ES2210681T3 - Composiciones anatimicrobianas y su utilizacion. - Google Patents
Composiciones anatimicrobianas y su utilizacion.Info
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Abstract
SE DESCRIBE UNA COMPOSICION ANTIMICROBIANA EN LA CUAL SE REDUCE LA IRRITACION CAUSADA A LA PIEL POR UN COMPUESTO DEL TIPO ISOTIAZOLONE Y SE MEJORAN LAS PROPIEDADES DE OPERACION POR INYECCION FORMANDOLA COMO UNA SOLUCION UNIFORME. LA COMPOSICION CONTIENE UN COMPUESTO DEL TIPO ISOTIAZOLONE Y UN COMPUESTO QUE DISMINUYE LA IRRITACION A LA PIEL DEL PRIMERO EN UNA RELACION MOLAR DE 1:0.-50 Y QUE SE DISUELVE EN UN DISOLVENTE.
Description
Composiciones antimicrobianas y su
utilización.
La presente invención se refiere a un método para
utilizar una composición antimicrobiana y, en particular, a una
nueva composición antimicrobiana, con la que se reduce la irritación
cutánea de los compuestos de tipo isotiazolona como
5-cloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona
(en adelante denominado C1-MIT) y se mejoran las
propiedades de manipulación del mismo al formarla en forma de
solución.
El uso de los compuestos de tipo isotiazolona
representados por C1-MIT representados por la
siguiente fórmula está muy extendido como agente de control de
lodos, bactericida, alguicida y fungicida para diversos sistemas
como, por ejemplo, sistemas de agua de refrigeración, sistemas de
fábrica de papel, pinturas, adhesivos, fluidos de cortado y sistemas
de tratamiento del suelo nocturno.
No obstante, se sabe que los compuestos de tipo
isotiazolona presentan una naturaleza altamente irritante para la
piel y, por consiguiente, se requiere la adopción de grandes
precauciones para manejar los productos químicos que incluyen estos
compuestos en su composición.
Para resolver estos problemas, se ha propuesto la
formación de un compuesto molecular en forma sólida (un compuesto en
el que se combinan dos o más moléculas estables entre sí con una
fuerza intermolecular, como por ejemplo un enlace de hidrógeno o una
fuerza de van der Waals, incluyendo la forma específica compuesto y
complejo de clatrato) a partir del compuesto de tipo isotiazolona y
un compuesto de tipo ácido carboxílico, fenol, alcohol, amida con el
fin de disminuir la irritación cutánea de los compuestos de tipo
isotiazolona y mejorar su estabilidad (solicitudes de patente
japonesa JP 2-57046B y JP 1-190602A,
JP 7-69816A, JP 7-101890A y JP
7-330520A).
Las formas en las que se emplea el compuesto
molecular incluyen el uso del compuesto molecular en forma de polvo,
o el uso del compuesto molecular en polvo después de configurarlo en
tabletas. Por otra parte, se propone, con el fin de mejorar el
control y las propiedades de funcionamiento en la adición de
sustancias químicas, la dispersión del compuesto molecular en un
medio de dispersión como por ejemplo agua o disolventes orgánicos,
produciendo así una sustancia química líquida (JP
1-31630A y JP 8-259410A).
No obstante, la sustancia química líquida que
comprende el compuesto molecular antes mencionado presenta varios
problemas, tales como que, aunque el compuesto molecular se disperse
en partículas finas, la uniformidad no es suficiente para prevenir
la obstrucción de la bomba de inyección o el sistema de tuberías;
tiende a solidificarse cuando no se adoptan medidas de precaución
para evitar su secado; se requiere una bomba de tipo especial para
inyectarlo debido a su alta viscosidad, pues por lo general se añade
un agente para mejorar la viscosidad para impedir que se sedimenten
las partículas.
Por lo tanto, existe la necesidad de contar con
una sustancia química que produzca una menor irritación cutánea y
que presente una mejor estabilidad, así como uniformidad para
permitir unas propiedades de operación en el proceso de inyección
excelentes.
En la base de datos WPI Sección Ch. Semana 9343
Derwent Publications Ltd., Londres, GB: Clase C02, AN
93-339711 XP002099351 & JP 05 247011 A se
describe un compuesto de inclusión de ciclodextrina útil como
bactericida, que contiene un compuesto de isotiazolina.
En EP A- 0332336 se describe una composición
antimicrobiana que incluye un compuesto de clatato que contiene un
microbicida hidrosoluble y un medio de dispersión.
En US-A-5559083
se describe una solución acuosa que incluye un compuesto de
isotiazolona mezclado con una ciclodextrina ramificada.
En la base de datos WPI Sección Ch, semana 9204
Derwent Publications Ltd., Londres, GB: Clase C02, AN
92-030653 XP002099353 & JP 03 279373 A se
describen compuestos de inclusión que contienen un compuesto de
isotiazolona hidrosoluble como compuesto aceptor y un compuesto de
bisfenol o un ácido desoxicólico como compuesto receptor.
En EP-A-0435439
se describen estabilizantes de carboxilo para
3-isotiazolonas.
EP-A-0895718
incluye parte del estado de la técnica en virtud de las
disposiciones del Artículo 54(3) y (4)EPC y describe
un complejo de ciclodextrina con isotiazolina.
Uno de los objetos de la presente invención
consiste en proporcionar un método de empleo de una composición
antimicrobiana con el que se superan los problemas de la técnica
anterior, tal como se ha señalado antes, suprimiendo la irritación
cutánea de los compuestos de tipo isotiazolona y mejorando su
estabilidad, al mismo tiempo que se mejoran las propiedades de
operación para inyección y la estabilidad en almacenamiento
obteniendo la composición en forma de una solución uniforme.
La presente invención proporciona un método
antimicrobiano para prevenir los lodos en los sistemas de
fabricación de papel y pulpa, incluyendo dicho método la etapa de
adición de una composición antimicrobiana que contiene uno o más
compuestos de tipo isotiazolona y un compuesto para disminuir la
irritación cutánea de dichos compuestos de tipo isotiazolona en una
relación molar de 1:0,1 - 1,:50, y que se disuelve en un disolvente
para uno o más de los compuestos de tipo isotiazolona y para el
compuesto para diminuir la irritación cutánea, seleccionándose el
compuesto para disminuir la irritación cutánea de compuestos de tipo
isotiazolona de al menos uno del grupo que consiste en (a) ácidos
carboxílico, (b) compuestos fenólicos y (c) compuestos
alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocatecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico,
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8):
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1-4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, un átomo de S, o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1-3 átomos de
carbono, o un átomo de halógeno, y R^{19} representa un enlace
simple, un grupo metileno, un grupo etileno, o un grupo fenileno; o
se selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona;
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona;
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propin-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butin-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
siendo el disolvente agua y/o al menos un
disolvente orgánico hidrófilo seleccionado del grupo que consiste en
dimetilformamida, etilenglicol, propilen glicol, dietilen glicol,
dipropilen glicol, metilen celosolve (éter monometílico de etilen
glicol), fenilcelosolve, éter monometílico de dietilen glicol, éter
monometílico de dipropilen glicol, alcoholes con hasta 8 átomos de
carbono, excepto octanol, acetato de metilo, acetato de
2-etoximetilo, acetato de
2-etoxietilo y carbonato de propileno de manera que
la concentración del uno o más compuestos isotiazolona en el
sistema es de 0,1 a 25 g/m^{3}.
La presente invención proporciona también un
método antiséptico para sistemas seleccionados entre sistemas de
emulsión plástica, pasta de almidón, suspensión espesa de almidón,
pintura y aceite para cortado de metales, incluyendo dicho método la
etapa de adición de una composición antimicrobiana que contiene uno
o más compuestos de tipo isotiazolona y un compuesto para disminuir
la irritación cutánea de dichos compuestos de tipo isotiazolona en
una relación molar de 1:0,1 - 1:50, y que se disuelve en un
disolvente para uno o más de dichos compuestos de tipo isotiazolona
y para el compuesto para disminuir la irritación cutánea,
seleccionándose el compuesto para diminuir la irritación cutánea de
los compuestos de tipo isotiozolona al menos entre uno del grupo que
consiste en (a) ácidos carboxílicos, (b) compuestos fenólicos, y (c)
compuestos alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocetecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico;
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8)
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1 a 4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, y un átomo de S o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1 a 3 átomos de carbono, o un átomo de
halógeno, y R^{19} representa un enlace simple, un grupo metileno,
un grupo etileno, o un grupo fenileno; o se selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona,
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona,
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propin-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butin-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiin-1,6-diol; y \alpha, \alpha, \alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiin-1,6-diol; y \alpha, \alpha, \alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
siendo el disolvente agua y/o al menos un
disolvente orgánico hidrófilo seleccionado del grupo que consiste en
dimetilformamida, etilenglicol, propilen glicol, dietilen glicol,
dipropilen glicol, metil celulosolve (éter monometílico de etilen
glicol), fenilcelosolve, éter monometílico de dietilenglicol, éter
monometílico de dipropilen glicol, alcoholes con hasta 8 átomos de
carbono, excepto octanol, acetato de metilo, acetato de
2-etoximetilo, acetato de
2-etoxietilo y carbonato de propileno de manera que
la concentración del uno o más compuestos de isotiazolona en el
sistema es de 1 a 5000 g/m^{3}.
La presente invención proporciona además una
composición antimicrobiana que contiene uno o más compuestos de tipo
isotiazolona y un compuesto para disminuir la irritación cutánea de
dichos compuestos de tipo isotiazolona en una relación molar de
1:0,1-1:50, y que se disuelve en un disolvente
orgánico hidrófilo que incluye propilen glicol, para los uno o más
compuestos de tipo isotiazolona y para el compuesto para disminuir
la irritación cutánea, seleccionándose el compuesto para disminuir
la irritación cutánea de los compuestos de tipo isotiazolona al
menos de uno del grupo que consiste en (a) ácidos carboxílicos, (b)
compuestos fenólicos y (c) compuestos alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocatecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico,
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8):
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1-4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, un átomo de S, o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1-3 átomos de
carbono, o un átomo de halógeno, y R^{19} representa un enlace
simple, un grupo metileno, un grupo etileno, o un grupo fenileno; o
se selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona;
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona;
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propo-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butin-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiin-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol.
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiin-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol.
En la composición antimicrobiana del método de la
presente invención, se cree que el compuesto que puede disminuir la
irritación cutánea de los compuestos de tipo isotiazolona (en
adelante se puede denominar "supresor de irritación cutánea")
suprime la irritación al combinarse con los compuestos de tipo
isotiazolona para formar un compuesto molecular.
Este compuesto molecular presenta una disminución
más drástica de la irritación cutánea en estado de solución. Se
supone que la razón de ello es que los compuestos de tipo
isotiazolona y el supresor del irritación cutánea tienen un enlace
intermolecular relativamente fuerte en estado de solución y que el
supresor de irritación de la piel enmascara la porción irritante de
la piel de la estructura de los compuestos de tipo isotiazolona para
llevar a efecto una disminución de la irritación cutánea.
Por otra parte, dado que la composición
antimicrobiana de la presente invención está en estado de solución,
se superan los problemas que implican inyectar un líquido en
dispersión antes mencionados, mejorándose también en gran medida la
estabilidad en almacenamiento.
Preferiblemente, los compuestos de tipo
isotiazolona de la composición de la presente invención incluyen uno
o más compuestos representados por las siguientes fórmulas
generales:
*
(en las fórmulas (1) y (2) representadas, R, X,
M, Z a y n representan lo siguiente, respectivamente:
R: átomo de hidrógeno, grupo alquilo, grupo
alquenilo, grupo alquinilo o grupo aralquilo;
X: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
Y: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
(X e Y pueden condensarse para formar un anillo
de benceno)
M: Un átomo o grupo catiónico seleccionado del
grupo que consiste en metales alcalinos, metales alcalinotérreos,
metales pesados y amina;
Z: átomo o grupo aniónico que tiene una
solubilidad suficientemente alta para formar un complejo con el
catión M;
a: un número entero 1 ó 2; y
n: un número entero con el que el anión Z llena
la valencia del catión M).
Los compuestos de tipo isotiazolona incluyen por
ejemplo compuestos representados por la fórmula estructural (1)
anterior, tales como
5-cloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona
(C1-MIT);
2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
2-etil-4-isotiazolina-3-ona;
2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
5-cloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
1,2-benzo-isotiazolina-3-ona;
y complejo de estos compuestos con sales como cloruro de magnesio,
nitrato de magnesio, cloruro de cobre, nitrato de cobre y cloruro de
calcio. En la presente invención, sin embargo, son preferibles los
compuestos de tipo isotiazolona que no forman complejo con sales,
tal como se muestra en la fórmula (1), ya que forman compuestos
moleculares más fácilmente con los supresores de irritación cutánea
en la solución y tienen un grado superior de supresión de irritación
cutánea.
Para el supresor de irritación cutánea, el
compuesto o compuestos requeridos por la invención forman un
compuesto molecular cristalino con los compuestos de tipo
isotiazolona y de este modo forman un enlace intermolecular fuerte
también en estado de solución.
Específicamente, los compuestos representados por
la fórmula general (6) incluyen
2,4-di-t-butilfenol
y 2,4-dipropilfenol.
Los compuestos representados por la fórmula
general (7) incluyen
2,2'-tio-bis(4-clorofenol);
4,4-ciclohexilidenbisfenol;
4,4'-etilidenbisfenol y
4,4'-isobutilidenbisfenol.
Los compuestos representados por la fórmula
general (8) incluyen
1,1,2,2-tetraquis(4-hidroxifenil)etano;
1,1,2,2-tetraquis(3-metil-4-hidroxifenil)
etano y
1,1,2,2-tetraquis(3-cloro-4-hidroxifenil)etano.
En la presente invención, la concentración de los
compuestos de tipo isotiazolona en la solución oscila
preferiblemente entre 0,1 y 5% en peso en lo que se refiere a la
práctica. El supresor de irritación cutánea se utiliza en una
relación molar con respecto a los compuestos de isotiazolona de
1:0,1 - 1:50, preferiblemente de 1:0,5 a 1:20, siendo el número 1
para los compuestos de tipo isotiazolona. La concentración del
supresor de irritación cutánea en la solución oscila preferiblemente
entre 0,1 y 20% en peso.
En la presente invención, se pueden combinar
otros aditivos (a) - (e) con el fin de añadir otras funciones a la
composición antimicrobiana.
(a) Inhibidor de la corrosión: por ejemplo,
toliltriazol, benzotriazol, metilbenzotriazol, ácido molíbdico,
ácido túngstico, ácido silícico, ácido nitroso, ácido
2-fosfonobutano-1,2,4-tricarbónico,
ácido hidroxietilidendifosfónico, ácido hexametafosfórico, ácido
tripolifosfórico, ácido ortofosfórico, sales de estos ácidos,
cloruro de zinc, cloruro de zinc ácido, sulfato de zinc,
ligninsulfonato de zinc e hidrazina.
(b) Inhibidor antiincrustante: por ejemplo ácido
poliacrílico, copolímero de ácido acrílico/metacrilato de
hidroxietilideno, copolímero de ácido acrílico/metacrilato de
hidroxietilideno/acrilato de metilo, copolímero de ácido
acrílico/éteres alil glicidílicos, copolímero de ácido
acrílico/ácido
2-hidroxi-3-aliloxi-1-propanosulfónico,
copolímero de ácido acrílico/ácido isoprenosulfónico, copolímero de
ácido acrílico/ácido vinilsulfónico, copolimero de ácido
acrílico/ácido alilsulfónico, ácido polimaleico, copolímero de ácido
maleico o anhídrido maleico/isobutileno, copolímero de ácido maleico
o anhídrido maleico/ácido estireno sulfónico, copolímero de ácido
maleico o ácido maleico/ácido acrílico, copolímero de ácido maleico
o anhídrido maleico/ácido acrilato, copolimeo de ácido maleico o
anhídrido maleico/ácido
2-acrilamida-2-metilpropanosulfónico,
copolímero de ácido maleico o anhídrido maleico/ácido amilénico,
copolímero de ácido maleico o anhídrido maleico/sustancias
fluorescentes sustituidas con alilo (como
5-alilbenzosuberenol), poliacrilamida, ácido
poliitacónico y sales de estas sustancias.
(c) Otros agentes antimicrobianos: por ejemplo,
alcoholes alifáticos sustituidos con halógeno y nitro (como
2-bromo-2-nitro-1,3-propanodiol;
y
2,2-dibromo-2-nitroetanol)
y sus ésteres,
2,2-dibromo-3-nitropropionamida,
bistiocianatos de alquileno (como bistiocianato de metileno);
1,4-bisbromoacetoxi-2-buteno,
hexabromodimetilsulfona, compuestos de tipo isoftalonitrilo (como
5-cloro-2,4,6-trifluoroisoftalonitrilo
y tetracloroisoftalonitrilo), dimetilditiocarbamato;
4,5-dicloro-1,2-ditiol-3-ona;
3,3,4,4-tetraclorotetrahidrotiofeno-1,1-dióxido;
alcohol triyodoalílico; bromonitroestireno; compuestos de aldehído
(como glutaraldehído, ftalaldehído, isoftalaldehído,
teleftalaldehído); diclorogluoxima; compuestos de tipo benzaldoxima
(como acetato de \alpha-clorobenzaldoxima y
clorobenzaldoxima), y 5,5-metilindantoína.
(d) Agente antiespumante: por ejemplo, agentes
antiespumantes de tipo silicona y sin silicona;
(e) Alguicidas: por ejemplo alguicida de tipo
s-triazina.
Los aditivos no se limitan en absoluto a los
antes citados, sino que se pueden utilizar otros aditivos.
La composición antimicrobiana de la presente
invención se prepara con arreglo a la fórmula que se indica a
continuación, por ejemplo, utilizando los aditivos que se han
mencionado.
| Fórmula (% en peso) | |
| Compuesto de tipo isotiazolona: | 0-1,5 |
| Supresor de irritación cutánea | 0,1-60 |
| inhibidor de la corrosión | 0-50 |
| Inhibidor antiincrustante | 0-50 |
| Agente antimicrobiano | 0-30 |
| Agente antiespumante | 0-10 |
| Agente alguicida | 0-10 |
| Disolvente (agua, propilen glicol) | 30-99 |
La composición antimicrobiana preparada según la
presente invención se añade a los sistemas, de manera que se obtenga
la concentración deseada de los compuestos de tipo isotiazolona en
el sistema, dependiendo del propósito tal como se indica a
continuación:
(i) como anti-lodos en un sistema
de fábrica de pulpa y papel o sistema de agua de refrigeración,
etc.; concentración del compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 25
g/m^{3}.
(ii) como antiséptico en emulsión plástica, pasta
de almidón, suspensión espesa de almidón, pintura, líquidos para
cortado de metales, etc.: concentración de los compuestos de tipo
isotiazolona de 0,1 a 5000 g/m^{3}.
A continuación se describirá la presente
invención de manera más específica a través de ejemplos y ejemplos
comparativos que, sin embargo, no limitan en absoluto la
invención.
Los compuestos de tipo isotiazolona y otros
agentes antimicrobianos utilizados en los ejemplos y ejemplos
comparativos son los siguientes:
[Productos químicos que contienen compuestos de
tipo isotiazolona]
Zona F: Un producto químico que contiene 14% en
peso de una mezcla de
5-cloro-2-metil-4-isotiazolin-3-ona
(C1-MIT) y
2-metil-4-isotiazolin-3-ona
(MIT) junto con etilenglicol.
Kathon WT: una solución acuosa que contiene 14%
en peso de una mezcla de C1-MIT y MIT junto con
cloruro de magnesio y nitrato de magnesio.
[Otro producto químico que contiene agente
antimicrobiano]
Dibnirol A-75: un producto
químico que contiene 75% en peso de
2,2-dibromo-2-nitroetanol
(DBNE) junto con dietilen glicol.
Ejemplo 1, ejemplos comparativos
1,2
Se disolvieron los productos químicos por
agitación, con arreglo a las composiciones que se muestran en la
tabla 4 para preparar composiciones antimicrobianas.
| Ejemplo 1 | Ejemplo comparativo 1 | Ejemplo comparativo 2 | |
| Compuesto de tipo | 10 | 10 | - |
| Isotiazolona (zona F) | |||
| Supresor de irritación | 12 | - | - |
| cutánea (EBP)* | |||
| Disolvente | 64,6 | 76,6 | 86,6 |
| (propilen glicol) | |||
| Otro agente | 13,4 | 13,4 | 13,4 |
| antimicrobinano | |||
| (Dibnirol A-75) | |||
| *EPB: 4,4'-etilidenbisfenol |
Se sometieron a un ensayo de detección selectiva
de irritación cutánea las composiciones antimicrobianas preparadas
utilizando tres conejos blancos (raza neozelandeses blancos). Se
proporcionó una porción de la piel normal del conejo como porción de
ensayo, que fue cubierta durante 4 horas con un apósito de gasa
empapado con 0,5 ml de producto químico no diluido. Al cabo de 4
horas, se retiró el apósito, se lavó la porción de ensayo y se
observó el estado de la porción de piel de ensayo y se registró al
cabo de 1, 24, 48 y 72 horas tras el lavado, con arreglo a los
siguientes criterios de evaluación. Por otra parte, la puntuación
evaluada fue la media para 72 horas, tal como lo indica el índice de
irritación primaria cutánea (PII).
En la tabla 2 se muestran los resultados.
| Criterios de evaluación: | |
| Formación de eritema: | |
| Sin eritema | 0 |
| Eritema muy ligero (apenas discernible) | 1 |
| Eritema claramente | 2 |
| Eritema de grado medio a alto | 3 |
| Eritema de grado superior a ligera formación de piel | 4 |
| Formación de edema: | |
| Sin edema | 0 |
| Edema muy ligero (apenas discernible) | 1 |
| Edema ligero (protuberancia clara con borde discernible) | 2 |
| Edema medio (protuberancia de aproximadamente 1 mm) | 3 |
| Edema de alto grado (porción de ensayo que sobrepasa | |
| una protuberancia de aproximadamente 1 mm) | 4 |
El valor PII en el ejemplo en el que se combina
EBP con C1-MIT, MIT y DBNE es 4,8, mientras que el
valor PII en el ejemplo comparativo 1 es 8,0, lo que indica una
irritación de la piel muy fuerte. A partir de este resultado, se
confirma el efecto de EBP de disminuir la irritación de la piel.
Asimismo, se pone de manifiesto que la irritación cutánea de la
composición en la que está contenido EBP disminuye hasta el nivel
del ejemplo comparativo 2 en el que solamente se utiliza DBNE.
Se realizó un ensayo de actividad antimicrobiana
utilizando las composiciones antimicrobianas del ejemplo 1 y el
ejemplo comparativo 1.
Se inoculó bacillus subtillus en un medio
de cultivo líquido a base de extracto levadura de peptona (con un
contenido de peptona 1 g/l y extracto de levadura 1g/l) de manera
que se obtuviera un nivel de 10^{6} bacterias/mL. A continuación,
se añadieron las composiciones antimicrobianas del ejemplo 1 y del
ejemplo comparativo 2 respectivamente para que se obtuvieran las
concentraciones de C1-MIT que se muestran en la
tabla 3. Se comprobó el crecimiento de inhibición de crecimiento
tras 24 horas de cultivo a 30. con agitación.
| Ejemplo | Concentración C1-MIT en el medio (mg/L) | Efecto de inhibición de crecimiento* |
| Ejemplo 1 | 0,1 | + |
| 0,3 | - | |
| 0,5 | - | |
| Ejemplo comparativo 1 | 0,1 | + |
| 0,3 | - | |
| 0,5 | - | |
| * + Se observó crecimiento | ||
| - Se inhibió el crecimiento |
Los resultados de la tabla 3 demuestran
claramente que la composición antimicrobiana del ejemplo 1 tiene un
efecto de inhibición de crecimiento que es equivalente a la
composición antimicrobiana del ejemplo comparativo 1.
Ejemplos 2-4, ejemplos
comparativos
3,4
Se disolvieron productos químicos por agitación
con arreglo a las composiciones que se muestran en la tabla 4 para
preparar composiciones antimicrobianas.
TABLA 4 (partes en
peso)
Se sometieron a un ensayo de detección selectiva
de irritación de la piel las composiciones antimicrobianas
preparadas de manera similar a la del ejemplo 1 para obtener los
resultados del índice de irritación primaria (PII) que se muestran
en la tabla 5.
| Ejemplos | Ejemplos comparativos | ||||
| 2 | 3 | 4 | 3 | 4 | |
| Índice de irritación cutánea primaria (PII) | 3,1 | 5,6 | 2,6 | 6,8 | 6,9 |
Los resultados de la tabla 5 demuestran
claramente que las composiciones de los ejemplos 2-4
en los que se combinaron ácido piromelítico pueden diminuir la
irritación cutánea en comparación con la composición del ejemplo
comparativo 3 que no contiene ácido piromelítico. Se demuestra
asimismo con los resultados del ejemplo 2 y el ejemplo 3 que el
efecto de disminución de la irritación es mayor en la composición en
las que no formaron complejo los compuestos de tipo isotiazolona con
sales de magnesio.
Ejemplo 5, ejemplo comparativo
5
Se disolvieron los productos químicos por
agitación según las composiciones que se indican en la tabla 6 para
preparar composiciones antimicrobianas.
| Ejemplo 5 | Ejemplo | |
| comparativo 5 | ||
| Compuesto de tipo isotiazolona (4,5-dicloro-2-octil-4-isotiazolin-3-ona) | 1 | 1 |
| Supresor de irritación cutánea (4,4'-ciclohexilidenbisfenol) | 1,5 | - |
| Disolvente (Propilen glicol) | 97,5 | 99 |
Se sometieron las composiciones antimicrobianas
preparadas a un ensayo de detección selectiva de irritación cutánea
de manera similar a la del ejemplo 1 para obtener los resultados del
índice de irritación primaria de la piel (PII) que se exponen en la
tabla 7.
| Ejemplo 5 | Ejemplo comparativo 5 | |
| Índice de irritación primaria de la piel (PII) | 5,0 | 7,8 |
Los resultados de la tabla 7 muestran claramente
que la composición del ejemplo 5 en la que se combinó
4,4'-ciclohexilidenbisfenol puede disminuir la
irritación cutánea en comparación con la composición del ejemplo
comparativo 5 que no contiene
4,4'-ciclohexilidenbisfenol.
Ejemplos
6,7
Se disolvieron los productos químicos por
agitación según la composición que se indica en la tabla 8 para
preparar composiciones antimicrobianas.
| (partes en peso) | |||
| Ejemplo | |||
| 6 | 7 | ||
| Compuestos de | Zona F | 5 | 5 |
| tipo isotiazolona | |||
| Supresor de | ácido oxálico (dihidrato) | 0,5 | - |
| irritación cutánea | ácido trimelítico | - | 1,9 |
| Disolvente (agua) | 73,4 | 72,0 | |
| Otros | Benzotriazol | 0,1 | 0,1 |
| 2-bromo-2-nitro-1,3-propanodiol | 1,0 | 1,0 | |
| Solución acuosa de compuesto de tipo polimaleico (50% en peso) | 20 | 20 |
Se sometieron las composiciones antimicrobianas
preparadas a ensayo de detección selectiva de irritación cutánea de
manera similar a la del ejemplo 1 para obtener el índice de
irritación primaria de la piel (PII) cuyos resultados se muestran en
la tabla 9.
| Ejemplos | ||
| 6 | 7 | |
| Índice de irritación primaria de la piel (PII) | 3,7 | 4,0 |
Los resultados de la tabla 9 demuestran un
excelente efecto de disminución de irritación cutánea de las
composiciones 6 y 7 en las que se combina ácido oxálico o ácido
trimelítico, respectivamente.
Tal como se ha descrito con mayor detalle
anteriormente, la composición microbiana de la presente invención es
un producto químico de tipo solución en el que se combinan
compuestos de tipo isotiazolona y compuestos que pueden formar un
compuesto molecular. Esta composición puede disminuir
sustancialmente la irritación de la piel de los compuestos de tipo
isotiazolona como resultado de la formación del compuesto molecular
y también al adoptar la forma de solución. Dado que esta composición
es una solución, no ofrece resistencia a la bomba de inyección,
mejorándose así las propiedades de manejo y operación. Por otra
parte, el hecho de que los compuestos de tipo isotiazolona formen un
enlace intermolecular con el supresor de irritación cutánea incluso
en estado de solución impide que los compuestos de tipo isotiazolona
reaccionen con los otros compuestos causando el deterioro de la
actividad antimicrobiana.
Claims (36)
1. Un método antimicrobiano para evitar la
formación de lodos en los sistemas de fabricación de pulpa y papel,
incluyendo dicho método la etapa de adición de una composición
antimicrobiana que contiene uno o más compuestos de tipo
isotiazolona y un compuesto para disminuir la irritación cutánea de
dichos compuestos de tipo isotiazolona en una relación molar de
1:0,1 a 1:50, y que se disuelve en un disolvente para uno o más de
dichos compuestos de isotiazolona y para el compuesto para disminuir
la irritación, seleccionándose el compuesto para diminuir la
irritación cutánea de los compuestos de tipo isotiazolona al menos
entre uno del grupo que consiste en (a) ácidos carboxílicos, (b)
compuestos fenólicos y (c) compuestos alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocatecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico,
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8):
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1-4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, un átomo de S, o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1-3 átomos de carbono,
o un átomo de halógeno, y R^{19} representa un enlace simple, un
grupo metileno, un grupo etileno, o un grupo fenileno; o se
selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona;
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona;
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propano-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butil-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol; y
siendo el disolvente agua y/o al menos un
disolvente orgánico hidrófilo seleccionado del grupo que consiste en
dimetilformamida, etilenglicol, propilen glicol, dietilen glicol,
dipropilen glicol, metilen celosolve (éter monometílico de etilen
glicol), fenilcelosolve, éter monometílico de dietilen glicol, éter
monometílico de dipropilen glicol, alcoholes con hasta 8 átomos de
carbono, excepto octanol, acetato de metilo, acetato de
2-etoximetil, acetato de
2-etoxietilo y carbonato de propileno de manera que
la concentración del uno o más compuestos isotiazolona en el sistema
es de 0,1 a 25 g/m^{3}.
2. El método de la reivindicación 1, en el que
los compuestos de tipo isotiazolona consisten en uno o más
compuestos seleccionados del grupo que consiste en los compuestos
representados por las fórmulas (1) y (2):
*
(en las fórmulas (1) y (2) representadas, R, X,
M, Z a y n representan lo siguiente, respectivamente:
R: átomo de hidrógeno, grupo alquilo, grupo
alquenilo, grupo alquinilo o grupo aralquilo;
X: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
Y: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
y donde X e Y pueden condensarse para formar un
anillo de benceno;
M: Un átomo o grupo catiónico seleccionado del
grupo que consiste en metales alcalinos, metales alcalinotérreos,
metales pesados y amina;
Z: átomo o grupo aniónico que tiene una
solubilidad suficientemente alta para formar un complejo con el
catión M;
a: un número entero 1 ó 2; y
n: un número entero con el que el anión Z llena
la valencia del catión M).
3. El método de la reivindicación 2 en el que los
compuestos de tipo isotiazolona son uno o más compuestos
seleccionados del grupo que consiste en
5-cloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona
(C1-MIT);
2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
2-etil-4-isotiazolina-3-ona;
2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
5-cloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
y
1,2-benzo-isotiazolina-3-ona.
4. El método de cualquiera de las
reivindicaciones 1 a 3, seleccionándose los compuestos fenólicos
entre:
2,4-di-t-butilfenol;
2,4-dipropilfenol;
2,2'-tio-bis(4-clorofenol);
4,4-ciclohexilidenbisfenol;
4,4'-etilidenbisfenol,
4,4'-isobutilidenbisfenol;
1,1,2,2-tetraquis(4-hidroxifenil)etano;
1,1,2,2-tetraquis(3-metil-4-hidroxifenil)etano;
o
1,1,2,2-tetraquis(3-cloro-4-hidroxifenil)etano.
5. El método de la reivindicación 1, siendo la
concentración de los compuestos de tipo isotiazolona en la solución
de 0,1 a 5% en peso.
6. El método de la reivindicación 1, en el que el
compuesto de tipo isotiazolona y el compuesto que disminuye la
irritación cutánea del compuesto de tipo isotiazolona están
contenidos en una relación molar de 1:0,5 a 1:20 y donde la
concentración del compuesto que disminuye la irritación cutánea del
compuesto de tipo isotiazolona es de 0,1 a 20% en peso.
7. El método de la reivindicación 1, en el que la
composición incluye además uno o más componentes seleccionados del
grupo que consiste en inhibidores de la corrosión, inhibidores
antiincrustantes, agentes antimicrobianos distintos a los compuestos
de isotiazolona, agentes antiespumantes y alguicidas.
8. El método de la reivindicación 7 en el que la
composición se prepara con arreglo a la siguiente fórmula en % en
peso:
\newpage
9. El método de la reivindicación 1, en el que el
compuesto de tipo isotiazolona y
4,4'-etilidenbisfenol se disuelven en un disolvente
hidrófilo en el que la concentración del compuesto de tipo
isotiazolona es de 0,1 a 5% en peso y la relación molar entre
4,4'-etilidenbisfenol y el compuesto de tipo
isotiazolona es de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
10. El método de la reivindicación 1, en el que
se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y
4,4-ciclohexilidenbisfenol en un disolvente
hidrófilo en el que la concentración del compuesto de tipo
isotiazolona es de 0,1 a 5% en peso y la relación molar de
4,4-ciclohexilidenbisfenol al compuesto de tipo
isotiazolona es 1:05 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
11. El método de la reivindicación 1, en el que
se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y el ácido oxálico en
un disolvente hidrófilo o agua, siendo la concentración del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso y siendo la
relación molar entre el ácido oxálico y el compuesto de tipo
isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona y,
disolviendo también al menos un inhibidor de la
corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente antimicrobiano
distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente antiespumante
y un alguicida.
12. El método de la reivindicación 1 en el que se
disuelve el compuesto de tipo isotiazolona y el ácido piromelítico
en un disolvente hidrófilo o agua siendo la concentración del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso y siendo la
relación molar entre el ácido piromelítico y el compuesto de tipo
isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona y,
disolviendo también al menos un inhibidor de la
corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente antimicrobiano
distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente antiespumante
y un alguicida.
13. Un método antiséptico para sistemas
seleccionado entre sistemas de emulsión plástica, pasta de almidón,
suspensión espesa de almidón, pintura y aceite para cortado de
metales, incluyendo dicho método la etapa de adición de una
composición antimicrobiana que contiene uno o más compuestos de tipo
isotiazolona y un compuesto para diminuir la irritación cutánea de
dichos compuestos de tipo isotiazolona en una relación molar de
1:0,1 a 1:50, y disolviéndose en un disolvente para dicho uno o más
compuestos de isotiazolona y para el compuesto para disminuir la
irritación cutánea, seleccionándose el compuesto para disminuir la
irritación de la piel de compuestos de tipo isotiazolona al menos de
uno del grupo que consiste en (a) ácidos carboxílicos, (b)
compuestos fenólicos y (c) compuestos alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocatecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico,
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8):
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1-4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, un átomo de S, o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1-3 átomos de
carbono, o un átomo de halógeno, y R^{19} representa un enlace
simple, un grupo metileno, un grupo etileno, o un grupo fenileno; o
se selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona;
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona;
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propano-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butin-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol;
1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol;
y
\alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol;
y
siendo el disolvente agua y/o al menos un
disolvente orgánico hidrófilo seleccionado del grupo que consiste en
dimetilformamida, etilenglicol, propilen glicol, dietilen glicol,
dipropilen glicol, metil celosolve (éter monometílico de etilen
glicol), fenilcelosolve, éter monometílico de dietilen glicol, éter
monometílico de dipropilen glicol, alcoholes con hasta 8 átomos de
carbono, excepto octanol, acetato de metilo, acetato de
2-etoximetil, acetato de
2-etoxietilo y carbonato de propileno de manera que
la concentración del uno o más compuestos isotiazolona en el sistema
es de 0,1 a 5000 g/m^{3}.
14. El método de la reivindicación 13, siendo los
compuestos de tipo isotiazolona uno o más compuestos seleccionados
del grupo que consiste en los compuestos representados por las
siguientes fórmulas (1) y (2)
*
en las fórmulas (1) y (2) representadas, R, X, M,
Z a y n representan lo siguiente,
respectivamente:
R: átomo de hidrógeno, grupo alquilo, grupo
alquenilo, grupo alquinilo o grupo aralquilo;
X: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
Y: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
X e Y pueden condensarse para formar un anillo de
benceno;
M: Un átomo o grupo catiónico seleccionado del
grupo que consiste en metales alcalinos, metales alcalinotérreos,
metales pesados y amina;
Z: átomo o grupo aniónico que tiene una
solubilidad suficientemente alta para formar un complejo con el
catión M;
a: un número entero 1 ó 2; y
n: un número entero con el que el anión Z llena
la valencia del catión M.
15. El método de la reivindicación 14,
seleccionándose los compuestos de tipo isotiazolona del grupo que
consiste en
5-cloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona
(C1-MIT);
2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
2-etil-4-isotiazolina-3-ona;
2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
5-cloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
y
1,2-benzo-isotiazolina-3-ona.
16. El método de cualquiera de las
reivindicaciones 13 a 15, seleccionándose los compuestos fenólicos
entre:
2,4-di-t-butilfenol;
2,4-dipropilfenol;
2,2'-tio-bis(4-clorofenol);
4,4-ciclohexilidenbisfenol;
4,4'-etilidenbisfenol,
4,4'-isobutilidenbisfenol;
1,1,2,2-tetraquis(4-hidroxifenil)etano;
1,1,2,2-tetraquis(3-metil-4-hidroxifenil)etano;
o
1,1,2,2-tetraquis(3-cloro-4-hidroxifenil)etano.
17. El método de la reivindicación 13, siendo la
concentración de los compuestos de tipo isotiazolona en la solución
de 0,1 a 5% en peso.
18. El método de la reivindicación 13, en el que
el compuesto de tipo isotiazolona y el compuesto que disminuye la
irritación cutánea del compuesto de tipo isotiazolona están
contenidos en una relación molar de 1:0,5 a 1:20, y siendo la
concentración del compuesto que disminuye la irritación cutánea del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 20% en peso.
19. El método de la reivindicación 13, en el que
la composición contiene además uno o más componentes seleccionados
del grupo que consiste en inhibidores de la corrosión, inhibidores
antiincrustantes, agentes antimicrobianos distintos a compuestos de
tipo isotiazolona, agentes antiespumantes y alguicidas.
20. El método de la reivindicación 19, en el que
se prepara la composición con arreglo al siguiente fórmula en % en
peso:
21. El método de la reivindicación 13, en el que
el compuesto de tipo isotiazolona y
4,4'-etilidenbisfenol se disuelven en un disolvente
hidrófilo en el que la concentración del compuesto de tipo
isotiazolona es de 0,1 a 5% en peso y la relación molar entre
4,4'-etilidenbisfenol y el compuesto de tipo
isotiazolona es de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
22. El método de la reivindicación 13, en el que
se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y
4,4'-ciclohexilidenbisfenol en un disolvente
hidrófilo en el que la concentración del compuesto de tipo
isotiazolona es de 0,1 a 5% en peso y la relación molar de
4,4-ciclohexilidenbisfenol al compuesto de tipo
isotiazolona es 1:05 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
23. El método de la reivindicación 13, en el que
se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y el ácido oxálico en
un disolvente hidrófilo o agua, siendo la concentración del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso y siendo la
relación molar entre el ácido oxálico y el compuesto de tipo
isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona y,
disolviendo también al menos un inhibidor de la
corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente antimicrobiano
distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente antiespumante
y un alguicida.
24. El método de la reivindicación 13 en el que
se disuelve el compuesto de tipo isotiazolona y el ácido
piromelítico en un disolvente hidrófilo o agua siendo la
concentración del compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso
y siendo la relación molar entre el ácido piromelítico y el
compuesto de tipo isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el
número 1 al compuesto de tipo isotiazolona y,
disolviendo también al menos un inhibidor de la
corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente antimicrobiano
distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente antiespumante
y un alguicida.
25. Una composición antimicrobiana que contiene
uno o más compuestos de tipo isotiazolona y un compuesto para
diminuir la irritación cutánea de dichos compuestos de tipo
isotiazolona en una relación molar de 1:0,1 a 1:50, y disolviéndose
en un disolvente orgánico hidrófilo que consiste en propilen glicol
para dicho uno o más compuestos de tipo isotiazolona y para el
compuesto para disminuir la irritación cutánea, seleccionándose el
compuesto para disminuir la irritación de la piel de compuestos de
tipo isotiazolona al menos de uno del grupo que consiste en (a)
ácidos carboxílicos, (b) compuestos fenólicos y (c) compuestos
alcohólicos,
seleccionándose los ácidos carboxílicos (a) del
grupo que consiste en ácido 4-nitrobenzoico; ácido
4-cloro-3-nitrobenzoico;
ácido
2-cloro-4-nitrobenzoico;
ácido
4-cloro-2-nitrobenzoico;
ácido 2,4-dinitrobenzoico; ácido
4-nitroftálico; ácido
3,5-diyodosalicílico; ácido
3,5-dinitrosalicílico; ácido genticínico (ácido
2,5-dihidroxibenzoico); ácido protocatecuico (ácido
3,4-dihidroxibenzoico); o ácido desoxicólico,
siendo los compuestos fenólicos (b) compuestos
representados por las siguientes fórmulas (6), (7) y (8):
en la fórmula (6), R^{6} y R^{7} representan
un grupo alquilo con 1-4 átomos de
carbono,
en la fórmula (7), R^{8} representa un grupo
alquilideno con 2-4 átomos de carbono, un grupo
ciclohexilideno, un átomo de S, o un grupo SO_{2}, y R^{9},
R^{10} representan un átomo de hidrógeno o un átomo de
halógeno,
en la fórmula (8),
R^{11}-R^{18} representan un átomo de hidrógeno,
un grupo alquilo o alcoxi con 1-3 átomos de
carbono, o un átomo de halógeno, y R^{19} representa un enlace
simple, un grupo metileno, un grupo etileno, o un grupo fenileno; o
se selecciona entre
2-5-di-t-butilhidroquinona;
t-butilhidroquinona;
2,5-bis(2,4-dimetilfenil)hidroquinona;
2,4-dihidroxibenzofenona;
4,4'-dihidroxibenzofenona,
2,2',4,4'-tetrahidroxibenzofenona;
2-hidroxi-4-metoxibenzofenona;
o 1,1'-bi-2-naftol;
y
seleccionándose los compuestos alcohólicos (c)
entre
1,1,6,6-tetrafenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,6-bis(2-clorofenil)-1,6-difenil-2,4-hexadiina-1,6-diol;
1,1-di(2,4-dimetilfenil)-2-propin-1-ol;
1,1,4,4-tetrafenil-2-butil-1,4-diol;
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol.
1,1,2,2-tetrafeniletano-1,2-diol; 1,1,6,6-tetra(2,4-dimetilfenil)-2,4-hexadiina-1,6-diol; y \alpha,\alpha,\alpha',\alpha'-tetrafenil-1,1'-bifenil-2,2'-dimetanol.
26. La composición de la reivindicación 25, en la
que los compuestos de tipo isotiazolona es uno o más compuestos
seleccionados del grupo que consiste en los compuestos representados
por las siguientes fórmulas (1) y (2)
*
en las fórmulas (1) y (2) representadas, R, X, M,
Z a y n representan lo siguiente,
respectivamente:
R: átomo de hidrógeno, grupo alquilo, grupo
alquenilo, grupo alquinilo o grupo aralquilo;
X: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
Y: átomo de hidrógeno o átomo de halógeno;
y donde X e Y pueden condensarse para formar un
anillo de benceno;
M: Un átomo o grupo catiónico seleccionado del
grupo que consiste en metales alcalinos, metales alcalinotérreos,
metales pesados y amina;
Z: átomo o grupo aniónico que tiene una
solubilidad suficientemente alta para formar un complejo con el
catión M;
a: un número entero 1 ó 2; y
n: un número entero con el que el anión Z llena
la valencia del catión M.
27. La composición de la reivindicación 26,
seleccionándose los compuestos de tipo isotiazolona del grupo que
consiste en
5-cloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona
(C1-MIT);
2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-metil-4-isotiazolina-3-ona;
2-etil-4-isotiazolina-3-ona;
2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
5-cloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
4,5-dicloro-2-octil-4-isotiazolina-3-ona;
y
1,2-benzo-isotiazolina-3-ona.
28. La composición de cualquiera de las
reivindicaciones 25 a 27, seleccionándose los compuestos fenólicos
entre:
2,4-di-t-butilfenol;
2,4-dipropilfenol;
2,2'-tio-bis(4-clorofenol);
4,4-ciclohexilidenbisfenol;
4,4'-etilidenbisfenol,
4,4'-isobutilidenbisfenol;
1,1,2,2-tetraquis(4-hidroxifenil)etano;
1,1,2,2-tetraquis(3-metil-4-hidroxifenil)etano;
o
1,1,2,2-tetraquis(3-cloro-4-hidroxifenil)etano.
29. La composición de la reivindicación 25,
siendo la concentración de los compuestos de tipo isotiazolona en la
solución de 0,1 a 5% en peso.
30. La composición de la reivindicación 25, en la
que el compuesto de tipo isotiazolona y el compuesto que disminuye
la irritación cutánea del compuesto de tipo isotiazolona están
contenidos en una relación molar de 1:0,5 a 1:20, y siendo la
concentración del compuesto que disminuye la irritación cutánea del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 20% en peso.
31. La composición de la reivindicación 25 en la
que la composición contiene además uno o más componentes
seleccionados del grupo que consiste en inhibidores de la corrosión,
inhibidores antiincrustantes, agentes antimicrobianos distintos a
compuestos de tipo isotiazolona, agentes antiespumantes y
alguicidas.
32. La composición de la reivindicación 31, en la
que se prepara la composición con arreglo al siguiente fórmula en %
en peso:
\newpage
33. La composición de la reivindicación 25, en la
que se disuelve el compuesto de tipo isotiazolona y
4,4'-etilidenbisfenol en el disolvente propilen
glicol siendo la concentración del compuesto de tipo isotiazolona
0,1 a 5% en peso y la relación molar entre
4,4'-etilidenbisfenol al compuesto de tipo
isotiazolona es de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
34. La composición de la reivindicación 25, en la
que se disuelve el compuesto de tipo isotiazolona y
4,4-ciclohexilidenbisfenol en el disolvente propilen
glicol en el que la concentración del compuesto de tipo isotiazolona
es de 0,1 a 5% en peso y siendo la relación molar entre
4,4-ciclohexilidenbisfenol al compuesto de tipo
isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona.
35. La composición de la reivindicación 25, en la
que se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y ácido oxálico
en el disolvente propilen glicol siendo la concentración del
compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso y la relación
molar entre el ácido oxálico y el compuesto de tipo isotiazolona es
de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al compuesto de tipo
isotiazolona, y
disolviendo además al menos uno entre un
inhibidor de la corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente
antimicrobiano distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente
antiespumante y un alguicida.
36. La composición de la reivindicación 25, en la
que se disuelven el compuesto de tipo isotiazolona y ácido
piromelítico en el disolvente propilen glicol siendo la
concentración del compuesto de tipo isotiazolona de 0,1 a 5% en peso
y la relación molar entre el ácido piromelítico y el compuesto de
tipo isotiazolona de 1:0,5 a 1:20, correspondiendo el número 1 al
compuesto de tipo isotiazolona, y
disolviéndose además al menos uno entre un
inhibidor de la corrosión, un inhibidor antiincrustante, un agente
antimicrobiano distinto al compuesto de tipo isotiazolona, un agente
antiespumante y un aguicida.
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