WO2021132332A1 - 組成物および表示装置 - Google Patents

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好寛 原田
慶史 小松
真芳 ▲徳▼田
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Sumitomo Chemical Co Ltd
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Definitions

  • the present invention relates to a composition and further to a display device.
  • Patent Document 1 proposes a curable resin composition containing a polymer having a structural portion represented by the following general formula and quantum dots.
  • the brightness was not sufficiently maintained in the step of producing the cured film, and a residue was sometimes generated during development.
  • a hard coat layer or a colored layer is formed on a film containing a cured product of a curable resin composition containing quantum dots by using a composition for forming a hard coat layer or a composition for forming a colored layer containing an organic solvent. In some cases, solvent resistance after curing is also required.
  • An object of the present invention is to provide a composition that maintains brightness in the process of producing a cured film, reduces residues during development, and also exhibits excellent solvent resistance after curing.
  • the present invention provides the following compositions and display devices.
  • the resin (B) is a composition containing a polymer (B1) having a sulfide group, a carboxy group, and an unsaturated double bond.
  • the polymer (B1) is a single amount which is at least one selected from the group consisting of a monomer (a) having a mercapto group and a carboxy group, and an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride.
  • composition according to [1] which is a polymer having a structural unit derived from the body (b) and a monomer (c) having an oxylanyl group and an ethylenically unsaturated bond.
  • the composition according to [2], wherein the monomer having a mercapto group and a carboxy group contains a compound represented by the general formula (1).
  • R represents a hydrocarbon group. When a plurality of R's exist, they may be the same as each other or may be different from each other.
  • the hydrocarbon group may have one or more substituents.
  • the monomer (c) having an oxylanyl group and an ethylenically unsaturated bond is a monomer (c1) having an unsaturated chain aliphatic hydrocarbon epoxidized structure and an ethylenically unsaturated bond.
  • a monomer (c2) having an unsaturated alicyclic hydrocarbon structure and an ethylenically unsaturated bond [5] The composition according to any one of [1] to [4], wherein the polymer (B1) has a structural unit represented by the general formulas (ba), (bb) and (bc).
  • R 61 , R 62 , and R 63 represent a hydrogen atom or a methyl group independently of each other.
  • R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a hydroxy group.
  • X represents * -R 8- X 3- , * -R 8- O-X 3- , * -R 8- S-X 3- , * -R 8- NH-X 3- .
  • R 8 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X 3 represents an ethylene group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, which has a hydroxy group.
  • Y represents **-(R) p-.
  • R represents a hydrocarbon group. When a plurality of R's exist, they may be the same as each other or may be different from each other.
  • the hydrocarbon group may have one or more substituents.
  • the present invention it is possible to provide a composition that maintains the brightness in the process, reduces the residue during development, and also exhibits excellent solvent resistance after curing.
  • the composition of the present invention comprises quantum dots (A) and resin (B).
  • the composition of the present invention comprises a photopolymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), an antioxidant (E), a leveling agent (F), a solvent (G) and a light scattering agent (H), which will be described later.
  • the composition of the present invention preferably further contains a polymerizable compound (C) and a polymerization initiator (D).
  • Quantum dots (A) are semiconductor fine particles having a particle diameter of 1 nm or more and 100 nm or less, and are fine particles that absorb ultraviolet light or visible light and emit light by utilizing the band gap of the semiconductor.
  • Quantum dots (A) include CdS, CdSe, CdTe, ZnS, ZnSe, ZnTe, HgS, HgSe, HgTe, CdHgTe, CdSeS, CdSeTe, CdSte, ZnSeS, ZnSeTe, ZnSe, HgSe, ZnSe, HgSe, ZnS, and ZnSe.
  • the quantum dot (A) contains S or Se
  • the quantum dot surface-modified with a metal oxide or an organic substance may be used.
  • the quantum dots (A) may form a core-shell structure by combining the above compounds. Examples of such a combination include fine particles having a core of CdSe and a shell of ZnS.
  • the energy state of the quantum dot (A) depends on its size, it is possible to freely select the emission wavelength by changing the particle size.
  • the peak wavelengths of the fluorescence spectrum when the particle size is 2.3 nm, 3.0 nm, 3.8 nm, and 4.6 nm are 528 nm, 570 nm, 592 nm, and 637 nm, respectively. is there.
  • the light emitted from the quantum dots (A) has a narrow spectrum width, and by combining light having such a steep peak, the displayable color gamut of the display device is expanded.
  • the composition of the present invention may contain only quantum dots that emit light of a specific wavelength due to light emitted from a light source, or may contain two or more types of quantum dots that emit light of different wavelengths in combination. May be. Examples of the light having the specific wavelength include red light, green light, and blue light.
  • the content of the quantum dots (A) may be, for example, 0.1% by mass or more and 60% by mass or less, preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, based on the total solid content of the composition. More preferably, it is 20% by mass or more and 45% by mass or less.
  • the total amount of solid content means the total amount of components excluding the solvent (G) described later.
  • the content of the composition in the solid content can be measured by a known analytical means such as liquid chromatography or gas chromatography.
  • the polymer (B1) is a monomer (a) having a mercapto group (-SH) and a carboxy group (hereinafter, may be referred to as "(a)"), and an unsaturated carboxylic acid and an unsaturated carboxylic acid anhydride.
  • (C)" can be a polymer having a structural unit.
  • Examples of (a) include a carboxylic acid having a mercapto group and an anhydride thereof.
  • Examples of the carboxylic acid having a mercapto group include compounds represented by the following general formula (1).
  • R represents a hydrocarbon group. When a plurality of R's exist, they may be the same as each other or may be different from each other.
  • the hydrocarbon group may have one or more substituents. When a plurality of substituents are present, they may be the same or different, and they may be bonded to each other to form a ring with the atoms to which they are bonded.
  • -CH 2- contained in the above hydrocarbon group may be replaced with at least one of -O-, -CO- and -NH-.
  • p represents an integer from 1 to 10.
  • hydrocarbon group in R examples include a chain hydrocarbon group, an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group and the like.
  • the chain hydrocarbon group may be, for example, a linear or branched alkanediyl group, and the number of carbon atoms thereof is usually 1 to 50, preferably 1 to 20, and more preferably 1 to 10. Is.
  • Examples of the linear or branched alkanediyl group include a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, and a pentane-1,5-diyl group.
  • the alicyclic hydrocarbon group may be, for example, a monocyclic or polycyclic cycloalkanediyl group, and the number of carbon atoms thereof is usually 3 to 50, preferably 3 to 20, more preferably 3 to 3. It is 10.
  • Examples of the monocyclic or polycyclic cycloalkanediyl group include cyclobutane-1,3-diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group, norbornane-1,4-. Examples thereof include a diyl group, norbornane-2,5-diyl group, adamantane-1,5-diyl group, and adamantane-2,6-diyl.
  • the aromatic hydrocarbon group may be, for example, an arenediyl group, and the number of carbon atoms thereof is usually 6 to 20.
  • Examples of the monocyclic or polycyclic arenediyl group include a benzenediyl group, a naphthalenediyl group, an anthracenediyl group, a phenanthrenidyl group, a pyrenediyl group and the like.
  • substituents examples include a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 50 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms, an aryl group having 6 to 20 carbon atoms, a carboxy group, an amino group, a halogen atom and the like.
  • the alkyl group having 1 to 50 carbon atoms may be, for example, a saturated or unsaturated linear or branched alkyl group, and may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, or the like.
  • Examples thereof include a heptyl group, an octyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group, an isopentyl group, a neopentyl group and a 2-ethylhexyl group.
  • Examples of the cycloalkyl group having 3 to 50 carbon atoms include a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group.
  • Examples of the aryl group having 6 to 20 carbon atoms include a phenyl group, a biphenyl group, a tolyl group, a xsilyl group, an ethylphenyl group and a naphthyl group.
  • Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.
  • a carboxy group, an amino group and a halogen atom are preferable.
  • -CH 2- contained in the above hydrocarbon group is replaced with at least one of -O-, -CO- and -NH-, it is preferable that -CH 2- is replaced with -CO- and -NH-. At least one, more preferably -NH-. p is preferably 1 or 2.
  • Examples of the compound represented by the general formula (1) include compounds represented by the following formulas (1-1) to (1-9).
  • carboxylic acids having a mercapto group include mercaptoacetic acid, 2-mercaptopropionic acid, 3-mercaptopropionic acid, 3-mercaptobutanoic acid, 4-mercaptobutanoic acid, mercaptosuccinic acid, mercaptostearic acid, and mercaptooctane.
  • Acid, 4-mercaptobenzoic acid, 2,3,5,6-tetrafluoro-4-mercaptobenzoic acid, L-cysteine, N-acetyl-L-cysteine, 3-mercaptopropionic acid 3-methoxybutyl, 3-mercapto -2-Methylpropionic acid and the like can be mentioned. Of these, 3-mercaptopropionic acid and mercaptosuccinic acid are preferable.
  • (b) include unsaturated monocarboxylic acids such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, o-, m-, and p-vinylbenzoic acid; Maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, mesaconic acid, itaconic acid, 3-vinylphthalic acid, 4-vinylphthalic acid, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic acid, 1,2,3,6-tetrahydrophthalic acid, dimethyl Unsaturated dicarboxylic acids such as tetrahydrophthalic acid and 1,4-cyclohexendicarboxylic acid; Methyl-5-norbornene-2,3-dicarboxylic acid, 5-carboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5,6-dicarboxybicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-methylbicyclo [2.2.1] hept-2-ene, 5-carboxy-5-ethy
  • (meth) acrylic acid means acrylic acid and / or methacrylic acid.
  • (meth) acryloyl means acrylic acid and / or methacrylic acid.
  • Examples of (c) include a monomer (c1) having an unsaturated chain aliphatic hydrocarbon epoxidized structure and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter, may be referred to as “(c1)”), or an unsaturated chain.
  • Examples thereof include a monomer (c2) having an epoxidized structure of a saturated aliphatic hydrocarbon and an ethylenically unsaturated bond (hereinafter, may be referred to as “(c2)”).
  • (c) is preferably a monomer having an oxylanyl group and a (meth) acryloyloxy group. Further, (c) is preferably (c2).
  • (c1) examples include glycidyl (meth) acrylate, ⁇ -methylglycidyl (meth) acrylate, ⁇ -ethylglycidyl (meth) acrylate, glycidyl vinyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, and m-vinylbenzyl glycidyl.
  • Examples of (c2) include vinylcyclohexene monooxide, 1,2-epoxy-4-vinylcyclohexane (for example, celloxide 2000; manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd.), and 3,4-epoxycyclohexylmethylacrylate (for example, cyclomer A400). ; Made by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), 3,4-Epoxycyclohexylmethyl methacrylate (for example, Cyclomer M100; manufactured by Daicel Chemical Industry Co., Ltd.), a compound represented by the formula (2), represented by the formula (3). Examples thereof include the represented compounds.
  • R 4 and R 5 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group is a hydroxy group. It may be replaced with.
  • X 1 and X 2 independently represent a single bond, -R 6- , * -R 6- O-, * -R 6- S-, * -R 6- NH-.
  • R 6 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms. * Represents a bond with O.
  • alkyl group having 1 to 4 carbon atoms include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, and a tert-butyl group.
  • hydroxyalkyl group include a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-hydroxypropyl group, a 2-hydroxypropyl group, a 3-hydroxypropyl group, a 1-hydroxy-1-methylethyl group, and the like.
  • R 4 and R 5 include a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group and a 2-hydroxyethyl group, and more preferably a hydrogen atom and a methyl group.
  • the alkanediyl group includes a methylene group, an ethylene group, a propane-1,2-diyl group, a propane-1,3-diyl group, a butane-1,4-diyl group, a pentane-1,5-diyl group, and a hexane-. Examples include 1,6-diyl group.
  • the X 1 and X 2 preferably a single bond, a methylene group, an ethylene group, * - CH 2 -O -, * - CH 2 CH 2 -O- and the like, more preferably a single bond, * - CH 2 CH 2- O- can be mentioned. Note that * represents a bond with O.
  • Examples of the compound represented by the formula (2) include compounds represented by the formulas (2-1) to (2-15).
  • the formula (2-1), the formula (2-3), the formula (2-5), the formula (2-7), the formula (2-9), the formula (2-11) to the formula (2-15) It is a compound represented by, more preferably a compound represented by the formula (2-1), the formula (2-7), the formula (2-9), and the formula (2-15).
  • Examples of the compound represented by the formula (3) include compounds represented by the formulas (3-1) to (3-15).
  • the formula (3-1), the formula (3-3), the formula (3-5), the formula (3-7), the formula (3-9), the formula (3-11) to the formula (3-15) It is a compound represented by, more preferably a compound represented by the formula (3-1), the formula (3-7), the formula (3-9), and the formula (3-15).
  • the compound represented by the formula (2) and the compound represented by the formula (3) can be used independently. Also, they can be mixed in any ratio. When mixed, the mixing ratio is a molar ratio, preferably the compound represented by the formula (2): the compound represented by the formula (3), 5:95 to 95: 5, more preferably 10:90 to. It is 90:10, more preferably 20:80 to 80:20.
  • the polymer (B1) is derived from the structural units derived from (a), (b) and (c), the structural units derived from (b) and (c), and (b). Can have structural units to The polymer (B1) is a monomer (d) copolymerizable with (b) (however, a monomer different from (a), (b) and (c)) (hereinafter, “(d)”. It may have a structural unit derived from).
  • the polymer (B1) is, for example, a structural unit derived from (d), a structural unit derived from (b) and (d), a structural unit derived from (b), (c) and (d), ( It can have structural units and the like derived from a), (b), (c) and (d).
  • Examples of (d) include (meth) acrylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, and tert-butyl (meth) acrylate. Alkyl esters; Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohexyl (meth) acrylate, tricyclo [5.2.1.02,6] decane-8-yl (meth) acrylate (in the art, dicyclopentanyl is commonly used.
  • acrylic acids such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, and tert-butyl (meth) acrylate.
  • Alkyl esters Cyclohexyl (meth) acrylate, 2-methylcyclohex
  • Aryl (meth) acrylates such as phenyl (meth) acrylate and benzyl (meth) acrylate or aralkyl esters;
  • Dicarboxylic acid diesters such as diethyl maleate, diethyl fumarate, and diethyl itaconic acid;
  • (Meta) acrylate hydroxyalkyl esters such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate;
  • Styrenes such as styrene, ⁇ -methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, vinyltoluene, p-methoxystyrene; Acrylonitriles such as acrylonitrile and methacrylonitrile; vinyl compounds such as vinyl chloride, vinylidene chloride and vinyl acetate; acrylamides such as acrylamide and methacrylamide; 1,3-butadiene, isoprene, 2,3-dimethyl-1,3 -Diene compounds such as butadiene; 3-Methyl-3-methacrylloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-methacryloyloxymethyloxetane, 3-ethyl-3-acryloyloxymethyloxetane, 3-methyl-3 -Oxetanol group-containing (meth)
  • Examples thereof include tetrahydrofurfuryl acrylate (for example, Biscort V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), tetrahydrofurfuryl group-containing (meth) acrylic acid esters such as tetrahydrofurfuryl methacrylate.
  • tetrahydrofurfuryl acrylate for example, Biscort V # 150, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.
  • tetrahydrofurfuryl group-containing (meth) acrylic acid esters such as tetrahydrofurfuryl methacrylate.
  • styrene, dicyclopentenyl (meth) acrylate, N-phenylmaleimide, N-cyclohexylmaleimide, N-benzylmaleimide, and bicyclo [2.2.1] hept-2-ene are copolymerizable and alkaline. It is preferable from the viewpoint of solubility.
  • the ratio of each monomer to the total number of moles of the monomers constituting the polymer (B1) (hereinafter, , Also referred to as molar ratio) is preferably in the following range from the viewpoint of emission intensity, solvent resistance and developability.
  • the molar ratio of each monomer is from the viewpoint of emission intensity, solvent resistance and developability. Therefore, it is preferably in the following range.
  • the total number of moles of (b) and (c) is preferably 70 mol% or more and 99 mol% or less with respect to the total number of moles of all the structural
  • the polymer (B1) is, for example, the method described in the document "Experimental Method for Polymer Synthesis” (written by Takayuki Otsu, published by Kagaku Dojin Co., Ltd., 1st edition, 1st print, published on March 1, 1972). It can be manufactured with reference to the cited references described in the literature.
  • a method of heating and keeping warm while stirring in a deoxidized atmosphere by putting a predetermined amount of a monomer, a polymerization initiator, a solvent and the like in a reaction vessel and substituting oxygen with nitrogen is exemplified. Will be done.
  • the polymerization initiator, solvent, and the like used here are not particularly limited, and any of those usually used in the art can be used.
  • Examples of the polymerization initiator include azo compounds (2,2'-azobisisobutyronitrile, 2,2'-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile), etc.) and organic peroxides (benzoyl peroxide, etc.).
  • any solvent may be used as long as it dissolves each monomer, and a solvent or the like described later can be used as the solvent (G) of the composition of the present invention.
  • a method in which the monomers (b) and (d) are first reacted, then the monomer (c) is added and reacted, and then the monomer (a) is added and reacted. can be mentioned.
  • the obtained polymer (B1) may be used as it is after the reaction, or a concentrated or diluted solution may be used, or it is taken out as a solid (powder) by a method such as reprecipitation. You may use the one.
  • the solution after the reaction can be used as it is for the preparation of the curable resin composition, and the curable resin composition can be used as it is.
  • the manufacturing process of goods can be simplified.
  • the polymer (B1) can be a polymer having a structural unit represented by the following general formulas (ba), (bb) and (bc) (in the formula, a structure including a side chain in square brackets). .. [During the ceremony, R 61 , R 62 , and R 63 represent a hydrogen atom or a methyl group independently of each other. R 7 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and the hydrogen atom contained in the alkyl group may be substituted with a hydroxy group.
  • X represents * -R 8- X 3- , * -R 8- O-X 3- , * -R 8- S-X 3- , * -R 8- NH-X 3- .
  • R 8 represents an alkanediyl group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X 3 represents an ethylene group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, which has a hydroxy group.
  • Y represents **-(R) p-, and R and p are the same as the above definitions. ** represents a bond with S.
  • Z represents a carboxy group.
  • the structural unit represented by the general formula (ba) can be a structural unit derived from (a), (b), and (c).
  • the structural unit represented by the general formula (bb) can be a structural unit derived from (b).
  • the structural unit represented by the general formula (bc) can be a structural unit derived from (b) and (c).
  • alkyl group having 1 to 4 carbon atoms in R 7 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a tert-butyl group and the like. Can be mentioned.
  • the hydroxyalkyl group for R 7, hydroxymethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-hydroxypropyl group, 2-hydroxypropyl, 3-hydroxypropyl group, 1-hydroxy-1-methyl
  • R 7 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a hydroxymethyl group, a 1-hydroxyethyl group, or a 2-hydroxyethyl group, and more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
  • X is preferably * -C-X 3- , * -CH 2 CH 2- X 3- , * -CH 2- O-X 3- , * -CH 2 CH 2- O-X 3- .
  • the divalent alicyclic hydrocarbon group having a hydroxy group in X 3 for example, a group represented by the following formula.
  • Examples of X include groups represented by the following formulas (X-1) to (X-14).
  • Examples of Y include groups represented by the following formulas (Y-1) to (Y-8).
  • Examples of the combination of R 61 , R 62 , R 63 , R 7 , X and Y include the combinations (b-1) to (b-48) shown in Table 1 below.
  • the content of the structural units represented by the general formula (ba) is, for example, the polymer ( B1) Based on the total amount, it may be 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, and preferably 0.05% by mass or more and 5% by mass or less from the viewpoint of emission intensity, developability and solvent resistance, more preferably. Is 0.1% by mass or more and 3% by mass or less.
  • the content of the structural units represented by the general formula (bb) is, for example, the polymer ( B1) Based on the total amount, it may be 10% by mass or more and 80% by mass or less, preferably 20% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 30% by mass, from the viewpoint of emission intensity, developability and solvent resistance. It is 60% by mass or less.
  • the content of the structural units represented by the general formula (bc) is, for example, the polymer ( B1) Based on the total amount, it may be 10% by mass or more and 70% by mass or less, preferably 20% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 30% by mass, from the viewpoint of emission intensity, developability and solvent resistance. It is 50% by mass or less.
  • the polymer (B1) is preferably a polymer containing the structural units represented by the general formulas (ba), (bb) and (bc) in the main chain, and more preferably the main chain is the general formula (ba). , (Bb) and (bc), which is a polymer composed of the structural units represented by (bc) and (bc).
  • the number of sulfide groups in one molecule calculated from the charging ratio (hereinafter, also referred to as a modification amount calculated from the charging ratio) may be, for example, 0.5 or more and 3 or less, preferably. It is 0.75 or more and 2 or less.
  • the weight average molecular weight of the polymer (B1) may be, for example, 1,000 or more and 200,000 or less.
  • the weight average molecular weight of the polymer (B1) is preferably 3000 or more, more preferably 4000 or more, still more preferably 5000 or more, still more preferably 6000 or more, from the viewpoint of light emission amount, developability and heat resistance. Is.
  • the weight average molecular weight of the polymer (B1) is preferably 30,000 or less, more preferably 20,000 or less, still more preferably 15,000 or less, still more preferably 1 from the viewpoint of light emission amount, developability and heat resistance. It is less than 10,000.
  • the weight average molecular weight is determined by the method described in Examples described later.
  • the acid value of the polymer (B1) is in the range of 90 mgKOH / g or more and 150 mgKOH / g or less based on the solid content. If the acid value is less than 90 mgKOH / g, the solubility in an alkaline developer becomes low and a residue may be left on the substrate, and if the acid value exceeds 150 mgKOH / g, pattern peeling may occur. It gets higher.
  • the acid value of the polymer (B1) is preferably in the range of 95 mgKOH / g or more and 140 mgKOH / g or less, and more preferably 100 mgKOH / g or more and 130 mgKOH / g or less from the viewpoint of developability.
  • the acid value is a value measured as the amount (mg) of potassium hydroxide required to neutralize 1 g of the polymer (B1), and can be determined by titration using, for example, an aqueous potassium hydroxide solution. ..
  • the acid value of the polymer (B1) is measured according to the measurement method in the column of Examples described later.
  • the polymer (B1) can contain, for example, a resin having an acrylic equivalent of 300 g / eq or more and 2000 g / eq or less (hereinafter, also referred to as an acrylic resin).
  • the acrylic resin preferably has an acrylic equivalent of 500 g / eq or more and 1500 g / eq or less.
  • the polymer (B1) contains an acrylic resin, it tends to be easy to prevent development that is quenched during the color filter process.
  • the polymer (B1) contains a resin having an acrylic equivalent of more than 2000 g / eq, it tends to be difficult to obtain the ability to effectively protect the quantum dots, and the resin having an acrylic equivalent of less than the above range. If it is contained, it tends to be easily peeled off without being dissolved during development.
  • the polymer (B1) is an acrylic resin.
  • Examples of the resin (B) include alkali-soluble resins described in JP-A-2018-123274. Specifically, the side chain has a double bond, and the main chain has a structural unit ( ⁇ ) represented by the following general formula (4) and a structural unit ( ⁇ ) represented by the following general formula (5). ), And can further contain a polymer (B2) containing an acid group.
  • the acid group may be introduced into the resin, for example, by the resin (B2) containing a structural unit ( ⁇ ) derived from an acid group-containing monomer (for example, (meth) acrylic acid). it can.
  • the resin (B2) preferably contains the structural units ( ⁇ ), ( ⁇ ) and ( ⁇ ) in the main clavicle.
  • R 9 and R 10 represent the same or different hydrocarbon groups or hydrocarbon groups having 1 to 25 carbon atoms.
  • n represents the average number of repeating units of the structural units represented by the general formula (4), and is a number of 1 or more.
  • R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group, which is the same or different.
  • R 12 represents a linear or branched chain hydrocarbon group having 4 to 20 carbon atoms, which is the same or different.
  • m represents the average number of repeating units of the structural units represented by the general formula (5), and is a number of 1 or more.
  • the content ratio of the structural unit ( ⁇ ) is, for example, 100% by mass of the total amount of all the monomer units giving the main chain skeleton of the polymer (B2) from the viewpoint of heat resistance and storage stability. , 0.5% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 1% by mass or more and 40% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 30% by mass or less.
  • N in the general formula (4) represents the average number of repeating units of the structural unit ( ⁇ ) in the polymer (B2), and n is set so that the content ratio of the structural unit ( ⁇ ) is within the above range. be able to.
  • the content ratio of the structural unit ( ⁇ ) is, for example, 10% by mass or more and 90% by mass or less with respect to 100% by mass of the total amount of all the monomer units giving the main chain skeleton of the polymer (B2). It may be, preferably 20% by mass or more and 80% by mass or less, and more preferably 30% by mass or more and 75% by mass or less.
  • M in the general formula (5) represents the average number of repeating units of the structural unit ( ⁇ ) in the polymer (B2), and m is set so that the content ratio of the structural unit ( ⁇ ) is within the above range. can do.
  • the content ratio of the structural unit ( ⁇ ) is, for example, 0. From the viewpoint of solubility in an alkaline substance and solubility in a solvent, for example, with respect to 100% by mass of the total amount of all the monomer units giving the main chain skeleton of the polymer (B2). It may be 5% by mass or more and 50% by mass or less, preferably 2% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 5% by mass or more and 45% by mass or less.
  • the content of the resin (B) in the composition may be, for example, 5% by mass or more and 80% by mass or less with respect to the total solid content of the composition, which is preferable from the viewpoint of light emission intensity, developability and solvent resistance. Is 10% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 13% by mass or more and 60% by mass or less, and further preferably 17% by mass or more and 55% by mass or less.
  • Photopolymerizable compound (C) is a compound that can be polymerized by active radicals, acids, etc. generated from the photopolymerization initiator (D) described later, and examples thereof include compounds having an ethylenically unsaturated bond, which is preferable.
  • (meth) acrylic acid represents at least one kind selected from the group consisting of acrylic acid and methacrylic acid. Notations such as "(meth) acryloyl" and "(meth) acrylate” have the same meaning.
  • the photopolymerizable compound (C) is preferably a polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated bonds.
  • examples of such polymerizable compounds include trimethylolpropantri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, and dipentaerythritol hexa (dipentaerythritol hexa ().
  • the content of the photopolymerizable compound (C) in the composition is preferably, for example, 7% by mass or more and 60% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 45% by mass, based on the total solid content of the composition. It is 1% by mass or less, and more preferably 13% by mass or more and 30% by mass or less. When the content of the photopolymerizable compound (C) is within the above range, the residual film ratio of the curing pattern and the chemical resistance of the curing pattern tend to be further improved.
  • the photopolymerization initiator (D) is a compound capable of initiating polymerization by generating active radicals, acids, etc. by the action of light or heat, and is a group consisting of an oxime compound, a biimidazole compound, a triazine compound, and an acylphosphine compound. Can include at least one selected from. Above all, it is preferable to contain an oxime compound. When these polymerization initiators are used, the residual film ratio of the curing pattern is increased.
  • the oxime compound, the biimidazole compound, the triazine compound and the acylphosphine compound tend to have higher polymerization sensitivity during the production of the cured film, and therefore are preferably compounds having at least two aromatic rings in the molecule. ..
  • the aromatic ring include a 5-membered ring such as a furan ring, a pyrrole ring, an imidazole ring, a thiophene ring and a thiazole ring, a 6-membered ring such as a benzene ring, a pyridine ring, a pyrimidine ring and a triazine ring, and a fused ring thereof. Be done.
  • the oxime compound is preferably an O-acyloxime compound, and is a compound having a partial structure represented by the formula (d1).
  • * represents a bond.
  • Examples of the oxime compound include N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butane-1-one-2-imine and N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-.
  • the oxime compounds are N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) butane-1-one-2-imine and N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-.
  • At least one selected from the group consisting of 2-imine and N-benzoyloxy-1- (4-phenylsulfanylphenyl) -3-cyclopentylpropane-1-one-2-imine is preferable, and N-benzoyloxy-1-( 4-Phenylsulfanylphenyl) octane-1-one-2-imine is more preferred.
  • the biimidazole compound is, for example, a compound represented by the formula (d5).
  • R 51 to R 56 represent an aryl group having 6 to 10 carbon atoms which may have a substituent. ]
  • Examples of the aryl group having 6 to 10 carbon atoms include a phenyl group, a toluyl group, a xsilyl group, an ethylphenyl group and a naphthyl group, and a phenyl group is preferable.
  • Examples of the substituent include a halogen atom and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an iodine atom and the like, and a chlorine atom is preferable.
  • Examples of the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, a butoxy group and the like, and a methoxy group is preferable.
  • biimidazole compound examples include 2,2'-bis (2-chlorophenyl) -4,4', 5,5'-tetraphenylbiimidazole and 2,2'-bis (2,3-dichlorophenyl) -4.
  • the phenyl group at the 4,4'5,5'-position is substituted with a carboalkoxy group.
  • examples thereof include imidazole compounds (see, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-10913). Of these, compounds represented by the following formulas or mixtures thereof are preferable.
  • triazine compound examples include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine and 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxy).
  • acylphosphine compound examples include bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, (2,4,6-trimethylbenzoyl) diphenylphosphine oxide and the like.
  • the above-mentioned photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more photopolymerization initiators.
  • two or more photopolymerization initiators may be combined with known polymerization initiators other than the above-mentioned oxime compound, biimidazole compound, triazine compound, and acylphosphine compound.
  • Known photopolymerization initiators include benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether; benzophenone, methyl o-benzoyl benzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4.
  • Benzophenone compounds such as'-methyldiphenylsulfide, 3,3', 4,4'-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone Kinone compounds such as 9,10-phenanthrene quinone, 2-ethylanthraquinone, and camphorquinone; 10-butyl-2-chloroacrydone, benzyl, methyl phenylglycioxylate, titanosen compounds and the like can be mentioned.
  • the combination of two or more photopolymerization initiators includes an oxime compound and a biimidazole compound, an oxime compound and a triazine compound, an oxime compound and an acylphosphine compound, a biimidazole compound and a triazine compound, a biimidazole compound and an acylphosphine compound, and a triazine compound.
  • examples thereof include combinations of acylphosphine compounds and the like.
  • photopolymerization initiator (D1) is a compound or a sensitizer used to promote the polymerization of a photopolymerizable compound whose polymerization has been initiated by the photopolymerization initiator, and is a photopolymerization initiator (D1). Is usually used in combination with a photopolymerization initiator.
  • the photopolymerization initiator (D1) include amine compounds, alkoxyanthracene compounds, thioxanthone compounds and carboxylic acid compounds.
  • Examples of the amine compound include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, 2-dimethylaminoethyl benzoate, 4- 2-Ethylhexyl dimethylaminobenzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone, 4,4'-bis ( Ethylmethylamino) benzophenone and the like can be mentioned, with 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone being preferred.
  • Commercially available products such as EAB-F (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.) may be used.
  • alkoxyanthracene compound examples include 9,10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene, and 9,10-dibutoxy.
  • Anthracene, 2-ethyl-9,10-dibutoxyanthracene and the like can be mentioned.
  • thioxanthone compound examples include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone and the like.
  • carboxylic acid compound examples include phenylsulfanyl acetic acid, methylphenylsulfanyl acetic acid, ethylphenylsulfanyl acetic acid, methylethylphenylsulfanyl acetic acid, dimethylphenylsulfanyl acetic acid, methoxyphenyl sulfanic acetic acid, dimethoxyphenyl sulfanyl acetic acid, chlorophenylsulfanyl acetic acid, dichlorophenylsulfanyl acetic acid, and N.
  • -Phenylglycine, phenoxyacetic acid, naphthylthioacetic acid, N-naphthylglycine, naphthoxyacetic acid and the like can be mentioned.
  • the content of the photopolymerization initiator (D) is preferably 0.1 part by mass or more and 300 parts by mass or less, and more preferably 0.1 part by mass or more, with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound (C). It is 200 parts by mass or less.
  • the content of the photopolymerization initiator (D) is preferably 0.1 part by mass or more and 30 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin (D) and the photopolymerizable compound (C). It is preferably 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less.
  • the content of the photopolymerization initiator (D) is within the above range, the sensitivity tends to be increased and the exposure time tends to be shortened, so that the productivity of the cured film is improved.
  • the content of the photopolymerization initiator (D1) is preferably 0.1 part by mass or more and 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photopolymerizable compound (C). It is not more than parts by mass, and more preferably 0.1 part by mass or more and 200 parts by mass or less.
  • the content of the photopolymerization initiator (D) is preferably 0.1 part by mass or more and 30 parts by mass or less, more preferably, with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin (D) and the photopolymerizable compound (C). It is 1 part by mass or more and 20 parts by mass or less.
  • amount of the photopolymerization initiator (D1) is within this range, a cured film tends to be formed with higher sensitivity.
  • the antioxidant (E) is not particularly limited as long as it is an industrially commonly used antioxidant, and is a phenol-based antioxidant, a phosphorus-based antioxidant, a phosphorus / phenol composite type antioxidant, and a sulfur-based antioxidant. Antioxidants and the like can be used. Two or more kinds of antioxidants (E) may be used in combination.
  • the phosphorus / phenol complex type antioxidant can be a compound having one or more phosphorus atoms and one or more phenol structures in the molecule. Of these, a phosphorus / phenol composite type antioxidant is preferable from the viewpoint of developability and luminescence intensity.
  • phenolic antioxidant examples include Irganox (registered trademark) 1010 (Irganox 1010: pentaerythritol tetrakis [3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate], manufactured by BASF Co., Ltd.
  • Examples of phosphorus-based antioxidants include Irgafos (registered trademark) 168 (Irgafos). 168: Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, manufactured by BASF Co., Ltd., 12 (Irgafos 12: Tris [2-[[2,4,8,10-tetra-t-butyl) Dibenzo [d, f] [1,3,2] dioxaphosphin-6-yl] oxy] ethyl] amine, manufactured by BASF Co., Ltd., 38 (Irgafos 38: bis (2,4-bis (1)) , 1-Dimethylethyl) -6-Methylphenyl) Ethyl ester phosphite, BASF Co., Ltd.), ADEKA STAB (registered trademark) 329K, PEP36, PEP-8 (above, ADEKA Co., Ltd.), Sandstab Examples thereof include
  • Examples of phosphorus / phenol complex antioxidants include Sumilyzer® GP (6- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propoxy] -2,4,8,10. -Tetra-t-butyldibenz [d, f] [1.3.2] dioxaphosphepine) (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
  • sulfur-based antioxidant examples include dialkylthiodipropionate compounds such as dilauryl thiodipropionate, dimyristyl or distearyl, and ⁇ -alkyl mercaptopropionic acid ester compounds of polyols such as tetrakis [methylene (3-dodecylthio) propionate] methane. Can be mentioned.
  • the content of the antioxidant (E) may be, for example, 1 part by mass or more and 50 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the resin (B), and is preferably 5 parts by mass or more from the viewpoint of light emission amount and heat resistance. It is 40 parts by mass or less, more preferably 7 parts by mass or more and 30 parts by mass or less, and further preferably 11 parts by mass or more and 25 parts by mass or less.
  • Leveling agent (F) examples include a silicone-based surfactant, a fluorine-based surfactant, and a silicone-based surfactant having a fluorine atom. These may have a polymerizable group in the side chain.
  • the leveling agent (F) is preferably a fluorine-based surfactant from the viewpoint of developability and light emission intensity.
  • silicone-based surfactant examples include surfactants having a siloxane bond in the molecule.
  • Torre Silicone DC3PA, SH7PA, DC11PA, SH21PA, SH28PA, SH29PA, SH30PA, SH8400 (trade name: manufactured by Toray Dow Corning Co., Ltd.), KP321, KP322, KP323, KP324 , KP326, KP340, KP341 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), TSF400, TSF401, TSF410, TSF4300, TSF4440, TSF4445, TSF4446, TSF4452 and TSF4460 (manufactured by Momentive Performance Materials Japan GK). ..
  • fluorine-based surfactant examples include surfactants having a fluorocarbon chain in the molecule. Specifically, Florard (registered trademark) FC430, FC431 (manufactured by Sumitomo 3M Ltd.), Megafuck (registered trademark) F142D, F171, F172, F173, F177, F183, F554, and F554.
  • F575, R30, RS-718-K (manufactured by DIC Co., Ltd.), Ftop (registered trademark) EF301, EF303, EF351, EF352 (manufactured by Mitsubishi Materials Electronics Co., Ltd.), Surflon (registered trademark) ) S381, S382, SC101, SC105 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), E5844 (manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratory Co., Ltd.) and the like.
  • silicone-based surfactant having a fluorine atom examples include a surfactant having a siloxane bond and a fluorocarbon chain in the molecule. Specific examples thereof include MegaFvck (registered trademark) R08, BL20, F475, F477 and F443 (manufactured by DIC Corporation).
  • the content of the leveling agent (F) may be, for example, 0.001% by mass or more and 1.0% by mass or less, preferably 5% by mass or more and 0.75% by mass or less, based on the total amount of the composition. It is preferably 0.01% by mass or more and 0.5% by mass or less, and more preferably 0.05% by mass or more and 0.5% by mass or less.
  • the content of the leveling agent (F) is within the above range, the flatness of the cured film can be further improved.
  • the solvent (G) is not particularly limited as long as it dissolves the resin (B), the photopolymerizable compound (C) and the photopolymerization initiator (D), and a solvent usually used in the art can be used. it can.
  • a solvent usually used in the art can be used. it can.
  • ester solvent solvent containing -COO- in the molecule and not containing -O-
  • ether solvent solvent containing -O- in the molecule and not containing -COO-
  • ether ester solvent solvent containing -COO- in the molecule
  • ether ester solvent solvent in the molecule
  • ester solvent examples include methyl lactate, ethyl lactate, n-butyl lactate, methyl 2-hydroxyisobutate, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, n-pentyl formate, isopentyl acetate, n-butyl propionate, and isopropyl butyrate.
  • ether solvent examples include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol monomethyl ether, and propylene glycol monoethyl ether.
  • ether ester solvent examples include methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, 3-ethoxy.
  • Ethyl propionate methyl 2-methoxypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, Ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monopropyl ether acetate, ethylene glycol monomethyl Examples thereof include ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate and diethylene glycol monobutyl ether acetate.
  • Ketone solvents include 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, acetone, 2-butanone, 2-heptanone, 3-heptanone, 4-heptanone, 4-methyl-2-pentanone, cyclopentanone, cyclohexanone and isophorone. And so on.
  • alcohol solvent examples include methanol, ethanol, propanol, butanol, hexanol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, glycerin and the like.
  • aromatic hydrocarbon solvent examples include benzene, toluene, xylene and mesitylene.
  • amide solvent examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone.
  • the solvent (G) is a component other than the solid content, and is a component that also contains a solvent contained in, for example, quantum dots (A) and resin (B).
  • the content of the solvent (G) is the ratio of the total mass of all the solvents contained in the composition to the total amount of the composition, and may be, for example, 40% by mass or more and 95% by mass or less with respect to the total amount of the composition. It is preferably 50% by mass or more and 90% by mass or less.
  • the solid content of the composition is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less.
  • Light scattering agent (H) The composition of the present invention can further contain a light scattering agent (H).
  • the light scattering agent (H) include metal or metal oxide particles, glass particles, and the like.
  • the metal oxide include TiO 2 , SiO 2 , BaTiO 3 , ZnO and the like.
  • the particle size of the light scattering agent (H) is, for example, about 0.03 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, preferably 0.05 ⁇ m or more and 1 ⁇ m or less, and more preferably 0.05 ⁇ m or more and 0.5 ⁇ m or less.
  • the content of the light scattering agent (H) in the composition may be, for example, 0.001% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total solid content of the composition, which is preferable from the viewpoint of developability and emission intensity. Is 1% by mass or more and 30% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 10% by mass or less.
  • the light scattering agent (H) can be a light scattering agent (H) previously dispersed in a part of the organic solvent (G) using a dispersant (J).
  • a dispersant (J) for example, a commercially available product can be used.
  • composition of the present invention further contains additives known in the art such as polymerization inhibitors, fillers, other polymer compounds, adhesion promoters, light stabilizers, chain transfer agents, etc., if necessary. It may be.
  • the composition is produced by a quantum dot (A), a resin (B), a polymerizable compound (C), a photopolymerization initiator (D), an antioxidant (E), a leveling agent (F), and a solvent (G). , As well as the step of mixing other components used as needed.
  • the cured film of the present invention can be obtained by applying the composition of the present invention to a substrate and curing it by the action of light or heat.
  • the cured film of the present invention may be formed on the entire surface of the substrate or may be formed on a part of the substrate (that is, a curing pattern).
  • Examples of the method for forming a cured film on a part of the substrate include a photolithography method, an inkjet method, a printing method and the like. Above all, the photolithography method is preferable.
  • the photolithography method is a method in which the composition of the present invention is applied to a substrate, dried if necessary to form a composition layer, and the composition layer is exposed and developed through a photomask.
  • the composition of the present invention is applied to the substrate and dried if necessary to form a composition layer, and the composition layer is heated and / or the composition layer is formed.
  • An example is a method of exposing the entire surface.
  • the substrate includes a glass plate such as quartz glass, borosilicate glass, alumina silicate glass, soda lime glass whose surface is silica-coated, a resin plate such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, or polyethylene terephthalate, silicon, or the above substrate.
  • a glass plate such as quartz glass, borosilicate glass, alumina silicate glass, soda lime glass whose surface is silica-coated
  • a resin plate such as polycarbonate, polymethyl methacrylate, or polyethylene terephthalate, silicon, or the above substrate. Examples include those formed with aluminum, silver, silver / copper / palladium alloy thin films, and the like.
  • the formation of the curing pattern by the photolithography method can be performed by known or conventional equipment and conditions. For example, it can be produced as follows. First, a curable composition is applied onto a substrate, and volatile components such as a solvent are removed by heat drying (prebaking) and / or vacuum drying to obtain a composition layer. Examples of the coating method include a spin coating method, a slit coating method, a slit and spin coating method, and the like.
  • the temperature at the time of heat drying is preferably 30 to 120 ° C, more preferably 50 to 110 ° C.
  • the heating time is preferably 10 seconds to 60 minutes, more preferably 30 seconds to 30 minutes.
  • the film thickness of the composition layer is not particularly limited and may be appropriately selected depending on the film thickness of the target curing pattern. For example, it may be 0.5 ⁇ m or more and 20 ⁇ m or less, preferably 3 ⁇ m or more and 18 ⁇ m or less. It is preferably 5 ⁇ m or more and 16 ⁇ m or less.
  • the composition layer is then exposed via a photomask to form the desired curing pattern.
  • the pattern on the photomask is not particularly limited.
  • a light source that generates light having a wavelength of 250 to 450 nm is preferable.
  • light in the vicinity of 436 nm, 408 nm, or 365 nm may be selectively extracted from the light of the wavelength by a bandpass filter, depending on the absorption wavelength of the polymerization initiator.
  • Specific examples thereof include mercury lamps, light emitting diodes, metal halide lamps, halogen lamps and the like.
  • An exposure device such as a mask aligner and a stepper is used to uniformly irradiate the entire exposed surface with parallel rays and to accurately align the photomask with the substrate on which the composition layer is formed. Is preferable.
  • the exposed composition layer is cured by polymerizing the polymerizable compound and the like contained in the composition layer.
  • the unexposed portion of the composition layer is dissolved in the developing solution and removed to obtain a cured pattern.
  • the developing solution include an aqueous solution of an alkaline compound such as potassium hydroxide, sodium hydrogen carbonate, sodium carbonate, and tetramethylammonium hydroxide, and an organic solvent.
  • the concentration of the alkaline compound in the aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 0.03% by mass or more and 5% by mass or less.
  • the organic solvent include the same as the above-mentioned solvent (G).
  • the developer may contain a surfactant.
  • the developing method may be any of a paddle method, a dipping method, a spray method and the like. Further, the substrate may be tilted at an arbitrary angle during development.
  • the heating temperature is preferably 150 to 250 ° C, more preferably 160 to 235 ° C.
  • the heating time is preferably 1 to 120 minutes, more preferably 10 to 60 minutes.
  • the cured film of the present invention can emit light having a wavelength different from that of the irradiation light.
  • the wavelength of the emitted light can be selected by selecting the quantum dot component and the particle size in the composition used for forming the cured film of the present invention.
  • the cured film of the present invention has a function of converting the wavelength of irradiation light as described above, it can be used as a color conversion layer of a display device. Examples of such a display device include JP-A-2006-309219, JP-A-2006-310303, JP-A-2013-15812, JP-A-2009-251129, JP-A-2014-2363, and the like. Examples of the display device described in.
  • composition of the present invention is useful as a color conversion layer for display devices, especially liquid crystal display devices, because a film having a high development speed and high emission intensity tends to be obtained even with a thick film.
  • Another gist of the present invention is a resin having a sulfide group, a carboxy group, and an unsaturated double bond (hereinafter, also referred to as resin (I)).
  • the resin (I) can be the polymer (B1) described above.
  • the curable composition (X) is applied onto a 5 cm square glass substrate (Eagle 2000; manufactured by Corning Inc.) by a spin coating method so that the film thickness becomes 10 ⁇ m, and then prebaked at 100 ° C. for 3 minutes to cure. A sex composition layer was formed.
  • the substrate on which this curable composition layer was formed was irradiated with light using an exposure machine (TME-150RSK; manufactured by Topcon Corporation) at an exposure amount of 500 mJ / cm 2 (365 nm standard) in an air atmosphere. Then, after development, post-baking was performed at 180 ° C. for 60 minutes to obtain a substrate having a cured film.
  • Spectrometer Ocean Optics
  • the composition was applied onto a 5 cm square glass substrate (Eagle 2000; manufactured by Corning Inc.) by a spin coating method so that the film thickness was 10 ⁇ m, and then prebaked at 100 ° C. for 3 minutes to form a composition layer. , Immersed in a developing solution (0.05% aqueous potassium hydroxide solution) for development. The surface of the developed glass substrate was observed with reflected light from a fluorescent lamp, and the presence or absence of residue in the composition layer was evaluated.
  • a developing solution 0.05% aqueous potassium hydroxide solution
  • the weight average molecular weight (Mw) of the resin was measured by the GPC method under the following conditions.
  • [Acid value] 3 g of the resin solution is precisely weighed, dissolved in a mixed solvent of 90 g of acetone and 10 g of water, and an automatic titrator (manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd., trade name: COM-555) using a 0.1N KOH aqueous solution as a titrator. ), The acid value of the polymer solution was measured, and the acid value (AV) per 1 g of the solid content was determined from the acid value of the solution and the solid content of the solution.
  • Solid content About 1 g of the polymer solution was weighed in an aluminum cup, dried at 180 ° C. for 1 hour, and then the mass was measured. The solid content (mass%) of the polymer solution was calculated from the amount of mass reduction.
  • Example 1 Resin (B-1) 110 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA”) was put into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel, and a nitrogen introduction tube, and then stirred while substituting nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. 10 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate, 45 parts by mass of benzyl methacrylate, 45 parts by mass of methacrylic acid, and 7 parts by mass of 2,2′-azobis (2.4-dimethylvaleronitrile) dissolved in 110 parts by mass of PGMEA were added dropwise.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • Example 2 Resin (B-2) A resin (B-2) solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.8 parts by mass of mercaptopropionic acid was added instead of 0.4 parts by mass of mercaptopropionic acid in Example 1. It was. The results are shown in Table 3.
  • Example 3 Resin (B-3) A resin (B-3) solution was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.6 parts by mass of mercaptosuccinic acid was added instead of 0.4 parts by mass of mercaptopropionic acid in Example 1. It was. The results are shown in Table 3.
  • Example 4 Resin (B-4) 110 parts by mass of propylene glycol monomethyl ether acetate (hereinafter referred to as "PGMEA”) was put into a flask equipped with a stirrer, a reflux condenser with a thermometer, a dropping funnel, and a nitrogen introduction tube, and then stirred while substituting nitrogen. The temperature was raised to 80 ° C. 10 parts by mass of dicyclopentanyl methacrylate, 45 parts by mass of benzyl methacrylate, 45 parts by mass of methacrylate, and 12.5 parts by mass of 2,2'-azobis (2.4-dimethylvaleronitrile) dissolved in 110 parts by mass of PGMEA.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • Ligand-containing quantum dots (A-1): Toluene dispersion of InP / ZnSeS quantum dots coordinated with oleic acid (solid content 10%)
  • Photopolymerizable compound (C-1): M-510 (multi-base modified acrylate, manufactured by Toagosei Co., Ltd.)
  • Photopolymerization Initiator (D-1): OXE02 (Oxime Initiator, manufactured by BASF)
  • Antioxidant (E-1): Sumilizer-GP (phosphorus / phenol complex type, antioxidant, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.)
  • Leveling agent (F-1): Tore Silicone SH8400 (Silicone-based leveling agent, manufactured by Toredau Co., Ltd.)
  • Solvent (G-1): PGMEA (Propylene Glycol Monomethyl Ether Acetate)

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Abstract

量子ドット（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを含み、樹脂（Ｂ）は、スルフィド基と、カルボキシル基と、不飽和二重結合とを有する重合体（Ｂ１）を含む、組成物。

Description

組成物および表示装置
　本発明は、組成物に関し、さらには表示装置にも関する。
　特許文献１には、下記一般式で表わされる構造部位を有する重合体と量子ドットとを含有する硬化性樹脂組成物が提案されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
特開２０１６－６５１７８号公報
　特許文献１に記載の量子ドットを含む硬化性樹脂組成物では、硬化膜を作製する工程において輝度が十分に維持されず、及び現像時に残渣が生じることがあった。また、量子ドットを含む硬化性樹脂組成物の硬化物を含む膜上に、有機溶剤を含むハードコート層形成用組成物や着色層形成用組成物を用いてハードコート層や着色層を形成することがあり、硬化後の耐溶剤性もまた求められている。
　本発明の目的は、硬化膜を作製する工程において輝度を維持する共に現像時の残渣を低減し、硬化後に優れた耐溶剤性をも発揮する組成物を提供することである。
　本発明は、以下の組成物及び表示装置を提供する。
［１］　量子ドット（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを含み、
　前記樹脂（Ｂ）は、スルフィド基と、カルボキシ基と、不飽和二重結合とを有する重合体（Ｂ１）を含む、組成物。
［２］　前記重合体（Ｂ１）は、メルカプト基及びカルボキシ基を有する単量体（ａ）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種である単量体（ｂ）と、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｃ）とに由来する構造単位を有する重合体である、［１］に記載の組成物。
［３］　前記メルカプト基及びカルボキシ基を有する単量体は、一般式（１）で表される化合物を含む、［２］に記載の組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
［式中、
　Ｒは、炭化水素基を表す。複数のＲが存在する場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。前記炭化水素基は１以上の置換基を有していてよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。
　ｐは、１～１０の整数を表す。］
［４］　前記オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｃ）は、不飽和鎖式脂肪族炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ１）、及び不飽和脂環式炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ２）の少なくともいずれか一方を含む、［２］又は［３］に記載の組成物。［５］　前記重合体（Ｂ１）は、一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構造単位を有する、［１］～［４］のいずれかに記載の組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
［式中、
　Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３は、互いに独立して、水素原子又はメチル基を表す。
　Ｒ７は、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
　Ｘは、＊－Ｒ８－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｏ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｓ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－ＮＨ－Ｘ３－を表す。＊は、Ｒ７側の酸素原子との結合手を表す。Ｒ８は、炭素原子数１～６のアルカンジイル基を表す。Ｘ３は、エチレン基又は二価の脂環式炭化水素基を表し、これらはヒドロキシ基を有する。
　Ｙは、＊＊－（Ｒ）ｐ－を表す。Ｒは、炭化水素基を表す。複数のＲが存在する場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。前記炭化水素基は１以上の置換基を有していてよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。＊＊は、Ｓとの結合手を表す。ｐは、１～１０の整数を表す。
　Ｚは、カルボキシ基を表す。］
［６］　重合性化合物（Ｃ）と重合開始剤（Ｄ）とをさらに含む、［１］～［５］のいずれかに記載の組成物。
［７］　［１］～［６］のいずれかに記載の組成物から形成される硬化膜。
［８］　［７］に記載の硬化膜を含む表示装置。
［９］　スルフィド基と、カルボキシ基と、不飽和二重結合とを有する樹脂。
　本発明によれば、工程中での輝度を維持する共に現像時の残渣を低減し、硬化後に優れた耐溶剤性をも発揮する組成物を提供することができる。
　＜組成物＞
　本発明の組成物は、量子ドット（Ａ）および樹脂（Ｂ）を含む。本発明の組成物は、後述する光重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、レベリング剤（Ｆ）、溶剤（Ｇ）および光散乱剤（Ｈ）からなる群から選択される少なくとも１種をさらに含むことができる。本発明の組成物は、好ましくは重合性化合物（Ｃ）と重合開始剤（Ｄ）とをさらに含む。
　［１］量子ドット（Ａ）
　量子ドット（Ａ）は、粒子径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下の半導体微粒子であり、半導体のバンドギャップを利用し、紫外光または可視光を吸収して発光する微粒子である。
　量子ドット（Ａ）としては、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＨｇＳ、ＨｇＳｅ、ＨｇＴｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＣｄＳｅＳ、ＣｄＳｅＴｅ、ＣｄＳＴｅ、ＺｎＳｅＳ、ＺｎＳｅＴｅ、ＺｎＳＴｅ、ＨｇＳｅＳ、ＨｇＳｅＴｅ、ＨｇＳＴｅ、ＣｄＺｎＳ、ＣｄＺｎＳｅ、ＣｄＺｎＴｅ、ＣｄＨｇＳ、ＣｄＨｇＳｅ、ＣｄＨｇＴｅ、ＨｇＺｎＳ、ＨｇＺｎＳｅ、ＨｇＺｎＴｅ、ＣｄＺｎＳｅＳ、ＣｄＺｎＳｅＴｅ、ＣｄＺｎＳＴｅ、ＣｄＨｇＳｅＳ、ＣｄＨｇＳｅＴｅ、ＣｄＨｇＳＴｅ、ＨｇＺｎＳｅＳ、ＨｇＺｎＳｅＴｅ、ＨｇＺｎＳＴｅ等の１２族元素と１６族元素との化合物；ＧａＮ、ＧａＰ、ＧａＡｓ、ＡｌＮ、ＡｌＰ、ＡｌＡｓ、ＩｎＮ、ＩｎＰ、ＩｎＡｓ、ＧａＮＰ、ＧａＮＡｓ、ＧａＰＡｓ、ＡｌＮＰ、ＡｌＮＡｓ、ＡｌＰＡｓ、ＩｎＮＰ、ＩｎＮＡｓ、ＩｎＰＡｓ、ＧａＡｌＮＰ、ＧａＡｌＮＡｓ、ＧａＡｌＰＡｓ、ＧａＩｎＮＰ、ＧａＩｎＮＡｓ、ＧａＩｎＰＡｓ、ＩｎＡｌＮＰ、ＩｎＡｌＮＡｓ、ＩｎＡｌＰＡｓ等の１３族元素と１５族元素との化合物；ＰｄＳ、ＰｂＳｅ等の１４族元素と１６族元素との化合物等が挙げられる。
　量子ドット（Ａ）がＳやＳｅを含む場合、金属酸化物や有機物で表面修飾した量子ドットを使用してもよい。表面修飾した量子ドットを使用することで、有機層を形成する材料中の反応成分によってＳやＳｅが引き抜かれることを防止することができる。
　また量子ドット（Ａ）は、上記の化合物を組み合わせてコアシェル構造を形成していてもよい。このような組合せとしては、コアがＣｄＳｅであり、シェルがＺｎＳである微粒子等が挙げられる。
　量子ドット（Ａ）のエネルギー状態はその大きさに依存するため、粒子径を変えることにより自由に発光波長を選択することが可能である。例えば、ＣｄＳｅのみから構成される量子ドットの場合、粒子径が２．３ｎｍ、３．０ｎｍ、３．８ｎｍ、４．６ｎｍの時の蛍光スペクトルのピーク波長は、それぞれ５２８ｎｍ、５７０ｎｍ、５９２ｎｍ、６３７ｎｍである。また、量子ドット（Ａ）からの発光光はスペクトル幅が狭く、このような急峻なピークを有する光を組み合わせることにより、表示装置の表示可能な色域が拡大する。さらに、量子ドット（Ａ）は応答性が高く、光源から放射される光を効率良く利用することができる。
　本発明の組成物は、光源から放射される光により、特定波長の光を発光する量子ドットのみを含有していてもよく、異なる波長の光を発光する量子ドットを２種以上組み合わせて含有していてもよい。上記特定波長の光としては、例えば、赤色光、緑色光および青色光が挙げられる。
　量子ドット（Ａ）の含有率は、組成物の固形分の総量に対して、例えば０．１質量％以上６０質量％以下であってよく、好ましくは５質量％以上５０質量％以下であり、より好ましくは２０質量％以上４５質量％以下である。本明細書において固形分の総量とは、後述する溶剤（Ｇ）を除いた成分の合計を意味する。組成物の固形分中の含有率は、液体クロマトグラフィーまたはガスクロマトグラフィー等の公知の分析手段で測定することができる。
　［２］樹脂（Ｂ）
　樹脂（Ｂ）は、スルフィド基（－Ｓ－）と、カルボキシ基（－Ｃ（＝Ｏ）ＯＨ）と、不飽和二重結合（＝Ｃ）とを有する重合体（Ｂ１）を含む。樹脂（Ｂ）が重合体（Ｂ１）を含むことにより、工程中での輝度を維持する共に現像時の残渣を低減し、硬化後に優れた耐溶剤性をも発揮することができる。
　重合体（Ｂ１）は、メルカプト基（－ＳＨ）及びカルボキシ基を有する単量体（ａ）（以下、「（ａ）」ということがある）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種である単量体（ｂ）（以下、「（ｂ）」ということがある）と、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｃ）（以下、「（ｃ）」ということがある）とに由来する構造単位を有する重合体であることができる。
　（ａ）としては、例えばメルカプト基を有するカルボン酸及びその無水物等が挙げられる。メルカプト基を有するカルボン酸としては、例えば下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
［式中、
　Ｒは、炭化水素基を表す。複数のＲが存在する場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。上記炭化水素基は１以上の置換基を有していてよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。
　ｐは、１～１０の整数を表す。］
　Ｒにおける炭化水素基としては、例えば鎖状炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基等が挙げられる。
　鎖状炭化水素基は、例えば直鎖状又は分岐状のアルカンジイル基であってよく、その炭素原子数は、通常１～５０であり、好ましくは１～２０であり、より好ましくは１～１０である。直鎖状又は分岐状のアルカンジイル基としては、例えばプロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、ノナン－１，９－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、ウンデカン－１，１１－ジイル基、ドデカン－１，１２－ジイル基、プロパン－１，２－ジイル基、１－メチルブタン－１，３－ジイル基、２－メチルプロパン－１，３－ジイル基、ペンタン－１，４－ジイル基、２－メチルブタン－１，４－ジイル基等が挙げられる。
　脂環式炭化水素基は、例えば単環式又多環式のシクロアルカンジイル基であってよく、その炭素原子数は、通常３～５０であり、好ましくは３～２０、より好ましくは３～１０である。単環式又多環式のシクロアルカンジイル基としては、例えばシクロブタン－１，３－ジイル基、シクロペンタン－１，３－ジイル基、シクロヘキサン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－１，４－ジイル基、ノルボルナン－２，５－ジイル基、アダマンタン－１，５－ジイル基、アダマンタン－２，６－ジイル等が挙げられる。
　芳香族炭化水素基は、例えばアレーンジイル基であってよく、その炭素原子数は通常６～２０である。単環式又多環式のアレーンジイル基としては、例えばベンゼンジイル基、ナフタレンジイル基、アントラセンジイル基、フェナントレンジイル基、ピレンジイル基等が挙げられる。
　置換基としては、例えば水素原子、炭素原子数１～５０のアルキル基、炭素原子数３～５０のシクロアルキル基、炭素原子数６～２０のアリール基、カルボキシ基、アミノ基、ハロゲン原子等が挙げられる。
　炭素原子数１～５０のアルキル基としては、例えば飽和又は不飽和の直鎖状又は分岐状のアルキル基であってよく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基及び２－エチルヘキシル基等が挙げられる。
　炭素原子数３～５０のシクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基及びシクロオクチル基等が挙げられる。
　炭素原子数６～２０のアリール基としては、例えばフェニル基、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、エチルフェニル基およびナフチル基等が挙げられる。
　ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
　置換基としては、カルボキシ基、アミノ基およびハロゲン原子が好ましい。
　上記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－が－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わる場合、－ＣＨ２－が置き換わるのは、好ましくは－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つであり、より好ましくは－ＮＨ－である。
　ｐは、好ましくは１又は２である。
　一般式（１）で表される化合物としては、例えば下記式（１－１）～（１－９）で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　メルカプト基を有するカルボン酸の具体例としては、例えばメルカプト酢酸、２－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトプロピオン酸、３－メルカプトブタン酸、４－メルカプトブタン酸、メルカプトコハク酸、メルカプトステアリン酸、メルカプトオクタン酸、４－メルカプト安息香酸、２，３，５，６－テトラフルオロ－４－メルカプト安息香酸、Ｌ－システイン、Ｎ－アセチル－Ｌ－システイン、３－メルカプトプロピオン酸３－メトキシブチル、３－メルカプト－２－メチルプロピオン酸等が挙げられる。中でも３－メルカプトプロピオン酸、メルカプトコハク酸が好ましい。
　（ｂ）としては、具体的には、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－、ｐ－ビニル安息香酸等の不飽和モノカルボン酸類；
　マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸、３－ビニルフタル酸、４－ビニルフタル酸、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸、ジメチルテトラヒドロフタル酸、１，４－シクロヘキセンジカルボン酸等の不飽和ジカルボン酸類；
　メチル－５－ノルボルネン－２，３－ジカルボン酸、５－カルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－カルボキシ－６－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のカルボキシ基を含有するビシクロ不飽和化合物類；
　無水マレイン酸、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、３－ビニルフタル酸無水物、４－ビニルフタル酸無水物、３，４，５，６－テトラヒドロフタル酸無水物、１，２，３，６－テトラヒドロフタル酸無水物、ジメチルテトラヒドロフタル酸無水物、５，６－ジカルボキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン無水物等の不飽和ジカルボン酸類無水物；
　こはく酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕、フタル酸モノ〔２－（メタ）アクリロイルオキシエチル〕等の二価以上の多価カルボン酸の不飽和モノ〔（メタ）アクリロイルオキシアルキル〕エステル類；
　α－（ヒドロキシメチル）アクリル酸のような、同一分子中にヒドロキシ基およびカルボキシ基を含有する不飽和アクリレート類等が挙げられる。
　これらのうち、共重合反応性の点や得られる樹脂のアルカリ水溶液への溶解性の点から、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸等が好ましい。
　ここで、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸および／またはメタクリル酸を意味する。以下、「（メタ）アクリロイル」、「（メタ）アクリレート」等においても同様である。
　（ｃ）としては、例えば不飽和鎖式脂肪族炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ１）（以下「（ｃ１）」という場合がある）や、不飽和脂環式炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ２）（以下「（ｃ２）」という場合がある）が挙げられる。本発明において、（ｃ）は、オキシラニル基と（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する単量体であることが好ましい。また、（ｃ）は（ｃ２）であることが好ましい。
　（ｃ１）としては、具体的には、グリシジル（メタ）アクリレート、β－メチルグリシジル（メタ）アクリレート、β－エチルグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテル、ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｏ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｍ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、α－メチル－ｐ－ビニルベンジルグリシジルエーテル、２，３－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，５－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，６－ビス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，４－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，３，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、３，４，５－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、２，４，６－トリス（グリシジルオキシメチル）スチレン、特開平７－２４８６２５号公報に記載される化合物等が挙げられる。
　（ｃ２）としては、ビニルシクロヘキセンモノオキサイド、１，２－エポキシ－４－ビニルシクロヘキサン（例えば、セロキサイド２０００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（例えば、サイクロマーＡ４００；ダイセル化学工業（株）製）、３，４－エポキシシクロヘキシルメチルメタアクリレート（例えば、サイクロマーＭ１００；ダイセル化学工業（株）製）、式（２）で表される化合物、式（３）で表される化合物等が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（２）及び式（３）において、Ｒ４及びＲ５は、互いに独立に、水素原子、又は炭素原子数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
　Ｘ１及びＸ２は、互いに独立に、単結合、－Ｒ６－、＊－Ｒ６－Ｏ－、＊－Ｒ６－Ｓ－、＊－Ｒ６－ＮＨ－を表す。
　Ｒ６は、炭素原子数１～６のアルカンジイル基を表す。
　＊は、Ｏとの結合手を表す。
　炭素原子数１～４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
　ヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、１－ヒドロキシブチル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基、４－ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
　Ｒ４及びＲ５としては、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基が挙げられ、より好ましくは水素原子、メチル基が挙げられる。
　アルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等が挙げられる。
　Ｘ１及びＸ２としては、好ましくは単結合、メチレン基、エチレン基、＊－ＣＨ２－Ｏ－、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－が挙げられ、より好ましくは単結合、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－が挙げられる。なお、＊はＯとの結合手を表す。
　式（２）で表される化合物としては、式（２－１）～式（２－１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（２－１）、式（２－３）、式（２－５）、式（２－７）、式（２－９）、式（２－１１）～式（２－１５）で表される化合物であり、より好ましくは式（２－１）、式（２－７）、式（２－９）、式（２－１５）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（３）で表される化合物としては、式（３－１）～式（３－１５）で表される化合物等が挙げられる。好ましくは式（３－１）、式（３－３）、式（３－５）、式（３－７）、式（３－９）、式（３－１１）～式（３－１５）で表される化合物であり、より好ましくは式（３－１）、式（３－７）、式（３－９）、式（３－１５）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（２）で表される化合物及び式（３）で表される化合物は、それぞれ単独で用いることができる。また、それらは、任意の比率で混合することができる。混合する場合、その混合比率はモル比で、好ましくは式（２）で表される化合物：式（３）で表される化合物で、５：９５～９５：５、より好ましくは１０：９０～９０：１０、さらに好ましくは２０：８０～８０：２０である。
　重合体（Ｂ１）は、上記（ａ）と（ｂ）と（ｃ）とに由来する構造単位に加えて、さらに（ｂ）と（ｃ）とに由来する構造単位、及び（ｂ）に由来する構造単位を有することができる。
　重合体（Ｂ１）は、（ｂ）と共重合可能な単量体（ｄ）（ただし、（ａ）と（ｂ）と（ｃ）とは異なる単量体）（以下、「（ｄ）」ということがある）に由来する構造単位を有していてもよい。重合体（Ｂ１）は、例えば（ｄ）に由来する構造単位、（ｂ）と（ｄ）とに由来する構造単位、（ｂ）と（ｃ）と（ｄ）とに由来する構造単位、（ａ）と（ｂ）と（ｃ）と（ｄ）とに由来する構造単位等を有することができる。
　（ｄ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル類；
シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－メチルシクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デカン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術
分野では、慣用名として、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートといわれている。）、トリシクロ［５．２．１．０2,6］デセン－８－イル（メタ）アクリレート（当該技術
分野では、慣用名として、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートといわれている。）、ジシクロペンタニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステル類；
　フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸アリール又はアラルキルエステル類；
マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等のジカルボン酸ジエステル；
　２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル類；
　ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－メトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－エトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジヒドロキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジ（２’－ヒドロキシエチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ジエトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシ－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシ－５－エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ヒドロキシメチル－５－メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５－フェノキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ビス（ｔｅｒｔ－ブトキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン、５，６－ビス（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エン等のビシクロ不飽和化合物類；
　Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドベンゾエート、Ｎ－スクシンイミジル－４－マレイミドブチレート、Ｎ－スクシンイミジル－６－マレイミドカプロエート、Ｎ－スクシンイミジル－３－マレイミドプロピオネート、Ｎ－（９－アクリジニル）マレイミド等のジカルボニルイミド誘導体類；
　スチレン、α－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、ビニルトルエン、ｐ－メトキシスチレン等のスチレン類；
アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のアクリロニトリル類；塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等のビニル化合物類；アクリルアミド、メタクリルアミド等のアクリルアミド類；１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチル－１，３－ブタジエン等のジエン化合物類；
　３－メチル－３－メタクリルロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシメチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシメチルオキセタン、３－メチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－メチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－メタクリロイルオキシエチルオキセタン、３－エチル－３－アクリロイルオキシエチルオキセタン等のオキセタニル基含有（メタ）アクリル酸エステル類；
　テトラヒドロフルフリルアクリレート（例えば、ビスコートＶ＃１５０、大阪有機化学工業（株）製）、テトラヒドロフルフリルメタクリレート等のテトラヒドロフリル基含有（メタ）アクリル酸エステル類等が挙げられる。
　これらのうち、スチレン、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミド、ビシクロ［２．２．１］ヘプト－２－エンが、共重合反応性及びアルカリ溶解性の点から好ましい。
　重合体（Ｂ１）が単量体（ａ）、（ｂ）及び（ｃ）から構成される場合、重合体（Ｂ１）を構成する単量体の合計モル数に対する各単量体の割合（以下、モル比ともいう）は、発光強度、耐溶剤性及び現像性の観点から好ましくは以下の範囲にある。
　単量体（ａ）：０．０１％以上１０モル％以下（より好ましくは０．１モル％以上５モル％以下）
　単量体（ｂ）：３０モル％以上９８．９９モル％以下（より好ましくは６５モル％以上９４．９モル％以下）
　単量体（ｃ）：１モル％以上６０モル％以下（より好ましくは１５モル％以上５０モル％以下）
　重合体（Ｂ１）が単量体（ａ）、（ｂ）、（ｃ）及び（ｄ）から構成される場合、各単量体のモル比は、発光強度、耐溶剤性及び現像性の観点から好ましくは以下の範囲にある。
　単量体（ａ）：０．０１％以上１０モル％以下（より好ましくは０．１モル％以上５モル％以下）
　単量体（ｂ）：３０モル％以上９８．９９モル％以下（より好ましくは３０モル％以上９４．９モル％以下）
　単量体（ｃ）：１モル％以上６０モル％以下（より好ましくは１５モル％以上５０モル％以下）
　単量体（ｄ）：１モル％以上６０モル％以下（より好ましくは１５モル％以上５０モル％以下）
　また、（ｂ）と（ｃ）とのモル数の合計は、重合体（Ｂ１）を構成する全構造単位の合計モル数に対して、７０モル％以上９９モル％以下が好ましい。
　上記モル比は、単量体の仕込み量から算出されるモル比である。
　重合体（Ｂ１）は、例えば、文献「高分子合成の実験法」（大津隆行著　発行所（株）化学同人 第１版第１刷 １９７２年３月１日発行）に記載された方法及び当該文献に記載された引用文献を参考にして製造することができる。
　具体的には、所定量の単量体、重合開始剤及び溶剤等を反応容器中に入れ、窒素により酸素を置換することにより、脱酸素雰囲気で、攪拌しながら、加熱及び保温する方法が例示される。なお、ここで用いられる重合開始剤及び溶剤等は、特に限定されず、当該分野で通常使用されているもののいずれをも使用することができる。重合開始剤としては、例えば、アゾ化合物（２，２’－アゾビスイソブチロニトリル、２，２’－アゾビス（２，４－ジメチルバレロニトリル）等）や有機過酸化物（ベンゾイルペルオキシド等）が挙げられ、溶剤としては、各単量体を溶解するものであればよく、本発明の組成物の溶剤（Ｇ）として後述する溶剤等を用いることができる。
　例えば、まず単量体（ｂ）を重合させた後、単量体（ｃ）を添加して反応させ、次に、単量体（ａ）を添加して反応させる方法等が挙げられる。また、例えばまず単量体（ｂ）及び（ｄ）を反応させた後、単量体（ｃ）を添加して反応させ、次に、単量体（ａ）を添加して反応させる方法等が挙げられる。
　得られた重合体（Ｂ１）は、反応後の溶液をそのまま使用してもよいし、濃縮あるいは希釈した溶液を使用してもよいし、再沈殿等の方法で固体（粉体）として取り出したものを使用してもよい。特に、この重合の際に溶剤として、後述する溶剤（Ｇ）と同一の溶剤を使用することにより、反応後の溶液を硬化性樹脂組成物の調製にそのまま使用することができ、硬化性樹脂組成物の製造工程を簡略化することができる。
　重合体（Ｂ１）は、下記一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構造単位（式中、角括弧内の側鎖を含む構造）を有する重合体であることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
［式中、
　Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３は、互いに独立して、水素原子又はメチル基を表す。
　Ｒ７は、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
　Ｘは、＊－Ｒ８－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｏ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｓ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－ＮＨ－Ｘ３－を表す。＊は、Ｒ７側の酸素原子との結合手を表す。Ｒ８は、炭素原子数１～６のアルカンジイル基を表す。Ｘ３は、エチレン基又は二価の脂環式炭化水素基を表し、これらはヒドロキシ基を有する。
　Ｙは、＊＊－（Ｒ）ｐ－を表し、Ｒ及びｐは、上記定義と同じである。＊＊は、Ｓとの結合手を表す。
　Ｚは、カルボキシ基を表す。］
　一般式（ｂａ）で表される構造単位は、（ａ）と（ｂ）と（ｃ）とに由来する構造単位であることができる。一般式（ｂｂ）で表される構造単位は、（ｂ）に由来する構造単位であることができる。一般式（ｂｃ）で表される構造単位は、（ｂ）と（ｃ）とに由来する構造単位であることができる。
　Ｒ７における炭素原子数１～４のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等が挙げられる。
　Ｒ７におけるヒドロキシアルキル基としては、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、２－ヒドロキシ－１－メチルエチル基、１－ヒドロキシブチル基、２－ヒドロキシブチル基、３－ヒドロキシブチル基、４－ヒドロキシブチル基等が挙げられる。
　Ｒ７は、好ましくは水素原子、メチル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基であり、より好ましくは水素原子、メチル基である。
　Ｒ８における炭素原子数１～６のアルカンジイル基としては、例えばメチレン基、エチレン基、プロパン－１，２－ジイル基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基等が挙げられる。
　Ｘは、好ましくは＊－Ｃ－Ｘ３－、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｘ３－、＊－ＣＨ２－Ｏ－Ｘ３－、＊－ＣＨ２ＣＨ２－Ｏ－Ｘ３－である。
　Ｘ３におけるヒドロキシ基を有する二価の脂環式炭化水素基としては、例えば下記式で表される基である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　Ｘとしては、例えば下記式（Ｘ－１）～（Ｘ－１４）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
　Ｙとしては、例えば下記式（Ｙ－１）～（Ｙ－８）で表される基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
　Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３、Ｒ７、Ｘ及びＹの組合せとしては、例えば以下の表１に示す組合わせ（ｂ－１）～（ｂ－４８）が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000017
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000018
　重合体（Ｂ１）が一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構成単位を含む場合、一般式（ｂａ）で表される構成単位の含有量は、例えば、重合体（Ｂ１）全量を基準に０．０１質量％以上１０質量％以下であってよく、発光強度、現像性及び耐溶剤性の観点から好ましくは０．０５質量％以上５質量％以下であり、より好ましくは０．１質量％以上３質量％以下である。
　重合体（Ｂ１）が一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構成単位を含む場合、一般式（ｂｂ）で表される構成単位の含有量は、例えば、重合体（Ｂ１）全量を基準に１０質量％以上８０質量％以下であってよく、発光強度、現像性及び耐溶剤性の観点から好ましくは２０質量％以上７０質量％以下であり、より好ましくは３０質量％以上６０質量％以下である。
　重合体（Ｂ１）が一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構成単位を含む場合、一般式（ｂｃ）で表される構成単位の含有量は、例えば、重合体（Ｂ１）全量を基準に１０質量％以上７０質量％以下であってよく、発光強度、現像性及び耐溶剤性の観点から好ましくは２０質量％以上６０質量％以下であり、より好ましくは３０質量％以上５０質量％以下である。
　重合体（Ｂ１）は、好ましくは一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構成単位を主鎖中に含む重合体であり、より好ましくは主鎖が一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構成単位から構成される重合体である。
　重合体（Ｂ１）は、仕込み比から算出される１分子中のスルフィド基の数（以下、仕込み比から算出される修飾量ともいう）が例えば０．５以上３以下であってよく、好ましくは０．７５以上２以下である。
　重合体（Ｂ１）の重量平均分子量は、例えば１０００以上２０万以下であってよい。重合体（Ｂ１）の重量平均分子量は、発光量、現像性及び耐熱性の観点から好ましくは３０００以上であり、より好ましくは４０００以上であり、さらに好ましくは５０００以上であり、一層好ましくは６０００以上である。また、重合体（Ｂ１）の重量平均分子量は、発光量、現像性及び耐熱性の観点から好ましくは３万以下、より好ましくは２万以下、さらに好ましくは１．５万以下、一層好ましくは１万以下である。重量平均分子量は、後述する実施例に記載の方法にて求められる。
　重合体（Ｂ１）の酸価は、固形分を基準として９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の範囲である。酸価が９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満の場合、アルカリ現像液に対する溶解性が低くなり、基板に残渣を残すおそれがあり、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超過する場合には、パターンの剥離が起きる可能性が高くなる。重合体（Ｂ１）の酸価は、現像性の観点から好ましくは９５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１４０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の範囲であり、より好ましくは１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以上１３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の範囲である。ここで酸価は重合体（Ｂ１）１ｇを中和するに必要な水酸化カリウムの量（ｍｇ）として測定される値であり、例えば水酸化カリウム水溶液を用いて滴定することにより求めることができる。重合体（Ｂ１）の酸価は、後述の実施例の欄における測定方法に従って測定される。
　重合体（Ｂ１）は、アクリル当量が例えば３００ｇ／ｅｑ以上２０００ｇ／ｅｑ以下である樹脂（以下、アクリル系樹脂ともいう）を含むことができる。アクリル系樹脂は、アクリル当量が好ましくは５００ｇ／ｅｑ以上１５００ｇ／ｅｑ以下である。重合体（Ｂ１）がアクリル系樹脂を含む場合、カラーフィルター工程中に消光される現像を防止し易くなる傾向にある。一方、重合体（Ｂ１）が、アクリル当量が２０００ｇ／ｅｑを超過する樹脂を含む場合、量子ドットを効果的に保護する能力が得られにくくなる傾向にあり、アクリル当量が上記範囲未満である樹脂を含む場合、現像時に溶解されずに剥離し易くなる傾向にある。好ましくは重合体（Ｂ１）はアクリル系樹脂である。
　樹脂（Ｂ）は、特開２０１８－１２３２７４号公報に記載のアルカリ可溶性樹脂が挙げられる。具体的には、側鎖に二重結合を有するとともに、主鎖に、下記一般式（４）で表される構成単位（α）と、下記一般式（５）で表される構成単位（β）とを含み、さらに酸基を含む重合体（Ｂ２）を含むことができる。酸基は、例えば樹脂（Ｂ２）が、酸基含有単量体（例えば（メタ）アクリル酸等）に由来する構成単位（γ）を含むことで、樹脂中に導入されたものであることができる。樹脂（Ｂ２）は、好ましくは主鎖骨格に構成単位（α）、（β）および（γ）を含む。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
〔式中、Ｒ９およびＲ１０は、同一または異なって、水素原子または炭素原子数１～２５の炭化水素基を表す。ｎは、一般式（４）で表される構成単位の平均繰り返し単位数を表し、１以上の数である。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
〔式中、Ｒ１１は、同一または異なって、水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１２は、同一または異なって、炭素原子数４～２０の直鎖状または分岐鎖状炭化水素基を表す。ｍは、一般式（５）で表される構成単位の平均繰り返し単位数を表し、１以上の数である。〕
　重合体（Ｂ２）において、構成単位（α）の含有割合は、耐熱性や保存安定性の観点から例えば重合体（Ｂ２）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、０．５質量％以上５０質量％以下であってよく、好ましくは１質量％以上４０質量％以下、より好ましくは５質量％以上３０質量％以下である。一般式（４）中のｎは、重合体（Ｂ２）中の構成単位（α）の平均繰り返し単位数を表し、構成単位（α）の含有割合が上記範囲内になるようにｎを設定することができる。
　構成単位（β）の含有割合は、耐溶剤性の観点から、重合体（Ｂ２）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、例えば１０質量％以上９０質量％以下であってよく、好ましくは２０質量％以上８０質量％以下、より好ましくは３０質量％以上７５質量％以下である。一般式（５）中のｍは、重合体（Ｂ２）中の構成単位（β）の平均繰り返し単位数を表し、構成単位（β）の含有割合が上述した範囲内になるようにｍを設定することができる。
　構成単位（γ）の含有割合は、アルカリ物質に対する可溶性や溶媒に対する溶解性の観点から、重合体（Ｂ２）の主鎖骨格を与える全単量体単位の総量１００質量％に対し、例えば０．５質量％以上５０質量％以下であってよく、好ましくは２質量％以上５０質量％以下、より好ましくは５質量％以上４５質量％以下である。
　組成物中の樹脂（Ｂ）の含有率は、組成物の固形分の総量に対して例えば５質量％以上８０質量％以下であってよく、発光強度、現像性及び耐溶剤性の観点から好ましくは１０質量％以上７０質量％以下であり、より好ましくは１３質量％以上６０質量％以下であり、さらに好ましくは１７質量％以上５５質量％以下である。
　［３］光重合性化合物（Ｃ）
　光重合性化合物（Ｃ）は、後述する光重合開始剤（Ｄ）から発生した活性ラジカル、酸等によって重合しうる化合物であり、例えば、エチレン性不飽和結合を有する化合物等が挙げられ、好ましくは（メタ）アクリル酸エステル化合物である。
　尚、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸およびメタクリル酸よりなる群から選ばれる少なくとも１種を表す。「（メタ）アクリロイル」および「（メタ）アクリレート」等の表記も、同様の意味を有する。
　中でも、光重合性化合物（Ｃ）は、エチレン性不飽和結合を３つ以上有する重合性化合物であることが好ましい。このような重合性化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールノナ（メタ）アクリレート、トリス（２－（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
　光重合性化合物（Ｃ）の重量平均分子量は、好ましくは１５０以上２９００以下、より好ましくは２５０以上１５００以下である。
　組成物中の光重合性化合物（Ｃ）の含有率は、組成物の固形分の総量に対して、例えば７質量％以上６０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは１０質量％以上４５質量％以下であり、さらに好ましくは１３質量％以上３０質量％以下である。光重合性化合物（Ｃ）の含有率が、上記範囲内にあると、硬化パターンの残膜率および硬化パターンの耐薬品性がより向上する傾向がある。
　［４］光重合開始剤（Ｄ）
　光重合開始剤（Ｄ）は、光や熱の作用により活性ラジカル、酸等を発生し、重合を開始しうる化合物であって、オキシム化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物およびアシルホスフィン化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種を含むことができる。中でも、オキシム化合物を含むことが好ましい。これらの重合開始剤を使用すると、硬化パターンの残膜率が高くなる。
　また、上記オキシム化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物およびアシルホスフィン化合物は、硬化膜製造時の重合感度がより高くなる傾向があるため、分子内に少なくとも２つの芳香環を有する化合物であることが好ましい。
　芳香環としては、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、チオフェン環、チアゾール環等の５員環、およびベンゼン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環等の６員環、並びにこれらの縮合環が挙げられる。
　オキシム化合物は、好ましくは、Ｏ－アシルオキシム化合物であり、式（ｄ１）で表される部分構造を有する化合物である。以下、＊は結合手を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
　オキシム化合物としては、例えばＮ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－｛２－メチル－４－（３，３－ジメチル－２，４－ジオキサシクロペンタニルメチルオキシ）ベンゾイル｝－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタン－１－イミン、Ｎ－アセトキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミン；特開２０１１－１３２２１５号公報、国際公開２００８／７８６７８号、国際公開２００８／７８６８６号、国際公開２０１２／１３２５５８号記載の化合物等が挙げられる。イルガキュアＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２（以上、ＢＡＳＦ社製）、Ｎ－１９１９（ＡＤＥＫＡ社製）等の市販品を用いてもよい。
　中でも、オキシム化合物は、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）ブタン－１－オン－２－イミン、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミンおよびＮ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）－３－シクロペンチルプロパン－１－オン－２－イミンからなる群から選ばれる少なくとも一種が好ましく、Ｎ－ベンゾイルオキシ－１－（４－フェニルスルファニルフェニル）オクタン－１－オン－２－イミンがより好ましい。
　ビイミダゾール化合物は、例えば、式（ｄ５）で表される化合物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
［式（ｄ５）中、Ｒ５１～Ｒ５６は、置換基を有していてもよい炭素原子数６～１０のアリール基を表す。］
　炭素原子数６～１０のアリール基としては、例えば、フェニル基、トルイル基、キシリル基、エチルフェニル基およびナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
　置換基としては、例えば、ハロゲン原子、炭素原子数１～４のアルコキシ基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等挙げられ、好ましくは塩素原子である。炭素原子数１～４のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等挙げられ、好ましくはメトキシ基である。
　ビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２，３－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール（例えば、特開平０６－７５３７２号公報、特開平０６－７５３７３号公報等参照。）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（アルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ジアルコキシフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（トリアルコキシフェニル）ビイミダゾール（例えば、特公昭４８－３８４０３号公報、特開昭６２－１７４２０４号公報等参照。）、４，４’５，５’－位のフェニル基がカルボアルコキシ基により置換されているイミダゾール化合物（例えば、特開平７－１０９１３号公報等参照。）等が挙げられる。中でも、下記式で表される化合物またはこれらの混合物が好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
　トリアジン化合物としては、例えば、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－(４－メトキシスチリル)－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等が挙げられる。中でも、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－ピペロニル－１，３，５－トリアジンが好ましい。
　アシルホスフィン化合物としては、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、（２，４，６－トリメチルベンゾイル）ジフェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
　上述の光重合開始剤は、単独で使用してもよいし、２以上の光重合開始剤を併用してもよい。２以上の光重合開始剤を併用する場合は、上述のオキシム化合物、ビイミダゾール化合物、トリアジン化合物、およびアシルホスフィン化合物以外の公知の重合開始剤と組み合わせてもよい。
　公知の光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン化合物；ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６－トリメチルベンゾフェノン、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；９，１０－フェナンスレンキノン、２－エチルアントラキノン、カンファーキノン等のキノン化合物；１０－ブチル－２－クロロアクリドン、ベンジル、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物等が挙げられる。
　２以上の光重合開始剤の組み合わせとしては、オキシム化合物とビイミダゾール化合物、オキシム化合物とトリアジン化合物、オキシム化合物とアシルホスフィン化合物、ビイミダゾール化合物とトリアジン化合物、ビイミダゾール化合物とアシルホスフィン化合物、トリアジン化合物とアシルホスフィン化合物等の組み合わせが挙げられる。
　［光重合開始助剤（Ｄ１）］
　さらに、必要に応じて、光重合開始助剤（Ｄ１）を併用してもよい。光重合開始助剤（Ｄ１）は、光重合開始剤によって重合が開始された光重合性化合物の重合を促進するために用いられる化合物、もしくは増感剤であり、光重合開始助剤（Ｄ１）を含む場合、通常、光重合開始剤と組み合わせて用いられる。光重合開始助剤（Ｄ１）としては、アミン化合物、アルコキシアントラセン化合物、チオキサントン化合物およびカルボン酸化合物等が挙げられる。
　アミン化合物としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４－ジメチルアミノ安息香酸メチル、４－ジメチルアミノ安息香酸エチル、４－ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル、４－ジメチルアミノ安息香酸２－エチルヘキシル、Ｎ，Ｎ－ジメチルパラトルイジン、４，４’－ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（通称ミヒラーズケトン）、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’－ビス（エチルメチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられ、中でも４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。ＥＡＢ－Ｆ（保土谷化学工業（株）製）等の市販品を用いてもよい。
　アルコキシアントラセン化合物としては、９，１０－ジメトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジメトキシアントラセン、９，１０－ジエトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジエトキシアントラセン、９，１０－ジブトキシアントラセン、２－エチル－９，１０－ジブトキシアントラセン等が挙げられる。
　チオキサントン化合物としては、２－イソプロピルチオキサントン、４－イソプロピルチオキサントン、２，４－ジエチルチオキサントン、２，４－ジクロロチオキサントン、１－クロロ－４－プロポキシチオキサントン等が挙げられる。
　カルボン酸化合物としては、フェニルスルファニル酢酸、メチルフェニルスルファニル酢酸、エチルフェニルスルファニル酢酸、メチルエチルフェニルスルファニル酢酸、ジメチルフェニルスルファニル酢酸、メトキシフェニルスルファニル酢酸、ジメトキシフェニルスルファニル酢酸、クロロフェニルスルファニル酢酸、ジクロロフェニルスルファニル酢酸、Ｎ－フェニルグリシン、フェノキシ酢酸、ナフチルチオ酢酸、Ｎ－ナフチルグリシン、ナフトキシ酢酸等が挙げられる。
　光重合開始剤（Ｄ）の含有率は、光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３００質量部以下であり、より好ましくは０．１質量部以上２００質量部以下である。光重合開始剤（Ｄ）の含有率は、樹脂（Ｄ）および光重合性化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下であり、より好ましくは１質量部以上２０質量部以下である。光重合開始剤（Ｄ）の含有率が、上記範囲内にあると、高感度化して露光時間が短縮される傾向があるため硬化膜の生産性が向上する。
　また、光重合開始助剤（Ｄ１）を含む場合、光重合開始助剤（Ｄ１）の含有率は、光重合性化合物（Ｃ）１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３００質量部以下であり、より好ましくは０．１質量部以上２００質量部以下である。光重合開始剤（Ｄ）の含有率は、樹脂（Ｄ）および光重合性化合物（Ｃ）の合計量１００質量部に対して、好ましくは０．１質量部以上３０質量部以下、より好ましくは１質量部以上２０質量部以下である。光重合開始助剤（Ｄ１）の量がこの範囲内にあると、さらに高感度で硬化膜を形成できる傾向がある。
　［５］酸化防止剤（Ｅ）
　酸化防止剤（Ｅ）としては、工業的に一般に使用される酸化防止剤であれば特に限定はなく、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、リン／フェノール複合型酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤等を用いることができる。酸化防止剤（Ｅ）は、２種以上を併用してもよい。リン／フェノール複合型酸化防止剤は、分子中にリン原子とフェノール構造とをそれぞれ１以上有する化合物であることができる。中でも、現像性および発光強度の観点からリン／フェノール複合型酸化防止剤が好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えばイルガノックス（登録商標）１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ　１０１０：ペンタエリスリトールテトラキス［３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ　１０７６：オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ＢＡＳＦ（株）製）、同１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ　１３３０：３，３’，３’’，５，５’，５’’－ヘキサ－ｔ－ブチル－ａ，ａ’，ａ’’－（メシチレン－２，４，６－トリイル）トリ－ｐ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ　３１１４：１，３，５－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３７９０（Ｉｒｇａｎｏｘ　３７９０：１，３，５－トリス（（４－ｔ－ブチル－３－ヒドロキシ－２，６－キシリル）メチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン、ＢＡＳＦ（株）製）、同１０３５（Ｉｒｇａｎｏｘ　１０３５：チオジエチレンビス［３－（３，５－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ＢＡＳＦ（株）製）、同１１３５（Ｉｒｇａｎｏｘ　１１３５：ベンゼンプロパン酸、３，５－ビス（１，１－ジメチルエチル）－４－ヒドロキシ、Ｃ７－Ｃ９側鎖アルキルエステル、ＢＡＳＦ（株）製）、同１５２０Ｌ（Ｉｒｇａｎｏｘ　１５２０Ｌ：４，６－ビス（オクチルチオメチル）－ｏ－クレゾール、ＢＡＳＦ（株）製）、同３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ　３１２５、ＢＡＳＦ（株）製）、同５６５（Ｉｒｇａｎｏｘ　５６５：２，４－ビス（ｎ－オクチルチオ）－６－（４－ヒドロキシ３’、５’－ジ－ｔ－ブチルアニリノ）－１，３，５－トリアジン、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－８０（アデカスタブ　ＡＯ－８０：３，９－ビス（２－（３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ）－１，１－ジメチルエチル）－２，４，８，１０－テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカン、（株）ＡＤＥＫＡ製）、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ、同ＧＡ－８０、同ＧＳ（以上、住友化学（株）製）、サイアノックス（登録商標）１７９０（Ｃｙａｎｏｘ　１７９０、（株）サイテック製）およびビタミンＥ（エーザイ（株）製）等が挙げられる。
　リン系酸化防止剤としては、例えばイルガフォス（登録商標）１６８（Ｉｒｇａｆｏｓ
　１６８：トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）フォスファイト、ＢＡＳＦ（株）製）、同１２（Ｉｒｇａｆｏｓ　１２：トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンゾ［ｄ、ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフィン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、ＢＡＳＦ（株）製）、同３８（Ｉｒｇａｆｏｓ　３８：ビス（２，４－ビス（１，１－ジメチルエチル）－６－メチルフェニル）エチルエステル亜りん酸、ＢＡＳＦ（株）製）、アデカスタブ（登録商標）３２９Ｋ、同ＰＥＰ３６、同ＰＥＰ－８（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、Ｓａｎｄｓｔａｂ　Ｐ－ＥＰＱ（クラリアント社製）、Ｗｅｓｔｏｎ（登録商標）６１８、同６１９Ｇ（以上、ＧＥ社製）およびＵｌｔｒａｎｏｘ６２６（ＧＥ社製）等が挙げられる。
　リン／フェノール複合型酸化防止剤としては、例えばスミライザー（登録商標）ＧＰ（６－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロポキシ］－２，４，８，１０－テトラ－ｔ－ブチルジベンズ［ｄ，ｆ］［１．３．２］ジオキサホスフェピン）（住友化学（株）製）等が挙げられる。
　硫黄系酸化防止剤としては、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチルまたはジステアリール等のジアルキルチオジプロピオネート化合物およびテトラキス［メチレン（３－ドデシルチオ）プロピオネート］メタン等のポリオールのβ－アルキルメルカプトプロピオン酸エステル化合物等が挙げられる。
　酸化防止剤（Ｅ）の含有率は、樹脂（Ｂ）１００質量部に対して、例えば１質量部以上５０質量部以下であってよく、発光量および耐熱性の観点から好ましくは５質量部以上４０質量部以下、より好ましくは７質量部以上３０質量部以下、さらに好ましくは１１質量部以上２５質量部以下である。
　［６］レベリング剤（Ｆ）
　レベリング剤（Ｆ）としては、シリコーン系界面活性剤、フッ素系界面活性剤およびフッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤等が挙げられる。これらは、側鎖に重合性基を有していてもよい。レベリング剤（Ｆ）は、現像性および発光強度の観点から好ましくはフッ素系界面活性剤である。
　シリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＳＨ７ＰＡ、同ＤＣ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＳＨ８４００（商品名：東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２２、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２およびＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製）等が挙げられる。
　フッ素系界面活性剤としては、分子内にフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、フロラード（登録商標）ＦＣ４３０、同ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｆ１４２Ｄ、同Ｆ１７１、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７７、同Ｆ１８３、同Ｆ５５４、同Ｆ５７５、同Ｒ３０、同ＲＳ－７１８－Ｋ（ＤＩＣ（株）製）、エフトップ（登録商標）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ３８１、同Ｓ３８２、同ＳＣ１０１、同ＳＣ１０５（旭硝子（株）製）およびＥ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）等が挙げられる。
　フッ素原子を有するシリコーン系界面活性剤としては、分子内にシロキサン結合およびフルオロカーボン鎖を有する界面活性剤等が挙げられる。具体的には、メガファック（登録商標）Ｒ０８、同ＢＬ２０、同Ｆ４７５、同Ｆ４７７および同Ｆ４４３（ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
　レベリング剤（Ｆ）の含有率は、組成物の総量に対して、例えば０．００１質量％以上１．０質量％以下であってよく、好ましくは５質量％以上０．７５質量％以下、より好ましくは０．０１質量％以上０．５質量％以下、さらに好ましくは０．０５質量％以上０．５質量％以下である。レベリング剤（Ｆ）の含有率が上記範囲内にあると、硬化膜の平坦性をより良好にすることができる。
　［７］溶剤（Ｇ）
　溶剤（Ｇ）は、樹脂（Ｂ）、光重合性化合物（Ｃ）および光重合開始剤（Ｄ）を溶解するものであれば特に限定されず、当該分野で通常使用される溶剤を用いることができる。例えばエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－を含み、－Ｏ－を含まない溶剤）、エーテル溶剤（分子内に－Ｏ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、エーテルエステル溶剤（分子内に－ＣＯＯ－と－Ｏ－とを含む溶剤）、ケトン溶剤（分子内に－ＣＯ－を含み、－ＣＯＯ－を含まない溶剤）、アルコール溶剤（分子内にＯＨを含み、－Ｏ－、－ＣＯ－およびＣＯＯ－を含まない溶剤）、芳香族炭化水素溶剤、アミド溶剤、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
　エステル溶剤としては、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ－ブチル、２－ヒドロキシイソブタン酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ－ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸ｎ－ペンチル、酢酸イソペンチル、プロピオン酸ｎ－ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ｎ－ブチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、シクロヘキサノールアセテートおよびγ－ブチロラクトンなどが挙げられる。
　エーテル溶剤としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、３－メトキシ－１－ブタノール、３－メトキシ－３－メチルブタノール、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４－ジオキサン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、アニソール、フェネトールおよびメチルアニソールなどが挙げられる。
　エーテルエステル溶剤としては、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸メチル、２－メトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシプロピオン酸プロピル、２－エトキシプロピオン酸メチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシ－２－メチルプロピオン酸メチル、２－エトキシ－２－メチルプロピオン酸エチル、３－メトキシブチルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートおよびジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテートなどが挙げられる。
　ケトン溶剤としては、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノン、アセトン、２－ブタノン、２－ヘプタノン、３－ヘプタノン、４－ヘプタノン、４－メチル－２－ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびイソホロンなどが挙げられる。
　アルコール溶剤としては、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコールおよびグリセリンなどが挙げられる。
　芳香族炭化水素溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレンおよびメシチレンなどが挙げられる。
　アミド溶剤としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミドおよびＮ－メチルピロリドンなどが挙げられる。
　溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、３－エトキシプロピオン酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングコールモノエチルエーテル、４－ヒドロキシ－４－メチル－２－ペンタノンまたはトル
エンが好ましい。
　溶剤（Ｇ）は、固形分以外の成分であり、例えば量子ドット（Ａ）や樹脂（Ｂ）等に含まれる溶剤をも含む成分である。溶剤（Ｇ）の含有率は、組成物の総量に対する組成物に含まれる全溶剤の合計質量の割合であり、組成物の総量に対して、例えば４０質量％以上９５質量％以下であってよく、好ましくは５０質量％以上９０質量％以下である。言い換えると、組成物の固形分は、好ましくは５質量％以上６０質量％以下、より好ましくは１０質量％以上５０質量％以下である。溶剤（Ｇ）の含有量が上記範囲内にあると、塗布時の組成物層の平坦性がより良好になり、また適切な膜厚の硬化膜を形成しやすい傾向がある。
　［８］光散乱剤（Ｈ）
　本発明の組成物は、光散乱剤（Ｈ）をさらに含有することができる。光散乱剤（Ｈ）としては、金属または金属酸化物の粒子、ガラス粒子等を挙げることができる。金属酸化物としては、ＴｉＯ２、ＳｉＯ２、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯ等を挙げることができる。光散乱剤（Ｈ）の粒子径は、例えば０．０３μｍ以上２０μｍ以下程度であり、好ましくは０．０５μｍ以上１μｍ以下、さらに好ましくは０．０５μｍ以上０．５μｍ以下である。
　組成物中の光散乱剤（Ｈ）の含有率は、組成物の固形分の総量に対し、例えば０．００１質量％以上５０質量％以下であってよく、現像性および発光強度の観点から好ましくは１質量％以上３０質量％以下、より好ましくは２質量％以上１０質量％以下である。硬化性組成物が有機溶剤を含む場合、光散乱剤（Ｈ）は、分散剤（Ｊ）を用いて有機溶剤（Ｇ）の一部に予め分散させたものを用いることができる。分散剤（Ｊ）としては例えば市販品を用いることができる。市販品の例としては、
　ビックケミー・ジャパン社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ－１０１、１０２、１０３、１０６、１０７、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１８、１３０、１４０、１５４、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１７０、１７１、１７４、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１９０、１９２、２０００、２００１、２０２０、２０２５、２０５０、２０７０、２０９５、２１５０、２１５５；ＡＮＴＩ－ＴＥＲＲＡ－Ｕ、Ｕ１００、２０３、２０４、２５０、；ＢＹＫ－Ｐ１０４、Ｐ１０４Ｓ、Ｐ１０５、２２０Ｓ、６９１９；ＢＹＫ－ＬＰＮ６９１９、２１１１６；ＬＡＣＴＩＭＯＮ、ＬＡＣＴＩＭＯＮ－ＷＳ；Ｂｙｋｕｍｅｎ等；
　日本ルーブリゾール社製のＳＯＬＳＰＥＲＳＥ－３０００、９０００、１３０００、１３２４０、１３６５０、１３９４０、１６０００、１７０００、１８０００、２００００、２１０００、２４０００、２６０００、２７０００、２８０００、３１８４５、３２０００、３２５００、３２５５０、３３５００、３２６００、３４７５０、３５１００、３６６００、３８５００、４１０００、４１０９０、５３０９５、５５０００、７６５００等；
　ＢＡＳＦ社製のＥＦＫＡ－４６、４７、４８、４５２、４００８、４００９、４０１０、４０１５、４０２０、４０４７、４０５０、４０５５、４０６０、４０８０、４４００、４４０１、４４０２、４４０３、４４０６、４４０８、４３００、４３１０、４３２０、４３３０、４３４０、４５０、４５１、４５３、４５４０、４５５０、４５６０、４８００、５０１０、５０６５、５０６６、５０７０、７５００、７５５４、１１０１、１２０、１５０、１５０１、１５０２、１５０３等；
　味の素ファインテクノ社製のアジスパーＰＡ１１１、ＰＢ７１１、ＰＢ８２１、ＰＢ８２２、ＰＢ８２４
等が挙げられる。
　なお、本発明の組成物は必要に応じて、重合禁止剤、充填剤、他の高分子化合物、密着促進剤、光安定剤、連鎖移動剤等、当該技術分野で公知の添加剤がさらに含まれていてもよい。
　＜組成物の製造方法＞
　組成物の製造方法は、量子ドット（Ａ）、樹脂（Ｂ）、重合性化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、酸化防止剤（Ｅ）、レベリング剤（Ｆ）および溶剤（Ｇ）、ならびに必要に応じて使用される他の成分を混合する工程を含むことができる。
　＜硬化膜＞
　本発明の硬化膜は、本発明の組成物を基板に塗布し、光または熱の作用で硬化させることにより得ることができる。本発明の硬化膜は、上記基板全面に形成されていてもよいし、上記基板の一部に形成されていてもよい（すなわち硬化パターン）。上記基板の一部に硬化膜を形成する方法としては、フォトリソグラフ法、インクジェット法、印刷法等が挙げられる。中でも、フォトリソグラフ法が好ましい。フォトリソグラフ法は、本発明の組成物を基板に塗布し、必要に応じて乾燥させて組成物層を形成し、フォトマスクを介して該組成物層を露光して、現像する方法である。
　基板全面に硬化膜を形成する方法としては、本発明の組成物を基板に塗布し、必要に応じて乾燥させて組成物層を形成し、該組成物層を加熱および／または該組成物層全面に露光する方法が挙げられる。
　基板としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミナケイ酸塩ガラス、表面をシリカコートしたソーダライムガラス等のガラス板や、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリエチレンテレフタレート等の樹脂板、シリコン、上記基板上にアルミニウム、銀、銀／銅／パラジウム合金薄膜等を形成したもの等が挙げられる。
　フォトリソグラフ法による硬化パターンの形成は、公知または慣用の装置や条件で行うことができる。例えば、以下のようにして作製することができる。
　まず、硬化性組成物を基板上に塗布し、加熱乾燥（プリベーク）および／または減圧乾燥することにより溶剤等の揮発成分を除去して、組成物層を得る。塗布方法としては、スピンコート法、スリットコート法、スリット　アンド　スピンコート法等が挙げられる。
　加熱乾燥を行う場合の温度は、３０～１２０℃が好ましく、５０～１１０℃がより好ましい。また加熱時間としては、１０秒間～６０分間であることが好ましく、３０秒間～３０分間であることがより好ましい。
　減圧乾燥を行う場合は、５０～１５０Ｐａの圧力下、２０～２５℃の温度範囲で行うことが好ましい。
　組成物層の膜厚は、特に限定されず、目的とする硬化パターンの膜厚に応じて適宜選択すればよく、例えば０．５μｍ以上２０μｍ以下であってよく、好ましくは３μｍ以上１８μｍ以下、より好ましくは５μｍ以上１６μｍ以下である。
　次に、組成物層は、目的の硬化パターンを形成するためのフォトマスクを介して露光される。該フォトマスク上のパターンは特に限定されない。
　露光に用いられる光源としては、２５０～４５０ｎｍの波長の光を発生する光源が好ましい。例えば、該波長の光から、重合開始剤の吸収波長に応じて、４３６ｎｍ付近、４０８ｎｍ付近、または３６５ｎｍ付近の光を、バンドパスフィルタにより選択的に取り出してもよい。具体的には、水銀灯、発光ダイオード、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ等が挙げられる。
　露光面全体に均一に平行光線を照射したり、フォトマスクと組成物層が形成された基板との正確な位置合わせを行うことができたりするため、マスクアライナおよびステッパ等の露光装置を使用することが好ましい。露光された組成物層は、該組成物層に含まれる重合性化合物等が重合することにより硬化する。
　露光後の組成物層を現像液に接触させて現像することにより、組成物層の未露光部が現像液に溶解して除去されて、硬化パターンが得られる。現像液としては、例えば、水酸化カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等のアルカリ性化合物の水溶液や有機溶剤が挙げられる。アルカリ性化合物の水溶液中の濃度は、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下であり、より好ましくは０．０３質量％以上５質量％以下である。有機溶剤としては、上述の溶剤（Ｇ）と同様のものが挙げられる。さらに、現像液は、界面活性剤を含んでいてもよい。
　現像方法は、パドル法、ディッピング法およびスプレー法等のいずれでもよい。さらに現像時に基板を任意の角度に傾けてもよい。
　現像により得られた硬化パターンに、さらに加熱（ポストベーク）を行うことが好ましい。加熱温度は、１５０～２５０℃が好ましく、１６０～２３５℃がより好ましい。加熱時間は、１～１２０分間が好ましく、１０～６０分間がより好ましい。現像後に加熱を行うことにより、硬化パターンに含まれる未反応の重合性化合物等の重合を進行させることができるため、より耐薬品性に優れた硬化パターンを得ることができる。
　紫外光または可視光を硬化膜に対して照射することにより、本発明の硬化膜は、照射光とは異なる波長の光を発光することができる。本発明の硬化膜を形成する際に用いる組成物において量子ドットの成分や粒子径を選択することによって、発光する光の波長を選択することができる。
　本発明の硬化膜は、上述のように照射光の波長を変換する機能を有するため、表示装置の色変換層として利用可能である。このような表示装置としては、例えば、特開２００６－３０９２１９号公報、特開２００６－３１０３０３号公報、特開２０１３－１５８１２号公報、特開２００９－２５１１２９号公報、特開２０１４－２３６３号公報等に記載される表示装置が挙げられる。
　本発明の組成物は、厚膜でも現像速度が速く、かつ発光強度の高い膜が得られる傾向にあるため、表示装置、特に、液晶表示装置の色変換層として有用である。
　＜樹脂＞
　本発明の別の要旨は、スルフィド基と、カルボキシ基と、不飽和二重結合とを有する樹脂（以下、樹脂（Ｉ）ともいう）である。樹脂（Ｉ）は、上述の重合体（Ｂ１）であることができる。樹脂（Ｉ）を構成する単量体、構造単位、構造単位の割合、重量平均分子量、酸価、アクリル当量、分子鎖１本当たりの修飾量、及び製造方法について上述の重合体（Ｂ１）における説明が適用される。
　以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記のない限り、質量％および質量部である。
　〔発光強度の測定〕
　５ｃｍ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）上に、硬化性組成物（Ｘ）を、スピンコート法で膜厚が１０μｍになるように塗布した後、１００℃で３分間プリベークして硬化性組成物層を形成した。この硬化性組成物層が形成された基板に対して、露光機（ＴＭＥ－１５０ＲＳＫ；トプコン（株）製）を用いて、大気雰囲気下、５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量（３６５ｎｍ基準）で光照射し、現像後、１８０℃で６０分間ポストベークを行うことにより硬化膜を有する基板を得た。
　４８５ｎｍより長波長領域における発光強度を分光計（Ｏｃｅａｎ　Ｏｐｔｉｃｓ社）
を用いて測定した。
　〔耐溶剤性の評価〕
　上記の発光強度の測定に用いたサンプルを有機溶剤（ＰＧＭＥＡ）に３０分間浸漬した後、上記発光強度の測定の手順に従い、発光強度を測定した。有機溶剤に浸漬する前の発光極度に対する浸漬後の発光強度の割合を求めた。
　〔現像残渣の評価〕
　５ｃｍ角のガラス基板（イーグル２０００；コーニング社製）上に、組成物を、スピンコート法で膜厚が１０μｍになるように塗布した後、１００℃で３分間プリベークして組成物層を形成し、現像液（水酸化カリウム０．０５％水溶液）に浸漬し、現像を行った。現像を行ったガラス基板表面を蛍光灯反射光により観察し、組成物層の残渣の有無の評価を行った。
　〔重量平均分子量〕
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）の測定は、ＧＰＣ法により、以下の条件で行った。
　装置；Ｋ２４７９（（株）島津製作所製）
　カラム；ＳＨＩＭＡＤＺＵ　Ｓｈｉｍ－ｐａｃｋ　ＧＰＣ－８０Ｍ
　カラム温度；４０℃
　溶媒；テトラヒドロフラン
　流速；１．０ｍＬ／ｍｉｎ
　検出器；ＲＩ
　校正用標準物質　；ＴＳＫ　ＳＴＡＮＤＡＲＤ　ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ　Ｆ－４０、Ｆ－４、Ｆ－２８８、Ａ－２５００、Ａ－５００（東ソー（株）製）
　〔酸価〕
　樹脂溶液３ｇを精秤し、アセトン９０ｇと水１０ｇとの混合溶媒に溶解し、０．１規定のＫＯＨ水溶液を滴定液として用いて、自動滴定装置（平沼産業社製、商品名：ＣＯＭ－５５５）により、重合体溶液の酸価を測定し、溶液の酸価と溶液の固形分とから固形分１ｇ当たりの酸価（ＡＶ）を求めた。
　〔固形分〕
　重合体溶液をアルミカップに約１ｇはかり取り、１８０℃で１時間乾燥した後、質量を測定した。その質量減少量から、重合体溶液の固形分（質量％）を計算した。
　製造例１：散乱剤（Ｈ－１）
　酸化チタンナノ粒子７０質量部に、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２１１１６（ビックケミー・ジャパン製）を固形分で３質量部、ＰＧＭＥＡを全量が１００質量部になるように加えた後、ペイントシェイカーで十分に分散するまで撹拌して、散乱剤（Ｈ－１）の分散液（固形分７３％）を得た。
　実施例１：樹脂（Ｂ－１）
　撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を具備したフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」という）を１１０質量部投入した後、窒素置換しながら撹拌し、８０℃に昇温した。ジシクロペンタニルメタクリレート１０質量部、ベンジルメタクリレート４５質量部、メタクリル酸４５質量部、２，２’－アゾビス（２．４－ジメチルバレロニトリル）７質量部をＰＧＭＥＡ１１０質量部に溶解したものを、滴下ロートからフラスコ中に滴下した後、８０℃で３ｈ撹拌した。
　次に、グリシジルメタクリレート１５質量部、２、２’－メチレンビス（４－メチル－
６－ｔ－ブチルフェノール）０．４質量部、トリエチルアミン０．８質量部をフラスコ内に投入して１１０℃まで昇温、８時間撹拌した後、室温まで冷却することで樹脂溶液を得た。この樹脂溶液１００質量部に対し、メルカプトプロピオン酸０．４質量部を加え８０℃で４時間撹拌することにより、樹脂（Ｂ－１）溶液を得た。樹脂（Ｂ－１）溶液中の固形分は４０質量％であった。樹脂（Ｂ－１）は重量平均分子量、酸価、アクリル当量、修飾量を表３に示す。
　実施例２：樹脂（Ｂ－２）
　実施例１においてメルカプトプロピオン酸０．４質量部を加えたことに代えてメルカプトプロピオン酸０．８質量部を加えたこと以外は実施例１と同様にして、樹脂（Ｂ－２）溶液を得た。結果を表３に示す。
　実施例３：樹脂（Ｂ－３）
　実施例１においてメルカプトプロピオン酸０．４質量部を加えたことに代えてメルカプトコハク酸０．６質量部を加えたこと以外は実施例１と同様にして、樹脂（Ｂ－３）溶液を得た。結果を表３に示す。
　実施例４：樹脂（Ｂ－４）
　撹拌器、温度計付き還流冷却管、滴下ロートおよび窒素導入管を具備したフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、「ＰＧＭＥＡ」という）を１１０質量部投入した後、窒素置換しながら撹拌し、８０℃に昇温した。ジシクロペンタニルメタクリレート１０質量部、ベンジルメタクリレート４５質量部、メタクリル酸４５質量部、２，２’－アゾビス（２．４－ジメチルバレロニトリル）１２．５質量部をＰＧＭＥＡ１１０質量部に溶解したものを、滴下ロートからフラスコ中に滴下した後、８０℃で３ｈ撹拌した。
　次に、グリシジルメタクリレート１５質量部、２、２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）０．４質量部、トリエチルアミン０．８質量部をフラスコ内に投入して１１０℃まで昇温、８時間撹拌した後、室温まで冷却することで固形分４０％の樹脂溶液を得た。
　この樹脂溶液１００質量部に対し、メルカプトプロピオン酸０．５質量部を加え８０℃で４時間撹拌することにより、樹脂（Ｂ－４）溶液を得た。結果を表３に示す。
　比較例１：樹脂（Ｂ－５）
　実施例１においてメルカプトプロピオン酸を加えなかったこと以外は実施例１と同様にして、樹脂（Ｂ－５）溶液を得た。結果を表３に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
　＜実施例５～８、比較例２＞
　表４の各成分を混合し、実施例および比較例の組成物を調製した。得られた組成物について発光強度、耐溶剤性および現像性の評価を行った。結果を表５に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
配位子含有量子ドット（Ａ－１）：オレイン酸が配位したＩｎＰ／ＺｎＳｅＳ量子ドットのトルエン分散液（固形分１０％）
光重合性化合物（Ｃ－１）：Ｍ－５１０（多塩基変性アクリレート、東亞合成社製）
光重合開始剤（Ｄ－１）：ＯＸＥ０２（オキシム開始剤、ＢＡＳＦ社製）
酸化防止剤（Ｅ－１）：Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ－ＧＰ（リン／フェノール複合型、酸化防止剤、住友化学社製）
レベリング剤（Ｆ－１）：トーレシリコーンＳＨ８４００（シリコーン系レベリング剤、東レダウ社製）
溶剤（Ｇ－１）：ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000026

Claims (9)

  1. 　量子ドット（Ａ）と樹脂（Ｂ）とを含み、
    　前記樹脂（Ｂ）は、スルフィド基と、カルボキシ基と、不飽和二重結合とを有する重合体（Ｂ１）を含む、組成物。
  2. 　前記重合体（Ｂ１）は、メルカプト基及びカルボキシ基を有する単量体（ａ）と、不飽和カルボン酸及び不飽和カルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種である単量体（ｂ）と、オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｃ）とに由来する構造単位を有する重合体である、請求項１に記載の組成物。
  3. 　前記メルカプト基及びカルボキシ基を有する単量体（ａ）は、一般式（１）で表される化合物を含む、請求項２に記載の組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、
    　Ｒは、炭化水素基を表す。複数のＲが存在する場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。前記炭化水素基は１以上の置換基を有していてよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。
    　ｐは、１～１０の整数を表す。］
  4. 　前記オキシラニル基及びエチレン性不飽和結合を有する単量体（ｃ）は、不飽和鎖式脂肪族炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ１）、及び不飽和脂環式炭化水素をエポキシ化した構造とエチレン性不飽和結合とを有する単量体（ｃ２）の少なくともいずれか一方を含む、請求項２又は３に記載の組成物。
  5. 　前記重合体（Ｂ１）は、一般式（ｂａ）、（ｂｂ）及び（ｂｃ）で表される構造単位を有する、請求項１～４のいずれか一項に記載の組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     ［式中、
    　Ｒ６１、Ｒ６２、Ｒ６３は、互いに独立して、水素原子又はメチル基を表す。
    　Ｒ７は、水素原子又は炭素原子数１～４のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基で置換されていてもよい。
    　Ｘは、＊－Ｒ８－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｏ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－Ｓ－Ｘ３－、＊－Ｒ８－ＮＨ－Ｘ３－を表す。＊は、Ｒ７側の酸素原子との結合手を表す。Ｒ８は、炭素原子数１～６のアルカンジイル基を表す。Ｘ３は、エチレン基又は二価の脂環式炭化水素基を表し、これらはヒドロキシ基を有する。
    　Ｙは、＊＊－（Ｒ）ｐ－を表す。Ｒは、炭化水素基を表す。複数のＲが存在する場合、互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。前記炭化水素基は１以上の置換基を有していてよい。置換基が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよく、それらは互いに結合して、それぞれが結合する原子とともに環を形成していてもよい。前記炭化水素基に含まれる－ＣＨ２－は－Ｏ－、－ＣＯ－及び－ＮＨ－の少なくとも１つに置き換わっていてもよい。＊＊は、Ｓとの結合手を表す。ｐは、１～１０の整数を表す。
    　Ｚは、カルボキシ基を表す。］
  6. 　重合性化合物（Ｃ）と重合開始剤（Ｄ）とをさらに含む、請求項１～５のいずれか一項に記載の組成物。
  7. 　請求項１～６のいずれか一項に記載の組成物から形成される硬化膜。
  8. 　請求項７に記載の硬化膜を含む表示装置。
  9. 　スルフィド基と、カルボキシ基と、不飽和二重結合とを有する樹脂。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023093391A1 (zh) * 2021-11-29 2023-06-01 镭昱光电科技(苏州)有限公司 量子点光固化胶水及其制备方法、显示装置
EP4431573A4 (en) * 2021-11-09 2025-10-08 Sumitomo Chemical Co RESIN FILM AND DISPLAY DEVICE

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7659390B2 (ja) * 2019-12-26 2025-04-09 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物および表示装置
EP4332123A4 (en) * 2021-04-28 2025-05-21 Sumitomo Chemical Company Limited CURED FILM, AND DISPLAY DEVICE

Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4838403A (ja) 1971-09-17 1973-06-06
JPS62174204A (ja) 1986-01-27 1987-07-31 Toyobo Co Ltd 感光性組成物
JPH0675372A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JPH0675373A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JPH0710913A (ja) 1993-06-22 1995-01-13 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH07248625A (ja) 1994-03-10 1995-09-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JP2006310303A (ja) 2005-04-29 2006-11-09 Samsung Electronics Co Ltd 自発光液晶表示装置
JP2006309219A (ja) 2005-04-25 2006-11-09 Samsung Electronics Co Ltd 自発光液晶表示装置
JP2008078678A (ja) 2007-11-02 2008-04-03 Hitachi Ltd プラズマ処理方法
JP2008078686A (ja) 2007-12-13 2008-04-03 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2009251129A (ja) 2008-04-02 2009-10-29 Optoelectronic Industry & Technology Development Association 液晶表示装置用カラーフィルタ、液晶表示装置
JP2011132215A (ja) 2009-11-27 2011-07-07 Adeka Corp オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP2012132558A (ja) 2010-12-18 2012-07-12 Boeing Co:The 定常流の熱力学的ポンプ
JP2013015812A (ja) 2011-07-05 2013-01-24 Lg Display Co Ltd 光変換層を含む液晶表示パネル及び液晶表示装置
JP2014002363A (ja) 2012-06-14 2014-01-09 Samsung Display Co Ltd 表示装置
JP2016065178A (ja) 2014-09-25 2016-04-28 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法
US20170059988A1 (en) * 2015-08-24 2017-03-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, quantum dot polymer composite pattern prepared therefrom, and electronic devices including the same
JP2018123274A (ja) 2017-02-03 2018-08-09 株式会社日本触媒 アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物及びその用途
JP2019081863A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性オリゴマー、その製造方法、感光性オリゴマーを用いたカラーフィルター用感光性着色組成物
WO2019189495A1 (ja) * 2018-03-27 2019-10-03 日立化成株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、画像表示装置及び硬化性組成物

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61166804A (ja) * 1985-01-18 1986-07-28 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明性熱硬化型含金属樹脂の製造法
JPS61261305A (ja) * 1985-05-15 1986-11-19 Mitsubishi Rayon Co Ltd 透明性熱硬化型含金属樹脂の製造法
JPH0497152A (ja) * 1990-08-09 1992-03-30 Kansai Paint Co Ltd 光重合性組成物からパターンを形成する方法
US7276506B2 (en) * 1998-12-28 2007-10-02 4 Aza Bioscience Nv Immunosuppressive effects of pteridine derivatives
JP4385204B2 (ja) * 2000-04-28 2009-12-16 Ｄｉｃ株式会社 活性エネルギー線硬化型樹脂組成物
JP4150491B2 (ja) * 2000-07-13 2008-09-17 富士フイルム株式会社 ポジ型感光性組成物
JP2002293820A (ja) * 2001-03-30 2002-10-09 Toyo Ink Mfg Co Ltd カチオン性樹脂、およびその製造方法
JP4102604B2 (ja) * 2002-06-07 2008-06-18 富士フイルム株式会社 カラーフィルタ及びその製造方法
JP2004020917A (ja) * 2002-06-17 2004-01-22 Fuji Photo Film Co Ltd 着色感光性樹脂組成物、これを用いる転写材料、カラーフィルター、フォトマスク及び画像形成方法
JP2006290999A (ja) 2005-04-08 2006-10-26 Osaka Organic Chem Ind Ltd 感光性樹脂組成物用基剤
JP2008065077A (ja) 2006-09-07 2008-03-21 Sekisui Chem Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP5056025B2 (ja) * 2007-01-22 2012-10-24 Ｊｓｒ株式会社 感放射線性樹脂組成物およびカラーフィルタ
KR101423061B1 (ko) 2008-01-30 2014-07-25 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 유황원자를 함유하는 레지스트 하층막 형성용 조성물 및 레지스트패턴의 형성방법
JP5602997B2 (ja) * 2008-09-16 2014-10-08 帝人株式会社 ガラス繊維強化芳香族ポリカーボネート樹脂組成物
JP5475537B2 (ja) * 2010-04-26 2014-04-16 旭化成ケミカルズ株式会社 熱可塑性樹脂組成物及び熱可塑性樹脂組成物の製造方法
CN103324029B (zh) * 2012-03-23 2016-01-13 太阳油墨（苏州）有限公司 感光性树脂组合物及其固化物、以及印刷电路板
CN102786631B (zh) 2012-08-16 2014-05-14 京东方科技集团股份有限公司 光敏性碱可溶性树脂、其制备方法及彩色光刻胶
CN105263476A (zh) * 2013-03-13 2016-01-20 库尔制药开发公司 用于治疗炎症的免疫修饰性颗粒
US10115910B2 (en) * 2015-04-03 2018-10-30 Hannstar Display (Nanjing) Corporation Organic electroluminescent material, organic electroluminescent device and quantum dot electroluminescent unit
CN105062462A (zh) * 2015-07-13 2015-11-18 京东方科技集团股份有限公司 发光复合物、发光材料、显示用基板及制备方法、显示装置
KR102443099B1 (ko) * 2016-12-27 2022-09-14 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 액정 표시 장치용 수지 조성물, 액정 표시 장치용 막 및 공중합체
JP6695369B2 (ja) * 2017-02-16 2020-05-20 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜及び表示装置
KR102601647B1 (ko) * 2017-02-20 2023-11-13 삼성전자주식회사 감광성 조성물, 이로부터 제조된 양자점-폴리머 복합체, 및 이를 포함하는 적층 구조물과 전자 소자
JP6609337B2 (ja) * 2017-03-30 2019-11-20 住友化学株式会社 重合体及び組成物
JP2019113614A (ja) * 2017-12-21 2019-07-11 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 カラーフィルタ用感光性着色組成物及びカラーフィルタ
CN109180853B (zh) * 2018-07-19 2021-01-15 京东方科技集团股份有限公司 Tadf聚合物配体、量子点材料和其制备方法及应用
JP7773859B2 (ja) * 2020-03-31 2025-11-20 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物及び表示装置
JP7773858B2 (ja) * 2020-03-31 2025-11-20 住友化学株式会社 硬化性樹脂組成物及び表示装置

Patent Citations (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4838403A (ja) 1971-09-17 1973-06-06
JPS62174204A (ja) 1986-01-27 1987-07-31 Toyobo Co Ltd 感光性組成物
JPH0675372A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JPH0675373A (ja) 1992-08-28 1994-03-18 Toppan Printing Co Ltd 感光性着色組成物およびカラーフィルターの製造方法およびカラーフィルター
JPH0710913A (ja) 1993-06-22 1995-01-13 Mitsubishi Chem Corp 光重合性組成物
JPH07248625A (ja) 1994-03-10 1995-09-26 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 感放射線性樹脂組成物
JP2006309219A (ja) 2005-04-25 2006-11-09 Samsung Electronics Co Ltd 自発光液晶表示装置
JP2006310303A (ja) 2005-04-29 2006-11-09 Samsung Electronics Co Ltd 自発光液晶表示装置
JP2008078678A (ja) 2007-11-02 2008-04-03 Hitachi Ltd プラズマ処理方法
JP2008078686A (ja) 2007-12-13 2008-04-03 Renesas Technology Corp 半導体装置
JP2009251129A (ja) 2008-04-02 2009-10-29 Optoelectronic Industry & Technology Development Association 液晶表示装置用カラーフィルタ、液晶表示装置
JP2011132215A (ja) 2009-11-27 2011-07-07 Adeka Corp オキシムエステル化合物及び該化合物を含有する光重合開始剤
JP2012132558A (ja) 2010-12-18 2012-07-12 Boeing Co:The 定常流の熱力学的ポンプ
JP2013015812A (ja) 2011-07-05 2013-01-24 Lg Display Co Ltd 光変換層を含む液晶表示パネル及び液晶表示装置
JP2014002363A (ja) 2012-06-14 2014-01-09 Samsung Display Co Ltd 表示装置
JP2016065178A (ja) 2014-09-25 2016-04-28 Jsr株式会社 硬化性樹脂組成物、硬化膜、波長変換フィルム、発光素子および発光層の形成方法
US20170059988A1 (en) * 2015-08-24 2017-03-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Photosensitive compositions, quantum dot polymer composite pattern prepared therefrom, and electronic devices including the same
JP2018123274A (ja) 2017-02-03 2018-08-09 株式会社日本触媒 アルカリ可溶性樹脂、感光性樹脂組成物及びその用途
JP2019081863A (ja) * 2017-10-31 2019-05-30 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 感光性オリゴマー、その製造方法、感光性オリゴマーを用いたカラーフィルター用感光性着色組成物
WO2019189495A1 (ja) * 2018-03-27 2019-10-03 日立化成株式会社 波長変換部材、バックライトユニット、画像表示装置及び硬化性組成物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP4083097A1

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP4431573A4 (en) * 2021-11-09 2025-10-08 Sumitomo Chemical Co RESIN FILM AND DISPLAY DEVICE
WO2023093391A1 (zh) * 2021-11-29 2023-06-01 镭昱光电科技(苏州)有限公司 量子点光固化胶水及其制备方法、显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP7406983B2 (ja) 2023-12-28
KR20220123252A (ko) 2022-09-06
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