ES2258004T3 - Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion. - Google Patents

Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion.

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ES2258004T3 ES00922704T ES00922704T ES2258004T3 ES 2258004 T3 ES2258004 T3 ES 2258004T3 ES 00922704 T ES00922704 T ES 00922704T ES 00922704 T ES00922704 T ES 00922704T ES 2258004 T3 ES2258004 T3 ES 2258004T3
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Abstract

Sustrato que comprende un relieve que delimita un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este último 1 a 65% de la superficie del sustrato, comprendiendo este agentes hidrófobos y/o hidrófilos.

Description

Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtención.
La presente invención se refiere a un sustrato texturado, es decir que presenta un relieve particular que le permite obtener propiedades interesantes, principalmente en el caso de un sustrato transparente y/o de un sustrato para el que se busca una cierta calidad óptica. Estas propiedades residen entre otras en la modificación del comportamiento del sustrato en humectabilidad en un comportamiento que puede calificarse de super-hidrófobo o super-hidrófilo, en propiedades anti-suciedad o anti-reflejo.
La propiedad de hidrofobia de un sustrato consiste en que los ángulos de contacto entre el agua y este sustrato son elevados, por ejemplo del orden de 120º para el agua. El líquido tiene entonces tendencia a escurrirse fácilmente, en forma de gotas, sobre el sustrato, por simple gravedad si el sustrato está inclinado o bajo el efecto de fuerzas aerodinámicas en el caso de un vehículo en movimiento. Este fenómeno es la expresión de un efecto anti-lluvia. Las gotas son, por otra parte, susceptibles de arrastrar polvo en su escurrimiento, insectos o suciedades más o menos grasas de toda naturaleza cuya presencia tendría como consecuencia un aspecto antiestético véase, llegado el caso, una alteración de la visión a través del sustrato cuando este es transparente. Para esta medida, el sustrato hidrófobo presenta igualmente una propiedad anti-suciedad.
Agentes hidrófobos conocidos son, por ejemplo, alquilsilanos fluorados tal como se describen en la solicitud de patente EP-A1-0 675 087. Se aplican de manera conocida en solución según métodos de depósito clásicos con o sin calentamiento.
Por el contrario, la propiedad de hidrofilia de un sustrato se manifiesta por los ángulos bajos de contacto entre el agua y este sustrato, del orden de 5º para el agua sobre vidrio limpio. Esta propiedad favorece la formación de películas líquidas finas transparentes, en detrimento del vaho, o de hielo constituidos por minúsculas gotitas que perjudican la visibilidad a través de un sustrato transparente. Estos efectos anti-vaho y anti-hielo observados sobre un sustrato hidrófilo son bien conocidos.
Numerosos agentes hidrófilos, principalmente hidroxilados, tal como poli((met)acrilatos de hidroxialquilo) se utilizan con este fin, de manera conocida, para sustratos transparentes. Ciertos compuestos, dichos fotocatalíticos, tal como TiO_{2}, se utilizan por otra parte, principalmente en asociación con sustratos vítreos, no solamente por su carácter hidrófilo después de exposición a la luz, sino también por su aptitud para degradar, por un procedimiento de oxidación radicalaria, las suciedades de origen orgánico; las propiedades hidrófila y anti-suciedad se obtienen entonces simultáneamente. Se conoce como depositar revestimientos con propiedad fotocatalítica que comprende TiO_{2} a partir de al menos un precursor de titanio, llegado el caso en solución, por pirólisis en fase líquida, mediante una técnica sol-gel o también mediante pirólisis en fase vapor.
Conforme a lo que precede, la propiedad de hidrofobia se aprecia cuantitativamente por la medida del ángulo de contacto formado, con mayor frecuencia, por una gota de agua, sobre un sustrato dado. A defecto de una indicación suplementaria, este ángulo de contacto se mide para un sustrato horizontal. En realidad, como ya se ha mencionado anteriormente, es el comportamiento de gotas de líquido en dinámica lo que se pretende por el hecho de conferir una hidrofobia a un sustrato. Esto vale tanto para sustratos estáticos sensiblemente verticales tales como los acristalamientos exteriores para los edificios, los acristalamientos de duchas como para los acristalamientos de vehículos de transporte. Sin embargo, en el caso de una gota de líquido sobre un sustrato inclinado con respecto a la horizontal, se observan dos ángulos de contacto diferentes: el ángulo de avance y el ángulo de retroceso, determinados más adelante, respectivamente por detrás de la gota, con respecto al sentido de su desplazamiento. Estos ángulos son valores alcanzados en el límite del desprendimiento de la gota. Se denomina histéresis la diferencia entre el ángulo de avance y el ángulo de retroceso. Una gota de agua que presenta una histéresis elevada o un ángulo de retroceso bajo tendrá dificultad para escurrirse sobre un sustrato. Así, se comprende fácilmente que una hidrofobia eficaz está condicionada a la vez por un ángulo de avance elevado y una histéresis baja.
Los inventores han obtenido precisamente, en este plano, resultados excelentes nunca alcanzados hasta la actualidad. Sobre un sustrato conforme a la invención e hidrófobo, se ha obtenido un escurrimiento excepcionalmente fácil y rápido de gotas de agua. Además, se ha podido verificar que las medidas previstas conforme a la invención son igualmente de naturaleza a exacerbar el carácter hidrófilo de un sustrato. Una de las consecuencias en algunos casos es, conforme a las explicaciones que preceden, que el carácter anti-suciedad alcanza un nivel muy elevado.
Estos resultados han sido realizados, conforme a la invención, por un sustrato que comprende un relieve que delimita un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este último 1 a 65% de la superficie del sustrato.
Tal sustrato se ha revelado en efecto apto para procurar propiedades super-hidrófoba o super-hidrófila y principalmente, respecto de gotas de agua que se escurren sobre él, un ángulo de avance muy elevado para una histéresis muy baja.
\newpage
En la variante de la invención en la que el sustrato es hidrófobo, comprende preferentemente un agente elegido entre el grupo constituido por:
a) siliconas, y
b) compuestos que responden a las fórmulas:
(I)F_{3}C(CF_{2})_{m}(CH_{2})_{n}
\delm{S}{\delm{\para}{R _{p} }}
iX_{3-p}
y
(II)R_{p'}SiX_{4-p'}
en las que
-
m = 0 a 15;
-
n = 1 a 5;
-
p = 0, 1 ó 2;
-
R es un grupo alquilo lineal o ramificado o un átomo de hidrógeno;
-
X es un grupo hidrolizable tal como un grupo halógeno, alcoxi, acetoxi, aciloxi, amino, NCO;
-
p' = 0, 1, 2 ó 3.
Según la segunda variante principal de la invención, el sustrato es hidrófilo por el hecho de que comprende un agente apropiado. Como agente hidrófilo se puede citar, como producto final o precursor, poli(ácidos (met)acrílico) tal cual o al menos parcialmente salificado con sodio, potasio, cesio..., tensioactivos no iónicos, ésteres de celulosa tal como hydroxipropil-celulosa, derivados de quitosán y de quitina, polimetacrilatos, poli(alcoholes vinílicos) y poli(acetato de vinilo), polipirrol, polianilina, poli(acrilamida), poli(N,N-dimetilacrilamida), poli(N-isopropilacrilamida), poli(metilenglicol), poli(propilenglicol), poli(oxietileno), con funciones hidroxi o metoxi terminales, hidrocloruro de poli(alilamina), polisacárido, dextranos (ramificados), pululano (polisacárido lineal), poli(ácido estirenocarboxílico) y sus sales, poli(ácido estirenosulfónico), poli(sulfonato de estireno) de sodio, poli(vinil-butiral), poli(yoduro de 2-vinil-N-metil-piridinio), poli(yoduro de 4-vinil-N-metil-piridinio), poli(2-vinil-piridina), poli(bromuro de 2-vinil-piridinio), poli(vinil-pirrolidona), copolímeros obtenidos a partir de monómeros de partida de diferentes polímeros precitados, y principalmente copolímeros secuenciados, ciertos compuestos de titanio tal como tetraisopropilo de titanio o tetraisobutilo de titanio, eventualmente estabilizado, por ejemplo con acetonato de acetilo, tetracloruro de
titanio...
Preferentemente, la altura de dicho nivel alto de superficie con respecto a dicho nivel bajo de superficie está comprendido entre 0,01 y 10 micras.
La geometría del relieve del que está dotado el sustrato puede o no presentar una periodicidad.
En varios ejemplos de realización de la invención en las que se han procurado eficacias elevadas, dichos nivel bajo y nivel alto de superficie están unidos el uno al otro por paredes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
Conforme a la invención, el relieve del sustrato puede tomar diversas formas.
Según un primer tipo de formas, dicho nivel alto de superficie presenta una continuidad en al menos una dirección del plano del sustrato; se sobreentiende en este tipo de formas que la continuidad del nivel alto existe si no sobre la totalidad de la extensión del sustrato, al menos sobre una proporción sustancial de esta, relativamente a dicha dirección concernida.
Estas formas están representadas principalmente por un relieve que comprende una multiplicidad de objetos sensiblemente idénticos y paralelepipédicos paralelos y regularmente espaciados. En este caso hay continuidad del nivel alto de superficie según una dirección única.
Un caso en el que esta continuidad existe en dos direcciones del plano del sustrato podría representarse por un relieve que comprende una multiplicidad de cráteres sensiblemente idénticos y cilíndricos regularmente repartidos sobre el sustrato, estando sus ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato (a condición de que estos cráteres estén dispuestos sobre una proporción sustancial de la extensión del sustrato, como se ha definido anteriormente).
Según un segundo tipo de formas del relieve, dicho nivel alto de superficie no presenta continuidad en ninguna de las direcciones del plano del sustrato.
Este tipo está representado principalmente por un relieve esencialmente constituido por un conjunto discreto de objetos idénticos o diferentes, en particular cilindros con ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato, principalmente cilindros de revolución idénticos y regularmente repartidos sobre el sustrato.
Conforme a diferentes modos de realización de la invención se han formado relieves a base de al menos un compuesto de al menos uno de los elementos: Si, W, Sb, Ti, Zr, Ta, V, Pb, Mg, Al, Mn, Co, Ni, Sn, Zn, In y/o de una materia plástica eventualmente cargada, endurecible por aplicación de una fuente de energía o termoplástico, estando constituida al menos una parte sub-adyacente del sustrato por un vidrio y/o por una materia plástica (principalmente del tipo que entra en la constitución habitual de un acristalamiento, lo que se explicará más en detalle a continuación).
Conforme a una variante particularmente interesante de la invención, el sustrato es conductor de electricidad. Entonces está constituido por ejemplo por óxidos metálicos sub-estequiométricos y/o dopados tal como se han descrito en la solicitud FR 2 695 117.
Ejemplos mencionados en esta solicitud son el óxido de indio dopado con estaño (ITO), óxido de cinc dopado con indio (ZnO:In), con flúor (ZnO:F), con aluminio (ZnO:Al) o con estaño (ZnO:Sn) y óxido de estaño dopado con flúor (SnO_{2}:F). Además de sus propiedades de conducción de la electricidad, estos materiales están descritos como que presentan propiedades de reflexión en el infrarrojo, principalmente de baja emisión (caso de un sustrato transparente). Sin embargo, la aptitud del sustrato para conducir la electricidad apunta principalmente, en el marco de la presente solicitud, la función antiestática, es decir la capacidad de disipar las cargas electrostáticas y de evitar su acumulación localmente y en menor medida, la constitución de películas calefactores, principalmente para el descongelado y el desempañado de acristalamientos. Otros materiales conductores de electricidad utilizables son el óxido de estaño dopado con antimonio (pentavalente o tetravalente) SnO_{2}:Sb, un material que comprende por ejemplo SiH_{4} o CH_{4} como precursor con el fin de formar enlaces metálicos del tipo Si-Si o C-C o sales metálicas tales como acetonato de acetilo de cobre. El interés de evitar acumulaciones locales de cargas electrostáticas aparece en aplicaciones tales como parabrisas de avión, en el que importa por el contrario evacuar estas cargas por conducción. Acumulaciones de cargas constituirían en efecto una fuente de agrietamiento y destrucción de eventuales capas funcionales apiladas, así como la estructura misma del sustrato, principalmente cuando es laminado o estratificado.
De manera ventajosa, el sustrato de la invención presenta propiedades anti-reflejo. Esto puede obtenerse por el hecho de que las dimensiones características del relieve sobre el sustrato no exceden las longitudes de onda del campo visible, preferentemente 200 nm, véase 100 nm. Alternativamente o de manera complementaria, las propiedades anti-reflejo pueden resultar de un tratamiento en la forma de apilamiento de capas delgadas interferenciales, que consisten en general en una alternancia de capas a base de material dieléctrico con fuertes y bajos índices de refracción. Depositado sobre un sustrato transparente, tal revestimiento tiene como función disminuir su reflexión luminosa, por lo tanto aumentar su transmisión luminosa.
En la cara exterior de una parabrisas de automóvil, para el que se imponen niveles elevados de transmisión luminosa, en general superiores a 75%, y un borrosidad residual muy bajo (inferior a 1% de la luz transmitida), el efecto anti-reflejo tiene por consecuencia la mejora del confort visual del conductor y de los pasajeros.
Preferentemente, el sustrato de la invención presenta propiedades anti-suciedad. Estas pueden resultar parcialmente, como se ha visto anteriormente, de las propiedades (super)-hidrófoba o (super-)hidrófila. Estas propiedades pueden igualmente estar unidas directamente a la naturaleza de ciertos constituyentes del sustrato. Así, entre los agentes hidrófilos mencionados precedentemente, ciertos compuestos de titanio, por ejemplo TiO_{2}, tienen la aptitud de descomponer por vía fotocatalítica los residuos orgánicos.
Otros objetos de la invención residen en un conjunto de procedimientos de formación del sustrato descrito anteriormente.
Un primer procedimiento comprende las etapas que consisten en:
-
aplicar sobre una superficie soporte un precursor de consistencia líquida a viscosa,
-
realizar a partir de este precursor el moldeo de un sol-gel, y luego
-
consolidar este por evaporación del disolvente eventualmente asistido por una fuente de energía.
Un segundo procedimiento comprende las etapas que consisten en:
-
aplicar sobre una superficie soporte una composición polimerizable y/o reticulable de materia plástica que contiene eventualmente cargas, principalmente cargas minerales de reforzamiento,
-
efectuar la polimerización y/o la reticulación así como la separación de eventuales constituyentes residuales tales como disolvente, eventualmente asistidos por una fuente de energía.
Convienen como materias plásticas numerosos termoplásticos del tipo poliolefinas, poliamidas, poli(vinil-butiral), poliuretanos, poli(met)acrilatos, copolímeros secuenciados... así como resinas termoendurecibles o fotoreticulables clásicas a base de poliéster insaturado, fenólico, poliuretano...
El tercer procedimiento principal de la invención comprende las etapas que consisten en:
-
formar sobre una superficie una máscara según una técnica tal como serigrafía, impresión de chorro de tinta, litografía, en particular fotolitografía, gravado por ejemplo iónico reactivo, o similar,
-
atacar principalmente por vía química las partes de dicha superficie no protegidas por esta máscara y luego eventualmente
-
eliminar la máscara.
Según un cuarto procedimiento, se hace adherir a una superficie soporte una película que forma ella misma dicho relieve. Esta película puede ser a base de materia plástica, principalmente termoplástico.
Cada uno de estos cuatro procedimientos conduce a:
-
bien a la formación de un molde utilizable para formar el sustrato de la invención,
-
bien a la formación de dicho sustrato él mismo.
Debido a la investigación de super-hidrofobia o de super-hidrofilia que ha suscitado la invención, debe precisarse que los agentes hidrófobos o hidrófilos se aplican en principio por separado según dos modos principales bien conocidos: pueden incorporarse en el sustrato, es decir integrarse en el material del sustrato, o bien depositarse en forma de un revestimiento sobre el relieve del sustrato. Según este segundo modo, se conoce como constituir revestimientos hidrófobos en capas o películas variables, principalmente películas dichas monomoleculares cuyo espesor corresponde a la longitud de las moléculas que lo constituyen y alcanza valores tan bajos como desde algunos nanómetros a algunas decenas de nanómetros.
Las propiedades de hidrofobia e hidrofilia contradiciéndose la una a la otra, el sustrato de la invención no comprende en general más que uno o varios agentes hidrófobos o uno o varios agentes hidrófilos. Sin embargo los inventores han podido hacer coexistir los dos tipos de agentes en un modo de realización particularmente interesante en el que se forma una superficie soporte de TiO_{2} anti-suciedad un relieve de objetos en material hidrófobo, por ejemplo a base de perfluoroalquilalquiltrialcoxisilano. El nivel alto de superficie se dota entonces de un carácter hidrófobo que contribuye subsidiariamente a la evacuación de la suciedad. En función de la geometría del relieve, no se excluye que un líquido que se escurre sobre el sustrato entre parcialmente en contacto con el nivel bajo de superficie del relieve, caracterizado por su doble propiedad hidrófila y fotocatalítica. Por lo tanto es posible por una elección apropiada de geometría del relieve tirar ventaja de la sinergia de diversos constituyentes del sustrato de manera a favorecer la evacuación de líquidos sobre su superficie y garantizar un nivel elevado de limpieza en ausencia de
limpieza.
Se pretenden particularmente los sustratos transparentes por la invención, cuyo otro objeto consiste por lo tanto en un acristalamiento constituido al menos en parte por el sustrato descrito anteriormente. Con la exclusión de especificidades del relieve conforme a la invención, se debe entender que la estructura de tal acristalamiento es habitual, es decir principalmente monolítica o peliculada. Esta estructura hace intervenir hojas de vidrio, capas de materia plástica: poli(vinil-butiral), poliuretano, policarbonato, poli(met)acrilato, copolímero etileno/acetato de vinilo... así como películas serigrafiadas funcionales o de decoración, redes de hilos calientes o de antena...
Las aplicaciones del acristalamiento de la invención son variadas: acristalamiento para edificios (ventanas), mobiliario urbano (panel de anuncio, marquesina de autobús), para vehículo de transporte aéreo, marítimo o terrestre (ferroviario, por carretera), para una pantalla, una lámpara o un panel luminoso, para almacenamiento interior, mobiliario o electrodomésticos: panel decorativo, mobiliario sanitario (pared de ducha), tablero, puerta de refrigerador, de horno, vitrina, placa vitrocerámica...
Otras características y ventajas de la invención aparecerán en la descripción del ejemplo que sigue.
Ejemplo
Una plaqueta de silicio perfectamente plana de 3 cm x 3 cm para un espesor de 0,2 cm se vuelve hidrófila por injerto de una monocapa de fluorosilano F_{3}C(CF_{2})_{9}(CH_{2})_{2}SiCl_{3}. Los ángulos de contacto del agua (ángulo de avance A_{a} y ángulo de retroceso A_{r}) se midieron por medio de un goniómetro con una precisión del orden del grado y se consignan en la tabla detallada a continuación. Para este hecho, se formó sobre la superficie de la plaqueta una gota de agua por medio de una pipeta y se midió el ángulo de avance durante el crecimiento de la gota; en una segunda fase, se disminuyó el volumen de la gota aspirando progresivamente el agua que la constituía en la pipeta, siendo el ángulo de contacto medido a lo largo de esta operación el ángulo de retroceso.
A continuación se formaron sobre las plaquetas idénticas a la precitada los relieves representados en la figuras 1, 2 y 3 adjuntas, por moldeo de un sol-gel de tetrametoxisilano. Después de gelificación, la estructura de silicio se consolidó a 1100ºC durante 2 horas y se volvió hidrófoba como se ha indicado precedentemente. El moldeo del sol-gel se efectuó conforme a la enseñanza de la publicación MARZOLIN C. et al. Advanced Materials 10 (1998) 571, incorporado en la presente solicitud a título de referencia. Los relieves se designan respectivamente por los términos "picos", "cráteres" y "acanaladuras". Estos tres relieves definen conforme a la invención un nivel bajo y un nivel alto de superficie distantes de una altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de los motivos que forman dicho nivel alto, es decir respectivamente el diámetro de picos cilíndricos, la distancia entre dos cráteres y la anchura de acanaladuras. Por otra parte, para estas tres formas de relieve retomadas en el mismo orden, dicho nivel alto de superficie representa 5%, 64% y 25% de la superficie del sustrato. Las dimensiones características de los tres relieves son del orden de micra.
Los ángulos de avance y de retroceso se midieron sobre cada una de las plaquetas y se consignan en la tabla detallada a continuación.
TABLA
Plaqueta A_{a} (grados) A_{r} (grados)
Plano 118 100
Picos 170 155
Cráteres 138 75
Acanaladuras (perpendiculares) 165 132
Acanaladuras (paralelas) 143 125
\begin{minipage}[t]{160mm}Las menciones "perpendicular" y "paralela" hacen referencia a las direcciones en las que se efectúan las medidas del ángulo de avance y de retroceso con respecto a la dirección de las acanaladuras\end{minipage}
Se constató con respecto al testigo constituido por la plaqueta plana que las plaquetas con relieves conforme a la invención procuraban en todos los casos un aumento sustancial del ángulo de avance a la vez que preservaba una histéresis poco o no modificada. A título de excepción, se observó una disminución desfavorable del ángulo de retroceso en el caso de la plaqueta con cráteres; este fenómeno está probablemente unido a la geometría particular de esta superficie, y podría interpretarse como la expresión de un efecto "ventosa" ejercido por los cráteres, que retendrían el agua en su escurrimiento. Esto no quita para que los otros valores obtenidos traducen un grado excepcionalmente elevado del carácter hidrófobo, bien superior al de la plaqueta plana.

Claims (28)

1. Sustrato que comprende un relieve que delimita un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este último 1 a 65% de la superficie del sustrato, comprendiendo este agentes hidrófobos y/o hidrófilos.
2. Sustrato según la reivindicación 1, caracterizado porque es hidrófobo por el hecho de que comprende un agente elegido entre el grupo constituido por:
a) siliconas, y
b) compuestos que responden a las fórmulas:
(I)F_{3}C(CF_{2})_{m}(CH_{2})_{n}
\delm{S}{\delm{\para}{R _{p} }}
iX_{3-p}
y
(II)R_{p'}SiX_{4-p'}
en las que
-
m = 0 a 15;
-
n = 1 a 5;
-
p = 0, 1 ó 2;
-
R es un grupo alquilo lineal o ramificado o un átomo de hidrógeno;
-
X es un grupo hidrolizable tal como un grupo halógeno, alcoxi, acetoxi, aciloxi, amino, NCO;
-
p' = 0, 1, 2 ó 3.
3. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 2, caracterizado porque dicha altura está comprendida entre 0,01 y 10 micras.
4. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la geometría de dicho relieve no presenta ninguna periodicidad.
5. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la geometría de dicho relieve presenta una periodicidad.
6. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 5, caracterizado porque dichos nivel bajo y alto de superficie están unidos el uno al otro por paredes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
7. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque dicho nivel alto de superficie presenta una continuidad en al menos una dirección del plano del sustrato.
8. Sustrato según la reivindicación 7, caracterizado porque dicho relieve comprende una multiplicidad de objetos sensiblemente idénticos y paralelepipédicos paralelos y regularmente espaciados.
9. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 6, caracterizado porque dicho nivel alto de superficie no presenta continuidad en ninguna de las direcciones del plano del sustrato.
10. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque dicho relieve comprende una multiplicidad de cráteres sensiblemente idénticos y cilíndricos regularmente repartidos sobre el sustrato, estando sus ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
11. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque dicho relieve comprende un conjunto discreto de objetos idénticos o diferentes.
12. Sustrato según la reivindicación 11, caracterizado porque dichos objetos comprenden cilindros de ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
13. Sustrato según la reivindicación 12, caracterizado porque dicho relieve comprende una multiplicidad de cilindros de revolución sensiblemente idénticos y regularmente repartidos sobre el sustrato.
14. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque dicho relieve es a base de al menos uno de los compuestos de al menos uno de los elementos: Si, W, Sb, Ti, Zr, Ta, V, Pb, Mg, Al, Mn, Co, Ni, Sn, Zn, In y/o de una materia plástica eventualmente cargada, endurecible por aplicación de una fuente de energía o termoplástico, y porque al menos una parte sub-adyacente del sustrato está constituida por un vidrio y/o por una materia plástica.
15. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque es conductor de electricidad.
16. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque presenta propiedades anti-reflejo.
17. Sustrato según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque presenta propiedades anti-suciedad.
18. Procedimiento de formación de un sustrato que comprende un relieve según una de las reivindicaciones precedentes, caracterizado porque comprende las etapas que consisten en:
-
aplicar sobre una superficie soporte un precursor de consistencia líquida a viscosa,
-
realizar a partir de este precursor el moldeo de un sol-gel, y luego
-
consolidar este por evaporación del disolvente eventualmente asistido por una fuente de energía, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
19. Procedimiento de formación de un sustrato que comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17, caracterizado porque comprende las etapas que consisten en:
-
aplicar sobre una superficie soporte una composición polimerizalbe y/o reticulable de materia plástica que contiene eventualmente cargas, principalmente cargas minerales de reforzamiento,
-
efectuar la polimerización y/o la reticulación así como la separación de eventuales constituyentes residuales tales como disolvente, eventualmente asistidas por una fuente de energía, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
20. Procedimiento de formación de un sustrato que comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17, caracterizado porque comprende las etapas que consisten en:
-
formar sobre una superficie una máscara según una técnica tal como serigrafía, impresión de chorro de tinta, litografía, en particular fotolitografía, gravado por ejemplo iónico reactivo, o similar,
-
atacar principalmente por vía química las partes de dicha superficie no protegidas por esta máscara, y luego eventualmente
-
eliminar la máscara, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
21. Procedimiento de formación de un sustrato que comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17, caracterizado porque comprende una etapa que consiste en hacer adherir a una superficie soporte una película que forma ella misma dicho relieve y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve y [\alpha] (rev 25) o [\beta] (rev 26).
22. Procedimiento según una de las reivindicaciones 18 a 21, caracterizado porque las etapas reivindicadas conducen a la formación de un molde utilizable para formar dicho sustrato.
23. Procedimiento según una de las reivindicaciones 18 a 21, caracterizado porque las etapas reivindicadas conducen a la formación de dicho sustrato él mismo.
24. Acristalamiento constituido al menos en parte por un sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 17.
25. Aplicación de un acristalamiento según la reivindicación 24, para edificio o mobiliario urbano.
26. Aplicación de un acristalamiento según la reivindicación 24, para un vehículo de transporte aéreo, marítimo o terrestre.
27. Aplicación de un acristalamiento según la reivindicación 24, para una pantalla, una lámpara o un panel luminoso.
28. Aplicación de un acristalamiento según la reivindicación 24, para mobiliario o electrodomésticos, por ejemplo como tablero para un refrigerador u otro, pared de ducha, puerta de refrigerador, de horno, vitrina, placa vitrocerámica.
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