ATE529782T1 - Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung - Google Patents
Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösungInfo
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- 238000001459 lithography Methods 0.000 title 1
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- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract 1
- 125000005027 hydroxyaryl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 abstract 1
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- G03F7/32—Liquid compositions therefor, e.g. developers
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP07115039A EP2031448B1 (de) | 2007-08-27 | 2007-08-27 | Verfahren zur Entwicklung einer wärmeempfindlichen Lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen Entwicklerlösung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE529782T1 true ATE529782T1 (de) | 2011-11-15 |
Family
ID=39043183
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT07115039T ATE529782T1 (de) | 2007-08-27 | 2007-08-27 | Verfahren zur entwicklung einer wärmeempfindlichen lithographiedruckplatte mit einer wässrigen alkalischen entwicklerlösung |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8383321B2 (de) |
| EP (1) | EP2031448B1 (de) |
| CN (1) | CN101784962B (de) |
| AT (1) | ATE529782T1 (de) |
| WO (1) | WO2009027272A1 (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011139073A2 (ko) * | 2010-05-04 | 2011-11-10 | 주식회사 엘지화학 | 네가티브 포토레지스트 조성물 및 소자의 패터닝 방법 |
| WO2014106554A1 (en) * | 2013-01-01 | 2014-07-10 | Agfa Graphics Nv | (ethylene, vinyl acetal) copolymers and their use in lithographic printing plate precursors |
| CN104007618B (zh) * | 2014-06-18 | 2017-09-29 | 杭州福斯特应用材料股份有限公司 | 一种pcb用高粘附力感光干膜 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2533793B2 (ja) * | 1988-06-17 | 1996-09-11 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版の製造方法 |
| JP2000031025A (ja) * | 1998-07-15 | 2000-01-28 | Mitsubishi Electric Corp | レジストパターンの形成方法 |
| US6649319B2 (en) * | 2001-06-11 | 2003-11-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Method of processing lithographic printing plate precursors |
| US6858359B2 (en) * | 2002-10-04 | 2005-02-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llp | Thermally sensitive, multilayer imageable element |
| JP2004272152A (ja) * | 2003-03-12 | 2004-09-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法 |
| DE10337506A1 (de) * | 2003-08-14 | 2005-03-17 | Kodak Polychrome Graphics Gmbh | Wärmeempfindlicher positiv arbeitender Lithographie-Druckplattenvorläufer |
| JP4639062B2 (ja) * | 2003-11-21 | 2011-02-23 | 富士フイルム株式会社 | 感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| TWI297420B (en) * | 2003-12-30 | 2008-06-01 | Dongwoo Fine Chem Co Ltd | Low foaming developer for radiation sensitive composition |
| WO2005066410A1 (ja) * | 2004-01-07 | 2005-07-21 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | アレルゲン抑制剤、並びに、アレルゲン抑制処理繊維及びその製造方法 |
| WO2005111727A1 (en) * | 2004-05-19 | 2005-11-24 | Agfa-Gevaert | Method of making a photopolymer printing plate |
| EP1614540B1 (de) * | 2004-07-08 | 2008-09-17 | Agfa Graphics N.V. | Verfahren zur Herstellung einer lithographischen Druckplatte |
| CN101010640A (zh) * | 2004-09-01 | 2007-08-01 | 东京应化工业株式会社 | 光蚀刻用显影液组合物与抗蚀图案的形成方法 |
| ATE480800T1 (de) * | 2005-05-10 | 2010-09-15 | Agfa Graphics Nv | Alkalischer entwickler für strahlungsempfindliche zusammensetzungen |
-
2007
- 2007-08-27 EP EP07115039A patent/EP2031448B1/de not_active Not-in-force
- 2007-08-27 AT AT07115039T patent/ATE529782T1/de not_active IP Right Cessation
-
2008
- 2008-08-19 US US12/670,806 patent/US8383321B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-19 WO PCT/EP2008/060850 patent/WO2009027272A1/en not_active Ceased
- 2008-08-19 CN CN200880105190.6A patent/CN101784962B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2031448B1 (de) | 2011-10-19 |
| US8383321B2 (en) | 2013-02-26 |
| CN101784962B (zh) | 2014-08-13 |
| CN101784962A (zh) | 2010-07-21 |
| WO2009027272A1 (en) | 2009-03-05 |
| EP2031448A1 (de) | 2009-03-04 |
| US20100203458A1 (en) | 2010-08-12 |
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