ATE439969T1 - Vorrichtung und verfahren zum übertragen eines musters auf ein substrat - Google Patents

Vorrichtung und verfahren zum übertragen eines musters auf ein substrat

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ATE439969T1
ATE439969T1 AT03723553T AT03723553T ATE439969T1 AT E439969 T1 ATE439969 T1 AT E439969T1 AT 03723553 T AT03723553 T AT 03723553T AT 03723553 T AT03723553 T AT 03723553T AT E439969 T1 ATE439969 T1 AT E439969T1
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stamping
patterned
transferring
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    • B81C1/00444—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate
    • B81C1/0046—Surface micromachining, i.e. structuring layers on the substrate using stamping, e.g. imprinting
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B82—NANOTECHNOLOGY
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    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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Families Citing this family (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20080164638A1 (en) * 2006-11-28 2008-07-10 Wei Zhang Method and apparatus for rapid imprint lithography
US7686606B2 (en) * 2004-01-20 2010-03-30 Wd Media, Inc. Imprint embossing alignment system
US7320584B1 (en) 2004-07-07 2008-01-22 Komag, Inc. Die set having sealed compliant member
US20060027036A1 (en) * 2004-08-05 2006-02-09 Biggs Todd L Methods and apparatuses for imprinting substrates
US7331283B2 (en) * 2004-12-16 2008-02-19 Asml Holding N.V. Method and apparatus for imprint pattern replication
US7399422B2 (en) * 2005-11-29 2008-07-15 Asml Holding N.V. System and method for forming nanodisks used in imprint lithography and nanodisk and memory disk formed thereby
US7410591B2 (en) * 2004-12-16 2008-08-12 Asml Holding N.V. Method and system for making a nano-plate for imprint lithography
US7409759B2 (en) * 2004-12-16 2008-08-12 Asml Holding N.V. Method for making a computer hard drive platen using a nano-plate
US7363854B2 (en) 2004-12-16 2008-04-29 Asml Holding N.V. System and method for patterning both sides of a substrate utilizing imprint lithography
KR100729427B1 (ko) 2005-03-07 2007-06-15 주식회사 디엠에스 미세패턴 형성장치
US7281920B2 (en) * 2005-03-28 2007-10-16 Komag, Inc. Die set utilizing compliant gasket
MY144847A (en) * 2005-12-08 2011-11-30 Molecular Imprints Inc Method and system for double-sided patterning of substrates
US7670530B2 (en) * 2006-01-20 2010-03-02 Molecular Imprints, Inc. Patterning substrates employing multiple chucks
US7695667B2 (en) * 2006-03-01 2010-04-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method and apparatus for separating a stamper from a patterned substrate
US8377361B2 (en) * 2006-11-28 2013-02-19 Wei Zhang Imprint lithography with improved substrate/mold separation
TW200846278A (en) * 2007-05-24 2008-12-01 Contrel Technology Co Ltd Method for producing viscous micro-structure
KR101289337B1 (ko) * 2007-08-29 2013-07-29 시게이트 테크놀로지 엘엘씨 양면 임프린트 리소그래피 장치
TW200932502A (en) * 2008-01-18 2009-08-01 Univ Nat Taiwan An improved embossing apparatus
JP5164589B2 (ja) * 2008-01-30 2013-03-21 株式会社日立ハイテクノロジーズ インプリント装置
US8496466B1 (en) 2009-11-06 2013-07-30 WD Media, LLC Press system with interleaved embossing foil holders for nano-imprinting of recording media
US9330685B1 (en) 2009-11-06 2016-05-03 WD Media, LLC Press system for nano-imprinting of recording media with a two step pressing method
US8402638B1 (en) 2009-11-06 2013-03-26 Wd Media, Inc. Press system with embossing foil free to expand for nano-imprinting of recording media
US8747092B2 (en) 2010-01-22 2014-06-10 Nanonex Corporation Fast nanoimprinting apparatus using deformale mold
JP5970646B2 (ja) * 2011-11-25 2016-08-17 Ｓｃｉｖａｘ株式会社 インプリント装置およびインプリント方法
EP2815868B1 (de) * 2012-02-14 2017-03-29 Scivax Corporation Prägungsvorrichtung und prägungsverfahren
EP2889895B1 (de) * 2012-08-27 2017-11-15 Scivax Corporation Prägungsvorrichtung und prägungsverfahren
WO2014145826A2 (en) 2013-03-15 2014-09-18 Nanonex Corporation System and methods of mold/substrate separation for imprint lithography
US10105883B2 (en) 2013-03-15 2018-10-23 Nanonex Corporation Imprint lithography system and method for manufacturing
CN114101381B (zh) * 2021-11-10 2024-05-10 南京泰翔机械科技服务有限公司 一种用于装饰铁薄板冲压图案设备

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2430057A1 (fr) * 1978-06-29 1980-01-25 Thomson Csf Dispositif de pressage de disques souples et procede de pressage mettant en oeuvre un tel dispositif
DE3932039A1 (de) * 1989-09-26 1991-04-11 Werner & Pfleiderer Gummi-spritz-presse
US5425977A (en) * 1993-08-16 1995-06-20 Monsanto Company Rough-surfaced interlayer
US5772905A (en) * 1995-11-15 1998-06-30 Regents Of The University Of Minnesota Nanoimprint lithography
US5778774A (en) * 1996-12-18 1998-07-14 Framatome Connectors Usa Inc. Articulating embossing die
SE515607C2 (sv) * 1999-12-10 2001-09-10 Obducat Ab Anordning och metod vid tillverkning av strukturer
SE515962C2 (sv) * 2000-03-15 2001-11-05 Obducat Ab Anordning för överföring av mönster till objekt

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Publication number Publication date
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US20050172848A1 (en) 2005-08-11
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EP1497102A1 (de) 2005-01-19

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