DD208471A3 - Verfahren zur herstellung von lichtgeschuetzten polymeren - Google Patents
Verfahren zur herstellung von lichtgeschuetzten polymeren Download PDFInfo
- Publication number
- DD208471A3 DD208471A3 DD23913382A DD23913382A DD208471A3 DD 208471 A3 DD208471 A3 DD 208471A3 DD 23913382 A DD23913382 A DD 23913382A DD 23913382 A DD23913382 A DD 23913382A DD 208471 A3 DD208471 A3 DD 208471A3
- Authority
- DD
- German Democratic Republic
- Prior art keywords
- polymer
- stabilizer
- groups
- anionic polymerization
- stabilizers
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 title abstract description 27
- 238000010539 anionic addition polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000010534 nucleophilic substitution reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 claims description 16
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 7
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000012963 UV stabilizer Substances 0.000 abstract description 11
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 abstract description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 abstract description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 3
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 abstract description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000003711 photoprotective effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 abstract 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- -1 polysiloxane Polymers 0.000 description 8
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 6
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 5
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- SZKKRCSOSQAJDE-UHFFFAOYSA-N Schradan Chemical group CN(C)P(=O)(N(C)C)OP(=O)(N(C)C)N(C)C SZKKRCSOSQAJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 1
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N hexamethylcyclotrisiloxane Chemical compound C[Si]1(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O1 HTDJPCNNEPUOOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 238000007344 nucleophilic reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 1
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 1
- QHOQHJPRIBSPCY-UHFFFAOYSA-N pirimiphos-methyl Chemical compound CCN(CC)C1=NC(C)=CC(OP(=S)(OC)OC)=N1 QHOQHJPRIBSPCY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 230000005588 protonation Effects 0.000 description 1
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft lichtgeschuetzte Polymere, Copolymere und Blockcopolymere. Ein wirksamer Lichtschutz wird erreicht, indem Halogenpropylgruppen enthaltende siliciumorganische Verbindungen als Abbrecher der anionischen Polymerisation eingesetzt werden. Durch polymeranaloge nucleophile Substitution der Halogenatome der Halogenpropylgruppen lassen sich anschliessend hydroxylgruppenhaltige UV-Stabilisatoren einfuehren. Die UV-Stabilisatoren sind auf diese Weise mittels kovalenter Bindungen hydrolysebestaendig an die Polymerstruktur gebunden. Sie sind unter den Bedingungen der Plastverarbeitung nicht fluechtig und befinden sich bevorzugt in der Oberflaeche. Mit geringem Einsatz an UV-Stabilisator wird ein maximaler Lichtschutz gewaehrleistet.
Description
Verfahren sur Herstellung von lichtgeschützten Polymeren
Anwendungsgebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von lichtgeschützten Polymeren der allgemeinen Por- meln:
L' (A)n η = 1 A (L')2
oder Blockcopoljmeren
Lf (AB)n η = 1 -.3 A (O
(L'BAB) η
wobei L7 = UY-Stabilisatorrest enthaltendes Silan ode:
Siloxan
A =.Polyolefinblock B = Polysiloxanblock
.Jn! M Λ ^ Λ . A O ί ^
| E^ } | - O | a3 1 |
| ! Si - | j - Si - | |
| E1 | ||
| η | ||
bedeuten und der eingesetzte Abbrecher L in der Regel der folgenden Porsiel genügt:
mit R = Halogenpropylrest, der teilweise durch B? ersetzt sein kann ο E = hydrolytisch abspalt-
bare Gruppe, ζ*3* Halogen-, Acyloxyreste
E^ = Alkyl- oder Arylrest η st 0 - 20
Analoge Verbindungen mit trifunktionellen Silaneinheiten oder mit nur einer hydroIysierbaren Gruppe können in gleicher Weise verwendet -werden* Xn L' wurden die Halogenatome· der Halogenpropylreste des Abbrechers mittels einer polymeranalogen nukleophilen Substitutionsreaktion durch UY-Stabilisatorreste (z»B* 2~Hydxo—
ersetzt*
Charakteristik der bekannten technischen Losungen
Xn der -'Technik wird die Lichts tab ilisierung το η Polymeren meist durch physikalisches Zumischen τοη UV-Stabilisatoren, wie Z3B-* Bihydroisybenaophenönether, durchgeführt* Auf Grund der hohen Flüchtigkeit neigen die angewendeten Substanzen bei der thermischen Verarbeitung jedoch in erheblichem Maße zum-Ausschwitzeru Deshalb wurde versucht, weniger flüchtige, höhermolekulare Verbindungen zu entwickeln oder den TJY-Stabilisator mit dem zu schütsenden Polymer über Xoyalanzbindüngen zu verknüpfen» Bine technische Lösung ?rurde in der Synthese von höheraolekularen Verbindungen, wie
n <Q\ (US 3 352 396) H: Aryl-, AlkyIrest
gefunden* Prinzipiell ähnliche Verbindungen werden durch Sergeevj V»A*· u,a, in Vysokoniol., SoediiuBer« A (1977) 7, 1926-31 beschrieben. Die Si-O»C-Bindungen sind jedoch nicht hydrolysestabil* Daher werden bei Zutritt von Luftfeuchtigkeit niedermolekulare Fragmente der geschützten Verbindungen gebildet, die eine ähnliche hohe Flüchtigkeit besitzen wie die o.g, Dihydrcsybensophenonether-
Als höbermolekulare siliciusifreie UV-Stabilisatoren sind u«a;» Verbindungen des ü?yps:
H: H, OH
(Japan 76 90, 329,* Cseciu 159 526; Mazur, H* ; Lewandowska, I.j Hocz.Panstw.Inkl.Mig. 27 (1976) 6, 6II-I9) sowie ein Bisphenol-A—2?4~dihydrosyben3ophenon~Pliosgen— Copolyraer (Japan 77 03, 639) bekannt ge-worden» Sine weitere technische lösung besteht darin* den UV-Stabilisator über Koval.ensbindungen direkt, a»3, durch nerisieren, mit dem zn schützenden Polymer zu
So jri.ru. in dem japanischen Patent 2f2\> 75 20, O59 die Copolymerisation der Verbindung
m~i t e-nrlpTar JiTr,viοττ,λ'ran cü"ssriiüt 1^.t . T^! S-1^T τ prior WpT 1^0
7/ird die Verbindung 2,4"Dihydro:iy-4i-'!vrinylbe3isophenon. radikalisch in Styren einpolymerisiert (0*Vogl, Pure Appl.Ohesu, <i1 (1979) 2409-2419), In der gleichen Ver·
λ ^ Π -1 O O C
£, *J *J i w w ^*»
•öffentlichung gibt Yogi eine andere Möglichkeit der festen Verankerung von UY-Stabilisatoren an, die 7er™ esterung von 4~(2-Brometho:^)~2~hydro:^benzophenon mit PolyCte.trabutylanamonitun-metiiacrylat)
CH3 CH3
CO COOH
Der Ifechteil der genannten höhanaolekularen oder einpolymerisierten UY-Stabilisatoren'besteht da.rin, daß sie sich nur zu einem geringen Seil an der Oberfläche des Polymeren befinden, wo sie ihre Hauptwirksasiksit besitzen, d^h* ein großer Teil des im Polymer enthaltenen XTi-Stabilisator bleibt wirkungslos* Eine über™ windtmg dieses Sachteilas erreichen die Autoren der Patente DS-OS 2 346 419, US 3 340 23t. "und US 3 341 durch Auftragen eines L1T-Stabilisator enthaltenden Überzuges nach der Verformung"' des Polymeren* Damit wird gesichert, daß sich der UY-Stabilisator e.xi der Oberfläche des Polymeren befindet* nachteilig ist, daB schon bei geringem mechanischen Abrieb der TPJ-Stabilisator vollständig.Tarieren geht. Im Zusammenhang mit der erfindüngsgemäßen Lösung kann aus der Literatur belegt werden» daB die Außenschicht eines PoIystyren-PolydisiethyIsilosan-Copolymersn aus reinem Polydimsthylsilozan besteht (Glarkj D3T^ ; Silke? A.*; Peeling, Je ; Thomas , H3,?^.; !Faraday Discuss,» Gh em» S oc,
7 ο q 1 3 3 B
60 (1976) 183-95). 3s mirde bereits gefunden (DD-PS 147 247)j da£S man durch anionische Polymerisation hergestellte Mono- oder Dianionen mit antioxydansgruppen™ haltigen Organosillciumverbindungen abbrechen kann* Bs ist weiter möglich, die organischen Polymeranionen vor dem Kettenabbruch mit Organosilosanblöcken au Te.rknUO.fen.«
Da der Stabilisator im Polysiloxanblock enthalten ist, befindet er sich bevorzugt in der Oberflächenschicht, v/o er seine größte Wirksamkeit besitzt* Eingeschränkt wird das genannte Verfahren dadurch, daß hydroxy Igrup-· penhaltige Verbindungen nur dann als Abbrecher für die anionische Polymerisation verwendet ?rerden können, wenn die OH~Gruppe sterisch stark gehindert ist, da sonst sowohl störende Reaktionen mit den Siliciumverbindungen als auch Abbruchreaktionen durch Protonierung auftreten können»
Ziel der Erfindung
Ziel der Erfindung ist es, Iientgeschützte Polymere, Copolymere bsw„ Blockcopoljmare herausteilen., Die Stabilisatorgruppen sollen sich bevorzugt an der" Oberfläche des Polymeren befinden und sich auch bei einer nachfolgenden thermischen Behandlungj wie SaB10 Formgebung, nicht verflüchtigen*. Es soll mit einem relativ geringen Anteil an UV-Stabilisator ein maximaler Liehtschuts der Polymeren erreicht werden-,
Darlegung des Wesens der Erfindung
Die Aufgabe dsr Erfindung besteht darin, Polymere mit UV-Stabilisatorresten su synthetisieren., bei denen der UV-Stabilisator hydrolysestabil gebunden ist, sich bei der Verarbeitung nicht verflüchtigt und sich bevorzugt in den Oberflächenschichten befindet* Das erfindun^sse-
mäße Verfahren besteht in einer anionischen Polymerisation oder Copolymerisation von Olefinen oder von Olefinen und cyclischen Silosanen und dem Abbruch der Polymerisation mit reaktiven halogengruppenhaltigen Siliciumverbindungen«, Durch anschließende polyaeranaloge nukleophile Substitution der Halogeneton·e der Halogenpropylgruppen werden hydro^lgruppenhaltige TTY-Stabili·- satorreste eingeführt» Die anionische Polymerisation wird bevorzugt in aprotischen (ζ«3« He^an) oder aprotisch dipolare.n Lösungsmitteln (3*3* Tetrahydrofuran) durchgeführt. Die Polymerisationstemperatur liegt bei -80 bis +50 0C*
Als Initiator werden metailorganische Verbindungen der 1* bis 3* Hauptgruppe des Periodensystems (2*3« Li-Alkyle) oder Alkaliaetallaromaten (2*3« la- oder K-laphthalin) verwende t,- . .
Bei der Polymerisation oder Gopolymerisation der Olefine 3 me 3«3,* Styren, Butadien oder Acrylnitril, ent-
— 2—
stehen Polymeranionen G^ oder -dianionen Ot" » Bei der
Zx η
Copolymerisation der Olefine mit cyclischen Silosanen^ wie 3*B* Hexamethylcyclotrisiloxan (D^) oder Oktamethyl cyclotetrasiloxaii (I).), entstehen in Abhängigkeit vom verwendeten Initiator Polymer "-an ionen des Typs A3*" bzw* "BA3™ (Ai Polyolefin,-Bj Polysilo^Bn) mit. Silanolatendgruppen^ Diese ?olyme.rmpno« oder dianionen werden bei 2 immer temperatur mit ciono-^ ai- oder trifunktionellen halogengruppenhaltigen Siliciumverbindungen als Abbrecher. "Jingesetzt«, Anschließend werden die Halo-genpropy!gruppen in einer polymera.nalogen nukleophilen Substitutionsreaktion durch TJY-Stabillsatorreste (z*3.„ 2-Hydroxy-~bensophenon-4-osyreste) ersetzt* Dabei entstehen Produkte der allgemeinen Irormeln;'
2 3 SM 3
η = ι -
A (L?)2 A (3LV)2 L' »UV-Stabilisator-
rest enthaltendes (L'A)
n (I
A = Polyolefinblock B = Po Iy s i 1 ο .:san b lock
Um den erfindungs gemäß en SiI iciumabbre eher der allgemeinen Pormel
Γρ.
1 1
R Pw = "HalogenpropyIrest, der
-,,c < „. A ι I1. -.2 teilweise durch R-^ ersetzt 1 I - '1-3 s e in kann
L iniL R = hydrolysierbare Gruppe
3? = Alkyl- bzw, Arylrest
η =0-20
zu erhalten, werden durch bekannte Methoden Halogenoder Aoyloxyhydrogensilane an die C=C~Doppelbindung τοπ Allylhalogeniden addiert^ Die beschriebenen Silicium- Verbindungen können mit eines Wasser-Lösungsmittel-Gemisch partiell zu Oligo- oder Polysiloxanen mit hydro™ lysierbaren Bndgruppen hydrolysiert werden« Mt den beschriebenen halosenO-roovlsTUOOenhalti.sren Silanen SilO3S.nen τ/erden die "lebenden" Polymerketten abgebrochen» Die sich anschließende polymeranaloge nukleophile Reaktion der Haiogenpropylgruppen enthaltenden Copolymeren· mit hydro:zylgruppenhaltigen ÜY-Stabilisatoren unter Bildung von C-O-C-Bindungen erfolgt ebenfalls nach bekannten Methoden«
Vorteile des erfindungsgemäßen Verfahrens sind d?le Hich iuciivj.ga,=j.ii o.c;3 υ '/-ο ΐι=νϋΐίβ uOi-o,- sej-ne n.yu.roj.j dsa labile Verknüpfung mit dem Polymer;, ohne dai3 bei der Herstellung Störungen durch reaktive OH-Gruppen des Stabil li.sa.tors auftreten können» Da sich erfindunÄS.eemaß der
UT-Stabilisator im Polysiloxanblock befindet, ist an der Oberfläche eine hohe Konsentration an UY-Stabilisa^ tor gesichert*.- Die genannten Vorteile stellen einen technischen Fortschritt der bisher bekannten Lösungen dar* -
Ausführungsbeispiela
Beispiel 1: Herstellung von Polybutadien des Typs L'(A)p
30.g (0,55 Mol) Butadien werden mit 0,96 g (1,5*10~2 Mol) n~3utyllithium (gelöst in 14»3 nil Hesan)'als Initiator in Hexan bei 50 0G unter inerten Bedinglangen anionisch polymerisiert* Anschließend-wird mit dem chiorpropylhaltigen Abbrecher, hergestellt durch Addition von Methyldichlorsilan an Allylchlorid, abgebrochen* Zur Aufarbeitung wird das Polymer aus der lösung mit Methanol gefällt und umgefällt«
Anschließend wird das Polymer in 100 ml TE? (Tetrahydrofuran) gelöst und mit 2,4- g'(0,01 Mol) 2,4-3ihydroxyben» zophenoii sowie 1 g Z-GO-, in 300 ml IiMF (DimethyIforn 90 min auf 120 0C erwärmt* Zur Aufarbeitung wird die Polymerlös'ong mit'Methanol gefällt und nochmals umgefällt« Das Polymer wird eine Woche im -rakuitsntrockenschrank getrocknet, .
:. 3900 Stabilisator: 5/5
Beispiel 2: Herstellung von Polybutadien-Polydimethylsiloxan—Go polymer des. T'~os L'(A3)o
37,4 g (O369 Mol) Butadien werden mit 1,19 g (1,87*10**2 EoI) n^Butyllithius (gelöst in 17,3 al Hexan) als Initiatorin He.xaii bei ^O G uxi'ter inert en Bed in'31U71^e7I anionisch polymerisiert,, Anschließend τ/erden 17j 5 g (0.073 Mol)
2Q ν] 1 ^ < -f^
Eexamethylcyclotrisilozan (D-), gelöst in 50 ml THF, zugesetzt* Hacn beendeter Copolymerisation wird wie in 3e.ispiel 1 abgebrochen und aufgearbeitet« Anschließend wird das Gopolyinerisst in 100 ml THJ' gelöst und mit 4j4 g (0,02 Mol) 2j4-Dihydrozyben2ophenon und 1,85 g K2CO3 in 400 ml DaS1 90 min auf 120 0G erwärmt» Zur Aufarbeitung ?rira die Polymerlösung mit Methanol gefällt, mit He-can versetzt, um Homopolysiloxan herauszulösen, und nochmals umgefällt» Trocknung siehe Bei-St)IeI 1»
: 56OO
Gew«-% Stabilisatori 3,3 Gew.-JS Si t 6,7
Beispiel 3' Herstellung von Polystyrsn des Typs A(L')9
15,64 g (0,15 Mol) Styren werden mit O521 g (1,2S»10~3 Mol) K-lTaphthalin (gelöst in 1 ml ΤΉΡ) als Initiator in TEF bei -73 C unter inerten Bedingungen anionisch polymerisiert*. Anschließend v/ird mit chlorpropylhaltigaa Abbrecher, hergestellt durch Addition Ton Diinethylchlorhydro— gensiian an Allylchlorid, abgebrochen^ Aufarbeitung siehe Beispiel 1«
Anschließend ?rf.rd das Polymer in 100 ml 2Ξ? gelöst und mit 1,4 g (6e10~^ Mol) 2ä4-Dihydroz:yben2oph€non some 1 g K2CO3 in 150 ml DMF 90 min auf 120 0C erhitzt* Aufarbeitung siehe BeisOiei 1*
-o
M^ : 25 200
Gew*-% UY-Stabilisator; 1, Gew*-% Si : 19
- 10 -. £ O ü I >J ^) U
Beispiel 4J· Herstellung von Polystyren^Polyalriethyl·- silosan-Gopolyineren des Typs A(BL')^
15,64 g (0,15 Mol) Styren werden mit 0,21 g (1,26-1Ο~3 Mol) K-JTaphthalin (gelöst in 1 ml TEF) als Initiator in
"bei -73 0C unter inerten Bedingungen anionisch polymerisiert, -Anschließend werden 15,64 g (O5OT Mol) Hezajnethylcyclotrisilomn (D«)5 gelöst in 40 ml SEF, zugesetzbei ZiiMiertesiperatiir und die Mischung auf 30 0C erhitzt Bach beendeter Copolymerisation wird mit chlorpropylhaltigen Ab'ore eher, hergestellt durch Addition von- Dime thylchlorsilan an Allylchlorid, abgebrochen, Zur Aufarbeitung wird die Polymerlösung mit Methanoi gefällt j mit Hexan versetzt, um HomopolysiIosan herauszulösen, und nochmals ungefällt* umsetzung mit 2,4~Dihydrosybenzophenon und. Aufarbeitung siehe Beispiel 1«.
M21 : 100 000
Gew»-56 UV-Stabilisator: O342 -% Si : 18,9
Claims (1)
- Sr ι indungs an s ρ ru ch1» Verfahren sur Herstellung von lichtgeschütz-ten, durch anionische Polymerisation erhaltenen Olefinpolymeren, Olefinsilosancopolyiaeren bzvi» -blockcopolyinerenj aa~ diirch gekennzeichnet, Ö.&B die bei der anionischen Polymerisation als Mono- oder Dianionen entstandenen ?olymerk:etten mit halogenpropylhaltigen Organo-sili™ ciuurverbindungen der allgemeinen Formel.11 ρ1R- Si - O 4 Si - RWO De2.1 ^R = Halogenpropy!gruppe, die teilweise durch R er- - setzt sein kannρ _R = hydroljrsierbare Gruppe (nalogen-, Acyloxygruppen)R^ = Alkyl- oder Arylrest
η = 0 - 20 · , 'bedeuten, als Eattenabbrecher umgesetzt werden und' anschlieBend die dabei eingeführten Ealogenatoae der Halogenprop2?lgruppen in einer polymeranalogen nukleophilen Substitutionsreaktion unter Bildung einer C-0-C-3indung durch Stabilisatorreste ersetzt werden.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23913382A DD208471A3 (de) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | Verfahren zur herstellung von lichtgeschuetzten polymeren |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DD23913382A DD208471A3 (de) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | Verfahren zur herstellung von lichtgeschuetzten polymeren |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DD208471A3 true DD208471A3 (de) | 1984-05-02 |
Family
ID=5538016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DD23913382A DD208471A3 (de) | 1982-04-20 | 1982-04-20 | Verfahren zur herstellung von lichtgeschuetzten polymeren |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DD (1) | DD208471A3 (de) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868246A (en) * | 1987-08-12 | 1989-09-19 | Pennwalt Corporation | Polymer bound UV stabilizers |
| US4981914A (en) * | 1987-08-12 | 1991-01-01 | Atochem North America, Inc. | Polymer bound UV stabilizers |
| US5096977A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-17 | Atochem North America, Inc. | Process for preparing polymer bound UV stabilizers |
| US5206378A (en) * | 1987-08-12 | 1993-04-27 | Elf Atochem North America, Inc. | Hydrazido functionalized 2-(2-hydroxyphenyl)-2h-benzotriazoles |
| US5405911A (en) * | 1992-08-31 | 1995-04-11 | Shell Oil Company | Butadiene polymers having terminal functional groups |
-
1982
- 1982-04-20 DD DD23913382A patent/DD208471A3/de not_active IP Right Cessation
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4868246A (en) * | 1987-08-12 | 1989-09-19 | Pennwalt Corporation | Polymer bound UV stabilizers |
| US4981914A (en) * | 1987-08-12 | 1991-01-01 | Atochem North America, Inc. | Polymer bound UV stabilizers |
| US5096977A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-17 | Atochem North America, Inc. | Process for preparing polymer bound UV stabilizers |
| US5206378A (en) * | 1987-08-12 | 1993-04-27 | Elf Atochem North America, Inc. | Hydrazido functionalized 2-(2-hydroxyphenyl)-2h-benzotriazoles |
| US5405911A (en) * | 1992-08-31 | 1995-04-11 | Shell Oil Company | Butadiene polymers having terminal functional groups |
| USRE39617E1 (en) | 1992-08-31 | 2007-05-08 | Kraton Polymers Us Llc | Butadiene polymers having terminal functional groups |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69133119T2 (de) | Polymerisation für olefinische monomere unter verwendung von anionischen initiatoren | |
| DE2644555C2 (de) | ||
| DE1570686C3 (de) | Verfahren zur Umsetzung von Organosiliciumverbindungen, die zumindestens ein Wasserstoffatom an ein Siliciumatom pro Molekül und nicht mehr als zwei Wasserstoffatome an Silicium gebunden aufweisen, mit einer Verbindung die aliphatische Kohlenstoffatome, die durch Mehrfachbindungen miteinander verknüpft sind, aufweist | |
| DE2335118B2 (de) | Acrylat- oder substituierte Acrylatgruppen enthaltende Organopolysiloxane und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE2644551A1 (de) | Loesungsmittelbestaendige kalthaertende silikonkautschuk-massen | |
| DE3704657A1 (de) | Teilchenfoermige mehrphasenpolymerisate | |
| DE2556432A1 (de) | Si-atome enthaltende organische polymere, insbesondere silylierte organische polymere und silylierte organo- organosiloxan-blockcopolymere, und verfahren zu ihrer herstellung | |
| WO2013041723A1 (de) | Hydrolysierbare und polymerisierbare silane mit einstellbarer räumlicher verteilung der funktionellen gruppen sowie deren verwendung | |
| DE2849092A1 (de) | Silylphosphate und verfahren zu deren herstellung | |
| DE112013000211B4 (de) | Polyorganosiloxan, Verfahren zum Herstellen von Polyorganosiloxan und mit dem Polyorganosiloxan modifiziertes Polycarbonatharz | |
| DE3889103T2 (de) | Verfahren zur herstellung von organopolysiloxanen mit einer alkenyl-endgruppe. | |
| DE69213369T2 (de) | Verfahren zur Herstellung funktionalisierter diphenylsiloxan- dimethylsiloxan Copolymere | |
| DE1720496A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Organopolysiloxanen | |
| DE69415643T2 (de) | Härtbare Harzzusammensetzungen | |
| EP0659805B1 (de) | Lösliche Organopolysiloxan-Radikalmakroinitiatoren zur Pfropfcopolymerisation | |
| DE4234959C1 (de) | Organopolysiloxane mit einer endständigen Alkoxygruppe und einer am anderen Kettenende befindlichen weiteren funktionellen Gruppe sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE2234703A1 (de) | Blockcopolymere mit siloxanbloecken und organischen bloecken | |
| DD208470A3 (de) | Verfahren zur herstellung von polymeren kv-stabilisatoren | |
| DE4234898C1 (de) | Organopolysiloxane mit einer endständigen SiH-Gruppe und einer am anderen Kettenende befindlichen weiteren funktionellen Gruppe sowie Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DE4436077C2 (de) | Organosiloxane mit einer endständigen Aminopropylgruppe und einer am anderen Kettenende befindlichen weiteren funktionellen Gruppe sowie Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung | |
| DE2030272C3 (de) | Verfahren zur Herstellung organischer SUoxan-Block-Mischpolymerisate | |
| DD234683A1 (de) | Verfahren zur herstellung von polymeren langzeitstabilisatoren mit hals-gruppen | |
| DE69006888T2 (de) | Verfahren zur Synthese von Acylamino-Organosilicon-Verbindungen. | |
| DE68925488T2 (de) | Blockcopolymere aus Propylen und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
| DD234682A1 (de) | Verfahren zur herstellung von langzeitstabilisierten polymeren mit hals-gruppen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| ENJ | Ceased due to non-payment of renewal fee |