WO2010075615A1 - Processo de preparação de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartlculas de óxidos metálicos e/ou metais impregnados e/ou depositados em substratos vitreos, poliméricos, madeiras e metais - Google Patents

Processo de preparação de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartlculas de óxidos metálicos e/ou metais impregnados e/ou depositados em substratos vitreos, poliméricos, madeiras e metais Download PDF

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    • C23C18/1208—Oxides, e.g. ceramics
    • C23C18/1216—Metal oxides

Definitions

  • the present invention comprises a method for manufacturing thin or ultra-thin films and nanocomposites of metal oxide and / or metal nanoparticles in interaction with glass substrates or
  • polymers or woods, metals or any other substrate which may or may cause porosity on its surface by a process of impregnation and / or deposition of metal oxides and / or metals previously formed at a temperature below the glass transition or softening point or flash point or below any temperature that will result in a change in the physical state of the material when associated with the influence of the time at which the test is performed.
  • Thin films can be produced by saline deposition through the effect of temperature.
  • Ag + ion deposition films have already been prepared on the glass surface from Ag 2 S0 4 , CuS0 4 , Na 2 S0 4 solution in the presence of organic compounds dispersed in oil.
  • the treatment temperature was 300 ° C, 320 ° C and 350 ° C, with time ranging from 1 to 48 h.
  • Another way to obtain films is from the deposited by electrostatic spray, by method of sputtering method and followed by heat treatment.
  • the filtered cathode arc plasma and oxygen flow technique was also applied to deposit thin films of zinc oxide on glass surface and temperature of 200 ° C.
  • the methods described above may constitute the oxides to be obtained in the form of films only if they are mixed during the synthesis process of these materials.
  • the oxides are formed from precursor substances deposited on the substrates which, by treatment (usually thermal), form the oxide films to be obtained.
  • glassy materials when subjected to high temperatures reach a "softening" state which, by definition, is known as glass transition (Tg). This glass transition is often a limiting factor for film-making and particulate material impregnation methods on the glass surface, and if it is a polymeric substrate softening can be achieved and if it is a flash point wood and metal oxidation. , etc.
  • the present invention comprises a method for the manufacture of thin or ultra-thin films and metal oxide nanoparticle nanocomposites in interaction with glass or polymeric substrates or woods, metals or any other substrate which may or may generate porosity on its surface. by a process of impregnation and / or deposition of metal oxide powders previously formed at a temperature below the glass transition or
  • fig. 1 is a sequence of 3,000 X magnification scanning electron microscopy ranging from pure glass substrate until the deposition of the treated nanoparticulate Sn02 film at 485 ° C.
  • fig. 2 represents an example of cobalt oxide deposition by EV.
  • fig. 3 depicts an example of iron oxide III deposition by SEM.
  • fig. 4 depicts an example of SEM deposition of titanium oxide.
  • fig. 5 depicts an example of deposition of aluminum oxide by SEM.
  • fig. 6 depicts an example of copper oxide deposition by SEM.
  • the present invention comprises a process for fabricating metal oxide thin films from films at temperatures below the glass transition temperature, or the softening temperature, or the flash point, or the change in oxidation state depending on the substrate. pressure as a function of the test time.
  • the process consists of: (a) deposition of metal powders on the substrate surface, (b) application of high pressure cooled gas, (c) infiltration and / or deposition of powders on the substrate surface and (d) below heating temperature glass transition temperature (for glass), softening (for polymers), flash point (for wood) and oxidation (for metals) as a function of time.
  • FIG. 1 shows an example of thin film of metal oxides impregnated and / or deposited by high limit pressure (Pi.) On substrate.
  • Pi. high limit pressure
  • stage 3 can be reached if: the limit pressure is kept constant and the temperature of T 2 is raised to T3 or, if the time is increased from t 2 to t. 3 or raise both to T3 and respectively.
  • the same result is also achieved if the temperature at T 2 and the time at t 2 remain constant, but if the applied pressure is greater than the pressure exerted at stage (2).

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Abstract

O título do Resumo aparentemente, precisa ser harmonizado com o título da invenção, de acordo com a Regra 4.3 do PCT, e com as modificações no Resumo, de acordo com a Regra 38.3. Assim o Título do Resumo terá a mesma redação, que a do título da invenção, apresentando portanto a seguinte redação: Processo de Preparação de Filmes Finos Ou Ultra-finos e Nanocompόsitos de Nanopartículas de Óxidos Metálicos e/ou Metais lmpregnados e/ou Depositados em Substratos Vítreos, Polimericos, Madeiras e Metais.

Description

Processo de Preparação de Filmes Finos Ou Ultra-finos e Nanocompósitos de Nanopartículas de Óxidos Metálicos e/ou Metais Impregnados e/ou Depositados em Substratos Vítreos, Poliméricos, Madeiras e Metais.
A presente invenção compreende a um método para fabricação de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartículas de óxidos metálicos e/ou metais em interação com substratos de vidros ou
poliméricos ou madeiras, metais ou ainda qualquer outro substrato que apresente ou possa se gerar porosidade em sua superfície por meio de um processo de impregnação e/ou deposição de pós de óxidos metálicos e/ou metais previamente constituídos em temperatura abaixo da transição vítrea ou do amolecimento ou do ponto de fulgor ou ainda abaixo de qualquer temperatura que acarrete na mudança de estado físico do material quando associado a influência do tempo em que é processado o ensaio.
É comum encontrar na literatura científica estudos referentes às propriedades de materiais relacionados à estrutura de superfície. As propriedades de superfície dos materiais podem ser modificadas a partir de diversas técnicas de deposição capazes de formar filmes finos, espessos ou ainda ultra-finos. Algumas dessas técnicas são descritas a seguir.
Filmes finos podem ser produzidos por deposições de soluções salinas através do efeito da temperatura. Já se chegou a preparar filmes de com deposição de íons Ag+ na superfície de vidros a partir de solução de Ag2S04, CuS04, Na2S04, em presença de compostos orgânicos e dispersos em óleo. A temperatura de tratamento foi de 300 °C, 320 °C e 350 °C, com tempo que variou entre 1 e 48 h. Outra maneira de se obter filmes é a partir da depositaram por spray eletrostático, por método de método de pulverização catódica e seguidos de tratamento térmico.
A técnica de plasma com arco catódico filtrado e fluxo de oxigénio também foi aplicada para depositar filmes finos de óxido de zinco em superfície vítrea e temperatura de 200 °C.
Outra maneira ainda de se alterar as propriedades superficiais dos materiais está na adição direta de dopantes durante o processo de síntese que formam novos materiais com novas propriedades,
consequentemente, mudando também as propriedades superficiais.
Atualmente, 3 tipos de substratos são utilizados no
desenvolvimento de filmes finos: 1) Lâminas metálicas, utilizada para fabricação de filmes finos para capacitores em placas de circuito impresso por meio de recobrimentos como níquel ou cobre. 2) Substratos cerâmicos. 3) Bolachas de silício, para fabricação de filmes finos de óxidos metálicos. Sabe-se que uma condição básica para a seleção de um substrato para fabricação de filmes finos é baixa rugosidade superficial.
Entre os vários métodos existentes para fabricação de filmes finos, podemos citar: Pulverização Catódica (Sputtering), Deposição de Vapor Químico (CVD), Sol-Gel, Spray-pirólise, etc. Todos estes métodos possuem vantagens e desvantagens, mas em geral possuem dificuldades como alto custo, dificuldades em reproduzir resultados, trincas
superficiais e porosidades.
Deve-se considerar também, que os métodos acima descritos, podem constituir os óxidos que se pretende obter na forma de filmes, somente se forem misturados durante o processo de síntese desses materiais. Para a formação de filmes em substratos já processados os óxidos se formam a partir de substâncias precursoras depositadas nos substratos que, por tratamento (normalmente térmico), formam os filmes de óxidos que se pretende obter. Cabe ressaltar que os materiais vítreos quando submetidos a temperaturas elevadas atingem um estado de "amolecimento" que, por definição, é conhecido como transição vítrea (Tg). Esta transição vítrea muitas vezes é fator limitante para os métodos de obtenção de filmes e impregnação de materiais particulados na superfície dos vidros e, se for substrato polimérico pode-se atingir o amolecimento e, se for madeira o ponto de fulgor e, metal a oxidação, etc.
A presente invenção compreende a um método para fabricação de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartículas de óxidos metálicos em interação com substratos de vidros ou poliméricos ou madeiras, metais ou ainda qualquer outro substrato que apresente ou possa se gerar porosidade em sua superfície por meio de um processo de impregnação e/ou deposição de pós de óxidos metálicos previamente constituídos em temperatura abaixo da transição vítrea ou do
amolecimento ou do ponto de fulgor ou ainda abaixo de qualquer temperatura que acarrete na mudança de estado físico do material quando associado a influência do tempo em que é processado o ensaio.
Os desenhos descritos a seguir referem-se a resultados na forma de exemplificação da invenção da metodologia para fabricação de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartículas de óxidos metálicos em interação com substratos de vidros ou poliméricos ou madeiras, metais ou ainda qualquer outro substrato que apresente ou possa se gerar porosidade em sua superfície por meio de um processo de impregnação e/ou deposição de pós de óxidos metálicos previamente constituídos em temperatura abaixo da transição vítrea ou do
amolecimento ou do ponto de fulgor ou ainda abaixo de qualquer temperatura que acarrete na mudança de estado físico associados a influência do tempo em que é submetido o ensaio, nos quais:
a fig. 1 representa uma sequência de micrografias por microscopia eletrônica de varredura com 3000 X de ampliação, que vai do substrato de vidro puro até a deposição do filme Sn02 nanoparticulado tratado à 485°C.
a fig. 2 representa um exemplo de deposição de óxido de cobalto por EV.
a fig. 3 representa um exemplo de deposição de óxido de ferro III por MEV.
a fig. 4 representa um exemplo de deposição de óxido de titânio por MEV.
a fig. 5 representa um exemplo de deposição de óxido de alumínio por MEV.
a fig. 6 representa um exemplo de deposição de óxido de cobre por MEV.
A presente invenção compreende um processo para fabricação de filmes finos de óxidos metálicos de filmes em temperaturas abaixo da temperatura de transição vítrea, ou da temperatura de amolecimento, ou do ponto de fulgor ou ainda da mudança no estado de oxidação, dependendo do substrato, alta pressão em função do tempo do ensaio. O processo consiste de: (a) deposição de pós metálicos na superfície de substrato, (b) aplicação de gás resfriado sob alta pressão, (c) infiltração e/ou deposição dos pós na superfície do substrato e (d) temperatura de aquecimento abaixo da temperatura de transição vítrea (para vidros), amolecimento (para polímeros), ponto de fulgor (para madeira) e oxidação (para metais) em função do tempo. Após a impregnação e/ou deposição, sob alta pressão, os óxidos metálicos formarão uma segunda fase, como em um compósito, que dependendo de fatores como constituição química do substrato, granulometria e área de superfície específica dos pós de óxidos metálicos, pressão de gás aplicada, tipo de gás, tempo de tratamento e temperatura, poderão estar em um estado amorfo ou nanocristalino, podendo, portanto formar um filme fino constituído ou não de matérias denominados de nanocompósito. A figura 1 compreende um exemplo de filme fino de óxidos metálicos impregnados e/ou depositados por alta pressão limite (Pi.) em substrato. Nesta figura 1 pode-se verificar que, mesmo a pressão P|_, no ponto (1) o substrato não sofre nenhum tratamento (temperatura T0=0 e tempo t0=0), consequentemente, o óxido metálico e/ou metal não é depositado.
Com aplicação da pressão limite ou superior a PL, em um
tratamento térmico a uma temperatura T-i>To e tempo ti>to pode-se perceber que começa a ocorrer à impregnação e/ou deposição do óxido metálico e/ou metal com o substrato levando ao ponto (2) da figura 1.
Quando a pressão limite for mantida constante, pode-se melhorar a deposição e/ou impregnação do filme se elevar a temperatura de ΤΊ para T2 ou elevar o tempo de ti para t2 ou elevar a temperatura e o tempo para T2 e t2 respectivamente. Porém, mantendo-se constante a temperatura em Ti e o tempo em t-i, mas, elevando-se a pressão em valor superior a PL também é possível atingir um filme indicado pelo estágio (3) da figura 1.
Analogamente, ainda na figura 1, pode-se atingir o estágio 3 se: a pressão limite for mantida constante e a temperatura de T2 for elevada para T3 ou ainda, se o tempo for acrescido de t2 para t.3 ou elevar ambos para T3 e respectivamente. Neste mesmo exemplo, também se chega ao mesmo resultado se manter constante a temperatura em T2 e o tempo em t2, mas, se a pressão aplicada for superior a pressão exercida no estágio (2).
Desta forma, comprova-se que aplicando-se uma pressão bastante elevada, e uma temperatura Tn (onde n é um valor superior a zero) que varia para, temperatura abaixo da temperatura de transição vítrea quando o substrato for vidro, temperatura abaixo da temperatura de
amolecimento quando o substrato for polímero, temperatura abaixo do ponto de fulgor quando o substrato for madeira e temperatura abaixo da temperatura de oxidação para metais e um tempo tm (onde m é um valor superior a zero) pode-se ter uma metodologia diferenciada da obtenção de filmes finos ou ultra-finos e nanocompósitos de nanopartículas de óxidos metálicos e/ou metais em interação com substratos de vidros ou poliméricos ou madeiras, metais ou ainda qualquer outro substrato que apresente ou possa se gerar porosidade em sua superfície por meio de um processo de impregnação e/ou deposição da elevada pressão função do tempo
Por sua vez, as figuras que vão desde a figura 2 até a figura 6 demonstram a possibilidade de se aplicar diferentes óxidos constituídos em substratos quando se aplica uma pressão igual ou superior a P(_, uma temperatura Ti ou superior a ela e um tempo de seja de no mínimo ti.
Ainda referente às figuras já mencionadas e, de acordo com a proposta deste processo de preparação de filmes em substratos, pode-se verificar a possibilidades de se impregnar e/ou depositar óxido de cobalto (figura 2), óxido de ferro III (figura 3), óxido de titânio (figura 4), óxido de alumínio (figura 5), óxido de cobre (figura 6) ou qualquer outro tipo de óxido metálico e/ou metal, nos substratos de vidro, polímero, madeira ou metal, desde que se respeite as condições de pressão, temperatura e tempo proposto neste processo inventivo.

Claims

Reivindicações
1. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA-
FINOS E NANOCOMPÓSITOS DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS
E OUTROS compreendendo as etapas de: seleção pós de óxidos metálicos e/ou metais; deposição dos pós de óxidos metálicos e/ou metais na superfície do substrato de vidro, polímero, madeira, metais ou composição destes; infiltração e/ou deposição dos pós de óxidos metálicos e/ou metais no substrato por meio da ação de alta pressão de gás e da temperatura inferior a: temperatura de transição vítrea para vidros, temperatura de amolecimento para polímeros, ponto de fulgor para madeira.temperatura de mudança de estado de oxidação parra metais em dado tempo formando uma fina camada de óxidos metálicos e/ou metal infiltrado e/ou depositado no substrato.
2. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA-
FINOS E NANOCOMPÓSITOS DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, conforme reivindicação , onde os pós de óxidos metálicos e/ou metais são materiais selecionados de um grupo constituído a partir da definição de óxidos cerâmicos puros ou de misturas entre eles ou pela definição de ligação metálica para metais compreendendo todos elementos naturais constantes na tabela periódica mesmo que em diferentes proporções.
3. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA-
FINOS E NANOCOMPÓSITOS DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, conforme reivindicação 1 , onde o substrato pode ser de qualquer composição química desde que seja classificado como: vidro, polímero, madeira, metal ou, puros ou de misturas entre eles de diferentes proporções.
4. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA- FINOS E NANOCOMPOSITOS DE NANOPARTICULAS DE ÓXIDOS
METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, conforme reivindicação 1 , onde a pressão aplicada nos pós de óxidos metálicos e/ou metais contra a superfície do substrato é de 1-200 bar, ou mais preferencialmente, entre 5-50 bar, ou mais preferencialmente ainda entre 15-25 bar.
5. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA-
FINOS E NANOCOMPOSITOS DE NANOPARTICULAS DE ÓXIDOS METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS
E OUTROS onde a temperatura é controlada em temperatura superior a temperatura ambiente desde que, necessária a deposição e/ou impregnação de óxidos metálicos e ou metais e abaixo da temperatura de: transição vítrea para substratos de vidro,
amolecimento para substratos de polímeros, ponto de fulgor para substratos de madeira e temperatura de mudança do estado de oxidação e, em caso da composição deste, que seja respeitada a temperatura mais baixa.
6. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA- FINOS E NANOCOMPOSITOS DE NANOPARTICULAS DE ÓXIDOS
METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMÉRICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, onde o gás sob alta pressão é selecionado de um grupo constituído de ar atmosférico, atmosferas neutras, redutoras ou oxidantes e suas combinações em quaisquer proporções.
7. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA-
FINOS E NANOCOMPOSITOS DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMERICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, onde a espessura do filme obtido, depende da granulometria dos óxidos de pós metálicos e/ou metais, constituição do substrato, pressão aplicada e temperatura e tempo de tratamento térmico.
8. PROCESSO DE PREPARAÇÃO DE FILMES FINOS OU ULTRA- FINOS É NANOCOMPÓSITOS DE NANOPARTÍCULAS DE ÓXIDOS
METÁLICOS E/OU METAIS IMPREGNADOS E/OU DEPOSITADOS EM SUBSTRATOS VÍTREOS, POLIMERICOS, MADEIRAS, METAIS E OUTROS, onde o filme originário é constituído a partir dos óxidos metálicos e/ou metais depositados em conjunto com o substrato.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018056900A1 (en) 2016-09-20 2018-03-29 Agency For Science, Technology And Research Redox active metal/metal oxide composites for antimicrobial applications

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5399388A (en) * 1994-02-28 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of forming thin films on substrates at low temperatures
US6635554B1 (en) * 1999-09-03 2003-10-21 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods using sequential lateral solidification for producing single or polycrystalline silicon thin films at low temperatures
DE10312658A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Beschichtung flexibler Substrate mit Aluminium
EP1731219A1 (de) * 2005-06-11 2006-12-13 TuTech Innovation GmbH Verfahren zur Mikroverkapselung von organischen Stoffen in Partikelform mittels Einsprühen eines inerten überkritischen Trägergases zusammen mit Beschichtungsmaterial für die organischen Stoffe in eine Hochdruckwirbelschicht in einem Autoklaven
WO2008060358A2 (en) * 2006-09-29 2008-05-22 Massachusetts Institute Of Technology System and method for providing the capability of peeling thin polymer films from a substrate

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5399388A (en) * 1994-02-28 1995-03-21 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Method of forming thin films on substrates at low temperatures
US6635554B1 (en) * 1999-09-03 2003-10-21 The Trustees Of Columbia University In The City Of New York Systems and methods using sequential lateral solidification for producing single or polycrystalline silicon thin films at low temperatures
DE10312658A1 (de) * 2003-03-21 2004-09-30 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zur Beschichtung flexibler Substrate mit Aluminium
EP1731219A1 (de) * 2005-06-11 2006-12-13 TuTech Innovation GmbH Verfahren zur Mikroverkapselung von organischen Stoffen in Partikelform mittels Einsprühen eines inerten überkritischen Trägergases zusammen mit Beschichtungsmaterial für die organischen Stoffe in eine Hochdruckwirbelschicht in einem Autoklaven
WO2008060358A2 (en) * 2006-09-29 2008-05-22 Massachusetts Institute Of Technology System and method for providing the capability of peeling thin polymer films from a substrate

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018056900A1 (en) 2016-09-20 2018-03-29 Agency For Science, Technology And Research Redox active metal/metal oxide composites for antimicrobial applications
EP3516091A4 (en) * 2016-09-20 2020-04-01 Agency for Science, Technology and Research METAL / METAL OXIDE COMPOSITES HAVING OXIDO-REDUCTION ACTIVITY FOR ANTIMICROBIAL APPLICATIONS

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