合物 No. 4 1 1 F 4 -HCH2OB (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -
02
化合物 No. 4 1 2 3 (F) 1 -HCH2O B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) -03
化合物 No. 4 1 3 2 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) 一 0 4
化合物 No 4 1 4 2 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) H- 3
化合物 No 4 1 5 5 -HCH20B (2 F) B (3 F) H- 3
化合物 No 4 1 6 1 2 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) H- 2
化合物 No 4 1 7 FF 3 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) H- 4 F 化合物 No 4 1 8 F F F 4 -HCH2OB ( 2 F) B ( 3 F) H- 3 F 実施例 7 (使用例 4)
実施例 3における組成物 (C) 8 5 %と、 実施例 6で得られた 3, 3' —ジフ ルオロー 4 ' 一 ( (トランス一 4一プロビルシクロへキシル) メ トキシ) 一 4一 プロポキシビフヱニル (化合物 No. 276 ) 1 5 %とからなる液晶組成物 ( F) の物性値は次の通りであった。
N I : 8 0. 8、 Δ ε : — 1. 77。
この液晶組成物 (F) を— 2 0°Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越え てもスメクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 8
3, 3 ' —ジフルオロー 4' — ( 2— ( 3—フルォロ一 4ーメ トキシフエ二 ル) ェチル) ― 4—プロボキシビフエニル ( 1 〇— B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -03 (化合物 N 0. 4 1 9) ) の製造
(第一段) 3, 3' ージフルオロー 4' - ( 2 - (3—フルォロ一 4—メ トキシ フエニル) ビニル) — 4一プロボキシビフヱニルの製造
3—フルオロー 4—メ トキシ一べンジルトリフヱニルホスホニゥムブロミ ド ( 3 —フルオロー 4—メ トキシブロモベンゼンと Mgから調製した G r i g n a r d 試薬とホルムアルデヒドとの反応、 ハロゲン化反応を経た後、 トリフヱニルホス フィ ンと反応させて得た。 ) 1 1. 7 g (2 3. 5 mm 0 1 ) および THF 3 0 m 1の混合物中に氷冷下、 ナトリウムメ トキシド 1. 3 g (2 3. 5 mm o 1 ) を添加し、 同温度で 1時間攪拌した。 反応混合物に 3, 3' —ジフルオロー 4' 一ホルミル一 4一プロポキシビフヱニル (実施例 1の第一段で得られた 3, 3 ' —ジフルオロー 4一プロポキシビフヱニルを s e c—ブチルリチウムでリチォ化 した後、 ピぺリジン— 1 —カルバルデヒ ドと反応させて得た。 ) 5. 0 g ( 1 8. 1 mmo 1 ) の THF 2 5m l溶液を一 6 0 °C以下を保ちながら滴下し、 同温度 で 2時間攪拌した。 反応終了後、 反応混合物に希塩酸 3 Om lを加え、 トルエン 2 0 0 m lで抽出した。 得られた有機層を希炭酸水素ナトリゥ厶水溶液で 2回、 水で 3回洗浄した後、 無水硫酸マグネシウム上で乾燥した。 減圧下に溶媒を留去 し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出液: トルエン) に付して粗製の 3, 3' —ジフルォロ— 4' - (2— ( 3—フルオロー 4ーメ ト キシフヱニル) ビニル) — 4一プロポキシビフヱニル 4. 6 gを得た。 (収率: 6 3. 8 %)
このものは、 これ以上の精製を行わずに次の反応に使用した。
(第二段) 3, 3 ' ージフルオロー 4' ― ( 2 - (3—フルオロー 4—メ トキシ フエニル) ェチル) — 4—プロボキシビフエニルの製造
前段で得られた 3, 3 ' —ジフルオロー 4' — ( 2— ( 3—フルォ 4一 メ トキシフエ二ル) ビニル) 一 4—プロボキシビフヱニル 4. 6 g ( 1 1. 5 m mo l ) 、 5 %P d -C 0. 2 gおよびトルエン/エタノール ( 1 Z 1 ) の混合 溶媒 5 0m 1を混合して水素添加を行った。 水素の吸収が停止した後、 触媒を濾
過して除去した。 減圧下に溶媒を留去し、 得られた残渣をシリカゲルカラムクロ マトグラフィ一 (溶出液:ヘプタン Zトルエン = 6/4) に付して、 粗製の 3, 3 ' ージフルオロー 4' 一 ( 2— (3—フルオロー 4ーメ トキシフエニル) ェチ ル) — 4—プロポキシビフヱニル 3. 8 gを得た。 このものをエタノール/酢酸 ェチル ( 8Z2) 混合溶媒から再結晶して標題化合物し 9 gを得た。 (収率: 4 1. 3 %)
実施例 8の方法に準じて、 以下の化合物を合成することができる。
化合物 N 0. 4 2 0 : 5 - B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 N 0. 4 2 1 : 1 4 - B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化化仓合物物 N N o 0.. 44 22 22 40- B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 1 0 化合物 N 0. 4 2 3 50 - B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 2 4 50 1 - B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 02 化合物 N 0. 4 2 5 F 40- B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 3 化合物 No. 4 2 6 3 - B ( 2 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03
化化合合物物 N N oo. 4 4 22 77 3 - B ( 2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No 4 2 8 5 - B (2, 3 F) 2 B (2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No 4 2 9 30-B ( 2, 3 F) 2 B (2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 No 4 3 0 50 - B ( 2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No 4 3 1 1 05 - B (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 N 0. 4 3 2 2 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N 0. 4 3 3 3 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 3
化合物 N 0. 4 3 4 4 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 4 3 5 5 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 N 0. 4 3 6 7 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) — 2
化化合合物物 N N o 0.. 44 33 77 1 4 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 3 8 5 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) —03
化合物 N 0. 4 3 9 5 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) —04
化合物 N 0. 4 4 0 7 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) —01
化合物 N 0. 4 4 1 1 07 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 4 2 : F 2 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - OCF2CFHCF3 化合物 No. 4 4 3 : i (F) 3 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) — 03
化合物 No. 44 4 : 4 -S i ( l ) 2 B (2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 4 4 5 : l -BB (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 4 4 6 : 2 - B B (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 4 4 7 : 3 - B B (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 4 4 8 : 5 BB (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 4 4 9 : 3 - B (2, 3 F) B 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 No. 4 5 0 : 4 - B (2, 3 F) B 2 B (2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 4 5 1 : 5 - B (2, 3 F) B 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2 化合物 N o. 4 5 2 : 2 O - B (2, 3 F) B 2 B ( 2 F) B (3 F) - 3 化合物 No. 4 5 3 : 4 O - B (2, 3 F) B 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3 化合物 No. 4 5 4 : 50 - B (2, 3 F) B 2 B (2 F) B (3 F) -02 化合物 No. 4 5 5 : 501 -B (2, 3 F) B 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 05 化合物 No. 4 5 6 : 3 - B (2, 3 F) B (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B (3
F) - 2
化合物 No. 4 5 7 : 5 O - B ( 2, 3 F) B (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B (3
F) -01
化合物 No. 4 5 8 : 3 -HB (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 2 化合物 No. 4 5 9 : 4 -HB (2, 3 F) 2 B (2 F) B (3 F) 一 3 化合物 No. 4 6 0 : 5 -HB (2, 3 F) 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 4 6 1 : 2 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 1
化合物 No. 4 6 2 : 3 -HH2 B (2 F) B (3 F) - 2
化合物 No. 4 6 3 : 5 -HH 2 B (2 F) B (3 F) - 2
化合物 No. 4 64 : 7 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 8
化合物 No. 4 6 5 : 1 3 -HH 2 B (2 F) B (3 F) - 3
化合物 No. 4 6 6 : 4 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03
化合物 No. 4 6 7 : 5 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 03
化合物 No. 4 6 8 : 8 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -03
化合物 No. 4 6 9 : F 2 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 04 化合物 No. 4 7 0 : F F 4 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) -02
化合物 No. 4 7 1 : 7 (F) 1 -HH 2 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 4 7 2 : 3 - S i (4) S i (4) 2 B (2 F) B ( 3 F) - 5 化合物 No. 4 7 3 : 3 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) H- 8
化合物 No. 4 7 4 : 4 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) H- 3
化合物 N o. 4 7 5 : 7 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) H- 2
化合物 No. 4 7 6 : 1 04 - H.2 B ( 2 F) B ( 3 F) H- 5
化合物 No. 4 7 7 : 303 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) H-02
化合物 No. 4 7 8 : 3 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) — 4
化合物 No. 4 7 9 : 4 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 8 0 : 5 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 4 8 1 : 2 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) - 4 化合物 No. 4 8 2 : 3 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 2 化合物 No. 4 8 3 : 5 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) B (2, 3 F) - 3 化合物 No. 4 8 4 : 5 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) - 02 化合物 No. 4 8 5 : 5 -H 2 B (2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) 03 化合物 No. 4 8 6 : F 4 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) - 02 化合物 No. 4 8 7 : F 1 1 -H 2 B ( 2 F) B ( 3 F) B ( 2, 3 F) -02 化合物 No. 4 8 8 : 2 -H 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 4 8 9 : 4 -H 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 4 9 0 : 7 -H 4 B ( 2 F) B ( 3 F) — 2
化合物 No. 4 9 1 : 50 1 -H 4 B (2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 4 9 2 : F 4 -H 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - OCF2C F2H 化合物 No. 4 9 3 : 2 -H 4 B ( 2 F) B ( 3 F) 一 02
化合物 No. 4 9 4 : 30- B ( 2, 3 F) 4 B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 4 9 5 : 50- B ( 2, 3 F) 4 B (2 F) B ( 3 F) -03 化合物 No. 4 9 6 : F 20-B (2, 3 F ) 4 B ( 2 F ) B ( 3 F ) — 3 化合物 No. 4 9 7 : 3 - B B (2, 3 F) 4 B ( 2 F) B ( 3 F) — 7
化合物 No. 4 9 8 5 - B B ( 2, 3 F) 4 B ( 2 F) B ( 3 F) -02 化合物 No. 4 9 9 2 - B ( 2, 3 F) B 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - 4 化合物 N o . 5 0 0 30 - B ( 2, 3 F) B 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - 04 化合物 N o. 5 0 1 3 -HH 4 B ( 2 F) B ( 3 F) - 2
化合物 No. 5 0 2 4 -HH 4 B (2 F) B ( 3 F) - 3
化合物 No. 5 0 3 5 -HH 4 B ( 2 F) B ( 3 F) 02
化合物 N o. 5 0.4 8 -HH 4 B ( 2 F) B ( 3 F) —03
実施例 9 (使用例 5)
組成物例 1の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 0. 8 , Δ ε : - 1. 8、 Δη : 0. 0 9 6、 7? : 2 7. 8。
この液晶組成物を一 2 0でのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 0 (使用例 6)
組成物例 2の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
Ν I : 8 1. 7、 Δ ε : — 1. 5、 Δη : 0. 0 9 9、 τ? : 2 3. 9。
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 1 (使用例 7)
組成物例 3の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 8 1. Δ ε : - 3. 9, Δη : 0. 0 9 2。
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 2 (使用例 8)
組成物例 4の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 8 7. 3、 Δ ε : — 3. 5、 Δη : 0. 0 8 0。
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリーザー中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 3 (使用例 9)
組成物例 5の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 7 3. 0、 Δ ε : - 3. 4、 Δη : 0. 1 9 6. VHR : 9 8. 3、 9 7. 4、 9 6 . 9 o
この液晶組成物を一 2 0°Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 4 (使用例 1 0)
組成物例 6の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 7 1 . 9、 Δ ε : - 2 . 8、 Δη : 0 . 1 4 9。
この液晶組成物を一 2 0°Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メタチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 5 (使用例 1 1 )
組成物例 7の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 8 3. Δ n : 0. 1 3 9、 ?? : 2 8. 6。
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 6 (使用例 1 2)
組成物例 8の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 1. 0、 Δη : 0. 2 1 し
この液晶組成物を— 2 0°Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 7 (使用例 1 3 )
組成物例 9の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 7 3. 3、 Δ ε : - 3. 9、 Δη : 0. 1 3 1。
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 8 (使用例 1 4)
組成物例 1 0の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 6 4. 2、 Δ ε : - 5. 6、 Δη : 0. 0 7 8 , τ? : 4 3. 8、 V t h : 2 . 0 3 o
この液晶組成物を一 2 0°Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもスメ
クチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 1 9 (使用例 1 5)
組成物例 1 1の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 7. 2、 Δ ε : 7. 3、 Δη : 0. 1 6 6, τ? : 1 9. 8、 V t h : 2. 0 4 ο
組成物例 1 1の液晶組成物 1 0 0重量部に対し CM - 3 3を 0. 8重量部溶解 したときのピッチは 1 0. 6 mであった。
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 0 (使用例 1 6)
組成物例 1 2の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 9 0. 8、 Δ ε : 6. 3、 厶 η : 0. 2 0 6、 τ? : 3 7. 8、 V t h : 2. 2 8 o
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリ—ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 1 (使用例 1 7)
組成物例 1 3の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 7 2. 9. Δ ε : 2 3. 8、 Δη : 0. 1 2 0、 : 3 9. 9、 V t h : 0 . 9 9 o
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 2 (使用例 1 8)
組成物例 1 4の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 6. 2、 Δ ε : 4. 5、 Δη : 0. 1 1 9、 τ? : 1 9. 8、 V t h : 2. 4 3。
この液晶組成物を一 2 0°Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 3 (使用例 1 8)
組成物例 1 5の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 9 5. 8、 Δ ε : 6. 8、 Δη : 0. 2 1 0、 τ? : 1 7. 5、 V t h : 2. 1 Ο ο
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 4 (使用例 1 9 )
組成物例 1 6の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 8 0. 1、 Δ ε : 6 . し Δ η : 0. 1 3 3 , η 1 4 . 6、 V t h : 2. 1 4 o
この液晶組成物を一 2 0 °Cのフリーザー中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 5 (使用例 2 0 )
組成物例 1 7の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 6. 7、 Δ ε : 3. 2、 Δ η : 0. 0 9 6、 τ? : 2 0. Κ V t h : 2. 6 7 o
組成物例 1 7の液晶組成物 1 0 0重量部に対し光学活性化合物 C Nを 0. 3重 量部溶解した液晶組成物のピッチは 7 7 mであった。
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 6 (使用例 2 1 )
組成物例 1 8の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 7 6. 8 , Δ ε : 1 2. 8、 Δ η : 0. 0 8 9、 ?? : 3 5. 4、 V t h :
1 . 4 6 o
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 7 (使用例 2 2 )
組成物例 1 9の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 8 9. 0、 Δ ε : 4. 7、 厶 η : 0. 1 3 Κ η 2 2. 3、 V t h : 2. 3 6 o
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリーザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス
メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 8 (使用例 2 3)
組成物例 2 0の液晶組成物の物性値は次の通りであつた。
N I : 8 3. 5, Δ ε : 4. 3、 Δη : 0. 0 9 5. η \ Ί . 4、 V t h : 2. 4 3 o
この液晶組成物を— 2 0°Cのフリーザー中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 2 9 (使用例 2 4 )
組成物例 2 1の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 7 5. 3、 Δ ε : 7. 8、 Δη : 0. 0 9 7、 τ? : 2 6. 2、 V t h : l . 8 1 o
この液晶組成物を— 2 0 °Cのフリ一ザ一中に放置したが、 6 0日を越えてもス メクチック相の出現および結晶の析出はみられなかった。
実施例 3 0 (使用例 2 5)
組成物例 2 2の液晶組成物の物性値は次の通りであった。
N I : 9 7. 4、 Δ ε : 6. 5、 Δη : 0. 1 3 9、 τ? : 3 8. Κ V t h : 2. 0 1、 VHR : 9 7. 6、 9 6. 4、 9 6. 0。
組成物例 2 2の液晶組成物 1 0 0重量部に対し光学活性化合物 CM - 4 3 Lを 0. 2重量部溶解した液晶組成物のピッチは 7 6 mであった。
実施例 3 1 (比較例 1 )
実施例 1 3において 3, 3' , 3 " — トリフルオロー 4, 4 " —ジプロポキシ テルフエニル (化合物 No. 1 ) および 3, 3 ' —ジフルォロ— 4' — (トラン ス— 4一プロビルシクロへキシル) — 4—プロボキシビフエニル (化合物 No. 1 8 3) に代えて、 特開昭 6 4— 2 9 3 4 2に記載の化合物 3, 3 ' —ジフルォ ロー 4' 一デシルォキシビフエ二ルー 4—ィル =トランス一 4—ヘプチルシクロ へキサンカルボキシラート ( 7— HEB (2 F) B ( 3 F) 一 1 0) の 9 %を用 いる以外同様にして得られた液晶組成物 (G) の VHRは次の通りであった。 VHR : 9 7. 8、 8 4. 2、 7 9. 8。
このことから本発明の化合物が、 エステル結合を有する公知の化合物 3, 3 '
ージフルオロー 4 ' 一デシルォキシビフエ二ルー 4—ィル =トランス— 4—ヘプ チルシクロへキサンカルボキシラートと比較して、 高い電圧保持率を有すること がわかった。
実施例 3 2 (比較例 2)
実施例 1 1 において 3, 3 ' —ジフルオロー 4' ― (トランス— 4一プロピル シクロへキシル) 一 4—プロポキシビフヱニル (化合物 No. 1 8 3) および 3, 3 ' —ジフルオロー 4' 一 ( (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) メ トキ シ) 一 4一プロボキシビフエニル (化合物 No. 2 7 6 ) に代えて、 GB 2 2 5 8 2 3 2 Aに記載の一般式に包含される化合物である 3, 3' —ジフルオロー 4 " 一プロポキシ— 4—プロピルテルフエニル ( 30 1 — B B ( 2 F) B ( 3 F) — 3) の 1 0. 0 %および特開平 3 - 1 4 1 2 3 7に記載の一般式に包含さ れる化合物である 3, 3 ' ージフルオロー 4' — ( ( 4—ェチルフヱニル) メ ト キシ) 一 4—プロボキシビフエニル (2— BCH20B (2 F) B ( 3 F) 一〇 3) の 1 0 %を用いる以外、 同様にして得られた液晶組成物 (H) の物性値は次 の通りであった。
N I : 7 7. 5、 厶 ε : — 3. 8、 Δη : 0. 1 0 9。
この液晶組成物 (Η) を一 2 0°Cのフリ一ザ一中に放置したところ、 1 日でス メクチック相が出現した。
このことから本発明の化合物が、 公知の化合物と比較して、 低温下でもスメク チック相を示しにく く、 かつ、 大きな負の Δ εを有することが分かった。
実施例 3 3 (比較例 3 )
実施例 1 1において 3, 3' —ジフルオロー 4' — (トランス— 4一プロピル シクロへキシル) 一 4一プロポキシビフヱニル (化合物 Ν 0. 1 8 3 ) および 3, 3 ' ージフルオロー 4' 一 ( (トランスー 4一プロビルシクロへキシル) メ トキ シ) — 4—プロボキシビフエニル (化合物 No. 2 7 6 ) に代えて、 特表平 2— 5 0 3 4 4 1に記載の一般式に包含される化合物である 2, 3—ジフルオロー 4 ― (トランス一 4— (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) シクロへキシ ル) プロポキシベンゼン ( 3—HHB ( 2, 3 F) — 03) の 1 0. 0 %および 2, 3—ジフルオロー 4一 ( (トランス一 4—プロビルシクロへキシル) メ トキ
シ) —プロボキシビフエニル ( 3—HCH2OB B ( 2, 3 F) —03) の 1 0 %を用いる以外、 同様にして得られた液晶組成物 ( I ) の物性値は次の通りであ つた。
N I : 7 9. 8、 Δ ε : - 3. 7、 Δη : 0. 0 9 1。
この液晶組成物 ( I ) を一 2 0でのフリ一ザ一中に放置したところ、 4日でス メクチック相が出現した。
このことから本発明の化合物が、 公知の化合物と比較して、 低温下でもスメク チック相を示しにく く、 かつ、 大きな負の Δ £を有することが分かった。
本発明の液晶性化合物は極めて高い電圧保持率および低いしきい値電圧を有し、 それらの温度依存性が極めて小さく、 スメクチック相を示しにくい上、 他の液晶 材料との相溶性が改善されている。 また、 本発明の液晶性化合物は置換基を適当 に選択することにより、 所望の物性を有する新たな液晶性化合物を提供すること ができる。
産業上の利用可能性
従って、 本発明の液晶性化合物を液晶組成物の成分として用いることにより、 極めて高い電圧保持率を有し、 その温度依存性が極めて小さく、 低いしきい値電 圧、 適切な大きさの Δηおよび△ εを有し、 安定性および他の液晶材料との相溶 性に優れている新たな液晶組成物を提供することができ、 これを用いて I PS方 式や V Α方式などの優れた液晶表示素子を提供することができる。