WO2003102707A1

WO2003102707A1 - Method for supplying gas while dividing to chamber from gas supply facility equipped with flow controller

Info

Publication number: WO2003102707A1
Application number: PCT/JP2003/000437
Authority: WO
Inventors: Kazuhiko Sugiyama; Nobukazu Ikeda; Kouji Nishino; Ryousuke Dohi; Toyomi Uenoyama
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Fujikin Inc
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Fujikin Inc
Priority date: 2002-06-03
Filing date: 2003-01-20
Publication date: 2003-12-11
Anticipated expiration: 2004-12-03
Also published as: US20050005994A1; IL160393A; KR20040024869A; EP1521154A1; US7059363B2; CN1543596A; CN100426169C; TW565756B; JP2004005308A; IL160393A0; KR100556195B1; JP3856730B2; CA2457986A1; TW200307863A

Description

明細書

流量制御装置を備えたガス供給設備からのチヤンバーへのガス分流供給方法技術分野 '

本発明は半導体製造装置等に於いて使用されるものであり、圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備から半導体製造用のチャンバ一へガスを自動的に分流させて供給する方法の改良に関するものである。

背景技術

半導体製造装置のチヤンバ一^ ·供給するガスの流量制御には、所謂圧力式流量制御装置が広く利用されている。

図 7はシリコン酸化膜を形成するためのチャンバ一 Cへ圧力式流量制御装置 F C Sを用いて処理用ガス Gを供給する場合の一例を示すものであり、真空ポンプ V pにより減圧されたチャンバ一 C内へ圧力式流量制御装置 F C Sを通して所定流量 Qの処理用ガス Gが供給され、ガス放出器 Dを通して支持装置 I上のウェハ一 Hへ流量 Qの処理用ガス Gが放出されている。

一方、前記圧力式流量制御装置 F C Sは、「臨界膨脹圧力条件である P i >約 2 X P ₂ の条件が保持されているとき、オリフィス Lを流通するガス流量 Qは、オリフィス上流側のガス圧力のみによって決まり、 Q ^ C P i ( Cはオリフイス Lの口径やガス温度により決まる定数）なる関係式で表わされる。」ことを利用するものであり、コントロールバルブ C Vにより前記圧力を調整することにより、オリフィス下流側の流量 Qを所望の設定値に保持するようにしている。尚、図 7に於いて P _Q は処理用ガス Gの供給圧力、 P _M は圧力計、 Fはフィルタ、 C P Uは演算ユニット、 Q sは流量設定の入力信号、 Q eは制御流量の出力信号である。

また、圧力式流量制御装置そのものは特開平 8— 3 3 8 5 4 6号ゃ特開平 1 1 - 6 3 2 6 5号等により公知であるため、ここではその詳細な説明は省略する。上記圧力式流量制御装置 F C Sでは、前述の通り「オリフィス上流側のガス圧力 P i とオリフィス下流側のガス圧力 P ₂ とが前記臨界膨脹圧力条件の枠内にあること」が必須条件となっており、例えば、オリフィス上流側のガス圧力に比較してオリフィス下流側のガス圧力 P ₂ の上昇が大きいと、臨界膨 B長圧力条件が崩れて、流量制御が不能になると云う難点がある。

また、オリフィス下流側の圧力 P₂ が上昇し、 /P₂ が前記臨界膨脹圧力条件の限界値に近づいてくると、現実には流量制御精度が低下する。そのため、オリフィス下流側の圧力 P 2 が上昇すると、使用可能な流量制御範囲が制約されると云う難点、がある。

このように、圧力式流量制御装置によるガス流量の制御には、オリフィス Lの下流側の圧力 P ₂ が上昇したときに様々な問題を生ずると云う難点があるものの、当該圧力式流量制御装置 F C Sを用いたチャンバ一へのガス供給方法は、高精度なガス流量制御を簡単に行なえるうえ、ガス供給源に高精度な圧力調整装置を別に設ける必要が無いためガス供給設備費の大幅な引下げが可能となり、優れた実用的効用を有するものである。

—方、近年半導体製造に用いるシリコンウェハの外径が大きくなりつつあり、例えばウェハー Hの外径が 300 mm φになれば、ウェハーの中心部（センタ一部分）と外周縁部（エッジ部分）への処理ガスの供給量を夫々個別に調整する必要が生じてくる。

これに対応する方策として、前記センター部分への処理ガスの供給とエッジ部分への処理ガスの供給を図 8に示すように夫々別個の供給ライン G 1^、 GL₂ を用いて行なうようにすれば、圧力式流量制御装置 F C Sを用いたガス供給ライン GLi、 GL₂ であっても、ガス供給源 Sから所定の流量、 Q₂ でもって処理ガス Gを問題なく供給することが出来る。

し力し、一基のチャンバ一 Cに対して、夫々独立した圧力式流量制御装置 FC S! 、 FCS₂ を有するガス供給ライン G 、 GL₂ を用いてガスの供給を行なうことは、半導体製造設備の大形化や設備費の高騰を招くだけでなく、メンテナンス等にも手数が掛かることになり、好ましい方策でない。

そのため、図 9に示すように、一基の圧力式流量制御装置 FCSから二系統のガス供給ライン G 1^、 GL₂ を分岐させ、各ガス供給ライン、 GL₂ に設けた流量制御弁、 V₂ を調整することにより、各ガス供給ライン G 1^、 GL₂ の流量、 Q₂ を制御するようにした方式が望ましいことになる。

—方、現在汎用されているガス供給設備の圧力式流量制御装置 FCSには、一般にォリフィス下流側圧力 P₂ が 0〜100T。 _{r r}の範囲で最適状態の使用が可能な流量制御特性のものが多く使用されている。そのため、これ等の圧力式流量制御装置 FCSに於いては、前述したようにオリフィス下流側圧力 P ₂ が約 1 0 OTo r rを超えると、流量制御精度の点から流量制御範囲が大幅に制限されることになる。

例えば、いま図 9に於いて、流量 Q= 300 S CCMの処理ガス Gを供給ライン及び供給ライン GL₂ を通して =130 S C CM、 Q₂ = 170 S CCMの流量でチャンバ一 Cへ供給するとする。もしも、ガス供給設備が圧力式流量制御装置 FCSを用いないガス供給設備であれば、先ず両制御弁 V 、V₂ を閉にし、次に流量制御装置の処理ガス流量を Q= 300 SC CMに設定したあと、制御弁、 v₂ の開度を調整して、自動的又は流量計（図示省略）を参照しつつ各流量、 Q₂ を設定値に調整する方法を採用することができる。

し力し、ガス供給設備の流量制御装置に、図 9のように圧力式流量制御装置 F CSが用いられている場合には、両制御弁、 V₂ を全閉にした状態で先ず圧力式流量制御装置 FCSの流量 Q (300 SCCM) を設定し、その後、両制御弁 V 、 V₂ の開度を調整して各分岐供給ライン GLi 、 GL₂ の流量 (1 30 SCCM) 及び Q₂ (170 SCCM) を高精度でもって迅速に調整することは困難である。

何故なら、両制御弁 V 、 V₂ の開度が低いときには両制御弁 V 、 V₂ の上流側圧力 P ₂ が上昇し、 ZP₂ の値が前記圧力式流量制御装置 FCSの限界値から外れる可能性があり、その結果、圧力式流量制御装置 FCSによる制御流量 Qそのものが、設定流量（Q=300 SCCM) から大きく異なる流量値となるからである。

発明が解決しょうとする課題

本発明は、従前の圧力式流量制御装置 F C Sを備えたガス供給設備からのチヤンバー Cへのガスの分流供給方法に於いて、圧力式流量制御装置 FC Sにより調整された一定流量 Qのガス Gを、所定の流量、 Q₂ でもって分岐供給ライン GL, 、 GL₂ へ分流させる場合に生ずる上述の如き問題、即ち、 ①単に各分岐供給ライン GLi 、 GL₂ に介設した流量制御弁、 V₂ を全閉（又は深力絞り）状態から順次開放して行くと云う制御方法では、圧力式流量制御装置 FCS による制御流量 Qそのものが設定値から大きく外れた流量となる可能性があり、流量 Qのみならず流量、 Q₂ の調整も著しく困難になること、及び②万一うまく、 Q₂ の調整ができたとしても、流量制御精度が低かったり、或いは流量制御に時間が掛かり過ぎること、等の問題を解決せんとするものであり、圧力式流量制御装置 F C Sを備えたガス供給装置からのガスの分流供給であっても、高精度で迅速に、所定流量 Qのガスを任意の流量比 /Q₂ でもって分岐供給できるようにした、圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備からのチヤンバーへのガス分流供給方法を提供するものである。

発明の開示

本願発明者等は上記課題を解決するため、従前のこの種ガス供給設備からのガスの分流供給制御に於ける常とう手段、即ち分岐ラインに介設した各流量制御弁

V, _N v₂ を全閉又は深か絞り状態から順次開放して行くと云う方策から発想を全く転換し、両方の流量制御弁 V 、 v₂ を全開又は全開に近い状態としたところから両流量制御弁、 V₂ を閉鎖方向へ向けて段階的に開度制御することにより、圧力式流量制御装置 F C Sによつて総流量 Qを高精度で流量制御しつつ、各分岐供給ライン G 1^ 、 GL₂ の流量、 Q₂ を迅速且つ高精度で所望の流量比 /Q₂ に調整することを着想した。そして、この着想に基づいて多数のガス分流試験を実施した。

本願発明は上記着想及び分流試験の結果を基にして創作されたものであり、請求項 1の発明は、流量供給装置を備えたガス供給設備 1から所定流量 Qのガス G を複数の分岐供給ライン G 、 GL₂ 及びその端末に固定したシャワープレート 3、 4を通して、減圧されたチャンバ一 C内へ所定の流量比 /Q₂ でもつて分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ライン G 、 GL₂ に圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ を介設すると共に、流量の大きい方の圧力式分流量制御器のコント口ールバルブ C Vの開度を全開とする分流量制御盤 F R Cからの初期流量設定制御信号により、前記両分流量制御器、 FV₂ の開度制御を開始し、前記コントロールバルブ CVの下流側圧力 P ₃ ' 、 P₃ " を夫々調整することによりシャワープレート 3、 4に設けたオリフィス孔 3 a、 4 aを通して、式 =d P₃ ' 及び Q₂ =C₂ P₃ " (但し、 C₂ はオリフィス孔 3 a、 4 aの断面積ゃォリフィス上流側のガス温度により決まる定数）により表わされる所望の分流量、 Q₂ でもって前記チャンバ一 C内へ総量 + Q ₂ のガスを分流供給することを発明の基本構成とするものである。

請求項 2の発明は、請求項 1の発明に於いて、 CPUを備えた分流量制御盤 F RCに、起動 '停止信号入力端子 T ₂ 、初期流量設定比信号入力端子 T ₃ 、シャワープレートの組合せ識別信号入力端子 T₄ 、各圧力式分流制御器 FVi 、 FV₂ の制御流量信号出力端子 T 7 · T₇₂、各圧力式分流制御器 FVi 、 FV₂ の流量設定入力信号と制御流量出力信号との偏差により信号を発信する入■出力異常警報出力端子 T₉₁、 Τ ₉₂を設ける。そして、前記シャワープレート 3、 4の複数の組合せについて、各シャワープレート 3、 4を流量比 /Qでもって総量 Q = Q₁ +Q₂ のガス Gが流通する際の各圧力式分流制御器 FV 、 FV₂ のコントロールバルブ CVの下流側圧力 P ₃ ' 、 P₃ " を、前記 =d P₃ ' 及び Q₂ =C₂ P₃ " の演算式によって複数の総流量 Qについて流量比 /Q₂ をパラメータとして算出し、流量の大きい方の圧力式分流量制御器 FVi への初期流量設定信号をコントロールバルブ全開時の入力信号電圧 V。とするとともに、他方の圧力式分流量制御器 FV ₂ の初期流量設定信号を前記 P ₃ " /P₃ ' XV。とする。次に、各シャワープレート 3、 4の組合せの識別信号を前記入力端子 4 へ、また前記両圧力式分流量制御器 FV 、 FV₂ への初期流量設定信号の比 P ₃ ! /P₃ "を初期流量比設定信号入力端子 T ₃ へ夫々入力したあと、両圧力式分流量制御器 FV 、 FV₂ の各コントロールバルブ CVを全開状態にした状態でガス供給設備 1からのガス供給流量 Qを所望流量に設定する。その後、前記起動 (スタート）信号入力端子 T₂ へ起動信号を入力し（ステップ 5) 、起動信号の入力が確認される（ステップ 6) と、前記シャワープレートの組合せ識別信号及び前記初期流量設定比信号の存否を確認し (ステップ 7) 、その後前記初期流量設定比信号から求めた両圧力式分流量制御器 FV 、 FV₂ の初期流量設定信号 V。、 V。 XP₃ " ZP₃ ' をステップ的に同比率で増加させ（ステップ 8、 1 0) 、その時の流量設定入力信号と制御流量出力信号との偏差をチェックし（ス、前記入 ·出力偏差が設定範囲内になれば、各分流量制御器、 FV₂ への流量設定信号を入 ·出力偏差が設定範囲内になる一段前のステップ変化時の流量設定信号の値に戻し（ステップ 1 1) 、弓 Iき続き各分流量制御器、 FV₂ への流量設定信号を同比率でランプ変化させる（ステップ 13、 14) と共に入 ·出力信号の偏差を連続的にチェックし（ステップ 15) 、ランプ変化時の入 ·出力信号の偏差が設定範囲内になれば、その時の流量設定信号を各分流量制御器 F V 1 、 F V ₂ への流量設定信号として固定■保持し（ステップ 16 )、当該各流量設定信号の下でガス Gの分流供給をするようにしたものである。請求項 3の発明は、請求項 2の発明に於いて、流量設定信号のステップ変化を、初期流量設定値（100%) から 0. 5秒毎に 50 %、 30 %、 20 %、 10 % 及び 5 %の順にステップ的に両流量設定信号を同比率で増加させるものとしたものである。

請求項 4の発明は、請求項 2の発明に於いて流量設定信号のランプ変化を、 0. 5秒間に両流量設定信号の 10%を同比率で増加させるものとしたものである。請求項 5の発明は、請求項 2の発明に於いて、入 ·出力の偏差がある一定時間以上連続して無くなれば、その時の各流量設定信号を各分流量制御器、 F V₂ の流量設定信号として固定 '保持するようにしたものである。

請求項 6の発明は、請求項 1又は請求項 2の発明に於いて、圧力式分流量制御器 F 、 F V₂ の下流側のガス圧を 100 T o r r以下に、総流量 Qを 100 s e c m〜 1600 s c c mに、分流流量比 /Q₂ を 1 4、 1/2、 1/ 1、 2/1, 3 1及び 4Zlとするようにしたものである。

請求項 7の発明は、請求項 1又は請求項 2の発明に於いて、分流流量又は Q₂ の大きい方の圧力式分流量制御器 FVi 又は FV₂ の初期流量設定信号をそのコントロールバルブ CVを全開にするときの電圧入力とすると共に、当該コント口ールバルブ C Vの全開時の制御電圧入力を 0 Vに、また制御電圧範囲を 0〜 5 Vとするようにしたものである。

また、請求項 8の発明は、請求項 2の発明に於いて、分流量制御盤 FRCの各端子の入 ·出力信号をシリアル通信による入■出力信号とするようにしたものである。

図面の簡単な説明図 1は、本発明に係る流量制御装置を備えたガス供給装置 ί'

のガス分流供給方法を説明する全体系統図である。

図 2は、圧力式分流量制御器 FVi の構成図である。

図 3は、圧力式分流量制御器 FVi の流量設定信号と流量制御圧力及び流量出力信号の関係を示す特性曲線である。

図 4は、図 1の分流供給に於いて、使用するシャワープレート 3、 4の組合せをパターン 1とした場合の、両圧力式分流量制御器の流量制御圧力（P₃ ' 、 P₃ 〃 ) と全流量 Qと分流比 /Q₂ との関係を示す線図（計算値）である。図 5は、使用するシャワープレート 3、 4の組合せをパターン 2とした場合の、図 4と同一の関係を示す線図（計算値）である。

図 6は、チヤンバーへのガスの分流供給方法を説明する圧力式流量制御装置によるガスの分流制御のフローチヤ一トである。

図 7は、従前の圧力式流量制御装置 F C Sを用いたチヤンバー Cへの処理ガスの供給方法を示す説明図である。

図 8は、単独のガス供給源 Sから複数の圧力式流量制御装置を用

一 Cへ処理ガスを分流供給する場合の、説明図である。

図 9は、圧力式流量制御装置を備えたガス供給源から、制御弁を用いバー Cへ処理ガスを分流供給する場合の説明図である。

符号の説明

1はガス供給設備、 Sは処理用ガス供給源、 V。はガス元弁、 FCSは圧力式流量制御装置、 Gは処理用ガス、 2は分流量制御装置、 FVi は圧力式分流量制御器 (No 1分流量制御器）、 FV₂ は圧力式分流量制御器（No 2分流量制御器）、 FRCは分流量制御盤、 Cはチャンバ一、 Dはガス放出器、 D cはセンタ一部用ガス放出器、 3はセンター部用シャワープレート、 3 aはオリフィス孔、 D eはエッジ用ガス放出器、 4はエッジ部用シャワープレート、 4 aはオリフィス孔、 GLi はセンター部用分岐供給ライン、 GL₂ はエッジ部用分岐供給ライン、 Qは総ガス流量、は分流流量、 Q₂ は分流流量、 ELi ■ EL₂ は信号接続ライン、 Ί は電源入力端子（DC 15V) 、 Τ₂ は起動'停止信号入力端子、 Τ₃ は初期の流量設定比信号の入力端子（4ビット入力）、 Τ₄ はシャワープレートの組合せ識別信号入力端子（2ビット）、 T₅ は自動零点調整用信号の入力端子、 Τ₆₁ · Τ₆₂は自動零点設定エラー信号の出力端子、 Τ₇₁ · Τ₇₂は制御流量信号出力端子、 Τ₈₁■ Τ₈₂は流量設定信号入力端子、 Τ₉₁■ Τ₉₂は入■出力異常警報出力端子、 5はスタート（起動）のステップ、 6はスタート信号の確認のステップ、 7はパターン識別信号及び初期流量設定信号の確認のステップ、 8 は流量設定信号のステップ変化の開始のステップ、 9は入■出力信号の偏差の判別ステツプ、 10は流量設定信号のステツプ状減少のステツプ、 1 1は一段前の流量設定信号への切換へのステップ、 12は入'出力信号の偏差の判別ステップ、 13は流量設定信号のランプ変化の開始のステップ、 14は流量設定信号のランプ変化のステップ、 15は入■出力信号の偏差の判別ステップ、 16は流量設定信号の保持ステップ、 17は流量設定信号の保持確認ステップである。

発明を実施するための形態

以下、図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。

図 1は、本発明に係る圧力式流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ^ ·のガス分流供給方法を説明する全体系統図である。

図 1に於いて、 1はガス供給設備であり、処理用ガス Gの供給源 Sとガス元弁 V。と圧力式流量制御装置 FCS等から形成されている。

また、 2は分流量制御装置であり、圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ 及び分流量制御盤 FRC等から形成されている。

更に、図 1に於いて、 · Cはチャンバ一、 Dはガス放出器、 Dcはセンター部用ガス放出器、 D eはエッジ部用ガス放出器、 GLi はセンター部用分岐供給ライン、 GL₂ はエッジ部用分岐供給ライン、 Qは総ガス流量、 Qi - Q₂ は分流量、 P ₂ は圧力式流量制御装置 FCSのオリフィス下流側の圧力、 P ₃ ' ■ P ₃ " は圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ の出口側の圧力、 P₃ はチャンバ一 C内の圧力、 3はセンター部用ガス放出器 D cのシャワープレート、 3 aはシャワープレ一トに設けたォリフィス孔、 4はェッジ部用ガス放出器 D eのシャワープレート、 4 aはシャワープレートに設けたオリフィス孔である。

加えて、図 1に於いて E L₁ ■ E L ₂ は分流量制御盤 F R Cと圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ との信号接続ライン、 Ί\ は電源入力端子、 Τ₂ は起動 '停止信号入力端子、 τ₃ は初期の流量比設定信号の入力端子、 τ₄ はオリフィスプレートの組み合せ識別信号の入力端子、 τ₅ は自動零点調整用信号の入力端子、 Τ₆₁、 Τ ₅₂は自動零点設定エラー信号の出力端子、 Τ₇₁ · Τ₇₂は制御流量信号の出力端子（Ρ₃ ' - Ρ₃ "相当の出力電圧）、 T_ai · τ₈₂は流量設定信号の入力端子、 Τ₉₁■ Τ₉₂は入■出力異常警報の出力端子である。

前記ガス供給設備 1は、処理用ガス供給源（供給圧力 25 OKP a G以上） S 及び前記図 7に示した複数の圧力式流量制御装置 F C S等から形成されており、圧力式流量制御装置 F C Sの制御装置（CPU) へ所定の流量設定信号 Q sを入力することにより、コント口ールバルブ CVによってオリフィスの上流側圧力 P！が調整され、オリフィス下流側の流量 Qが自動的に設定流量 Q sに調整される。

また、制御装置（CPU) からは、調整された流量に対応する制御流量出力信号 Q eが出力され、万一、流量設定入力信号 Q sと前記制御流量出力信号 Q cとの間の偏差が規定時間を越えて設定値をオーバーすれば、図 7には図示されていないが、後述するように CPUから入 ·出力偏差異常信号が発信される。

前記分流量制御装置 2は、複数の圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ と、これ等を制御する分流量制御盤 FRCと、各圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ に接続されたオリフィスプレート 3、 4等から形成されている。

尚、図 1の実施形態では圧力式分流量制御器を 2台としているが、これを 2台以上としてもよいことは勿論であり、この場合にはオリフィスプレートの方も当然 2枚以上或いは 2個所以上の供給口となる。

又、前記圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ は前記図 7に示した圧力式流量制御装置 F C Sの基本構成に於けるオリフィスプレート Lを取り除き、その代替としてセンター部用オリフィスプレート 3 (又はエッジ用オリフィスプレート 4) のオリフィス孔 3 a (又は 4 a) を活用するようにしたものである。

即ち、当該圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ は図 2に示すような構成になつており、本実施態様に於いてはコントロールバルブ C Vとして電磁弁駆動型のメタルダイヤフラムバルブが使用されており、流量、 Q₂ が大流量の場合でも容易に対応できるようにしている。尚、上記圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ の作動は、流量制御装置 FCSの場合と全く同一であり、図 2に於いてチャンバ一 C内の圧力 P₃ とセンター部用オリフィスプレート 3のオリフィス孔 3 aより上流側の圧力 P ₃ ' との間に P ₃ ' >2P₃ の関係が保持されていれば、コントロー/レバノレプ CVによって圧力 P 3 ' を調整することにより、 =CP₃ ' によって分流流量が制御されることになる。尚、 Cはオリフィス孔 3 aの断面積やその形態、ガス温度等から決まる定数である。

図 2を参照して、前記分流量制御盤 FRCは、電源入力端子 T 、起動 .停止 (両 FVi 、 FV₂ のコントロールバルブ CVの何れか一方を全開に、また他方を設定された開度にする）信号の入力端子 T ₂ 、初期の流量設定比信号入力端子 τ₃ 、後述するシャワープレートの組合せ識別番号の入力端子 τ₄ 、自動零点調整信号の入力端子 τ₅ 、自動零点調整エラー信号の出力端子 τ₆₁■ τ₆₂、制御流量信号の出力端子 Τ₇₁■ Τ₇₂、設定流量信号、 Q₂ の入力端子 T₈₁ · Τ₈₂、入'出力異常警報の出力端子 Τ ₉ ■ Τ₉₂等が設けられており、信号接続ライン Ε L_a , EL₂ を介して各圧力式流量制御器 FVi 、 FV₂ と接続されている。即ち、前記入力端子 T ₂ へ起動信号が入力されると、各圧力式分流量制御器 F 、 FV₂ は予かじめ設定された初期の設定流量比によって作動する（即ち、後述するように分流量、 Q₂ の大きい方の分流量制御器のコントロールバルプ C Vが全開に、他方の分流量制御器のコントロールバルブ CVの開度が全開 X 予かじめ計算された 1以下の係数に夫々調整される。）

また、入力端子 T₂ の停止信号が入力されると、両圧力式分流量制御器 FVi、 F V ₂ のコント口ールバルブ C Vは全閉状態となる。

更に、前記入力端子 T₂ へ起動信号が入力される前に、一般には自動零点調整信号入力端子 Τ₅ へ零点調整信号が入力され、両圧力式分流量制御器、 F V₂ の自動零点調整が行なわれる。当該自動零点調整が規定通り実施されない場合には、自動零点調整エラー信号出力端子 T₆₁■ Τ₆₂へ警報が出力される。前記初期流量比設定信号入力端子 Τ ₃ へは、各分岐供給ライン GLi、GL₂ への供給流量比 /Q₂ を基にして、後述する表 1に記載の各数値を用いて演算した初期流量比設定信号が入力される。尚、本実施形態では、前記流量比 /0₂ は1 1、 1/2, 1/3、 1/ 4、 2/1, 3 1及び 4 1の何れかに設定可能であり、これを基にして演算した初期流量比設定信号が 4 B i tのディジタル信号の型で入力端子 T ₃ へ入力される。尚、流量比 /Q₂ と初期流量設定比信号とが同一のでないことは、勿論である。

また、前記表 1に記載の各数値は、後述するように、各分岐ガス供給ラインの末端に接続されるシャワープレート 3、 4のオリフィス孔 3 a ■ 4 aの口径やその数力ら、前記所定の流量、 Q₂ のガス Gを放出させるのに必要とするオリフィス孔 3 a · 4 aの上流側の制御圧力 P ₃ ' 、 P₃ " を演算し、その演算した必要とする各上流側制御圧力 P ₃ ' と P₃ " との比 P₃ " /P₃ ' を示すものである。

前記端子 T ₄ へは各ガス放出器 D c、 D eのシャワープレート（オリフィスプレート） 3、 4の組合せを識別表示する信号が入力される。即ち、本実施形態では、前記センター部用シャワープレート 3として 420個のオリフィス孔 3 aを有するものと、 480個のオリフィス孔 3 aを有するものの二種類が用意されている。同様にエッジ部用シャワープレート 4としてオリフィス孔 4 aが 360個のものと 476個のものが二種類用意されている。

前記シャワープレート 3、 4の組合せとしては 420個のオリフィス孔 3 aを有するシャワープレート 3と 3 60個のオリフィス孔 4 aを有するシャワープレート 4との組合せ（以下パターン 1と呼ぶ）及び 480個のオリフィス孔 3 aを有するシャワープレート 3と 476個のオリフィス孔 4 aを有するシャワープレート 4との組合せ（以下パターン 2と呼ぶ）の二種類が予かじめ決められており、前記パターン 1及びパターン 2を表示する 2 B i tのディジタル信号が前記端子 4へ入力される。

前記制御流量出力信号端子 T ₇ i■ T₇₂は、作動中の両圧力式分流量制御器 FV 、 FV₂ の制御流量（実流量） Qi , Q₂ を表示するための出力端子であり、制御流量（実流量）、 Q₂ が電圧出力（0〜5 v) の型で出力される。

前記流量設定信号入力端子 Τ₈₁ · Τ₈₂は、各分岐供給ライン GLi 、 GL₂ へ供給する流量、 Q₂ に対応する 0〜 5 vの電圧信号の入力端子である。 P T/JP03/00437 尚、上流側の圧力式流量制御装置 F C Sで総流量 Qが設定され、且つ端子 T 3 へ流量比 ZQを基にして演算した初期流量設定比信号が入力されるため、各分流量 G 、 Q₂ の流量設定信号の大きさは内部の CPUで自動的に演算することが出来る。その結果、前記入力端子 T₈₁■ Τ₈₂への流量、 Q₂ の流量設定信号を予かじめ入力することは現実には不要となるが、万一上流側の圧力式流量制御装置 F C Sにより総流量 Qを高精度で設定出来ない場合や処理用ガス供給源 S から直接に各圧力式分流量制御器、 FV₂ へガス供給を行なう場合に備え、各圧力式分流量制御器 FVュ、 FV₂ に於いて、夫々流量、 Q₂ を単独で設定できる方がベターである。そのため、前記入力端子 T₈₁ · Τ₈₂を設ける方がより望ましい。

前記入■出力異常警報出力端子 Τ₉₁■ Τ₉₂は、流量、 Q₂ の設定流量信号と制御流量信号（実流量、 Q₂ ) とを対比し、設定流量信号と実際の制御流量信号との間の偏差が所定時間経過後に於いても規定値以上の値であれば、異常信号が発せられる。

尚、上記実施形態に於いては、所定の大きさの入 ·出力信号を分流量制御盤 F RCの各端子に直接入'出力するようにしているが、各端子の入 '出力信号をシリアル通信による入 ·出力信号としてもよいことは勿論である。

尚、前記両圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ に於ける分流量の制御は、前述の通りコント口ールバルブ C Vにより、その下流側圧力 P ₃ ' 、 P ₃ 〃を調整することにより行なわれており、本実施形態では、流量、 Q₂ の設定信号（0 ~5 v) と制御圧力 P₃ (To r r) と実流量（制御流量）の出力信号（0〜5 V) との間に、図 3の如き特性を備えた圧力式分流量制御器、 FV₂ が使用されている。

また、図 4は、センター部用ガス放出器 D cのシャワープレート 3.として内径 0. 2 mm ψのオリフィス孔 420個を有するもの及びエッジ部用ガス放出器 D eのシャワープレート 4として内径 0. 2 mm φのオリフィス孔 360個を有するものを組み合せ使用した場合 (パターン 1) に於けるトータル流量（全流量） Qとセンター部用の圧力式分流量制御器 FVi の制御圧力（P₃ ' ) とエッジ部用圧力式分流量制御器 FV₂ の制御圧力（P₃ 〃）との関係を、流量比 (C/E ZQ₂ ) をパラメータ'にして計算した数値をグラフ表示したものであり、例えば /Q= 1で Q= 1600、 1200、 800、 400及び 100 S C CMとした場合、センター部側の制御圧力 P₃ ' とエッジ部側の制御圧力 P ₃ " との比 P₃ " / の平均値は 0. 961となる。

同様に、図 5は、センター部用ガス放出器 Dcのシャワープレート 3として内径 0. 2 mm ψのオリフィス孔 480個を有するもの及ぴエッジ部用ガス放出器 D eシャワープレート 4として内径 0. 2 mm ψのオリフィス孔 4 aを 476個を有するものを組み合せ使用した場合（パターン 2) に於ける図 4と同一の計算値をグラフ表示したものであり、例えば /Q₂ =1で0=1600、 120 0、 800、 400及び 100 S C CMの場合、センター部側の制御圧力 P ₃ ' とエッジ部側の制御圧力 P ₃ " との比 P₃ " /P₃ ' の平均値は 0. 999となる。

尚、表 1は、図 4及び図 5に表示したパターン 1及びパターン 2に於ける各流量比 ZQと、センター部側制御圧力 P ₃ ' とエッジ部側制御圧力 P ₃ "の比 (P₃ " /Pi ) との関係を示す計算値をまとめたものである。例えば図 1に於いて、使用するシャワープレート 3、 4の組み合せをパターン 1とし且つ流量比 Qi /Q₂ を 1とした場合にはセンター部用圧力式分流量制御器 FVi の制御圧力 P₃ ' とエッジ部圧力式分流量制御器 FV₂ の制御圧力 P ₃ " との比 P₃ " / P₃ ' は計算上 0. 961になることを示している。

また、ここでは、上記 Q、 Q₁ /Q₂ 及び P₃ ^;/ /P₃ ' との関係を下記のコンダクタンスの計算式を用いて演算している。

即ち、管路に流れるガスの流量 Qは、 Q = CX (Ρ_α 一 Ρ₂ ) …①、 C=18 2 XD⁴ X (Pi +P₂ ) /2 X 1/L…②として表わされる。但し、 Cはコンダクタンス（LZs e c) 、 Dは配管径（cm) 、 Lは配管長さ（ c m) 、 P i は配管上流圧 (To r r) 、 P₂ は配管下流圧 (T o r r ) 、 Qは流量（T o r r · LZs e c) である。

上記①及ぴ②に於いて、 Dとしてシャワープレートのオリフィス孔の外径を、 Lとしてシャワープレートのオリフィス孔の長さを、下流側圧力 P ₂ としてチヤンバー内圧 (P₃ =0. 015To r r) を、流量 Qとしてオリフィス孔 1個当りの流量を夫々用いることにより、シャワープレートの上流側管路の内圧及ぴ p ₃ " ) を演算したものである。

【表 1】

以下、本願発明によるチャンバ一へのガスの分流供給方法について説明する。図 1及び図 2を参照、分流量制御盤 E R Cの入力端子 T ₂ へ起動信号が入力されていない場合には、両圧力式分流量制御器及び FV₂ のコントロールバルプ CVは全開状態となっている。その結果、ガス供給源 Sから、圧力式流量制御装置 F C Sにより流量 Qに調整されて供給されて来た処理用ガス Gは、両分流量制御器、 F V₂ を通して、各シャワープレート 3、 4のノズル孔 3 a、 3 bの全面積比にほぼ対応した比率で流通する。

次に、前記総流量 Qのガス Gを所定の比率 /Q ₂ (例えば /Q₂ =2 /1) で分流供給するためには、先ず各分岐供給ライン GI^ 、 GL₂ の末端に接続されているガス放出器 D c、 D eのシャワープレート 3、 4の組合せパターンの識別信号 (パターン 1) を入力端子 T₄ へ入力すると共に、所望の流量比 ZQ₂ 力ら、前記表 1に基づいて初期の流量比設定信号を求め、これを入力端子 τ₃ へ入力する。

即ち、シャワープレート 3、 4の糸且合せパターンがパターン 1で且つ分流比 /Q₂ =2/1の場合、センター側の圧力式分流量制御器 FVi への流量設定信号は表 1力、ら 5— 1. O O OX 5 = OVとなり、またェッジ側の圧力式分流量制御器 F V₂ の初期流量設定信号入は表 1力ら 5— 0. 736 X 5 = 1. 32Vとなる。従って、この場合には、初期流量設定比信号として、入力端子 τ ₃ へ 0/

1. 32が入力される。

尚、本実施形態では、予かじめ表 1を用いて両圧力式分流量制御器へ入力する初期流量設定比を演算し、これを入力端子 Τ₃ へ入力するようにしているが、流量設定信号入力端子 Τ₈₁■ Τ₈₂を設けてこれに分流流量、 Q₂ を夫々入力すると共に、内部の CPUに予かじめ表 1のデータを記憶させておき、 CPU内で前記初期流量設定比 OZ1. 32を演算させるようにしてもよい。

また、分流供給の開始前に自動零点調整用信号を入力端子 T ₅ へ加え、各圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ の自動零点調整が行なわれることは勿論である。図 6を参照して、スタート（ステップ 5) 操作によって起動（スタート）信号が端子 T₂ へ加えられると、スタート信号の存否が確^ >される（ステップ 6) 。スタート信号の入力が確認されると、端子 4へ入力されたシャワープレートの組合せ識別信号（パターン信号）の存否並びに端子 3へ入力された初期流量設定比信号の存否が確認される（ステップ 7) 。

初期流量設定比信号の入力が確認されると、当該初期流量設定比信号のステツプ状変化が開始される

即ち、初期流量設定比信号が端子 T ₃ へ入力されると（本実施例の場合、初期流量設定比の値が 0. 7 3 6であって、 FVi の初期流量設定値 = 0 v、 FV₂ の初期流量設定値 = 1. 3 2 5 v) 、各圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ へ初期流量設定値が入力され、両圧力式分流量制御器、 FV₂ が初期流量設定値に応じた流量のガスを流通させると共に、その時の流量に対応する制御流量出力信号を端子 T₇₁ ■ Τ₇₂へ出力する。

当該各圧力式分流量制御器の制御流量出力信号はステップ 9でその流量設定入力信号と対比され、入"出力信号の間に偏差があるか否かがチェックされる。入 ·出力信号の間の偏差が所定時間の間だ設定値を越えていると、各分流量制御器 FVi 、 FV₂ への流量設定信号をステップ状に同じ比率で MMさせる（ステツプ 1 0) 。

具体的には、高流量側の分流量制御器 FV 側への流量設定信号の入力値を 1 00。/。→ 5 0 %→ 3 0 %→ 20 %→ 1 0 %→ 5。/。/ 0. 5秒の割合でステップ的に増加させると共に、低流量 Q₂側の分流量制御器 FV ₂ への流量設定信号入力を同じ流量比になるように調整する。

即ち、本実施例では、初期流量比設定値が 0. 7 3 6 (3. 6 8/5) (前記 FV₁ の初期流量設定ィ直 = 0 (5 - 5 = 0) v、 FV₂ の初期流量設定値 = 1. 3 2 (5 - 3. 6 8 = 1. 3 2) V) であり、前記各初期流量設定値 0 (5 - 5 = 0) v、 1. 3 2 (5 - 3. 6 8 = 1. 3 2) vが同じ比率で 5 0 %→ 3 0 % → 2 0 %→ 1 0 %→ 5 %/ 0. 5秒の割合でステップ状に増加され、第 1段の 5 0%変化により、初期流量比設定は 2. 5 (5 - 5 X 0. 5 = 2. 5) /3. 1

6 (5- 2. 5 X 0. 7 3 6 = 3. 1 6) に増加され、その後 0. 5秒経過毎に 3. 5 (5 - 5 X 0. 3) /3. 8 9 6 (5— 1. 5 X 0. 7 3 6) (第 2段）、 4. 0 ( 5 - 5 X 0. 2) /A. 2 64 (5— 1 X 0. 7 3 6) (第 3段）、 4. 5 (5 - 5 X 0. 1) /4. 6 3 2 (5— 0. 5 X 0. 7 3 6) (第 4段）、 4.

7 5 (5- 5 X 0. 0 5) /4. 8 1 6 (5 -0. 2 5 X 0. 7 3 6) (第 5段）の順にステップ状変化が繰り返される。

前記流量設定信号入力のステップ状変化により、ステップ 9の入■出力信号の偏差が設定範囲内の値になると、ステップ 11で各分流量制御器 FVi 、 FV₂ への設定流量信号の入力値が、一段前のステップ変化の信号入力値に戻され、再度入'出力信号の偏差の存否がチェックされる（ステップ 12) 。

尚、前記ステップ 9の入'出力信号の偏差が、約 0. 5秒間に亘つてフルスケル（即ち 5V) の 3%に相当する値を越える場合には、偏差の異常があると判断され、次段階のステップ状変化が行なわれる。

前記ステップ 12で入'出力信号間の偏差の存在が確認されると、引き続きその時の流量設定信号から、各分流量制御器 FVi 、 FV₂ への流量設定信号入力を同じ比率でランプ変化させる（ステップ 13) ランプ制御が開始される。当該流量設定信号のランプ変化は、具体的には高流量側の分流量制御器 F V！への流量設定信号入力を 10 %/ 0. 5秒のランプ変化で変動させると共に、低流量 Q₂ 側の分流量制御器 FV ₂ への流量設定信号入力を同一比率で連続的に増加させ (ステップ 14) 、ランプ変化後の流量切低信号入力とその時の制御流量信号出力との間の偏差をステップ 15でチェックする。

例えば、前記実施例において、ステップ 10の第 4段（即ち、流量設定比 4. 5/4. 632) に於いて入 ·出力間の偏差が無くなったとすると、各分流量制御器 FV 、 FV₂ への流量設定信号がステップ 10の第 3段（流量設定比 4. 0/4. 264) の状態に一旦戻され、圧力式分流量制御器 FVi への流量設定入力を 4. 0 V及び圧力式分流量制御器 F V ₂ への流量設定入力を 4. 264 V とした（ステップ 1 1) うえ、再度ステップ 12において入 ·出力信号間の偏差の存否が確認されたあと、ステップ 13に於いて流量設定信号のランプ変化が開始され、前記圧力式分流量制御器 FVi への流量設定信号入力 4. 0¥が0. 5 V/0. 5 s e cの割合でランプ変化されると共に、圧力式分流量制御器 FV₂ への流量設定信号入力 4. 264Vも 0. 5 vX0. 736 = 0. 368 V/ 0. 5 s e cの割合で増加される。

前記ランプ変化された流量設定信号入力とその時の制御流量信号出力との偏差がステップ 1 5でチェックされ、両者の間の偏差が連続して一定時間の間、例えば 0. 1秒間無くなれば（即ち、規定値以下になれば）、ステップ 16に於いて各分流量制御器 F V₁ 、 F V ₂ への設定流量信号入力が、ステップ 14の時の流量設定入力信号値に夫々固定■保持される。

そして、最後にステップ 17に於いて、前記固定'保持した設定流量信号の入力の存否が確認され、これによつてガス供給源 Sからの原料ガス（流量 Q) を分流供給するための各分流量制御器 FVi 、 FV₂ の自動分流量制御が完了する。即ち、ガス供給源 Sからの所定流量 Qの原料ガス Gは、所定の流量比 ZQ₂ に分流され、ガス放出器 D c、 D eを通してチャンバ一 C内ウェハー Hへ供給されていく。

発明の効果

本発明に於いては、圧力式流量制御装置 F C Sを備えたガス供給設備からの流量 Qの処理用ガス Gを圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ を通して圧力チャンバ一 C内へ分流供給すると共に、分流量の大きい方の圧力式分流量制御器のコント口ールバルブ C Vの開度を全開とする分流量制御盤 F R Cからの初期流量設定信号によって圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ の流量制御を開始すると共に、前記各コント口一ノレバスレブ C Vの下流側圧力 P ₃ ' 、 P₃ " を調整することによりチャンバ一 C内に設けたシャワープレート 3、 4のオリフィス孔 3 a、 4 aを活用し、両圧力式分流量制御器 FVi、FV₂ の流量、Q₂ を =d P₃ ' 、 Q₂ =C₂ P₃ " (伹し、 d、 C₂ は定数）で表わされる分流量でもって、流量 Qの処理用ガス Gを分流供給する構成としている。

その結果、本発明に於いては、圧力式流量制御装置 FCSを備えたガス供給設備 1からの処理用ガスであっても、分流時に圧力式流量制御装置 FC Sのオリフィス下流側の圧力 P ₂ が大幅に上昇することが皆無となり、結果として総流量 Q を圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ による分流制御と無関係に正確に所望流量値に制御することが可能となる。

また、本発明ではチャンバ一 C内に設けたシャワープレート 3、 4のオリフィス孔 3 a、 4 aを有効に圧力式分流量制御器 FV 、 FV₂ の構成材料として活用し、両圧力式分流量制御器 FVi、 FV₂ を実質的に圧力式流量制御装置 FC Sと同一のものとしているため、本方法発明の実施が極めて容易にしかも安価な設備費でもって行なえる。

更に、本願方法発明にあっては、初期流量設定信号によって、流量の大きい方の圧力式分流量制御器のコント口一ルバルブを全開に、また他方の圧力式分流量制御器のコント口ールバルブの開度を全開 X a ( aは最終流量比 Q ₂ /Q 1 に応じて予かじめ算定した計算上の開度比率 P₃ " /P₃ ' ) として分流量制御を開始し、前記流量設定信号を先ずステップ状に変化させ分流比 /Q₂ の粗調整を行なうと共に、入 ·出力信号間の偏差が規定内に納まると、引き続き 1段前のステツプ調整の流量設定信号に戻したところから流量設定信号をランプ状に変化させ、流量設定入力信号と制御流量出力信号との対比を行なって、両入 ·出力信号間の偏差が所定時間内に設定値以下となった場合に、各流量設定信号を両圧力式分流量制御器、 FV₂ への最終的な流量設定信号として固定保持す構成としている。

その結果、本方法発明に於いては、極めて迅速且つ正確に、しかも数多くの流量比 Q₂ /Qi について、両圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ による分流制御を行なうことが可能となる。

本発明は上述の通り優れた実用的効用を奏するものである。

Claims

請求の範囲

1. 流量制御装置を備えたガス供給設備 1から所定流量 Qのガス Gを複数の分岐供給ライン GL^ 、 GL₂ 及びその端末に固定したシャワープレート 3、 4を通して、チャンバ一 C内へ所定の流量比 /Q₂ でもって分流供給する方法であって、前記複数の分岐供給ライン GL 、 GL₂ に圧力式分流量制御器 F V！、 FV₂ を介設すると共に、供給流量の大きい方の圧力式分流量制御器のコント口ールバルブ C Vの開度を全開とする分流量制御盤 F R Cからの初期流量設定信号により、前記両分流量制御器 FV 、 FV₂ の開度制御を開始し、前記コント口一ルバルブ C Vの下流側圧力 P ₃ ' 、 P₃ "を夫々調整することによりシャワープレート 3、 4に設けたオリフィス孔 3 a、 4 aを通して、式 Qi =C₁ P₃ ' 及び Q₂ =C₂ P₃ " (伹し、 C₂ はオリフィス孔の断面積ゃォリフィス上流側のガス温度により決まる定数）により表わされる所望の分流量、 Q₂ でもって前記チャンバ一 C内へ総量 Q-Qi +Q₂ のガスを分流供給することを特徴とする流量制御装置を備えたガス供給設備からのチヤンバ一^■のガス分流供給方法。

2. C P Uを備えた分流量制御盤 F R Cに起動■停止信号入力端子 T ₂ 、初期流量設定比信号入力端子 T ₃ 、シャワープレートの組合せ識別信号入力端子 T ₄ 、各圧力式分流制御器、 FV₂ の制御流量信号出力端子 T ₇ i■ T₇₂、各圧力式分流制御器 FV 、 FV₂ の流量設定入力信号と制御流量出力信号との偏差により信号を発信する入 ·出力異常警報出力端子 T ₉ 、 T ₉₂を設けると共に、前記シャワープレート 3、 4の複数の組合せについて、各シャワープレート 3、 4を流量比 /Q₂ でもって総量 Q Qi +Q₂ のガス Gが流通する際の各圧力式分流制御器 FVi 、 FV₂ のコントロールバルブ CVの下流側圧力 P 3 ' 、 P₃ " を、前記 =C₁ P₃ ' 及び Q₂ =C₂ P₃ " の演算式によって複数の総流量 Qについて流量比 ZQ₂ をパラメータとして算出し、供給流量の大きい方の圧力式分流量制御器 FVi への初期流量設定信号をコントロールパルプ全開時の入力信号電圧 V。とするとともに、他方の圧力式分流量制御器 FV₂ の初期流量設定信号を前記 P ₃ " /P₃ ' XV。とし、次に、各シャワープレート 3、 4の糸且合せの識別信号を前記入力端子 4へ、また前記両圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ への初期流量設定信号の比 P ₃ ' //P₃ 〃を初期流量比設定信号入力端子 T ₃ へ夫々入力したあと、両圧力式分流量制御器 F V_a 、 FV₂ の各コントロールバルブ CVを全開状態にした状態でガス供給設備 1からのガス供給流量 Qを所望流量に設定し、次に、前記起動（スタート）信号入力端子 T ₂ へ起動信号を入力し（ステップ 5) 、起動信号の入力が確認される（ステップ 6) と、前記シャワープレートの組合せ識別信号及び前記初期流量設定比信号の存否を確認し（ステップ 7) 、その後前記初期流量設定比信号から求めた両圧力式分流量制御器 FVi 、 FV₂ の初期流量設定信号 V。、 V。 XP₃ " ZP をステップ的に同比率で増加させ（ステップ 8、 1 0)、その時の流量設定入力信号と制御流量出力信号との偏差をチェックし（ステツプ 9) 、前記入 ·出力偏差が設定範囲内になれば、各分流量制御器、 F V₂ への流量設定信号を入■出力偏差が設定範囲内になる一段前のステップ変化時の流量設定信号の値に戻し（ステップ 1 1) 、引き続き各分流量制御器 F Vi 、 FV₂ への流量設定信号を同比率でランプ変化させる（ステップ 1 3、 14) と共に入 ·出力信号の偏差を連続的にチェックし（ステップ 1 5) 、ランプ変化時の入 ·出力信号の偏差が設定範囲内になれば、その時の流量設定信号を各分流量制御器 FVi 、 FV₂ への流量設定信号として固定 '保持し（ステツプ 1 6) 、当該各流量設定信号の下でガス Gの分流供給をするようにした請求項 1に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一へのガス分流供給方法。

3. 流量設定信号のステップ変化を、初期流量設定値（100%) から 0. 5秒毎に 50 %、 30 %、 20 %、 10 %及び 5 %の順にステップ的に両流量設定信号を同比率で増加させるものとした請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一へのガス分流供給方法。

4. 流量設定信号のランプ変化を、 0. 5秒間に両流量設定信号の 1 0 %を同比率で増加させるものとした請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一へのガスの分流供給方法。 .

5. 入'出力の偏差がある一定時間以上連続して無くなれば、その時の各流量設定信号を各分流量制御器 FV 、 FV₂ の流量設定信号として固定'保持するようにした請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一^■のガス分流供給方法。

6. チャンバ一 Cの内圧を 5〜30 T o r rに、圧力式分流量制御器 FV! 、 F V₂ の下流側のガス圧を 100 T o r r以下に、総流量 Qを 100 s c c m〜 1600 s e emに、分流流量比 /Q₂ を 1Z4、 1 2、 1/1、 2/ 1、 3/1及び 4Z1とするようにした請求項 1又は請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一^ ^ガス分流供給方法。

7. 分流流量又は Q₂ の大きい方の圧力式分流量制御器 FVi 又は FV₂ の初期流量設定信号をそのコントロールバノレブ CVを全開にするときの電圧入力とすると共に、当該コントロールバルブ CVの全開時の制御電圧入力を 0 Vに、また制御電圧範囲を 0〜5 vとするようにした請求項 1又は請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチャンバ一^■のガス分流供給方法。

8. 分流量制御盤 FRCの各端子の入 ·出力信号をシリアル通信による入 ·出力信号とするようにした請求項 2に記載の流量制御装置を備えたガス供給設備からのチヤンバーへのガス分流供給方法。