DE92176T1 - Basiszelle fuer integrierte schaltungsgattermatrizes. - Google Patents
Basiszelle fuer integrierte schaltungsgattermatrizes.Info
- Publication number
- DE92176T1 DE92176T1 DE198383103612T DE83103612T DE92176T1 DE 92176 T1 DE92176 T1 DE 92176T1 DE 198383103612 T DE198383103612 T DE 198383103612T DE 83103612 T DE83103612 T DE 83103612T DE 92176 T1 DE92176 T1 DE 92176T1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- transistors
- contact pieces
- zone
- cell
- cell according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D84/00—Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
- H10D84/90—Masterslice integrated circuits
- H10D84/903—Masterslice integrated circuits comprising field effect technology
- H10D84/907—CMOS gate arrays
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S257/00—Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes
- Y10S257/923—Active solid-state devices, e.g. transistors, solid-state diodes with means to optimize electrical conductor current carrying capacity, e.g. particular conductor aspect ratio
Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Logic Circuits (AREA)
- Stabilization Of Oscillater, Synchronisation, Frequency Synthesizers (AREA)
- Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
- Insulated Gate Type Field-Effect Transistor (AREA)
Claims (6)
1. Grundzelle für integrierte Verknüpfungsschaltungsreihen, mit zwei
Feldeffekttransistoren des p-typs (Tl, T2) und zwei Feldeffekttransistoren des η-Typs (T3, T4), die so gebildet sind, daß die
Transistoren des gleichen Typs eine der an einem Ende des Kanals sitzenden Elektroden gemeinsam haben, dadurch gekennzeichnet,
daß die Gatterelektroden (C, C) von einem der p-Transistoren (T2) und von einem der η-Transistoren (T3), die
in Bezug zu einem zentralen Punkt der Zelle symmetrisch angeordnet sind, durch einen ersten Polysiliciumpaß (1) (polykristallines
Silicium) miteinander verbunden sind, der zwei parallele metallene Stromleiter (V00, VnrJ überkreuzt, welche
üb UU
außerdem von einem zweiten Polysiliciumpaß (2) überkreuzt werden, der die an den gegenüberliegenden Seiten einer Zone,
die von diesen metallenen Stromleitern (V00, V ~) begrenzt wird,
Db UU
angeordneten Bereiche miteinander verbindet.
2. Zelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Gatterelektroden
der beiden Transistoren gleichen Typs (Tl, T2, T3, T4) mit Kontaktstücken (C, D) verbunden sind, die mit Kontaktstücken
(F, G) fluchten, welche den Elektroden zugeordnet sind, die am anderen Kanalende dieser selben Transistoren liegen, und
parallel zu den metallenen Stromleitern (V00, Vnn) außerhalb der
bb ULl
von diesen Leitern begrenzten Zone unter Bildung von Gruppen von Eingangs-VAusgangs-Kontaktstücken der Zelle angeordnet sind.
3. Zelle nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand zwischen jeder Gruppe von Eingangs-/ Ausgangs-Kontaktstücken
zum jeweils näherliegenden metallenen Stromleiter so ist, daß ein freier Zwischenraum für eine einzelne
spezialisierende Metallisierung freibleibt.
4. Zelle nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet,
daß die Eingangs-/Ausgangs-Kontaktstücke (F, D, G, H, E, I) mit Ausnahme des Kontaktstücks, das den miteinander verbundenen
Gatterelektroden zugeordnet ist, mit entsprechenden Kontaktstücken (F', D', G1, H', E', V) verbunden sind, die
innerhalb der durch die metallenen Stromleiter (Voo>
^nrJ begrenzten Zone liegen.
5. Zelle nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die jeweils den Transistoren gleichen Typs (Tl, T2, T3, T4) gemeinsame
Elektrode mit einem Kontaktstück (A, B) verbunden ist, das nahe beim den Transistoren näherliegenden metallenen Stromleiter innerhalb
der von den metallenen Stromleitern begrenzten Zone angeordnet ist.
6. Zelle nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die innerhalb der von den metallenen Stromleitern (Vqe» ^DD^
begrenzten Zone angeordneten Kontaktstücke (F', D', G', H', E', I') im mittleren Teil dieser Zone in einem Abstand von einem
jeweiligen Kontaktstück (A, B), das zur beiden Transistoren (Tl, T2, T3, T4) gleichen Typs gemeinsamen Elektrode gehört, so
gruppiert sind, daß eine einzelne spezialisierende Metallisierung hindurchgelegt werden kann.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT67501/82A IT1191188B (it) | 1982-04-15 | 1982-04-15 | Cella elementare per reti di porte logiche a circuito integrato |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE92176T1 true DE92176T1 (de) | 1985-10-24 |
Family
ID=11302946
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE198383103612T Pending DE92176T1 (de) | 1982-04-15 | 1983-04-14 | Basiszelle fuer integrierte schaltungsgattermatrizes. |
| DE8383103612T Expired DE3377603D1 (en) | 1982-04-15 | 1983-04-14 | Basic cell for integrated-circuit gate arrays |
Family Applications After (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE8383103612T Expired DE3377603D1 (en) | 1982-04-15 | 1983-04-14 | Basic cell for integrated-circuit gate arrays |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4595940A (de) |
| EP (1) | EP0092176B1 (de) |
| JP (1) | JPS59938A (de) |
| AT (1) | ATE36207T1 (de) |
| CA (1) | CA1187624A (de) |
| DE (2) | DE92176T1 (de) |
| DK (1) | DK162867C (de) |
| ES (1) | ES521503A0 (de) |
| IT (1) | IT1191188B (de) |
| NO (1) | NO164947C (de) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4783749A (en) * | 1985-05-21 | 1988-11-08 | Siemens Aktiengesellschaft | Basic cell realized in the CMOS technique and a method for the automatic generation of such a basic cell |
| DE4002780C2 (de) * | 1990-01-31 | 1995-01-19 | Fraunhofer Ges Forschung | Basiszelle für eine kanallose Gate-Array-Anordnung |
| US5291043A (en) * | 1990-02-07 | 1994-03-01 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor integrated circuit device having gate array |
| US6399972B1 (en) * | 2000-03-13 | 2002-06-04 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Cell based integrated circuit and unit cell architecture therefor |
| JP2011242541A (ja) * | 2010-05-17 | 2011-12-01 | Panasonic Corp | 半導体集積回路装置、および標準セルの端子構造 |
| JP5730407B2 (ja) | 2010-12-20 | 2015-06-10 | ザ ニールセン カンパニー (ユーエス) エルエルシー | 分散人口統計情報を使用してメディアインプレッション(mediaimpressions)を決定するための方法及び装置 |
| AU2013204865B2 (en) | 2012-06-11 | 2015-07-09 | The Nielsen Company (Us), Llc | Methods and apparatus to share online media impressions data |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1440512A (en) * | 1973-04-30 | 1976-06-23 | Rca Corp | Universal array using complementary transistors |
| JPS5925381B2 (ja) * | 1977-12-30 | 1984-06-16 | 富士通株式会社 | 半導体集積回路装置 |
| US4356504A (en) * | 1980-03-28 | 1982-10-26 | International Microcircuits, Inc. | MOS Integrated circuit structure for discretionary interconnection |
| JPS5749253A (en) * | 1980-09-09 | 1982-03-23 | Toshiba Corp | Semiconductor integrated circuit |
-
1982
- 1982-04-15 IT IT67501/82A patent/IT1191188B/it active
-
1983
- 1983-04-05 JP JP58058808A patent/JPS59938A/ja active Granted
- 1983-04-11 CA CA000425602A patent/CA1187624A/en not_active Expired
- 1983-04-11 DK DK158383A patent/DK162867C/da not_active IP Right Cessation
- 1983-04-14 NO NO831320A patent/NO164947C/no unknown
- 1983-04-14 DE DE198383103612T patent/DE92176T1/de active Pending
- 1983-04-14 EP EP83103612A patent/EP0092176B1/de not_active Expired
- 1983-04-14 DE DE8383103612T patent/DE3377603D1/de not_active Expired
- 1983-04-14 AT AT83103612T patent/ATE36207T1/de not_active IP Right Cessation
- 1983-04-15 ES ES521503A patent/ES521503A0/es active Granted
- 1983-04-15 US US06/485,170 patent/US4595940A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NO164947B (no) | 1990-08-20 |
| NO831320L (no) | 1983-10-17 |
| US4595940A (en) | 1986-06-17 |
| ES8404111A1 (es) | 1984-04-01 |
| JPS59938A (ja) | 1984-01-06 |
| DK158383A (da) | 1983-10-16 |
| EP0092176A3 (en) | 1985-08-21 |
| DE3377603D1 (en) | 1988-09-08 |
| EP0092176A2 (de) | 1983-10-26 |
| CA1187624A (en) | 1985-05-21 |
| DK158383D0 (da) | 1983-04-11 |
| IT8267501A1 (it) | 1983-10-15 |
| NO164947C (no) | 1990-11-28 |
| ATE36207T1 (de) | 1988-08-15 |
| DK162867B (da) | 1991-12-16 |
| IT8267501A0 (it) | 1982-04-15 |
| JPH0254670B2 (de) | 1990-11-22 |
| ES521503A0 (es) | 1984-04-01 |
| IT1191188B (it) | 1988-02-24 |
| EP0092176B1 (de) | 1988-08-03 |
| DK162867C (da) | 1992-05-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE68905269T2 (de) | MOS-Transistor und Anwendung bei einer Freilaufdiode. | |
| DE2009102C3 (de) | Integrierte Halbleiteranordnung mit komplementären Feldeffekttransistoren | |
| DE3850473T2 (de) | Halbleiterschalter mit parallelen lateralen DMOS und IGT. | |
| DE2509530C2 (de) | Halbleiteranordnung für die Grundbausteine eines hochintegrierbaren logischen Halbleiterschaltungskonzepts basierend auf Mehrfachkollektor-Umkehrtransistoren | |
| DE2137211A1 (de) | Hybrider Leistungsbaustein | |
| DE1918222A1 (de) | Feldeffekttransistor mit isolierter Steuerelektrode | |
| DE3544324C2 (de) | Integrierte MOS-Leistungsbrückenschaltung sowie Verfahren zu deren Herstellung | |
| DE10105086B4 (de) | Leistungsmodul | |
| DE69320033T2 (de) | Monolitisch integrierte Struktur eines vertikalen Bipolar- und eines vertikalen MOSFET-Transistors | |
| DE3734067A1 (de) | Halbleitervorrichtung | |
| DE2822403A1 (de) | Integrierte injektions-logik-vorrichtung | |
| DE68911809T2 (de) | Integrierbare, aktive Diode. | |
| DE2231977A1 (de) | Anordnung zur messung mechanischer spannungen | |
| DE92176T1 (de) | Basiszelle fuer integrierte schaltungsgattermatrizes. | |
| DE2024824A1 (de) | Feldeffekttransistor | |
| DE2142721A1 (de) | Integrierte bistabile Speicherzelle | |
| EP0584668B1 (de) | Leistungshalbleiter-Modul | |
| DE1690068A1 (de) | Magnetischer Widerstand | |
| DE2221865A1 (de) | Halbleitervorrichtung mit isoliertem Tor | |
| DE2734509A1 (de) | Integrierte halbleiterschaltung | |
| DE112015000846T5 (de) | Halbleitermodul | |
| DE2852402A1 (de) | Lateral-halbleiterbauelement | |
| DE3709124A1 (de) | Npn-aequivalente struktur mit erhoehter durchschlagspannung | |
| DE3021565C2 (de) | ||
| DE3343030A1 (de) | Doppelgate-hochleistungsfeldeffekttransistor |