JPH0267232A - 新規なp‐ターフエニル誘導体並びに液晶組成物 - Google Patents
新規なp‐ターフエニル誘導体並びに液晶組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は新規な液晶性化合物並びにこの液晶性化合物を
少なくとも1種含有することを特徴とする液晶組成物に
関する。更に詳しく言えば本発明は強誘電性液晶に関し
、実用的な強誘電性液晶組成物作製の際、その組成成分
として有用で、かつ、化学的安定性に優れた新規なpタ
ーフェニル11導体並びにこのp−ターフェニル誘導体
の少なくとも1種を含有する液晶組成物に関する。
少なくとも1種含有することを特徴とする液晶組成物に
関する。更に詳しく言えば本発明は強誘電性液晶に関し
、実用的な強誘電性液晶組成物作製の際、その組成成分
として有用で、かつ、化学的安定性に優れた新規なpタ
ーフェニル11導体並びにこのp−ターフェニル誘導体
の少なくとも1種を含有する液晶組成物に関する。
時計、電卓、パーソナルワープロ、ポケットテレビ用等
の表示素子として、液晶表示素子は広く用いられている
。これらは、受光型で目が疲れない、消費電力が少ない
、薄型である等の優れた特徴を有しているが、一方にお
いては、応答速度が遅い、メモリー性がない等の点から
応用面において制限があった。応用面の拡大を図るため
、従来用いられていたツィステッドネマチック(TN)
型表示方式を改良したスーパーツィステッドネマチック
(STN)型表示方式等も提供されている。しかし、こ
れらは大画面表示用或いはグラフィック表示用としては
充分ではなく、従来これらに代わる液晶表示素子につい
ての研究も種々行われている。
の表示素子として、液晶表示素子は広く用いられている
。これらは、受光型で目が疲れない、消費電力が少ない
、薄型である等の優れた特徴を有しているが、一方にお
いては、応答速度が遅い、メモリー性がない等の点から
応用面において制限があった。応用面の拡大を図るため
、従来用いられていたツィステッドネマチック(TN)
型表示方式を改良したスーパーツィステッドネマチック
(STN)型表示方式等も提供されている。しかし、こ
れらは大画面表示用或いはグラフィック表示用としては
充分ではなく、従来これらに代わる液晶表示素子につい
ての研究も種々行われている。
その1つに強誘電性液晶(R,B、 Meyerら;P
hysique、 36 L−69(1975))を利
用した表示方式(N、 A、 C1arkら; A
pplied Phys、 1ett、、36゜89
9 (1980))がある。
hysique、 36 L−69(1975))を利
用した表示方式(N、 A、 C1arkら; A
pplied Phys、 1ett、、36゜89
9 (1980))がある。
この方式は従来方式に比べて100倍もの高速応答であ
ること、及びメモリー性があること等の点で優れた特徴
を有しているため、液晶表示素子の用途拡大が期待され
ている。強誘電性液晶とは、液晶分子長軸が層法線方向
とある角度を有する一連のスメクチック液晶のことであ
るが、実用的にはカイラルスメクチックC(SIIIC
本)相が用いられている。
ること、及びメモリー性があること等の点で優れた特徴
を有しているため、液晶表示素子の用途拡大が期待され
ている。強誘電性液晶とは、液晶分子長軸が層法線方向
とある角度を有する一連のスメクチック液晶のことであ
るが、実用的にはカイラルスメクチックC(SIIIC
本)相が用いられている。
実用的には、多数の強誘電性液晶化合物から成る液晶組
成物として、又はスメクチックC(SIIIC)相を有
する化合物或いはそれらの混合物に強誘電性液晶化合物
を添加して成る液晶組成物として用いられる。この場合
に、実用的なネマチック液晶表示素子作製の場合と同様
に、実用面において要求される種々の特性すなわち、動
作温度範囲、応答速度、自発分極、ラセンピッチ、化学
的安定性等を満足させるためには、多成分の混合が必要
とされる。
成物として、又はスメクチックC(SIIIC)相を有
する化合物或いはそれらの混合物に強誘電性液晶化合物
を添加して成る液晶組成物として用いられる。この場合
に、実用的なネマチック液晶表示素子作製の場合と同様
に、実用面において要求される種々の特性すなわち、動
作温度範囲、応答速度、自発分極、ラセンピッチ、化学
的安定性等を満足させるためには、多成分の混合が必要
とされる。
従来技術によっては、強誘電性液晶組成物として未だ実
用に供せられるほどのものは見出されておらず、その組
成物の有用な成分となりうる種々の新規化合物の開発が
望まれている。
用に供せられるほどのものは見出されておらず、その組
成物の有用な成分となりうる種々の新規化合物の開発が
望まれている。
本発明者らは、特に強誘電性を示す温度範囲に視点を置
き、種々の新規構造を有する化合物をデザインし、合成
し、評価し、鋭意研究した結果、化学的に安定で、応答
速度に優れ、SmC”相あるいは、SmC相温度範囲の
広い新規化合物を提供することに成功した。
き、種々の新規構造を有する化合物をデザインし、合成
し、評価し、鋭意研究した結果、化学的に安定で、応答
速度に優れ、SmC”相あるいは、SmC相温度範囲の
広い新規化合物を提供することに成功した。
すなわち、本発明は一般式
(R1およびR2は、それぞれ炭素原子数1−18の直
鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、Y及びZは、そ
れぞれ、単結合、0、COO又はOCOを示し、Xl、
X、及びX、は、それぞれ、水素原子、フッ素原子又は
塩素原子を示す)で表されるp −ターフェニル誘導体
並びに、それらの化合物の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とする液晶組成物を提供するものである。本発
明に係わる新規化合物はそれ自身単独でも広い温度範囲
でSmC*相を有するものであるが、それらの混合物あ
るいはそれらと他の液晶化合物あるいは液晶組成物との
混合物を調製することにより、さらにSmCmC電相温
度範囲張された強誘電性液晶組成物を得ることができる
。
鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、Y及びZは、そ
れぞれ、単結合、0、COO又はOCOを示し、Xl、
X、及びX、は、それぞれ、水素原子、フッ素原子又は
塩素原子を示す)で表されるp −ターフェニル誘導体
並びに、それらの化合物の少なくとも1種を含有するこ
とを特徴とする液晶組成物を提供するものである。本発
明に係わる新規化合物はそれ自身単独でも広い温度範囲
でSmC*相を有するものであるが、それらの混合物あ
るいはそれらと他の液晶化合物あるいは液晶組成物との
混合物を調製することにより、さらにSmCmC電相温
度範囲張された強誘電性液晶組成物を得ることができる
。
従って、本発明に係わる新規なp−ターフェニル誘導体
はそれ自体公知の合成手段を組合せて使用することによ
り製造することができる。
はそれ自体公知の合成手段を組合せて使用することによ
り製造することができる。
その製造方法については、以下に、合成経路を式示し、
実施例等を示すことにより更に詳しく説明する。なお、
合成した化合物の相転移温度は測定機器、測定方法の違
い、或いは純度により影響されるため、その数値に多少
の異同が認められることは理解されよう。本発明に係る
新規なp−ターフェニル誘導体は種々の経路で合成する
ことができるが、その例を式示する。
実施例等を示すことにより更に詳しく説明する。なお、
合成した化合物の相転移温度は測定機器、測定方法の違
い、或いは純度により影響されるため、その数値に多少
の異同が認められることは理解されよう。本発明に係る
新規なp−ターフェニル誘導体は種々の経路で合成する
ことができるが、その例を式示する。
式示した合成経路について以下に説明する。
4−アルキルオキシ−4“−アルキルオキシ−p−ター
フェニル及びその誘導体(I−4)は、4−ブロムビフ
ェニル及びその誘導体を出発物質とし、アセチル化、バ
イヤービリガー酸化、加水分解、エーテル化反応を行っ
た後、4−アルキルオキシブロムベンゼン及びその誘導
体から調製したグリニヤール試薬とのクロスカップリン
グ反応を行うことによって合成することができる。また
、4−アルキルオキシカルボニル−4“−アルキル−p
−ターフェニル及びその誘導体(l−14)は、4−ブ
ロムビフェニル及びその誘導体を出発物質とし、アシル
化、還元、ブロムベンゼン及びその誘導体から調製した
グリニヤール試薬とのクロスカップリング反応、アセチ
ル化、ハロホルム酸化、エステル化反応を行うことによ
って合成できる。また、4−アシルオキシ−4“−アル
キルオキシカルボニル−p−ターフェニル及びその誘導
体(II−4)は、アニソール及びその誘導体を出発物
質とし、臭素化、エーテルの開裂、ベンジルエーテル化
を行った後、グリニヤール試薬とし、4−ブロム−4′
−アルキルオキシカルボニルビフェニル及びその誘導体
とクロスカップリング反応ヲ行った後、エーテルの開裂
、エステル化反応を行うことによって合成することがで
きる。その他の合成経路式不例中に示した目的化合物(
I−1゜1−2、I−3、I−5、I−6、I−7、■
−8、I−9、l−10、I −11,l−12、l−
13、I−1,u−2、■−3)は、各工程において、
前記の諸反応を種々組み合わせて行うことによって合成
することができる。
フェニル及びその誘導体(I−4)は、4−ブロムビフ
ェニル及びその誘導体を出発物質とし、アセチル化、バ
イヤービリガー酸化、加水分解、エーテル化反応を行っ
た後、4−アルキルオキシブロムベンゼン及びその誘導
体から調製したグリニヤール試薬とのクロスカップリン
グ反応を行うことによって合成することができる。また
、4−アルキルオキシカルボニル−4“−アルキル−p
−ターフェニル及びその誘導体(l−14)は、4−ブ
ロムビフェニル及びその誘導体を出発物質とし、アシル
化、還元、ブロムベンゼン及びその誘導体から調製した
グリニヤール試薬とのクロスカップリング反応、アセチ
ル化、ハロホルム酸化、エステル化反応を行うことによ
って合成できる。また、4−アシルオキシ−4“−アル
キルオキシカルボニル−p−ターフェニル及びその誘導
体(II−4)は、アニソール及びその誘導体を出発物
質とし、臭素化、エーテルの開裂、ベンジルエーテル化
を行った後、グリニヤール試薬とし、4−ブロム−4′
−アルキルオキシカルボニルビフェニル及びその誘導体
とクロスカップリング反応ヲ行った後、エーテルの開裂
、エステル化反応を行うことによって合成することがで
きる。その他の合成経路式不例中に示した目的化合物(
I−1゜1−2、I−3、I−5、I−6、I−7、■
−8、I−9、l−10、I −11,l−12、l−
13、I−1,u−2、■−3)は、各工程において、
前記の諸反応を種々組み合わせて行うことによって合成
することができる。
以下の実施例中に記載されている略記号は以下のとおり
の意味を有する。
の意味を有する。
GLC: ガスクロマトグラフィーHPLC:
高速液体クロマトグラフィー■R: 赤
外線吸収スペクトルMass : 質量分析 m、 p・ : 融点 C: 結晶 S8: 同定出来なかったスメクチック相S、
: スメクチックB相 5mC,Sc: スメクチックC相 SmC本、Sc零:カイラルスメクチツクC相SA:
スメクチック人相 Ch: コレステリック相 ■二 等方性液体 ?: 温度不明 実施例 l 還流撹拌下に、先に作成したジアゾニウム塩溶液を1時
間を要して滴下後、更に1時間反応させた。反応液を冷
却後、ヘキサン 112を加えて抽出し、得られたヘキ
サン溶液を水、希苛性ソーダ水、水で順次洗浄し、芒硝
で脱水した後、ヘキサンを留去した残留物を減圧蒸留(
b、 p135〜142℃/ 15” 17 m+mH
g) して4−ペンチルブロムベンゼン61.59 (
44%)ヲ得り。
高速液体クロマトグラフィー■R: 赤
外線吸収スペクトルMass : 質量分析 m、 p・ : 融点 C: 結晶 S8: 同定出来なかったスメクチック相S、
: スメクチックB相 5mC,Sc: スメクチックC相 SmC本、Sc零:カイラルスメクチツクC相SA:
スメクチック人相 Ch: コレステリック相 ■二 等方性液体 ?: 温度不明 実施例 l 還流撹拌下に、先に作成したジアゾニウム塩溶液を1時
間を要して滴下後、更に1時間反応させた。反応液を冷
却後、ヘキサン 112を加えて抽出し、得られたヘキ
サン溶液を水、希苛性ソーダ水、水で順次洗浄し、芒硝
で脱水した後、ヘキサンを留去した残留物を減圧蒸留(
b、 p135〜142℃/ 15” 17 m+mH
g) して4−ペンチルブロムベンゼン61.59 (
44%)ヲ得り。
GLC96%
「
反応器に4−ペンチルアニリン 1009及び水600
+IIQを仕込み、氷水冷撹拌下に濃硫酸80gを滴下
し、次いで一5℃以下で亜硝酸ソーダ439の水80r
aQ溶液を滴下後、同温度で2時間撹拌反応してジアゾ
ニウム塩溶液を作成した。別の反応器に硫酸銅5水和物
(CuSO4”5HxO) 38.5g、銅粉12.2
9臭化ナトリウム 709及び水600mI2を仕込み
、室温撹拌下に濃硫酸18.59次いで亜硫酸ソーダ7
水和物 4.5gを添加し、これを昇温して反応器にマ
グネシウム末 3.3gとヨウ素の小片を仕込み、これ
に上記(a)で得た4−ペンチルブロムベンゼン22.
79のテトラヒドロフラン(THF) 50mg溶液の
少量を添加し、加熱撹拌した。
+IIQを仕込み、氷水冷撹拌下に濃硫酸80gを滴下
し、次いで一5℃以下で亜硝酸ソーダ439の水80r
aQ溶液を滴下後、同温度で2時間撹拌反応してジアゾ
ニウム塩溶液を作成した。別の反応器に硫酸銅5水和物
(CuSO4”5HxO) 38.5g、銅粉12.2
9臭化ナトリウム 709及び水600mI2を仕込み
、室温撹拌下に濃硫酸18.59次いで亜硫酸ソーダ7
水和物 4.5gを添加し、これを昇温して反応器にマ
グネシウム末 3.3gとヨウ素の小片を仕込み、これ
に上記(a)で得た4−ペンチルブロムベンゼン22.
79のテトラヒドロフラン(THF) 50mg溶液の
少量を添加し、加熱撹拌した。
発泡して反応を開始してから残りの前記THF溶液を還
流を保つように滴下し、滴下後さらに2時間還流撹拌し
てグリニヤール試薬を作成した。
流を保つように滴下し、滴下後さらに2時間還流撹拌し
てグリニヤール試薬を作成した。
別の反応器にジクロルビストリフェニルホスフィンパラ
ジウム(CLPd(PPhs)*) 0.59及びTH
F30mQを仕込み、これにジイソブチルアルミニウム
ハイドライド((iso−C*Hs)tA(2H)の1
Mヘキサン溶液1.5m12を添加し、次いで室温撹拌
下に4−ブロム−2−フルオロビフェニル19.59の
THF90mff溶液を加え、60℃に昇温後、先に得
たグリニヤール試薬を滴下し、滴下後2時間熟成した。
ジウム(CLPd(PPhs)*) 0.59及びTH
F30mQを仕込み、これにジイソブチルアルミニウム
ハイドライド((iso−C*Hs)tA(2H)の1
Mヘキサン溶液1.5m12を添加し、次いで室温撹拌
下に4−ブロム−2−フルオロビフェニル19.59の
THF90mff溶液を加え、60℃に昇温後、先に得
たグリニヤール試薬を滴下し、滴下後2時間熟成した。
反応液を塩酸と氷水の400raQ液に注加し、ベンゼ
ンで抽出後、飽和食塩水で洗液が中性になるまで洗浄し
、芒硝で脱水した。得られたベンゼン溶液を蒸留して溶
媒を留去し、残留分を減圧蒸留して得られた留分(b、
p 198〜208℃10.6n+mHg)をヘキサン
で再結晶して4−ペンチル−3′−フルオロ−p−ター
フェニル12.0g(48,5%)を得た。
ンで抽出後、飽和食塩水で洗液が中性になるまで洗浄し
、芒硝で脱水した。得られたベンゼン溶液を蒸留して溶
媒を留去し、残留分を減圧蒸留して得られた留分(b、
p 198〜208℃10.6n+mHg)をヘキサン
で再結晶して4−ペンチル−3′−フルオロ−p−ター
フェニル12.0g(48,5%)を得た。
GLC98,0%
反応器に塩化メチレン 3011I2及び無水塩化アル
ミニウム 7gを仕込み、撹拌下に0℃以下でアセチル
クロライド 5.6gを注加し、次いで上記(b)で得
た4−ペンチル−3′−フルオロ−p−ターフェニル
8.33gの塩化メチレン 50Ila溶液を滴下後、
2時間同温度で撹拌反応させた。
ミニウム 7gを仕込み、撹拌下に0℃以下でアセチル
クロライド 5.6gを注加し、次いで上記(b)で得
た4−ペンチル−3′−フルオロ−p−ターフェニル
8.33gの塩化メチレン 50Ila溶液を滴下後、
2時間同温度で撹拌反応させた。
反応液を冷希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出後、飽和食
塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をアセ
トンで再結晶して4−アセチル−2′−フルオロ−4#
−ペンチル−p−ターフェニル6.45g(68,4%
)を得た。
塩水、炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗
浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をアセ
トンで再結晶して4−アセチル−2′−フルオロ−4#
−ペンチル−p−ターフェニル6.45g(68,4%
)を得た。
HPLC97%
反応器に上記(C)で得た4−アセチル−2′−フルオ
ロ−4“−ペンチル−p−ターフェニル69及び塩化メ
チレン50taQを仕込み、室温撹拌下に88%ギra
50taa、無水酢酸 25禦a及び濃硫酸0.1
mffを順次加え、更に35%過酸化水素水 7m(t
を14℃で滴下した。滴下後40℃で24時間撹拌し反
応させ、反応液を氷水に注加し、ベンゼンで抽出後、希
塩酸次いで食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。得られた
ベンゼン溶液を蒸留し、ベンゼンを留去した残留分と、
エチルアルコール300mI2及び30%苛性カリ水溶
液55mQを反応器に仕込み、8時間還流撹拌した。反
応液を冷希塩酸中に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩水
で洗浄し、芒硝で脱水した後、ベンゼンを留去して得ら
れた残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
離液クロロホルム)で精製し、次いでメタノールで再結
晶して4−ヒドロキシ−2′−7ルオロー4#−ペンチ
ル−p−ターフェニル1.89 (32,4%)を得た
。
ロ−4“−ペンチル−p−ターフェニル69及び塩化メ
チレン50taQを仕込み、室温撹拌下に88%ギra
50taa、無水酢酸 25禦a及び濃硫酸0.1
mffを順次加え、更に35%過酸化水素水 7m(t
を14℃で滴下した。滴下後40℃で24時間撹拌し反
応させ、反応液を氷水に注加し、ベンゼンで抽出後、希
塩酸次いで食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した。得られた
ベンゼン溶液を蒸留し、ベンゼンを留去した残留分と、
エチルアルコール300mI2及び30%苛性カリ水溶
液55mQを反応器に仕込み、8時間還流撹拌した。反
応液を冷希塩酸中に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩水
で洗浄し、芒硝で脱水した後、ベンゼンを留去して得ら
れた残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
離液クロロホルム)で精製し、次いでメタノールで再結
晶して4−ヒドロキシ−2′−7ルオロー4#−ペンチ
ル−p−ターフェニル1.89 (32,4%)を得た
。
HPLC99,5%
反応器に上記(d)で得た4−ヒドロキシ−2′−フル
オロ−4#−ペンチル−p−ターフェニル0.69.
(S) −2−メチルブチルブロマイド 1g。
オロ−4#−ペンチル−p−ターフェニル0.69.
(S) −2−メチルブチルブロマイド 1g。
炭酸カリウム0.8g及び2−ブタノン(MEK) 1
0viQを仕込み、還流撹拌下に16時間反応させた。
0viQを仕込み、還流撹拌下に16時間反応させた。
反応液を、希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し
、芒硝で脱水した後溶媒を留去し、残留分をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベンゼン
−4:1)にて精製しくS)−4−(2−メチルブチル
)オキシ−2′−フルオロ−4“−ペンチル−p−ター
フェニル0.3g(41,7%)を得た。
、芒硝で脱水した後溶媒を留去し、残留分をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベンゼン
−4:1)にて精製しくS)−4−(2−メチルブチル
)オキシ−2′−フルオロ−4“−ペンチル−p−ター
フェニル0.3g(41,7%)を得た。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で404に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で404に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 2
実施例1の(e)における(S)−2−メチルブチルブ
ロマイド 1gに替えて(S)−4−メチルヘキシルブ
ロマイド0.369を用い、他は実施例1と同様に操作
して得られた物質をアセトンで再結晶L、(S)−4−
(4−メチルヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−4#
−ペンチル−p−ターフェニル0.489 (61,9
%)を得た。
ロマイド 1gに替えて(S)−4−メチルヘキシルブ
ロマイド0.369を用い、他は実施例1と同様に操作
して得られた物質をアセトンで再結晶L、(S)−4−
(4−メチルヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−4#
−ペンチル−p−ターフェニル0.489 (61,9
%)を得た。
この物の純度はHPL(:で99%以上であった。また
IR及びMass分析で432に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物
質が目的物であることを確認した。
IR及びMass分析で432に分子イオンピークが認
められたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 3
実施例1の(6)における(S)−2−メチルブチルブ
ロマイド 19に替えて(S)−1−メチルへブチルト
シレート2.0gを用い、他は実施例1と同様に操作し
て(R)−4−(1−メチルヘプチル)オキシ−2′−
フルオロ−41−ペンチル−p−ターフェニル0.59
(62,5%)を得た。
ロマイド 19に替えて(S)−1−メチルへブチルト
シレート2.0gを用い、他は実施例1と同様に操作し
て(R)−4−(1−メチルヘプチル)オキシ−2′−
フルオロ−41−ペンチル−p−ターフェニル0.59
(62,5%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で446に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で446に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP’82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 4
反応器に無水塩化アルミニウム 113g及び塩化メチ
レン600maを仕込み0°C以下で撹拌下にアセチル
クロライド 1139を滴下し、次いで4−プロムー2
−フルオロビフェニル 100gの塩化メチレン400
mff溶液を滴下した後、徐々に室温に戻しながら7時
間撹拌反応させた。反応液を氷と希塩酸中に注加し、塩
化メチレン層を水洗し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄し、水洗し、芒硝で脱水した後溶媒を留去し、残留分
をアセトンで再結晶して4−アセチル−2′−フルオロ
ー4′−ブロムビフェニル969 (82,2%)を得
た。
レン600maを仕込み0°C以下で撹拌下にアセチル
クロライド 1139を滴下し、次いで4−プロムー2
−フルオロビフェニル 100gの塩化メチレン400
mff溶液を滴下した後、徐々に室温に戻しながら7時
間撹拌反応させた。反応液を氷と希塩酸中に注加し、塩
化メチレン層を水洗し、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄し、水洗し、芒硝で脱水した後溶媒を留去し、残留分
をアセトンで再結晶して4−アセチル−2′−フルオロ
ー4′−ブロムビフェニル969 (82,2%)を得
た。
GLC100%
カゲル力ラムクロマトグラフイー(溶離液ベンゼン)に
て精製し、4−ヒドロキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル28.1g(47,5%)を得た。
て精製し、4−ヒドロキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル28.1g(47,5%)を得た。
反応器に上記(a)で得た4−アセチル−2′フルオロ
−4′−ブロムビフェニル65g及び塩化メチレン30
0mQを仕込み、10℃で撹拌下に88%ギ酸500m
(2、無水酢酸480mQを滴下し、さらに濃硫酸 1
.5m(2を加えた後、35%過酸化水素水150+1
+を3時間を要して滴下し、滴下後、徐々に昇温して4
5〜50℃で30時間撹拌反応させた。
−4′−ブロムビフェニル65g及び塩化メチレン30
0mQを仕込み、10℃で撹拌下に88%ギ酸500m
(2、無水酢酸480mQを滴下し、さらに濃硫酸 1
.5m(2を加えた後、35%過酸化水素水150+1
+を3時間を要して滴下し、滴下後、徐々に昇温して4
5〜50℃で30時間撹拌反応させた。
反応液を、氷水に注加し、ベンゼンで抽出し、炭酸水素
ナトリウム水溶液で洗浄し、水洗し、芒硝脱水を行い、
溶媒を留去し、残留分を得た。
ナトリウム水溶液で洗浄し、水洗し、芒硝脱水を行い、
溶媒を留去し、残留分を得た。
この残留分とエチルアルコール212を別の反応器に仕
込み、これに25%苛性カリ水溶液を加え、8時間還流
撹拌しj;。反応液を氷と希塩酸中に注加しベンゼンで
抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留
去し、残留分をシリ反応器に上記(b)で得た4−ヒド
ロキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 5
9.(S)−2−メチルブチルブロマイド 6.8g、
炭酸カリウム 49及び2−ブタノ7 (MEK) 5
0mQを仕込み、撹拌還流下に8時間反応させた。反応
液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝
で脱水した後、溶媒を留去し残留分をガラスチュウプオ
ーブン(GTO)にて蒸留して得られる留分(GTO設
定温度140’o / 0.2 mmHg)をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベンゼ
ン−4:l)で精製し、(S)−4−(2−メチルブチ
ル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
4.549 (72,0%)を得た。
込み、これに25%苛性カリ水溶液を加え、8時間還流
撹拌しj;。反応液を氷と希塩酸中に注加しベンゼンで
抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留
去し、残留分をシリ反応器に上記(b)で得た4−ヒド
ロキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 5
9.(S)−2−メチルブチルブロマイド 6.8g、
炭酸カリウム 49及び2−ブタノ7 (MEK) 5
0mQを仕込み、撹拌還流下に8時間反応させた。反応
液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝
で脱水した後、溶媒を留去し残留分をガラスチュウプオ
ーブン(GTO)にて蒸留して得られる留分(GTO設
定温度140’o / 0.2 mmHg)をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベンゼ
ン−4:l)で精製し、(S)−4−(2−メチルブチ
ル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
4.549 (72,0%)を得た。
TLCモノスポット
反応器にオクチルブロマイド22.3g、 p−ブロム
フェノール20g、炭酸カリウム33.3g及び2−ブ
タ、t ン(MEK) 200m(2を仕込み、還流撹
拌下に10時間反応した。反応液を希塩酸に注加し、ベ
ンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した後、
溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留し4−オクチルオキシ
ブロムベンゼン 22.0g(66,8%)を得た。
フェノール20g、炭酸カリウム33.3g及び2−ブ
タ、t ン(MEK) 200m(2を仕込み、還流撹
拌下に10時間反応した。反応液を希塩酸に注加し、ベ
ンゼンで抽出し、食塩水で洗浄し、芒硝で脱水した後、
溶媒を留去し、残留分を減圧蒸留し4−オクチルオキシ
ブロムベンゼン 22.0g(66,8%)を得た。
ct、c 99.8%
b、 p 124〜127°C/ 0.2 mmHg
合成 反応器にマグネシウム末 0.4g及びヨウ素の小片を
仕込み、上記(d)で得た4−オクチルオキシブロムベ
ンゼン 3.49のTHF 20m(l溶液の少量を加
え反応させる。次いで残りのTHF溶液を、還流を保ち
ながら撹拌下に滴下した後、更に2時間還流撹拌し、グ
リニヤール試薬を作成した。
合成 反応器にマグネシウム末 0.4g及びヨウ素の小片を
仕込み、上記(d)で得た4−オクチルオキシブロムベ
ンゼン 3.49のTHF 20m(l溶液の少量を加
え反応させる。次いで残りのTHF溶液を、還流を保ち
ながら撹拌下に滴下した後、更に2時間還流撹拌し、グ
リニヤール試薬を作成した。
別の反応容器に窒素気流下、ジクロロビストリフェニル
ホスフィンパラジウム (CI2iPd(PPhs)x)0.1g、 THF
20rtrQ、ジイソブチルアルミニウムハイドライド
((iso−C,Hg)2AI2旧の1モルヘキサン溶
液0.5m12及び上記(c)で得た(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2gのTHF 20ma溶液を順次仕込
み、撹拌下に50℃で先に作成したグリニヤール試薬を
滴下し、滴下後、同温度で6時間撹拌反応させた。反応
液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄
し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベン
ゼン−6:l)にて精製し、さらにアセトンで再結晶し
、(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フ
ルオロ−4#−才クチルオキシ−p−ターフェニル1.
62g(59,1%)を得た。
ホスフィンパラジウム (CI2iPd(PPhs)x)0.1g、 THF
20rtrQ、ジイソブチルアルミニウムハイドライド
((iso−C,Hg)2AI2旧の1モルヘキサン溶
液0.5m12及び上記(c)で得た(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2gのTHF 20ma溶液を順次仕込
み、撹拌下に50℃で先に作成したグリニヤール試薬を
滴下し、滴下後、同温度で6時間撹拌反応させた。反応
液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩水で洗浄
し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:ベン
ゼン−6:l)にて精製し、さらにアセトンで再結晶し
、(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フ
ルオロ−4#−才クチルオキシ−p−ターフェニル1.
62g(59,1%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 5
実施例4の(C)における(S)−2−メチルブチルブ
ロマイド6.89に替えて(S)−4−メチルヘキシル
ブロマイド 4.0gを用い、他は実施例4と同様に操
作して(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−2
′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル4.47g(6
5,4%)を得た(GTO設定温度16り℃/ 0.2
5mmHg)。
ロマイド6.89に替えて(S)−4−メチルヘキシル
ブロマイド 4.0gを用い、他は実施例4と同様に操
作して(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−2
′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル4.47g(6
5,4%)を得た(GTO設定温度16り℃/ 0.2
5mmHg)。
TLCモノスポット
の合成
実施例4の(e)における(S)−4−(2−メチルブ
チル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニ
ルに替えて上記(a)で得た(S)−4−(4−メチル
ヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニルを用い、他は実施例4と同様に操作して(S)−
4−(4−メチルヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−
4#−オクチルオキシ−p−ターフェニル 1.06g
(39,5%)を得た。
チル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニ
ルに替えて上記(a)で得た(S)−4−(4−メチル
ヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニルを用い、他は実施例4と同様に操作して(S)−
4−(4−メチルヘキシル)オキシ−2′−フルオロ−
4#−オクチルオキシ−p−ターフェニル 1.06g
(39,5%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で490に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で490に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 6
反応器に塩化メチレン 20mff及び無水塩化アルミ
ニウム 3.2gを仕込み、撹拌下に一5℃以下でオク
タノイルクロライド 4gを加え、次いで4−ブロム−
2−フルオロビフェニル 3gの塩化メチレンl Om
(2溶液を滴下した。
ニウム 3.2gを仕込み、撹拌下に一5℃以下でオク
タノイルクロライド 4gを加え、次いで4−ブロム−
2−フルオロビフェニル 3gの塩化メチレンl Om
(2溶液を滴下した。
滴下後、0℃以下で3時間撹拌反応し、−夜室温で放置
後、反応液を氷/希塩酸中に注加し、ベンゼンで抽出し
、ベンゼン溶液を水洗し、希アンモニア水処理、水洗及
び芒硝脱水を順次行い、ベンゼンを留去した残留分をア
セトンで再結晶して4−オクタノイル−2′−フルオロ
−4′−プロムビフェニル3.8g(84,2%)ヲ得
り。
後、反応液を氷/希塩酸中に注加し、ベンゼンで抽出し
、ベンゼン溶液を水洗し、希アンモニア水処理、水洗及
び芒硝脱水を順次行い、ベンゼンを留去した残留分をア
セトンで再結晶して4−オクタノイル−2′−フルオロ
−4′−プロムビフェニル3.8g(84,2%)ヲ得
り。
丁LCモノスポット
反応器に上記(a)で得た4−オクタノイル−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル3.759及びトリフ
ルオロ酢酸 2011I2を仕込み、室温撹拌下にトリ
エチルシラン 2.4gを滴下し、6時間撹拌後、反応
液を水に注加し、ベンゼン抽出、水洗、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液洗浄、水洗、芒硝脱水を順次行い、溶媒を留
去した後、ガラスチューブオーブン(GTO)にて蒸留
し、4−オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル2.569(71,1%)を得た。GTO設定温
度150℃10.2+g+wHg TLCモノスポット 実施例4の(d)におけるオクチルブロマイド22.3
9に替えて、(S)−4−メチルヘキシルブロマイド2
0.79を用い、他は実施例4と同様に操作して(S)
−4−(4−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン2
4.19(77%)11:。
ルオロ−4′−ブロムビフェニル3.759及びトリフ
ルオロ酢酸 2011I2を仕込み、室温撹拌下にトリ
エチルシラン 2.4gを滴下し、6時間撹拌後、反応
液を水に注加し、ベンゼン抽出、水洗、炭酸水素ナトリ
ウム水溶液洗浄、水洗、芒硝脱水を順次行い、溶媒を留
去した後、ガラスチューブオーブン(GTO)にて蒸留
し、4−オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル2.569(71,1%)を得た。GTO設定温
度150℃10.2+g+wHg TLCモノスポット 実施例4の(d)におけるオクチルブロマイド22.3
9に替えて、(S)−4−メチルヘキシルブロマイド2
0.79を用い、他は実施例4と同様に操作して(S)
−4−(4−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン2
4.19(77%)11:。
b、p 120〜123℃/ 0.5 mmHgの合
成 反応器にマグネシウム末 0゜2g及びヨウ素の小片を
仕込み、上記(c)で得た(S)−4−(4−メチルヘ
キシル)オキシブロムベンゼン 1.39のT)fF
10m(l溶液の少量を加え反応させた。次いで、残り
のTHF溶液を還流を保つよう撹拌下に滴下した後、更
に、2時間還流撹拌しグリニヤール試薬を作成した。別
の反応容器に窒素気流下、ジクロルビストリフェニルホ
スフィンパラジウム(C(lzPd(PPhx)x)
0.19.THF 10m<2.ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド((iso−C4H@)xAI2H
)の1モルヘキサン溶液0.5mff及び上記(b)で
得た4−才クチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル 1.79のTHF 10mQ溶液を順次仕込
み、撹拌下に50℃で先に作成したグリニヤール試薬を
滴下し、滴下後間温度で6時間撹拌反応した。
成 反応器にマグネシウム末 0゜2g及びヨウ素の小片を
仕込み、上記(c)で得た(S)−4−(4−メチルヘ
キシル)オキシブロムベンゼン 1.39のT)fF
10m(l溶液の少量を加え反応させた。次いで、残り
のTHF溶液を還流を保つよう撹拌下に滴下した後、更
に、2時間還流撹拌しグリニヤール試薬を作成した。別
の反応容器に窒素気流下、ジクロルビストリフェニルホ
スフィンパラジウム(C(lzPd(PPhx)x)
0.19.THF 10m<2.ジイソブチルアルミ
ニウムハイドライド((iso−C4H@)xAI2H
)の1モルヘキサン溶液0.5mff及び上記(b)で
得た4−才クチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル 1.79のTHF 10mQ溶液を順次仕込
み、撹拌下に50℃で先に作成したグリニヤール試薬を
滴下し、滴下後間温度で6時間撹拌反応した。
反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、食塩水で
洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:
ベンゼン−6: 1)にて精製し、さらにアセトンで再
結晶し、(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−
3′−フルオロ−4“−オクチル−p−ターフェニル0
.329(14,5%)を得た。
洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン:
ベンゼン−6: 1)にて精製し、さらにアセトンで再
結晶し、(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−
3′−フルオロ−4“−オクチル−p−ターフェニル0
.329(14,5%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で474に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で474に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 7
反応器にp−ブロムフェノール 10g、 (S) −
1−メチルへキシルオシレー) 19g、炭酸カリウ
ム109並びにシクロへキサノン150m12を仕込み
、15時間(GLCにて原料の消失を確認)撹拌還流し
た。反応液を濾過して得られた固形物をベンゼンで洗浄
し、この洗液と濾液を合わせ、水洗した後、芒硝で脱水
し、溶媒を留去した残留分をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離液ヘキサン)で精製しくR)−4−(
1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン149(8
9,4%)を得た。
1−メチルへキシルオシレー) 19g、炭酸カリウ
ム109並びにシクロへキサノン150m12を仕込み
、15時間(GLCにて原料の消失を確認)撹拌還流し
た。反応液を濾過して得られた固形物をベンゼンで洗浄
し、この洗液と濾液を合わせ、水洗した後、芒硝で脱水
し、溶媒を留去した残留分をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(溶離液ヘキサン)で精製しくR)−4−(
1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン149(8
9,4%)を得た。
GLC98,4%
認められたこと、並びに用いた原料からみて、得られた
物質が目的物であることを確認した。
物質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 8
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン 3.4gに替えて上記(a)で得た(R)−4−
(1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン3.2g
を用い、また(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ
−2′−フルオロ−4’−’ロムビフェニル 2gに替
えて実施例6(b)で得られる4−オクチル−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.2gを用い、他
は実施例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチル
ヘキシル)オキシ−3′−フルオロ−4“−オクチル−
p−ターフェニル0.31g(11%)を得を二。
ゼン 3.4gに替えて上記(a)で得た(R)−4−
(1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン3.2g
を用い、また(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ
−2′−フルオロ−4’−’ロムビフェニル 2gに替
えて実施例6(b)で得られる4−オクチル−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.2gを用い、他
は実施例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチル
ヘキシル)オキシ−3′−フルオロ−4“−オクチル−
p−ターフェニル0.31g(11%)を得を二。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で474に分子イオンピークが実施
例4(c)における(S)−2−メチルブチルブロマイ
ド 6.8gに替えてヘキシルブロマイド6gを用い、
他は実施例4と同様に操作し、後旭理を行って得られた
粗生成物をガラスチューブオーブン(GTO)にて蒸留
し4−へキシルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロム
ビフェニル5.8y (88,3%)を得た。GTO設
定温度150℃10.15mmHg 実施例4(e)における4−才クチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて実施例7(a)で得られる(R)
−4−(1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン3
gを用い、又、(S)−4−(2−メチルブチル)オキ
シ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル29に替
えて、上記(a)で得た4−へキシルオキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル2gを用い、他は実施
例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘキシ
ル)オキシ−3′−フルオロ−4#−へキシルオキシ−
p−ターフェニル0.49 (15%)を得た。
R及びMass分析で474に分子イオンピークが実施
例4(c)における(S)−2−メチルブチルブロマイ
ド 6.8gに替えてヘキシルブロマイド6gを用い、
他は実施例4と同様に操作し、後旭理を行って得られた
粗生成物をガラスチューブオーブン(GTO)にて蒸留
し4−へキシルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロム
ビフェニル5.8y (88,3%)を得た。GTO設
定温度150℃10.15mmHg 実施例4(e)における4−才クチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて実施例7(a)で得られる(R)
−4−(1−メチルヘキシル)オキシブロムベンゼン3
gを用い、又、(S)−4−(2−メチルブチル)オキ
シ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル29に替
えて、上記(a)で得た4−へキシルオキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル2gを用い、他は実施
例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘキシ
ル)オキシ−3′−フルオロ−4#−へキシルオキシ−
p−ターフェニル0.49 (15%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 9
反応器に実施例4(b)で得られる4−ヒドロキシ−2
7−yルオロ−4′−ブロムビフェニル129、デシル
ブロマイド 14.29.炭酸カリウム15.79並び
に2−ブタノン(MEK) 100m12を仕込み、1
2時間(TLCで原料の消失を確認)撹拌還流した。反
応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒
硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン)で精製し、
更にヘキサンで再結晶して4−デシルオキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル 14.9g(81,
5%)を得た。
7−yルオロ−4′−ブロムビフェニル129、デシル
ブロマイド 14.29.炭酸カリウム15.79並び
に2−ブタノン(MEK) 100m12を仕込み、1
2時間(TLCで原料の消失を確認)撹拌還流した。反
応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒
硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留分をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶離液ヘキサン)で精製し、
更にヘキサンで再結晶して4−デシルオキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル 14.9g(81,
5%)を得た。
合成
実施例7(b)における4−オクチル−2′−フルオロ
−4′−ブロムビフェニル 2.2gに替えて(a)で
得た4−デシルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロム
ビフェニル2.4gを用い、他は実施例7と同様に操作
して(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3′
−フルオロ−4#−デシルオキシ−p−ターフェニル0
.559(18%)を得た。
−4′−ブロムビフェニル 2.2gに替えて(a)で
得た4−デシルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロム
ビフェニル2.4gを用い、他は実施例7と同様に操作
して(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3′
−フルオロ−4#−デシルオキシ−p−ターフェニル0
.559(18%)を得た。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で518に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で518に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 10
実施例4(d)におけるオクチルブロマイド22.3g
に替えてヘキシルブロマイド 19gを用い、他は実施
例4と同様に操作して4−へキシルオキシブロムベンゼ
ン26.79(89,9%)ヲ得り。
に替えてヘキシルブロマイド 19gを用い、他は実施
例4と同様に操作して4−へキシルオキシブロムベンゼ
ン26.79(89,9%)ヲ得り。
b、 p 106〜115℃/ 0.5 mmHg実
施例4(c)における(S)−2−メチルブチルブロマ
イド6.89に替えて、(R)−1−メチルへキシルト
シレート 7.5gを用い、他は実施例4と同様に操作
し、後処理を行って得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液ヘキサン)で精製し、(
S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル6.19 (89,3%
)ヲ得り。
施例4(c)における(S)−2−メチルブチルブロマ
イド6.89に替えて、(R)−1−メチルへキシルト
シレート 7.5gを用い、他は実施例4と同様に操作
し、後処理を行って得られた粗生成物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液ヘキサン)で精製し、(
S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル6.19 (89,3%
)ヲ得り。
合成
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−へキシルオ
キシブロムベンゼン 3gを用い、又、(S)−4−(
2−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル 2.09に替工て上記(b)で得た(
S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル2.0gを用い、他は実
施例4と同様に操作して(S)−4−(1−メチルヘキ
シル)オキシ−2′−フルオロ−4#−へキシルオキシ
−p−ターフェニル0.259 (10%)を得に。
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−へキシルオ
キシブロムベンゼン 3gを用い、又、(S)−4−(
2−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル 2.09に替工て上記(b)で得た(
S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル2.0gを用い、他は実
施例4と同様に操作して(S)−4−(1−メチルヘキ
シル)オキシ−2′−フルオロ−4#−へキシルオキシ
−p−ターフェニル0.259 (10%)を得に。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で462に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 11
実施例4(d)におけるオクチルブロマイド22.39
に替えてデシルブロマイド25.79を用い、他は実施
例4と同様に操作して4−デシルオキシブロムベンゼン
31.0g(85,8%)を得り。
に替えてデシルブロマイド25.79を用い、他は実施
例4と同様に操作して4−デシルオキシブロムベンゼン
31.0g(85,8%)を得り。
b、p 136〜146℃10.25 mIQHg合
成 実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−デシルオキ
シブロムベンゼン3.5gを用い、又、(S)−4−(
2−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル 2gに替えて実施例10(b)で得ら
れる(S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′
−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.0gを用い
、他は実施例4と同様に操作して、(S)−4−(1−
メチルヘキシル)オキシ−27−yルオロー4“−デシ
ルオキシ−p−ターフェニル0.429 (14,8%
)を得た。
成 実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−デシルオキ
シブロムベンゼン3.5gを用い、又、(S)−4−(
2−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブ
ロムビフェニル 2gに替えて実施例10(b)で得ら
れる(S)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−2′
−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.0gを用い
、他は実施例4と同様に操作して、(S)−4−(1−
メチルヘキシル)オキシ−27−yルオロー4“−デシ
ルオキシ−p−ターフェニル0.429 (14,8%
)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で518に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で518に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 12
反応器に2−フルオロフェノール 109. (S)−
1−メチルへキシルトシレート259. 炭酸カリウム
20g並びl: M E K l 60 va Q t
仕込h、14時間(TLC″′c原料の消失を確認)
還流撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽
出し、水洗し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留
分を減圧蒸留して(R)−2−(1−メチルヘキシル)
オキシフルオロベンゼン 149(74,5%)ヲ得た
。
1−メチルへキシルトシレート259. 炭酸カリウム
20g並びl: M E K l 60 va Q t
仕込h、14時間(TLC″′c原料の消失を確認)
還流撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽
出し、水洗し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留
分を減圧蒸留して(R)−2−(1−メチルヘキシル)
オキシフルオロベンゼン 149(74,5%)ヲ得た
。
b、 p 113〜117℃/9mmHg反応器に上
記(a)で得た(R)−2−(1−メチルヘキシル)オ
キシフルオロベンゼン 13.9g並びにクロロホルム
5orlrQを仕込み、室温撹拌下に臭素12.7g
を滴下し、さらに室温撹拌(GLCで原料の消失を確認
)した後、10%苛性ソーダ水溶液を加えて撹拌した。
記(a)で得た(R)−2−(1−メチルヘキシル)オ
キシフルオロベンゼン 13.9g並びにクロロホルム
5orlrQを仕込み、室温撹拌下に臭素12.7g
を滴下し、さらに室温撹拌(GLCで原料の消失を確認
)した後、10%苛性ソーダ水溶液を加えて撹拌した。
有機層を水洗し、芒硝で脱水し、溶媒を留去した残留分
を減圧蒸留して(R)−4−(1−メチルヘキシル)オ
キシ−3−フルオロブロムベンゼン 14.2g(74
,1%)を得た。
を減圧蒸留して(R)−4−(1−メチルヘキシル)オ
キシ−3−フルオロブロムベンゼン 14.2g(74
,1%)を得た。
b、p98〜110℃10.3 mmHg反応器に4
−ヒドロキシ−4′−ブロムビフェニル15g、オクチ
ルブロマイド149.炭酸カリ’7A 169並び4
:、MEK 100*ffを仕込み、8時間(GLC
で原料の消失を確認)撹拌還流した。反応液を濾過して
固形物を除いた濾液を濃縮して得られた残留分をアセト
ンで再結晶して4−オクチルオキシ−4′−ブロムビフ
ェニル189(90%)を得た。
−ヒドロキシ−4′−ブロムビフェニル15g、オクチ
ルブロマイド149.炭酸カリ’7A 169並び4
:、MEK 100*ffを仕込み、8時間(GLC
で原料の消失を確認)撹拌還流した。反応液を濾過して
固形物を除いた濾液を濃縮して得られた残留分をアセト
ンで再結晶して4−オクチルオキシ−4′−ブロムビフ
ェニル189(90%)を得た。
成
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて上記(C)で得た4−オクチルオ
キシ−4′−ブロムビフェニル 4.3gを用い、又、
(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替えて上記(
b)で得た(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ
−3−フルオロブロムベンゼン 1,7gを用い、他は
実施例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘ
キシル)オキシ−3−フルオロ−4#−オクチルオキシ
−p−ターフェニル0.479 (16%)を得た。
ゼン3.4gに替えて上記(C)で得た4−オクチルオ
キシ−4′−ブロムビフェニル 4.3gを用い、又、
(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フル
オロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替えて上記(
b)で得た(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ
−3−フルオロブロムベンゼン 1,7gを用い、他は
実施例4と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘ
キシル)オキシ−3−フルオロ−4#−オクチルオキシ
−p−ターフェニル0.479 (16%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で490に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で490に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 13
実施例12(d)における4−オクチルオキシ−4′−
ブロムビフェニル4.39に替工て4−へブチル−4′
−ブロムビフェニル 3.9gを用い、他は実施例12
と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘキシル)
オキシ−3−フルオロ−41−へブチル−p−ターフェ
ニル1.79 (62,1%)を得た。
ブロムビフェニル4.39に替工て4−へブチル−4′
−ブロムビフェニル 3.9gを用い、他は実施例12
と同様に操作して(R)−4−(1−メチルヘキシル)
オキシ−3−フルオロ−41−へブチル−p−ターフェ
ニル1.79 (62,1%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で460に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で460に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 14
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて実施例12(b)で得うれる(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3−フルオロ
ブロムベンゼン3.49を用い、又、(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2.09に替工て実施例6(b)で得ら
れる4−オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル2.2gを用い、他は実施例4と同様に操作して
(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3,3′
−ジフルオロ−4#−オクチル−p−ターフェニル1.
3g (43,6%)を得た。
ゼン3.4gに替えて実施例12(b)で得うれる(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3−フルオロ
ブロムベンゼン3.49を用い、又、(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2.09に替工て実施例6(b)で得ら
れる4−オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフ
ェニル2.2gを用い、他は実施例4と同様に操作して
(R)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3,3′
−ジフルオロ−4#−オクチル−p−ターフェニル1.
3g (43,6%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で492に分子イオンピークが認め
られI;こと、並びに用いた原料からみて、得られた物
質が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で492に分子イオンピークが認め
られI;こと、並びに用いた原料からみて、得られた物
質が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 15
実施例4(c)における(S)−2−メチルブチルブロ
マイド 6.8gに替えてオクチルブロマイド5.2g
を用い、他は実施例4と同様に操作し、後処理を行って
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶離液へキサン)で精製し4−オクチルオキシ−2
′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル6.39 (8
8,7%)ヲ得り。
マイド 6.8gに替えてオクチルブロマイド5.2g
を用い、他は実施例4と同様に操作し、後処理を行って
得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶離液へキサン)で精製し4−オクチルオキシ−2
′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル6.39 (8
8,7%)ヲ得り。
合成
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて実施例12(b)で得られる(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3−フルオロ
ブロムベンゼン3.4gヲ用い、又、(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2gに替工て上記(a)で得た4−オク
チルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
2.2gヲ用い、他ハ実施例4と同様に操作して(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3,3′−ジ
フルオロ−4#−オクチルオキシーp−ターフェニル
0.59 (17%)を得た。
ゼン3.4gに替えて実施例12(b)で得られる(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3−フルオロ
ブロムベンゼン3.4gヲ用い、又、(S)−4−(2
−メチルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロ
ムビフェニル 2gに替工て上記(a)で得た4−オク
チルオキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
2.2gヲ用い、他ハ実施例4と同様に操作して(R
)−4−(1−メチルヘキシル)オキシ−3,3′−ジ
フルオロ−4#−オクチルオキシーp−ターフェニル
0.59 (17%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で508に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で508に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 16
反応器に4−ヒドロキシ−4′−ブロムビフェニル1.
19.2−ブタノン20raQ 、炭酸カリウム1.2
g及び(S)−4−メチルヘキシルブロマイド0.95
9を仕込み、TLCで原料が消失するまで撹拌還流した
。10時間を要した。反応液を濾過して固形物を除き、
濾液を濃縮して得られる残留物を減圧乾燥しく5)−4
−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−ブロムビフェ
ニル1.4g(93%)ヲ得た。
19.2−ブタノン20raQ 、炭酸カリウム1.2
g及び(S)−4−メチルヘキシルブロマイド0.95
9を仕込み、TLCで原料が消失するまで撹拌還流した
。10時間を要した。反応液を濾過して固形物を除き、
濾液を濃縮して得られる残留物を減圧乾燥しく5)−4
−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−ブロムビフェ
ニル1.4g(93%)ヲ得た。
GLC96%
(b) Ca。H81べ=ΣB「の合成実施例1(a
)において、4−ペンチルアニリンに替えて4−デシル
アニリンを用い、他は実施例1と同様に操作して4−デ
シルブロムベンゼン48.49(38%)を得た。
)において、4−ペンチルアニリンに替えて4−デシル
アニリンを用い、他は実施例1と同様に操作して4−デ
シルブロムベンゼン48.49(38%)を得た。
b、 p136〜141’o / 0.4 mmHg合
成 反応器にマグネシウム末0.359とヨウ素の小片を仕
込み、これに上記(b)で得た4−デシルブロムベンゼ
ン 4gのTHF 10m12溶液の少量を加え、発泡
して反応を開始させた。次いで残りの前記THF溶液を
還流を保つように撹拌下に滴下し、滴下後2時間還流撹
拌し、グリニヤール試薬を作成した。別の容器にジクロ
ルビストリフェニルホスフィンパラジウA(C(2tP
d(PPhs)z)50IIg及びTHF3+m(+を
仕込み、これにジイソブチルアルミニウムハイドライド
((iso−CaHs)xAI2H)の1Mヘキサン溶
液0.1mffを加え、次いで上記(a)で得た(S)
−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−ブロムビ
フェニル1.4gのTHF 5mff溶液を加え、6
0℃に昇温後、先に得たグリニヤール試薬を滴下し滴下
後2時間熟成した。反応液を水冷希塩酸に注加し、ベン
ゼンで抽出した後、飽和食塩水で洗液が中性になるまで
洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留物をヘ
キサンで処理し、ヘキサン不溶物をアセトンで再結晶し
て(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4#−
デシル−p−ターフェニル 0.2g(11%)を得た
。
成 反応器にマグネシウム末0.359とヨウ素の小片を仕
込み、これに上記(b)で得た4−デシルブロムベンゼ
ン 4gのTHF 10m12溶液の少量を加え、発泡
して反応を開始させた。次いで残りの前記THF溶液を
還流を保つように撹拌下に滴下し、滴下後2時間還流撹
拌し、グリニヤール試薬を作成した。別の容器にジクロ
ルビストリフェニルホスフィンパラジウA(C(2tP
d(PPhs)z)50IIg及びTHF3+m(+を
仕込み、これにジイソブチルアルミニウムハイドライド
((iso−CaHs)xAI2H)の1Mヘキサン溶
液0.1mffを加え、次いで上記(a)で得た(S)
−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4′−ブロムビ
フェニル1.4gのTHF 5mff溶液を加え、6
0℃に昇温後、先に得たグリニヤール試薬を滴下し滴下
後2時間熟成した。反応液を水冷希塩酸に注加し、ベン
ゼンで抽出した後、飽和食塩水で洗液が中性になるまで
洗浄し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し、残留物をヘ
キサンで処理し、ヘキサン不溶物をアセトンで再結晶し
て(S)−4−(4−メチルヘキシル)オキシ−4#−
デシル−p−ターフェニル 0.2g(11%)を得た
。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で484に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で484に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 17
実施例16(C)において、4−デシルブロムベンゼン
4gに替えて実施例1 (a)で得られる4−ペンチ
ルブロムベンゼン3.069を用い、他ハ実施例16と
同様に操作して(S)−4−(4−メチルヘキシル)オ
キシ−4“−ペンチル−p−9−フェニル0.419
(25%)を得た。
4gに替えて実施例1 (a)で得られる4−ペンチ
ルブロムベンゼン3.069を用い、他ハ実施例16と
同様に操作して(S)−4−(4−メチルヘキシル)オ
キシ−4“−ペンチル−p−9−フェニル0.419
(25%)を得た。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で414に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で414に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 18
反応器にp−ターフェニル 5.7g及び塩化メチレン
40mQを仕込み、撹拌下に0℃で無水塩化アルミニ
ウム 49を加え、次いでデカノイルクロライド5.2
gの塩化メチレン 10+xff溶液を滴下し、滴下後
5時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、充分に撹拌
した後、不溶物を濾取し、水洗し、乾燥して4−デカノ
イル−p−ターフェニル6.8g(71%)を得た。
40mQを仕込み、撹拌下に0℃で無水塩化アルミニ
ウム 49を加え、次いでデカノイルクロライド5.2
gの塩化メチレン 10+xff溶液を滴下し、滴下後
5時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、充分に撹拌
した後、不溶物を濾取し、水洗し、乾燥して4−デカノ
イル−p−ターフェニル6.8g(71%)を得た。
HPLC93,3%
反応器に上記(a)で得た4−デカノイル−p−ターフ
ェニル 6.89.ジエチレングリコール5Q+mff
、 80%抱水ヒドラジン3.49及び、88%苛性カ
リ 1.89の水 4m12溶液を仕込み、撹拌下に1
30°Cで5時間、次いで水を留去させながら昇温し、
210’Oで3時間反応([料の消失をTLCで確認)
した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水
洗し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し残留物をTHF
で再結晶して4−デシル−p−ターフェニル5.1g(
77,6%)を得た。
ェニル 6.89.ジエチレングリコール5Q+mff
、 80%抱水ヒドラジン3.49及び、88%苛性カ
リ 1.89の水 4m12溶液を仕込み、撹拌下に1
30°Cで5時間、次いで水を留去させながら昇温し、
210’Oで3時間反応([料の消失をTLCで確認)
した。反応液を希塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水
洗し、芒硝で脱水した後、溶媒を留去し残留物をTHF
で再結晶して4−デシル−p−ターフェニル5.1g(
77,6%)を得た。
HPLC97,3%
(c) C+oHu−〈=〉i〈=〉−ぐつ−COC
Hs (7) 合成反応器に上記(b)で得た4−デシ
ル−p−ターフェニル 5g及び塩化メチレン 30m
12を仕込み、撹拌下に0℃で無水塩化アルミニウム2
.29を加え、次いでアセチルクロライド1.3gの塩
化メチレン l O+mQ溶液を滴下した。滴下後、原
料の消失するまで(TLCで確認)同温度で撹拌反応し
た。6時間を要した。反応液を氷/希塩酸に注加し、析
出物を濾取し、水洗した。この物と、濾液の塩化メチレ
ン層を水洗した後、芒硝で脱水し、溶媒を留去して得ら
れる残留物とを合わせ、THFで再結晶して4−アセチ
ル−4#−デシル−p−ターフェニル4.4g(78%
)を得た。
Hs (7) 合成反応器に上記(b)で得た4−デシ
ル−p−ターフェニル 5g及び塩化メチレン 30m
12を仕込み、撹拌下に0℃で無水塩化アルミニウム2
.29を加え、次いでアセチルクロライド1.3gの塩
化メチレン l O+mQ溶液を滴下した。滴下後、原
料の消失するまで(TLCで確認)同温度で撹拌反応し
た。6時間を要した。反応液を氷/希塩酸に注加し、析
出物を濾取し、水洗した。この物と、濾液の塩化メチレ
ン層を水洗した後、芒硝で脱水し、溶媒を留去して得ら
れる残留物とを合わせ、THFで再結晶して4−アセチ
ル−4#−デシル−p−ターフェニル4.4g(78%
)を得た。
HPLC99,4%
(d) CIIIH!+−〈7 z 7 S 7
0Hの合成反応器に上記(C)で得た4−アセチル−4
#デシル−p−ターフェニル 2g及び塩化メチレン2
0mffを仕込み、室温撹拌下に、88%ギ[89、無
水酢酸 3g及び濃硫酸 l攬Qを順次加え、更に35
%過酸化水素水 3gを14°Cで滴下した。
0Hの合成反応器に上記(C)で得た4−アセチル−4
#デシル−p−ターフェニル 2g及び塩化メチレン2
0mffを仕込み、室温撹拌下に、88%ギ[89、無
水酢酸 3g及び濃硫酸 l攬Qを順次加え、更に35
%過酸化水素水 3gを14°Cで滴下した。
滴下後、TLCで原料が消失するまで適宜35%過酸化
水素水を加えながら、40℃で撹拌反応させた。反応液
を氷水に注加し、塩化メチレン層を分取し、芒硝で脱水
し、溶媒を留去して残留分(4−アセチルオキシ−4#
−デシル−p−ターフェニル)を4g得た。この残留分
4g、エタノール150mQ及び85%苛性カリ19の
水2vaQ溶液を反応器に仕込み、13時間撹拌還流し
た。反応液を水に注加し、液性を塩酸酸性とした後、エ
ーテルで抽出し、水洗し、芒硝で脱水し、溶媒を留去後
、残留分をヘキサンで再結晶して4−ヒドロキシ−4“
−デシル−p−ターフェニル1.2g(63%)を得た
。
水素水を加えながら、40℃で撹拌反応させた。反応液
を氷水に注加し、塩化メチレン層を分取し、芒硝で脱水
し、溶媒を留去して残留分(4−アセチルオキシ−4#
−デシル−p−ターフェニル)を4g得た。この残留分
4g、エタノール150mQ及び85%苛性カリ19の
水2vaQ溶液を反応器に仕込み、13時間撹拌還流し
た。反応液を水に注加し、液性を塩酸酸性とした後、エ
ーテルで抽出し、水洗し、芒硝で脱水し、溶媒を留去後
、残留分をヘキサンで再結晶して4−ヒドロキシ−4“
−デシル−p−ターフェニル1.2g(63%)を得た
。
合成
反応器に上記(d)で得た4−ヒドロキシ−4“/7
20aL炭酸カリウム0.29及び(S)−1−メチル
へキシルトシレート 0.359を仕込み、17時間撹
拌還流した。反応液を吸引濾過して固形物を除き、濾液
を濃縮し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン/ベンゼン−5/l)で精製して(R)−
4−(1−メチルヘキシル)オキシ−4“−デシル−p
−ターフェニル0.139 (27%)を得を二。
20aL炭酸カリウム0.29及び(S)−1−メチル
へキシルトシレート 0.359を仕込み、17時間撹
拌還流した。反応液を吸引濾過して固形物を除き、濾液
を濃縮し、残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘキサン/ベンゼン−5/l)で精製して(R)−
4−(1−メチルヘキシル)オキシ−4“−デシル−p
−ターフェニル0.139 (27%)を得を二。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で484に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で484に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 19
CH。
(a ) Ct Ha CH(CHり! COOHの
合成本 反応器に過マンガン酸カリ 169.水300+*12
及−デシルーp−ターフェニル 0.49.2−ブタび
85%苛性カリ 2gを仕込み、室温撹拌下に(S)−
4−メチルヘキサノール10gを滴下し、滴下後4時間
撹拌反応させた。反応液を吸引濾過して固形物を除き、
濾液をエーテルで抽出し、水層を分取して塩酸酸性とし
た後、クロロホルムで抽出し、芒硝で脱水し、溶媒を留
去して残留分((S)−4−メチルヘキサン酸) 6.
59 (59%)を得た。
合成本 反応器に過マンガン酸カリ 169.水300+*12
及−デシルーp−ターフェニル 0.49.2−ブタび
85%苛性カリ 2gを仕込み、室温撹拌下に(S)−
4−メチルヘキサノール10gを滴下し、滴下後4時間
撹拌反応させた。反応液を吸引濾過して固形物を除き、
濾液をエーテルで抽出し、水層を分取して塩酸酸性とし
た後、クロロホルムで抽出し、芒硝で脱水し、溶媒を留
去して残留分((S)−4−メチルヘキサン酸) 6.
59 (59%)を得た。
GLC98,6%
成
反応器に実施例18(d)で得られる4−ヒドロキシ−
4“−デシル−p−ターフェニル 0.5g。
4“−デシル−p−ターフェニル 0.5g。
脱水クロロホルム 20mL 4−ジメチルアミノピリ
ジン0.179.ジシクロへキシルカルボジイミド(D
CC) 0.39及び(a)で得た(S)−4−メチル
ヘキサン酸0.2gを加え、室温で16時間撹拌反応さ
せた。反応液を濾過して固形物を除き、濾液を水洗し、
希塩酸で洗い、水洗した後、芒硝で脱水し、溶媒を留去
した残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン/ベンゼン−2/1−hl/1)で精製して(S
)−4−デシル−4”−(4−メチルヘキサノイル)オ
キシ−p−ターフェニル0.449 (69%)を得た
。
ジン0.179.ジシクロへキシルカルボジイミド(D
CC) 0.39及び(a)で得た(S)−4−メチル
ヘキサン酸0.2gを加え、室温で16時間撹拌反応さ
せた。反応液を濾過して固形物を除き、濾液を水洗し、
希塩酸で洗い、水洗した後、芒硝で脱水し、溶媒を留去
した残留分をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘ
キサン/ベンゼン−2/1−hl/1)で精製して(S
)−4−デシル−4”−(4−メチルヘキサノイル)オ
キシ−p−ターフェニル0.449 (69%)を得た
。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で498に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で498に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 20
反応器に実施例18(c)で得られる4−アセチル−4
#−デシル−p−ターフェニル 1.09並びに1.4
−ジオキサン40tQを仕込み、16〜18℃で撹拌下
に、臭素12gと20%苛性ソーダ水溶液622から調
製した次亜臭素酸ソーダ水溶液12rRaを滴下後、T
LCで原料スポットが消失するまで適宜次亜臭素酸ソー
ダ水溶液を添加し、40℃で撹拌反応した。反応液を希
塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水
した後、溶媒を留去し、残留分(4−デシル−p−ター
フェニル−4″−カルボン酸) 0.99 (90%)
を得た。
#−デシル−p−ターフェニル 1.09並びに1.4
−ジオキサン40tQを仕込み、16〜18℃で撹拌下
に、臭素12gと20%苛性ソーダ水溶液622から調
製した次亜臭素酸ソーダ水溶液12rRaを滴下後、T
LCで原料スポットが消失するまで適宜次亜臭素酸ソー
ダ水溶液を添加し、40℃で撹拌反応した。反応液を希
塩酸に注加し、ベンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で脱水
した後、溶媒を留去し、残留分(4−デシル−p−ター
フェニル−4″−カルボン酸) 0.99 (90%)
を得た。
の合成
反応器に上記(a)で得た4−デシル−p−ターフェニ
ル−4“−カルボン酸0.3g並びに塩化チオニル4r
aQを仕込み、5時間撹拌還流後、ベンゼンを加えて減
圧下に蒸留して過剰の塩化チオニル並びにベンゼンを留
去した。得られた残留分(4−デシル−p−ターフェニ
ル−4#−カルボン酸クロライド)、 (S)−4−メ
チルヘキサノール0.169.ピリ9フQ、5m1l並
ヒにベンゼン10mffを別の反応器に仕込み、8時間
還流撹拌後、反応液を水に注加し、希アンモニア水を加
えて撹拌し、不溶物を除き、ベンゼン層を水洗し、芒硝
で脱水し、溶媒を留去して得られた残留分をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液ベンゼン/ヘキサン
−2/3)で精製しくS) −4−((4−メチルヘキ
シル)オキシフカルボニル−4#−デシル−p−ターフ
ェニル0.19(27%)を得た。
ル−4“−カルボン酸0.3g並びに塩化チオニル4r
aQを仕込み、5時間撹拌還流後、ベンゼンを加えて減
圧下に蒸留して過剰の塩化チオニル並びにベンゼンを留
去した。得られた残留分(4−デシル−p−ターフェニ
ル−4#−カルボン酸クロライド)、 (S)−4−メ
チルヘキサノール0.169.ピリ9フQ、5m1l並
ヒにベンゼン10mffを別の反応器に仕込み、8時間
還流撹拌後、反応液を水に注加し、希アンモニア水を加
えて撹拌し、不溶物を除き、ベンゼン層を水洗し、芒硝
で脱水し、溶媒を留去して得られた残留分をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液ベンゼン/ヘキサン
−2/3)で精製しくS) −4−((4−メチルヘキ
シル)オキシフカルボニル−4#−デシル−p−ターフ
ェニル0.19(27%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で512に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で512に分子イオンビークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表1に示
す。
実施例 21
反応器に2−フルオロフェノール159、オクチルブロ
マイド25.9g、炭酸カリウム46.2g並びにシク
ロへキサノン 150m+(2を仕込み、120〜13
0℃で12時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベ
ンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥した後溶媒を留去
した。残留分並びにクロロホルム1001112を別の
反応器に仕込み、室温撹拌下、臭素44gを滴下し、さ
らに同温度で6時間撹拌した後着苛性ソーダ水溶液に注
加し撹拌した。
マイド25.9g、炭酸カリウム46.2g並びにシク
ロへキサノン 150m+(2を仕込み、120〜13
0℃で12時間撹拌した。反応液を希塩酸に注加し、ベ
ンゼンで抽出し、水洗し、芒硝で乾燥した後溶媒を留去
した。残留分並びにクロロホルム1001112を別の
反応器に仕込み、室温撹拌下、臭素44gを滴下し、さ
らに同温度で6時間撹拌した後着苛性ソーダ水溶液に注
加し撹拌した。
クロロホルム層を水洗し、芒硝で脱水し、溶媒を留去し
た残留分を減圧蒸留して、4−オクチルオキシ−3−フ
ルオロブロムベンゼン 329(78,8%)を得た。
た残留分を減圧蒸留して、4−オクチルオキシ−3−フ
ルオロブロムベンゼン 329(78,8%)を得た。
b、p122〜130℃/ 0.3 m+aHgル2.
29(72%)を得た。
29(72%)を得た。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で504に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認゛した。
R及びMass分析で504に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認゛した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
実施例 22
実施例4(e)における4−才クチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−オクチルオ
キシ−3−フルオロブロムベンゼン3.6gを用い、又
、(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替えて実施
例12(c)で得られる4−オクチルオキシ−4′−ブ
ロムビフェニル 2.1gを用い、他は実施例4と同様
に操作して4.4′−ジオクチルオキシ−3−フルオロ
−p−ターフェニ実施例4(e)における4−オクチル
オキシブロムベンゼン3.4gに替えて実施例21(a
)で得られる4−オクチルオキシ−3−フルオロブロム
ベンゼン3.6gを用い、又、(S)−4−(2−メチ
ルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4’−フロムビフ
ェニル 2.0gに替えて、4−へブチル−4′−ブロ
ムビフェニル 2.0gを用い、他は実施例4と同様に
操作して4−オクチルオキシ−3−フルオロ−4#−へ
ブチル−p−ターフェニル0.48g(17%)を得た
。
ゼン3.4gに替えて上記(a)で得た4−オクチルオ
キシ−3−フルオロブロムベンゼン3.6gを用い、又
、(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−2′−フ
ルオロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替えて実施
例12(c)で得られる4−オクチルオキシ−4′−ブ
ロムビフェニル 2.1gを用い、他は実施例4と同様
に操作して4.4′−ジオクチルオキシ−3−フルオロ
−p−ターフェニ実施例4(e)における4−オクチル
オキシブロムベンゼン3.4gに替えて実施例21(a
)で得られる4−オクチルオキシ−3−フルオロブロム
ベンゼン3.6gを用い、又、(S)−4−(2−メチ
ルブチル)オキシ−2′−フルオロ−4’−フロムビフ
ェニル 2.0gに替えて、4−へブチル−4′−ブロ
ムビフェニル 2.0gを用い、他は実施例4と同様に
操作して4−オクチルオキシ−3−フルオロ−4#−へ
ブチル−p−ターフェニル0.48g(17%)を得た
。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。またI
R及びMass分析で474に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で474に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
実施例 23
3.3′−ジフルオロ−p−ターフェニル 0.429
(13,9%)を得た。
(13,9%)を得た。
この物の純度はHPLCで98%以上であった。またI
R及びMass分析で522に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で522に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
実施例 24
実施例4(e)における4−オクチルオキシブロムベン
ゼン3.4gに替えて実施例21(a)で得られる4−
オクチルオキシ−3−フルオロブロムベンゼン3.6g
を用い、又(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−
2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替
えて、実施例15(a)で得られる4−オクチルオキシ
−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.2g
を用い、他は実施例4と同様に操作して4,4#−ジオ
クチルオキシ−実施例4(e)における4−オクチルオ
キシブロムベンゼン3.4gに替えて実施例21(a)
で得られる4−オクチルオキシ−3−フルオロブロムベ
ンゼン3.6gを用い、又、(S)−4−(2−メチル
ブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェ
ニル2.09に替えて、実施例6(b)で得られる4−
オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
2.2gを用い、他は実施例4と同様に操作して4−オ
クチルオキシ−3,3′−ジフルオロ−4“−オクチル
−p−ターフェニル1.09(32,6%)を得た。
ゼン3.4gに替えて実施例21(a)で得られる4−
オクチルオキシ−3−フルオロブロムベンゼン3.6g
を用い、又(S)−4−(2−メチルブチル)オキシ−
2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル2.0gに替
えて、実施例15(a)で得られる4−オクチルオキシ
−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル 2.2g
を用い、他は実施例4と同様に操作して4,4#−ジオ
クチルオキシ−実施例4(e)における4−オクチルオ
キシブロムベンゼン3.4gに替えて実施例21(a)
で得られる4−オクチルオキシ−3−フルオロブロムベ
ンゼン3.6gを用い、又、(S)−4−(2−メチル
ブチル)オキシ−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェ
ニル2.09に替えて、実施例6(b)で得られる4−
オクチル−2′−フルオロ−4′−ブロムビフェニル
2.2gを用い、他は実施例4と同様に操作して4−オ
クチルオキシ−3,3′−ジフルオロ−4“−オクチル
−p−ターフェニル1.09(32,6%)を得た。
この物の純度はHPLCで99%以上であった。また!
R及びMass分析で506に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
R及びMass分析で506に分子イオンピークが認め
られたこと、並びに用いた原料からみて、得られた物質
が目的物であることを確認した。
この物をメトラーホットステージFP−82にはさみ、
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
偏光顕微鏡下で相変化を観察した。その結果を表2に示
す。
時間を測定したところ180μsθC(測定温度100
℃。
℃。
印加電圧±25V 、 200Hz)であった。
実施例27
非カイラル物質でSmC相を有する、実施例24で得ら
れた化合物とカイラル物質である、実施例15で得られ
た化合物を、重量比90:10の割合で混合して液晶組
成物を作製した。この組成物は56〜104℃でSmC
本相亀甲し、又、この組成物を用いて実施例25と同様
にして、液晶素子を作製し、応答時間を測定したところ
300μ5ec(測定温度100℃、印加電圧±25V
、 200Hz)であった。
れた化合物とカイラル物質である、実施例15で得られ
た化合物を、重量比90:10の割合で混合して液晶組
成物を作製した。この組成物は56〜104℃でSmC
本相亀甲し、又、この組成物を用いて実施例25と同様
にして、液晶素子を作製し、応答時間を測定したところ
300μ5ec(測定温度100℃、印加電圧±25V
、 200Hz)であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1およびR^2は、それぞれ炭素原子数1〜18
の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、Y及びZは
、それぞれ、単結合、O、COO又はOCOを示し、X
_1、X_2及びX_3は、それぞれ、水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示す)で表されるp−ターフェニ
ル誘導体。 2)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか2つがフッ素原子であり、他が水素原子
である請求項1記載のp−ターフェニル誘導体。 3)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか2つが塩素原子であり、他が水素原子で
ある請求項1記載のp−ターフェニル誘導体。 4)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか1つがフッ素原子であり、他が水素原子
である請求項1記載のp−ターフェニル誘導体。 5)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか1つが塩素原子であり、他が水素原子で
ある請求項1記載のp−ターフェニル誘導体。 6)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のX_2がフッ素原子、又は塩素原子であり、他が
水素原子である請求項1記載のp−ターフェニル誘導体
。 7)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (R^1およびR^2は、それぞれ炭素原子数1〜18
の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基を示し、Y及びZは
、それぞれ、単結合、O、COO又はOCOを示し、X
_1、X_2及びX_3は、それぞれ、水素原子、フッ
素原子又は塩素原子を示す)で表されるp−ターフェニ
ル誘導体を少なくとも1種含有することを特徴とする液
晶組成物。 8)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか2つがフッ素原子であり、他が水素原子
である請求項7記載の液晶組成物。 9)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_3
の中のいずれか2つが塩素原子であり、他が水素原子で
ある請求項7記載の液晶組成物。 10)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_
3の中のいずれか1つがフッ素原子であり、他が水素原
子である請求項7記載の液晶組成物。 11)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_
3の中のいずれか1つが塩素原子であり、他が水素原子
である請求項7記載の液晶組成物。 12)一般式( I )におけるX_1、X_2及びX_
3の中のX_2がフッ素原子、又は塩素原子であり、他
が水素原子である請求項7記載の液晶組成物。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63216294A JP2655333B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 新規なp‐ターフエニル誘導体並びに液晶組成物 |
| EP89115920A EP0360042B1 (en) | 1988-09-01 | 1989-08-29 | p-Terphenyl derivatives and liquid crystalline compositions |
| DE89115920T DE68910453T2 (de) | 1988-09-01 | 1989-08-29 | p-Terphenylderivate und Flüssigkristall-Zusammensetzungen. |
| DE68919312T DE68919312T2 (de) | 1988-09-01 | 1989-08-29 | p-Terphenylderivate und Flüssigkristall-Zusammensetzungen. |
| EP89115921A EP0360043B1 (en) | 1988-09-01 | 1989-08-29 | p-Terphenyl derivatives and liquid crystalline compositions |
| US07/892,735 US5382380A (en) | 1988-09-01 | 1992-06-01 | P-terphenyl derivatives and liquid crystalline compositions |
| US08/157,339 US5494605A (en) | 1988-09-01 | 1993-11-24 | P-terphenyl derivatives and liquid crystalline compositions |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63216294A JP2655333B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 新規なp‐ターフエニル誘導体並びに液晶組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0267232A true JPH0267232A (ja) | 1990-03-07 |
| JP2655333B2 JP2655333B2 (ja) | 1997-09-17 |
Family
ID=16686283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63216294A Expired - Lifetime JP2655333B2 (ja) | 1988-09-01 | 1988-09-01 | 新規なp‐ターフエニル誘導体並びに液晶組成物 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5382380A (ja) |
| EP (2) | EP0360043B1 (ja) |
| JP (1) | JP2655333B2 (ja) |
| DE (2) | DE68919312T2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| WO1998013323A1 (en) * | 1996-09-25 | 1998-04-02 | Chisso Corporation | Substituted benzene derivative, liquid-crystal composition, and liquid-crystal display element |
| WO1998023562A1 (en) * | 1996-11-25 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | 3,3'-difluorobiphenyl derivatives, liquid crystal compositions, and liquid crystal display elements |
| US6579577B2 (en) | 1996-09-25 | 2003-06-17 | Chisso Corporation | Substituted benzene derivative, liquid crystal composition, and liquid crystal display element |
| JP2011016986A (ja) * | 2009-06-08 | 2011-01-27 | Chisso Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| WO2011040171A1 (ja) | 2009-09-30 | 2011-04-07 | チッソ株式会社 | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP2011084730A (ja) * | 2009-09-15 | 2011-04-28 | Chisso Corp | 液晶組成物および液晶表示素子 |
| KR20120003861A (ko) | 2009-03-16 | 2012-01-11 | 제이엔씨 주식회사 | 액정 조성물 및 액정 표시 소자 |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5271867A (en) * | 1989-08-23 | 1993-12-21 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal composition and liquid crystal device containing the same |
| JP2575885B2 (ja) * | 1989-08-23 | 1997-01-29 | シャープ株式会社 | 液晶組成物及びこれを含む液晶素子 |
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| US5417885A (en) * | 1993-08-03 | 1995-05-23 | Showa Shell Sekiyu Kabushiki Kaisha | Antiferroelectric liquid crystal compound |
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| GB9411233D0 (en) * | 1994-06-04 | 1994-07-27 | Central Research Lab Ltd | Liquid crystal compositions |
| GB2296253B (en) * | 1994-12-22 | 1998-11-25 | Merck Patent Gmbh | Nematic liquid crystal mixtures |
| DE19645248A1 (de) * | 1995-11-17 | 1997-05-22 | Merck Patent Gmbh | Chirale Dotierstoffe |
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