DD159003A3 - Verfahren zur herstellung von aufdampfmaterial zur erzeugung von siliziummonoxidschichten durch vakuumverdampfung - Google Patents

Verfahren zur herstellung von aufdampfmaterial zur erzeugung von siliziummonoxidschichten durch vakuumverdampfung Download PDF

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Hagen Hildebrand
Ulrich Szymanski
Manfred Krueger
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Rudolf Tuemmler
Wolfgang Engemann
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Heinz Schicht
Hagen Hildebrand
Ulrich Szymanski
Manfred Krueger
Becker Hans Joachim
Rudolf Tuemmler
Wolfgang Engemann
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP0636589A1 (en) * 1993-07-20 1995-02-01 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Sources for deposition of silicon oxide
EP1112981A1 (fr) * 1999-12-30 2001-07-04 Norbert Couget Procédé de préparation d'un revêtement optique sur un substrat par évaporation sous vide d'une poudre

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