CH485255A - Procédé de reproduction d'un original sur un support - Google Patents

Procédé de reproduction d'un original sur un support

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Publication number
CH485255A
CH485255A CH1566566A CH1566566A CH485255A CH 485255 A CH485255 A CH 485255A CH 1566566 A CH1566566 A CH 1566566A CH 1566566 A CH1566566 A CH 1566566A CH 485255 A CH485255 A CH 485255A
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CH
Switzerland
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sep
parts
layer
support
photosensitive
Prior art date
Application number
CH1566566A
Other languages
English (en)
Inventor
Avendano Marzo Alfredo
Original Assignee
Bassan Maurice
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Filing date
Publication date
Application filed by Bassan Maurice filed Critical Bassan Maurice
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Publication of CH485255A publication Critical patent/CH485255A/fr

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Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description


  Procédé de     reproduction    d'un original sur un support    La présente invention a pour objet un procédé de  reproduction d'un original, par exemple d'un dessin,  d'une photographie, ou d'un tableau sur un support,  par exemple en verre, en matière plastique, en marbre,       ete.,    ou matières analogues.  



  La présente invention a pour but de réaliser un pro  cédé permettant d'effectuer une telle reproduction d'une  manière rapide et économique et avec une grande fidé  lité par rapport à l'original.  



  Le procédé selon l'invention est caractérisé en ce  qu'on applique sur le support une couche photosensible,  on impressionne cette dernière à la lumière en inter  posant le dessin ou cliché photographique sur pellicule  transparente, on traite ensuite cette couche au moyen  de dissolvants pour éliminer ses parties non exposées,  et on applique sur les parties du support ainsi mises à  nu, un produit de traitement pour graver le support ou  le recouvrir d'un autre revêtement, selon l'effet décoratif  désiré.  



  La description de procédés de mise en     co;uvre    de  l'invention est donnée en référence au dessin annexé à       simple    titre indicatif, et sur lequel  La     fig.    1 est une vue en coupe représentant le sup  port en verre muni de la couche de     revêtement    ainsi que  de la     couche    externe photosensible.  



  La fi,,. 2 est une vue en coupe similaire représentant  ce même support après exposition de la couche photo  sensible et traitement de celle-ci.  



  La     fig.    3 est une vue en plan de dessus correspon  dante.  



  La     fig.        -4    est une vue en coupe     représentant    ce même  support après traitement des parties mises à nu de la  couche de revêtement, et traitement des parties corres  pondantes de la     surface    supérieure du support en verre.  



  Pour la reproduction d'un dessin sur un support  constitué par une plaque en verre 1, la première opé  ration réalisée consiste à appliquer, sur la face supé-         rieure    de ce support, une couche de revêtement ?, qui  peut être constituée par une couche de peinture ou de  métal.  



  Au-dessus de cette couche de revêtement 2, on étend  ensuite une couche externe 3, constituée par une émul  sion photosensible. Celle-ci peut être une couche sensible  de colloïde     bichromaté,    contenant par exemple du bitume  de Judée. Cependant cette couche photosensible peut  consister en une autre matière présentant la particula  rité d'être rendue insoluble après avoir été expose à  l'action de la lumière.  



  On impressionne ensuite cette couche photosensible  par exposition à la lumière en interposant le cliché  photographique ou le dessin transparent dont on désire  effectuer la reproduction.  



  Pour effectuer cette impression, on applique le cliché  ou dessin en contact direct avec la couche photosensible  3, et ce, par exemple au moyen d'une presse. Après quoi  on soumet l'ensemble à l'exposition de la lumière. Cepen  dant, il est également possible d'utiliser un projecteur ou  appareil agrandisseur photographique dans lequel est  placé le cliché photographique ou le dessin établi sur  support transparent. Dans ce dernier cas, on peut évi  demment modifier les dimensions de l'image figurant  sur l'original.  



  Après avoir achevé l'exposition à la lumière, on traite  la couche photosensible au moyen d'un révélateur et  ensuite d'un dissolvant     susceptible    d'éliminer les parties  de cette couche qui n'ont pas été soumises à l'exposition  <B>de</B> la lumière. Il ne subsiste plus alors que les parties  de la couche photosensible ayant subi l'exposition à la  lumière. Ainsi, dans l'exemple représenté. il ne reste que  les deux parties 3a et 3b qui correspondent au dessin  dont on désire effectuer la reproduction.  



  Les parties correspondantes de la couche de revê  tement 2 continuent donc à être recouvertes par les  parties photosensibles exposes, tandis que tout le reste    
EMI0002.0001     
  
    de <SEP> la <SEP> surface <SEP> de <SEP> cette <SEP> couche <SEP> se <SEP> trouve <SEP> mis <SEP> à <SEP> nu <SEP> (fig. <SEP> 2
<tb>  et <SEP> 3). <SEP> On <SEP> appli_lue <SEP> alors <SEP> un <SEP> dissolvant <SEP> ou <SEP> un <SEP> acide <SEP> sus  ceptible <SEP> d'attaquer <SEP> et <SEP> de <SEP> faire <SEP> disparaitre <SEP> la <SEP> matière
<tb>  constituant <SEP> la <SEP> coticlle <SEP> de <SEP> revèteinent <SEP> 2. <SEP> Lorsque <SEP> cette
<tb>  coudre <SEP> est <SEP> constituée <SEP> par <SEP> de <SEP> la <SEP> peinture, <SEP> on <SEP> peut <SEP> utiliser
<tb>  tin <SEP> dissolvant <SEP> de <SEP> peinture.

   <SEP> Cependant, <SEP> lorsque <SEP> cette <SEP> <B>cou-</B>
<tb>  clic <SEP> est <SEP> à <SEP> base <SEP> de <SEP> métal, <SEP> on <SEP> doit <SEP> utiliser <SEP> un <SEP> acide, <SEP> par
<tb>  exemple <SEP> de <SEP> l'acide <SEP> nitrique <SEP> ou <SEP> de <SEP> l'acide <SEP> chlorhydrique.
<tb>  Du <SEP> fait <SEP> de <SEP> ce <SEP> traitement, <SEP> la <SEP> couche <SEP> de <SEP> revêtement <SEP> 2
<tb>  disparaît. <SEP> sauf <SEP> dans <SEP> ses <SEP> parties <SEP> 2a <SEP> et <SEP> 2b <SEP> qui <SEP> se <SEP> trouvent
<tb>  situées <SEP> au-dessous <SEP> des <SEP> parties <SEP> subsistantes <SEP> art <SEP> et <SEP> 3b, <SEP> de
<tb>  la <SEP> couche <SEP> photosensible. <SEP> En <SEP> effet <SEP> les <SEP> parties <SEP> 2a <SEP> et <SEP> 2b
<tb>  sont <SEP> alors <SEP> protégées <SEP> par <SEP> ces <SEP> dernières <SEP> parties.
<tb>  Dans <SEP> ces <SEP> conditions.

   <SEP> la <SEP> face <SEP> stipérietire <SEP> du <SEP> support
<tb>  cri <SEP> verre <SEP> 1 <SEP> se <SEP> tr-crtt:e <SEP> mise <SEP> à <SEP> nu <SEP> sauf <SEP> dans <SEP> ses <SEP> zones <SEP> situées
<tb>  au-dessous <SEP> des <SEP> parties <SEP> 3a <SEP> et <SEP> 3b <SEP> de <SEP> la <SEP> couche <SEP> photo  sensible.
<tb>  Ensuite. <SEP> on <SEP> appli_,ue <SEP> sur <SEP> le <SEP> support <SEP> en <SEP> verre <SEP> un <SEP> acide
<tb>  stisceptiblc <SEP> de <SEP> dépolir <SEP> ou <SEP> de <SEP> @@ra@-er- <SEP> sa <SEP> surface <SEP> supé  rietire, <SEP> notamment <SEP> de <SEP> l'acide <SEP> fl@iorh_%-drique <SEP> ;

   <SEP> la <SEP> matière
<tb>  constituant <SEP> la <SEP> première <SEP> couche <SEP> de <SEP> revêtement <SEP> ne <SEP> doit
<tb>  pas <SEP> étre <SEP> attaquée <SEP> par <SEP> l'acide <SEP> cinplové <SEP> pour <SEP> graver <SEP> le
<tb>  erre.
<tb>  Selon <SEP> une <SEP> variante, <SEP> il <SEP> est <SEP> possible <SEP> d'appliquer, <SEP> sur
<tb>  les <SEP> parties <SEP> mises <SEP> ii <SEP> nu <SEP> du <SEP> support <SEP> en <SEP> verre, <SEP> des <SEP> peintures
<tb>  ou <SEP> dépôt:;

   <SEP> métalliques, <SEP> distincts <SEP> de <SEP> ceux <SEP> qui <SEP> constituent
<tb>  la <SEP> première <SEP> cottcIle <SEP> de <SEP> revctemer;t <SEP> 2.
<tb>  On <SEP> obtient <SEP> c < @te <SEP> à <SEP> côte <SEP> sur <SEP> la <SEP> surface <SEP> supérieure <SEP> du
<tb>  support <SEP> e11 <SEP> serre <SEP> des <SEP> zones <SEP> de <SEP> inét@il <SEP> ou <SEP> de <SEP> peinture <SEP> de
<tb>  couleurs <SEP> ou <SEP> de <SEP> natures <SEP> différentes.

   <SEP> certaines <SEP> de <SEP> ces <SEP> zones
<tb>  correspondant <SEP> aux <SEP> parties <SEP> qui <SEP> ont <SEP> été <SEP> protégées <SEP> par <SEP> la
<tb>  couche <SEP> photosensible, <SEP> tandis <SEP> que <SEP> d'autres <SEP> parties <SEP> cor  respondent <SEP> là <SEP> des <SEP> applications <SEP> réalisées <SEP> par <SEP> la <SEP> suite.
<tb>  Les <SEP> parties <SEP> de <SEP> la <SEP> couche <SEP> photosensible <SEP> qui <SEP> subsistent
<tb>  après <SEP> aclièveillent <SEP> des <SEP> différentes <SEP> opérations <SEP> sont <SEP> alors
<tb>  éliminées.

       
EMI0002.0002     
  
    On <SEP> pourrait <SEP> aussi <SEP> dans <SEP> .une <SEP> autre <SEP> variante <SEP> déhe@ser
<tb>  citi-dessus <SEP> de <SEP> la <SEP> première <SEP> couche <SEP> et <SEP> de <SEP> l'ériiulsion <SEP> une
<tb>  troisième <SEP> couche <SEP> de <SEP> re\éteiiietlt <SEP> de <SEP> coulet!r <SEP> ,,u <SEP> <B>(le</B> <SEP> @crrli@.

Claims (1)

  1. EMI0002.0003 RE\'El\DIC':\TIO\ <tb> Procédé <SEP> de <SEP> reproduction <SEP> d'un <SEP> ori_linal <SEP> sur <SEP> utI <SEP> #,Up port, <SEP> caractérisé <SEP> en <SEP> ce <SEP> qu'on <SEP> applique <SEP> sur <SEP> <B>10 <SEP> support</B> <tb> une <SEP> couche <SEP> photosensible, <SEP> on <SEP> ia1pressionne <SEP> eettc <SEP> der nière <SEP> à <SEP> hi <SEP> IuillièrC <SEP> ert <SEP> interposant <SEP> le <SEP> dessiil <SEP> <B>Citi</B> <SEP> cliclr<B>L:</B> <tb> photogr < iphidue, <SEP> sur <SEP> p:llicule <SEP> transparcn@.. <SEP> .;n <SEP> trait: <tb> ensuite <SEP> cette <SEP> couche <SEP> @;u <SEP> ni;@\en <SEP> (le <SEP> dissol@aat, <SEP> pour <SEP> éli miner <SEP> ses <SEP> parties <SEP> non <SEP> exposées, <SEP> et <SEP> on <SEP> applique <SEP> sur <SEP> l:, <tb> parties <SEP> du <SEP> stipnort <SEP> ainsi <SEP> mises <SEP> 1\:
    <SEP> nu. <SEP> un <SEP> pn@tluit <SEP> (!e <tb> traitemen' <SEP> pour <SEP> er;.@ <SEP> cr <SEP> le <SEP> support <SEP> @)u <SEP> l: <SEP> rcr@@u@ <SEP> ri:- <SEP> a' <SEP> @n <tb> autre <SEP> revétement, <SEP> selon <SEP> l'effet <SEP> dëcoratif <SEP> dèsirc. <tb> SOl!S-RE\'ENDIC.al <SEP> 101\'S <tb> 1. <SEP> Procédé <SEP> selon <SEP> la <SEP> m@ei:dieation. <SEP> cara@;@rise <SEP> p;:r <SEP> ;@ <tb> fait <SEP> qu'on <SEP> interpose <SEP> c@itrc <SEP> 1c <SEP> nupl,ort <SEP> ci <SEP> I;i <SEP> c@@i@ch@ <SEP> pli@@t@_ <tb> sensible <SEP> une <SEP> couche <SEP> de <SEP> re@éten:etit <SEP> ;i <SEP> buse <SEP> du <SEP> nival <SEP> o:: <tb> de <SEP> peinture. <tb> 2. <SEP> Procédé <SEP> selon <SEP> la <SEP> sc@us-rc@entlïcatio;@ <SEP> I. <SEP> .aract@ri>.@ <tb> par <SEP> le <SEP> fait <SEP> que <SEP> les <SEP> p;
    irties <SEP> du <SEP> revêtement <SEP> rnis@# <SEP> <B>1111</B> <SEP> p,;1 <tb> l'élimination <SEP> des <SEP> partie, <SEP> <B>11071</B> <SEP> exposées <SEP> de <SEP> <B>la</B> <SEP> eouell@ <tb> photosensible <SEP> sont <SEP> atta,iuée: <SEP> pur <SEP> tin <SEP> acide <SEP> ou <SEP> tiisso!.,:n. <tb> 3. <SEP> Procédé <SEP> selon <SEP> l;:#ou,-n@c:iüieation <SEP> _. <SEP> c;_riete:-i,: <tb> par <SEP> le <SEP> fait <SEP> que <SEP> 1e@: <SEP> parties <SEP> du <SEP> support <SEP> :Mises <SEP> ;;
    <SEP> 11ü <SEP> 1, <SEP> ,. <tb> l'élimination <SEP> des <SEP> parties <SEP> attaquées <SEP> du <tb> à <SEP> leur <SEP> tour <SEP> atta_!uées <SEP> par <SEP> un <SEP> ticide. <tb> =l. <SEP> Procédé <SEP> selon <SEP> la <SEP> soiis-revendictition <SEP> ^. <SEP> caract@r <SEP> i@, <tb> par <SEP> le <SEP> fait <SEP> due <SEP> les <SEP> parties <SEP> du <SEP> support <SEP> mise: <SEP> ;i <SEP> <B>1111</B> <SEP> ]*élimination <SEP> des <SEP> parties <SEP> ;itt:idttées <SEP> du <SEP> rcvctenl:nt <tb> revêtues <SEP> d'une <SEP> couche <SEP> de <SEP> rc@ètemeilt <SEP> différente <SEP> de <SEP> celle <tb> constituant <SEP> Ici <SEP> couche <SEP> originelle <SEP> <B>(le</B> <SEP> re@étcmciit <SEP> t!i@ <tb> support.
CH1566566A 1966-10-27 1966-10-27 Procédé de reproduction d'un original sur un support CH485255A (fr)

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