ES2258004T3 - Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion. - Google Patents
Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion.Info
- Publication number
- ES2258004T3 ES2258004T3 ES00922704T ES00922704T ES2258004T3 ES 2258004 T3 ES2258004 T3 ES 2258004T3 ES 00922704 T ES00922704 T ES 00922704T ES 00922704 T ES00922704 T ES 00922704T ES 2258004 T3 ES2258004 T3 ES 2258004T3
- Authority
- ES
- Spain
- Prior art keywords
- substrate
- relief
- hydrophobic
- substrate according
- hydrophilic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 105
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 22
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 8
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 4
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 4
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 4
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 claims description 2
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 claims description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 125000001261 isocyanato group Chemical group *N=C=O 0.000 claims description 2
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 claims description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 claims description 2
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 claims description 2
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 abstract 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 4
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 4
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 4
- 206010053317 Hydrophobia Diseases 0.000 description 3
- 206010037742 Rabies Diseases 0.000 description 3
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 3
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 3
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 3
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 3
- 230000003075 superhydrophobic effect Effects 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 2
- CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N methanediol Chemical compound OCO CKFGINPQOCXMAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 2
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 2
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000010257 thawing Methods 0.000 description 2
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- DWMSYQDOPYSCJR-UHFFFAOYSA-M 2-ethenyl-1-methylpyridin-1-ium;iodide Chemical compound [I-].C[N+]1=CC=CC=C1C=C DWMSYQDOPYSCJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UFVMSCIGQMSUEV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylpyridin-1-ium;bromide Chemical compound Br.C=CC1=CC=CC=N1 UFVMSCIGQMSUEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYWCIVBBDWZOCL-UHFFFAOYSA-M 4-ethenyl-1-methylpyridin-1-ium;iodide Chemical compound [I-].C[N+]1=CC=C(C=C)C=C1 DYWCIVBBDWZOCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920002101 Chitin Polymers 0.000 description 1
- 229920001661 Chitosan Polymers 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000238631 Hexapoda Species 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002153 Hydroxypropyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001343 alkyl silanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid Chemical compound OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N fluorosilane Chemical compound [SiH3]F XPBBUZJBQWWFFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019256 formaldehyde Nutrition 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001863 hydroxypropyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010977 hydroxypropyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229940054190 hydroxypropyl chitosan Drugs 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000010815 organic waste Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000885 poly(2-vinylpyridine) Polymers 0.000 description 1
- 229920002939 poly(N,N-dimethylacrylamides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003213 poly(N-isopropyl acrylamide) Polymers 0.000 description 1
- 229920000083 poly(allylamine) Polymers 0.000 description 1
- 229920001467 poly(styrenesulfonates) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J titanium tetrachloride Chemical compound Cl[Ti](Cl)(Cl)Cl XJDNKRIXUMDJCW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C15/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/02—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/30—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/28—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material
- C03C17/32—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with organic material with synthetic or natural resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Materials Applied To Surfaces To Minimize Adherence Of Mist Or Water (AREA)
Abstract
Sustrato que comprende un relieve que delimita un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este último 1 a 65% de la superficie del sustrato, comprendiendo este agentes hidrófobos y/o hidrófilos.
Description
Sustrato texturado susceptible de constituir un
acristalamiento, procedimiento para su obtención.
La presente invención se refiere a un sustrato
texturado, es decir que presenta un relieve particular que le
permite obtener propiedades interesantes, principalmente en el caso
de un sustrato transparente y/o de un sustrato para el que se busca
una cierta calidad óptica. Estas propiedades residen entre otras en
la modificación del comportamiento del sustrato en humectabilidad en
un comportamiento que puede calificarse de
super-hidrófobo o super-hidrófilo,
en propiedades anti-suciedad o
anti-reflejo.
La propiedad de hidrofobia de un sustrato
consiste en que los ángulos de contacto entre el agua y este
sustrato son elevados, por ejemplo del orden de 120º para el agua.
El líquido tiene entonces tendencia a escurrirse fácilmente, en
forma de gotas, sobre el sustrato, por simple gravedad si el
sustrato está inclinado o bajo el efecto de fuerzas aerodinámicas en
el caso de un vehículo en movimiento. Este fenómeno es la expresión
de un efecto anti-lluvia. Las gotas son, por otra
parte, susceptibles de arrastrar polvo en su escurrimiento, insectos
o suciedades más o menos grasas de toda naturaleza cuya presencia
tendría como consecuencia un aspecto antiestético véase, llegado el
caso, una alteración de la visión a través del sustrato cuando este
es transparente. Para esta medida, el sustrato hidrófobo presenta
igualmente una propiedad anti-suciedad.
Agentes hidrófobos conocidos son, por ejemplo,
alquilsilanos fluorados tal como se describen en la solicitud de
patente EP-A1-0 675 087. Se aplican
de manera conocida en solución según métodos de depósito clásicos
con o sin calentamiento.
Por el contrario, la propiedad de hidrofilia de
un sustrato se manifiesta por los ángulos bajos de contacto entre el
agua y este sustrato, del orden de 5º para el agua sobre vidrio
limpio. Esta propiedad favorece la formación de películas líquidas
finas transparentes, en detrimento del vaho, o de hielo constituidos
por minúsculas gotitas que perjudican la visibilidad a través de un
sustrato transparente. Estos efectos anti-vaho y
anti-hielo observados sobre un sustrato hidrófilo
son bien conocidos.
Numerosos agentes hidrófilos, principalmente
hidroxilados, tal como poli((met)acrilatos de hidroxialquilo)
se utilizan con este fin, de manera conocida, para sustratos
transparentes. Ciertos compuestos, dichos fotocatalíticos, tal como
TiO_{2}, se utilizan por otra parte, principalmente en asociación
con sustratos vítreos, no solamente por su carácter hidrófilo
después de exposición a la luz, sino también por su aptitud para
degradar, por un procedimiento de oxidación radicalaria, las
suciedades de origen orgánico; las propiedades hidrófila y
anti-suciedad se obtienen entonces simultáneamente.
Se conoce como depositar revestimientos con propiedad fotocatalítica
que comprende TiO_{2} a partir de al menos un precursor de
titanio, llegado el caso en solución, por pirólisis en fase líquida,
mediante una técnica sol-gel o también mediante
pirólisis en fase vapor.
Conforme a lo que precede, la propiedad de
hidrofobia se aprecia cuantitativamente por la medida del ángulo de
contacto formado, con mayor frecuencia, por una gota de agua, sobre
un sustrato dado. A defecto de una indicación suplementaria, este
ángulo de contacto se mide para un sustrato horizontal. En realidad,
como ya se ha mencionado anteriormente, es el comportamiento de
gotas de líquido en dinámica lo que se pretende por el hecho de
conferir una hidrofobia a un sustrato. Esto vale tanto para
sustratos estáticos sensiblemente verticales tales como los
acristalamientos exteriores para los edificios, los acristalamientos
de duchas como para los acristalamientos de vehículos de transporte.
Sin embargo, en el caso de una gota de líquido sobre un sustrato
inclinado con respecto a la horizontal, se observan dos ángulos de
contacto diferentes: el ángulo de avance y el ángulo de retroceso,
determinados más adelante, respectivamente por detrás de la gota,
con respecto al sentido de su desplazamiento. Estos ángulos son
valores alcanzados en el límite del desprendimiento de la gota. Se
denomina histéresis la diferencia entre el ángulo de avance y el
ángulo de retroceso. Una gota de agua que presenta una histéresis
elevada o un ángulo de retroceso bajo tendrá dificultad para
escurrirse sobre un sustrato. Así, se comprende fácilmente que una
hidrofobia eficaz está condicionada a la vez por un ángulo de avance
elevado y una histéresis baja.
Los inventores han obtenido precisamente, en este
plano, resultados excelentes nunca alcanzados hasta la actualidad.
Sobre un sustrato conforme a la invención e hidrófobo, se ha
obtenido un escurrimiento excepcionalmente fácil y rápido de gotas
de agua. Además, se ha podido verificar que las medidas previstas
conforme a la invención son igualmente de naturaleza a exacerbar el
carácter hidrófilo de un sustrato. Una de las consecuencias en
algunos casos es, conforme a las explicaciones que preceden, que el
carácter anti-suciedad alcanza un nivel muy
elevado.
Estos resultados han sido realizados, conforme a
la invención, por un sustrato que comprende un relieve que delimita
un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una
cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características
de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este
último 1 a 65% de la superficie del sustrato.
Tal sustrato se ha revelado en efecto apto para
procurar propiedades super-hidrófoba o
super-hidrófila y principalmente, respecto de gotas
de agua que se escurren sobre él, un ángulo de avance muy elevado
para una histéresis muy baja.
\newpage
En la variante de la invención en la que el
sustrato es hidrófobo, comprende preferentemente un agente elegido
entre el grupo constituido por:
a) siliconas, y
b) compuestos que responden a las fórmulas:
(I)F_{3}C(CF_{2})_{m}(CH_{2})_{n}
\delm{S}{\delm{\para}{R _{p} }}iX_{3-p}
y
(II)R_{p'}SiX_{4-p'}
en las
que
- -
- m = 0 a 15;
- -
- n = 1 a 5;
- -
- p = 0, 1 ó 2;
- -
- R es un grupo alquilo lineal o ramificado o un átomo de hidrógeno;
- -
- X es un grupo hidrolizable tal como un grupo halógeno, alcoxi, acetoxi, aciloxi, amino, NCO;
- -
- p' = 0, 1, 2 ó 3.
Según la segunda variante principal de la
invención, el sustrato es hidrófilo por el hecho de que comprende un
agente apropiado. Como agente hidrófilo se puede citar, como
producto final o precursor, poli(ácidos (met)acrílico) tal
cual o al menos parcialmente salificado con sodio, potasio,
cesio..., tensioactivos no iónicos, ésteres de celulosa tal como
hydroxipropil-celulosa, derivados de quitosán y de
quitina, polimetacrilatos, poli(alcoholes vinílicos) y
poli(acetato de vinilo), polipirrol, polianilina,
poli(acrilamida),
poli(N,N-dimetilacrilamida),
poli(N-isopropilacrilamida),
poli(metilenglicol), poli(propilenglicol),
poli(oxietileno), con funciones hidroxi o metoxi terminales,
hidrocloruro de poli(alilamina), polisacárido, dextranos
(ramificados), pululano (polisacárido lineal), poli(ácido
estirenocarboxílico) y sus sales, poli(ácido estirenosulfónico),
poli(sulfonato de estireno) de sodio,
poli(vinil-butiral), poli(yoduro de
2-vinil-N-metil-piridinio),
poli(yoduro de
4-vinil-N-metil-piridinio),
poli(2-vinil-piridina),
poli(bromuro de
2-vinil-piridinio),
poli(vinil-pirrolidona), copolímeros
obtenidos a partir de monómeros de partida de diferentes polímeros
precitados, y principalmente copolímeros secuenciados, ciertos
compuestos de titanio tal como tetraisopropilo de titanio o
tetraisobutilo de titanio, eventualmente estabilizado, por ejemplo
con acetonato de acetilo, tetracloruro de
titanio...
titanio...
Preferentemente, la altura de dicho nivel alto de
superficie con respecto a dicho nivel bajo de superficie está
comprendido entre 0,01 y 10 micras.
La geometría del relieve del que está dotado el
sustrato puede o no presentar una periodicidad.
En varios ejemplos de realización de la invención
en las que se han procurado eficacias elevadas, dichos nivel bajo y
nivel alto de superficie están unidos el uno al otro por paredes
sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
Conforme a la invención, el relieve del sustrato
puede tomar diversas formas.
Según un primer tipo de formas, dicho nivel alto
de superficie presenta una continuidad en al menos una dirección del
plano del sustrato; se sobreentiende en este tipo de formas que la
continuidad del nivel alto existe si no sobre la totalidad de la
extensión del sustrato, al menos sobre una proporción sustancial de
esta, relativamente a dicha dirección concernida.
Estas formas están representadas principalmente
por un relieve que comprende una multiplicidad de objetos
sensiblemente idénticos y paralelepipédicos paralelos y regularmente
espaciados. En este caso hay continuidad del nivel alto de
superficie según una dirección única.
Un caso en el que esta continuidad existe en dos
direcciones del plano del sustrato podría representarse por un
relieve que comprende una multiplicidad de cráteres sensiblemente
idénticos y cilíndricos regularmente repartidos sobre el sustrato,
estando sus ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato
(a condición de que estos cráteres estén dispuestos sobre una
proporción sustancial de la extensión del sustrato, como se ha
definido anteriormente).
Según un segundo tipo de formas del relieve,
dicho nivel alto de superficie no presenta continuidad en ninguna de
las direcciones del plano del sustrato.
Este tipo está representado principalmente por un
relieve esencialmente constituido por un conjunto discreto de
objetos idénticos o diferentes, en particular cilindros con ejes
sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato, principalmente
cilindros de revolución idénticos y regularmente repartidos sobre el
sustrato.
Conforme a diferentes modos de realización de la
invención se han formado relieves a base de al menos un compuesto de
al menos uno de los elementos: Si, W, Sb, Ti, Zr, Ta, V, Pb, Mg, Al,
Mn, Co, Ni, Sn, Zn, In y/o de una materia plástica eventualmente
cargada, endurecible por aplicación de una fuente de energía o
termoplástico, estando constituida al menos una parte
sub-adyacente del sustrato por un vidrio y/o por una
materia plástica (principalmente del tipo que entra en la
constitución habitual de un acristalamiento, lo que se explicará más
en detalle a continuación).
Conforme a una variante particularmente
interesante de la invención, el sustrato es conductor de
electricidad. Entonces está constituido por ejemplo por óxidos
metálicos sub-estequiométricos y/o dopados tal como
se han descrito en la solicitud FR 2 695 117.
Ejemplos mencionados en esta solicitud son el
óxido de indio dopado con estaño (ITO), óxido de cinc dopado con
indio (ZnO:In), con flúor (ZnO:F), con aluminio (ZnO:Al) o con
estaño (ZnO:Sn) y óxido de estaño dopado con flúor (SnO_{2}:F).
Además de sus propiedades de conducción de la electricidad, estos
materiales están descritos como que presentan propiedades de
reflexión en el infrarrojo, principalmente de baja emisión (caso de
un sustrato transparente). Sin embargo, la aptitud del sustrato para
conducir la electricidad apunta principalmente, en el marco de la
presente solicitud, la función antiestática, es decir la capacidad
de disipar las cargas electrostáticas y de evitar su acumulación
localmente y en menor medida, la constitución de películas
calefactores, principalmente para el descongelado y el desempañado
de acristalamientos. Otros materiales conductores de electricidad
utilizables son el óxido de estaño dopado con antimonio
(pentavalente o tetravalente) SnO_{2}:Sb, un material que
comprende por ejemplo SiH_{4} o CH_{4} como precursor con el
fin de formar enlaces metálicos del tipo Si-Si o
C-C o sales metálicas tales como acetonato de
acetilo de cobre. El interés de evitar acumulaciones locales de
cargas electrostáticas aparece en aplicaciones tales como parabrisas
de avión, en el que importa por el contrario evacuar estas cargas
por conducción. Acumulaciones de cargas constituirían en efecto una
fuente de agrietamiento y destrucción de eventuales capas
funcionales apiladas, así como la estructura misma del sustrato,
principalmente cuando es laminado o estratificado.
De manera ventajosa, el sustrato de la invención
presenta propiedades anti-reflejo. Esto puede
obtenerse por el hecho de que las dimensiones características del
relieve sobre el sustrato no exceden las longitudes de onda del
campo visible, preferentemente 200 nm, véase 100 nm.
Alternativamente o de manera complementaria, las propiedades
anti-reflejo pueden resultar de un tratamiento en la
forma de apilamiento de capas delgadas interferenciales, que
consisten en general en una alternancia de capas a base de material
dieléctrico con fuertes y bajos índices de refracción. Depositado
sobre un sustrato transparente, tal revestimiento tiene como función
disminuir su reflexión luminosa, por lo tanto aumentar su
transmisión luminosa.
En la cara exterior de una parabrisas de
automóvil, para el que se imponen niveles elevados de transmisión
luminosa, en general superiores a 75%, y un borrosidad residual muy
bajo (inferior a 1% de la luz transmitida), el efecto
anti-reflejo tiene por consecuencia la mejora del
confort visual del conductor y de los pasajeros.
Preferentemente, el sustrato de la invención
presenta propiedades anti-suciedad. Estas pueden
resultar parcialmente, como se ha visto anteriormente, de las
propiedades (super)-hidrófoba o (super-)hidrófila.
Estas propiedades pueden igualmente estar unidas directamente a la
naturaleza de ciertos constituyentes del sustrato. Así, entre los
agentes hidrófilos mencionados precedentemente, ciertos compuestos
de titanio, por ejemplo TiO_{2}, tienen la aptitud de descomponer
por vía fotocatalítica los residuos orgánicos.
Otros objetos de la invención residen en un
conjunto de procedimientos de formación del sustrato descrito
anteriormente.
Un primer procedimiento comprende las etapas que
consisten en:
- -
- aplicar sobre una superficie soporte un precursor de consistencia líquida a viscosa,
- -
- realizar a partir de este precursor el moldeo de un sol-gel, y luego
- -
- consolidar este por evaporación del disolvente eventualmente asistido por una fuente de energía.
Un segundo procedimiento comprende las etapas que
consisten en:
- -
- aplicar sobre una superficie soporte una composición polimerizable y/o reticulable de materia plástica que contiene eventualmente cargas, principalmente cargas minerales de reforzamiento,
- -
- efectuar la polimerización y/o la reticulación así como la separación de eventuales constituyentes residuales tales como disolvente, eventualmente asistidos por una fuente de energía.
Convienen como materias plásticas numerosos
termoplásticos del tipo poliolefinas, poliamidas,
poli(vinil-butiral), poliuretanos,
poli(met)acrilatos, copolímeros secuenciados... así
como resinas termoendurecibles o fotoreticulables clásicas a base de
poliéster insaturado, fenólico, poliuretano...
El tercer procedimiento principal de la invención
comprende las etapas que consisten en:
- -
- formar sobre una superficie una máscara según una técnica tal como serigrafía, impresión de chorro de tinta, litografía, en particular fotolitografía, gravado por ejemplo iónico reactivo, o similar,
- -
- atacar principalmente por vía química las partes de dicha superficie no protegidas por esta máscara y luego eventualmente
- -
- eliminar la máscara.
Según un cuarto procedimiento, se hace adherir a
una superficie soporte una película que forma ella misma dicho
relieve. Esta película puede ser a base de materia plástica,
principalmente termoplástico.
Cada uno de estos cuatro procedimientos conduce
a:
- -
- bien a la formación de un molde utilizable para formar el sustrato de la invención,
- -
- bien a la formación de dicho sustrato él mismo.
Debido a la investigación de
super-hidrofobia o de
super-hidrofilia que ha suscitado la invención, debe
precisarse que los agentes hidrófobos o hidrófilos se aplican en
principio por separado según dos modos principales bien conocidos:
pueden incorporarse en el sustrato, es decir integrarse en el
material del sustrato, o bien depositarse en forma de un
revestimiento sobre el relieve del sustrato. Según este segundo
modo, se conoce como constituir revestimientos hidrófobos en capas o
películas variables, principalmente películas dichas monomoleculares
cuyo espesor corresponde a la longitud de las moléculas que lo
constituyen y alcanza valores tan bajos como desde algunos
nanómetros a algunas decenas de nanómetros.
Las propiedades de hidrofobia e hidrofilia
contradiciéndose la una a la otra, el sustrato de la invención no
comprende en general más que uno o varios agentes hidrófobos o uno o
varios agentes hidrófilos. Sin embargo los inventores han podido
hacer coexistir los dos tipos de agentes en un modo de realización
particularmente interesante en el que se forma una superficie
soporte de TiO_{2} anti-suciedad un relieve de
objetos en material hidrófobo, por ejemplo a base de
perfluoroalquilalquiltrialcoxisilano. El nivel alto de superficie se
dota entonces de un carácter hidrófobo que contribuye
subsidiariamente a la evacuación de la suciedad. En función de la
geometría del relieve, no se excluye que un líquido que se escurre
sobre el sustrato entre parcialmente en contacto con el nivel bajo
de superficie del relieve, caracterizado por su doble propiedad
hidrófila y fotocatalítica. Por lo tanto es posible por una elección
apropiada de geometría del relieve tirar ventaja de la sinergia de
diversos constituyentes del sustrato de manera a favorecer la
evacuación de líquidos sobre su superficie y garantizar un nivel
elevado de limpieza en ausencia de
limpieza.
limpieza.
Se pretenden particularmente los sustratos
transparentes por la invención, cuyo otro objeto consiste por lo
tanto en un acristalamiento constituido al menos en parte por el
sustrato descrito anteriormente. Con la exclusión de especificidades
del relieve conforme a la invención, se debe entender que la
estructura de tal acristalamiento es habitual, es decir
principalmente monolítica o peliculada. Esta estructura hace
intervenir hojas de vidrio, capas de materia plástica:
poli(vinil-butiral), poliuretano,
policarbonato, poli(met)acrilato, copolímero
etileno/acetato de vinilo... así como películas serigrafiadas
funcionales o de decoración, redes de hilos calientes o de
antena...
Las aplicaciones del acristalamiento de la
invención son variadas: acristalamiento para edificios (ventanas),
mobiliario urbano (panel de anuncio, marquesina de autobús), para
vehículo de transporte aéreo, marítimo o terrestre (ferroviario, por
carretera), para una pantalla, una lámpara o un panel luminoso, para
almacenamiento interior, mobiliario o electrodomésticos: panel
decorativo, mobiliario sanitario (pared de ducha), tablero, puerta
de refrigerador, de horno, vitrina, placa vitrocerámica...
Otras características y ventajas de la invención
aparecerán en la descripción del ejemplo que sigue.
Una plaqueta de silicio perfectamente plana de 3
cm x 3 cm para un espesor de 0,2 cm se vuelve hidrófila por injerto
de una monocapa de fluorosilano
F_{3}C(CF_{2})_{9}(CH_{2})_{2}SiCl_{3}.
Los ángulos de contacto del agua (ángulo de avance A_{a} y ángulo
de retroceso A_{r}) se midieron por medio de un goniómetro con
una precisión del orden del grado y se consignan en la tabla
detallada a continuación. Para este hecho, se formó sobre la
superficie de la plaqueta una gota de agua por medio de una pipeta y
se midió el ángulo de avance durante el crecimiento de la gota; en
una segunda fase, se disminuyó el volumen de la gota aspirando
progresivamente el agua que la constituía en la pipeta, siendo el
ángulo de contacto medido a lo largo de esta operación el ángulo de
retroceso.
A continuación se formaron sobre las plaquetas
idénticas a la precitada los relieves representados en la figuras 1,
2 y 3 adjuntas, por moldeo de un sol-gel de
tetrametoxisilano. Después de gelificación, la estructura de silicio
se consolidó a 1100ºC durante 2 horas y se volvió hidrófoba como se
ha indicado precedentemente. El moldeo del sol-gel
se efectuó conforme a la enseñanza de la publicación MARZOLIN C.
et al. Advanced Materials 10 (1998) 571, incorporado en la
presente solicitud a título de referencia. Los relieves se designan
respectivamente por los términos "picos", "cráteres" y
"acanaladuras". Estos tres relieves definen conforme a la
invención un nivel bajo y un nivel alto de superficie distantes de
una altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características de
los motivos que forman dicho nivel alto, es decir respectivamente el
diámetro de picos cilíndricos, la distancia entre dos cráteres y la
anchura de acanaladuras. Por otra parte, para estas tres formas de
relieve retomadas en el mismo orden, dicho nivel alto de superficie
representa 5%, 64% y 25% de la superficie del sustrato. Las
dimensiones características de los tres relieves son del orden de
micra.
Los ángulos de avance y de retroceso se midieron
sobre cada una de las plaquetas y se consignan en la tabla detallada
a continuación.
| Plaqueta | A_{a} (grados) | A_{r} (grados) |
| Plano | 118 | 100 |
| Picos | 170 | 155 |
| Cráteres | 138 | 75 |
| Acanaladuras (perpendiculares) | 165 | 132 |
| Acanaladuras (paralelas) | 143 | 125 |
| \begin{minipage}[t]{160mm}Las menciones "perpendicular" y "paralela" hacen referencia a las direcciones en las que se efectúan las medidas del ángulo de avance y de retroceso con respecto a la dirección de las acanaladuras\end{minipage} |
Se constató con respecto al testigo constituido
por la plaqueta plana que las plaquetas con relieves conforme a la
invención procuraban en todos los casos un aumento sustancial del
ángulo de avance a la vez que preservaba una histéresis poco o no
modificada. A título de excepción, se observó una disminución
desfavorable del ángulo de retroceso en el caso de la plaqueta con
cráteres; este fenómeno está probablemente unido a la geometría
particular de esta superficie, y podría interpretarse como la
expresión de un efecto "ventosa" ejercido por los cráteres, que
retendrían el agua en su escurrimiento. Esto no quita para que los
otros valores obtenidos traducen un grado excepcionalmente elevado
del carácter hidrófobo, bien superior al de la plaqueta plana.
Claims (28)
1. Sustrato que comprende un relieve que delimita
un nivel bajo y un nivel alto de superficie, distantes por una
cierta altura no inferior a 1/10º de las dimensiones características
de los motivos que forman dicho nivel alto, representando este
último 1 a 65% de la superficie del sustrato, comprendiendo este
agentes hidrófobos y/o hidrófilos.
2. Sustrato según la reivindicación 1,
caracterizado porque es hidrófobo por el hecho de que
comprende un agente elegido entre el grupo constituido por:
a) siliconas, y
b) compuestos que responden a las fórmulas:
(I)F_{3}C(CF_{2})_{m}(CH_{2})_{n}
\delm{S}{\delm{\para}{R _{p} }}iX_{3-p}y
(II)R_{p'}SiX_{4-p'}
en las
que
- -
- m = 0 a 15;
- -
- n = 1 a 5;
- -
- p = 0, 1 ó 2;
- -
- R es un grupo alquilo lineal o ramificado o un átomo de hidrógeno;
- -
- X es un grupo hidrolizable tal como un grupo halógeno, alcoxi, acetoxi, aciloxi, amino, NCO;
- -
- p' = 0, 1, 2 ó 3.
3. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a
2, caracterizado porque dicha altura está comprendida entre
0,01 y 10 micras.
4. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a
3, caracterizado porque la geometría de dicho relieve no
presenta ninguna periodicidad.
5. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a
3, caracterizado porque la geometría de dicho relieve
presenta una periodicidad.
6. Sustrato según una de las reivindicaciones 1
a 5, caracterizado porque dichos nivel bajo y alto de
superficie están unidos el uno al otro por paredes sensiblemente
perpendiculares al plano del sustrato.
7. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a
6, caracterizado porque dicho nivel alto de superficie
presenta una continuidad en al menos una dirección del plano del
sustrato.
8. Sustrato según la reivindicación 7,
caracterizado porque dicho relieve comprende una
multiplicidad de objetos sensiblemente idénticos y paralelepipédicos
paralelos y regularmente espaciados.
9. Sustrato según una de las reivindicaciones 1 a
6, caracterizado porque dicho nivel alto de superficie no
presenta continuidad en ninguna de las direcciones del plano del
sustrato.
10. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque dicho relieve comprende una
multiplicidad de cráteres sensiblemente idénticos y cilíndricos
regularmente repartidos sobre el sustrato, estando sus ejes
sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
11. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque dicho relieve comprende un
conjunto discreto de objetos idénticos o diferentes.
12. Sustrato según la reivindicación 11,
caracterizado porque dichos objetos comprenden cilindros de
ejes sensiblemente perpendiculares al plano del sustrato.
13. Sustrato según la reivindicación 12,
caracterizado porque dicho relieve comprende una
multiplicidad de cilindros de revolución sensiblemente idénticos y
regularmente repartidos sobre el sustrato.
14. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque dicho relieve es a base de
al menos uno de los compuestos de al menos uno de los elementos: Si,
W, Sb, Ti, Zr, Ta, V, Pb, Mg, Al, Mn, Co, Ni, Sn, Zn, In y/o de una
materia plástica eventualmente cargada, endurecible por aplicación
de una fuente de energía o termoplástico, y porque al menos una
parte sub-adyacente del sustrato está constituida
por un vidrio y/o por una materia plástica.
15. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque es conductor de
electricidad.
16. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque presenta propiedades
anti-reflejo.
17. Sustrato según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque presenta propiedades
anti-suciedad.
18. Procedimiento de formación de un sustrato
que comprende un relieve según una de las reivindicaciones
precedentes, caracterizado porque comprende las etapas que
consisten en:
- -
- aplicar sobre una superficie soporte un precursor de consistencia líquida a viscosa,
- -
- realizar a partir de este precursor el moldeo de un sol-gel, y luego
- -
- consolidar este por evaporación del disolvente eventualmente asistido por una fuente de energía, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
19. Procedimiento de formación de un sustrato que
comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17,
caracterizado porque comprende las etapas que consisten
en:
- -
- aplicar sobre una superficie soporte una composición polimerizalbe y/o reticulable de materia plástica que contiene eventualmente cargas, principalmente cargas minerales de reforzamiento,
- -
- efectuar la polimerización y/o la reticulación así como la separación de eventuales constituyentes residuales tales como disolvente, eventualmente asistidas por una fuente de energía, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
20. Procedimiento de formación de un sustrato que
comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17,
caracterizado porque comprende las etapas que consisten
en:
- -
- formar sobre una superficie una máscara según una técnica tal como serigrafía, impresión de chorro de tinta, litografía, en particular fotolitografía, gravado por ejemplo iónico reactivo, o similar,
- -
- atacar principalmente por vía química las partes de dicha superficie no protegidas por esta máscara, y luego eventualmente
- -
- eliminar la máscara, y porque se incorpora un agente hidrófobo o hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve.
21. Procedimiento de formación de un sustrato que
comprende un relieve según una de las reivindicaciones 1 a 17,
caracterizado porque comprende una etapa que consiste en
hacer adherir a una superficie soporte una película que forma ella
misma dicho relieve y porque se incorpora un agente hidrófobo o
hidrófilo en dicho sustrato que comprende un relieve o porque
comprende una etapa que consiste en formar un revestimiento
hidrófobo o hidrófilo sobre dicho relieve y [\alpha] (rev 25) o
[\beta] (rev 26).
22. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 18 a 21, caracterizado porque las etapas
reivindicadas conducen a la formación de un molde utilizable para
formar dicho sustrato.
23. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 18 a 21, caracterizado porque las etapas
reivindicadas conducen a la formación de dicho sustrato él
mismo.
24. Acristalamiento constituido al menos en parte
por un sustrato según una de las reivindicaciones 1 a 17.
25. Aplicación de un acristalamiento según la
reivindicación 24, para edificio o mobiliario urbano.
26. Aplicación de un acristalamiento según la
reivindicación 24, para un vehículo de transporte aéreo, marítimo o
terrestre.
27. Aplicación de un acristalamiento según la
reivindicación 24, para una pantalla, una lámpara o un panel
luminoso.
28. Aplicación de un acristalamiento según la
reivindicación 24, para mobiliario o electrodomésticos, por ejemplo
como tablero para un refrigerador u otro, pared de ducha, puerta de
refrigerador, de horno, vitrina, placa vitrocerámica.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9905082A FR2792628B1 (fr) | 1999-04-22 | 1999-04-22 | Substrat texture susceptible de constituer un vitrage, procede pour son obtention |
| FR9905082 | 1999-04-22 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ES2258004T3 true ES2258004T3 (es) | 2006-08-16 |
Family
ID=9544728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| ES00922704T Expired - Lifetime ES2258004T3 (es) | 1999-04-22 | 2000-04-20 | Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion. |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP1173391B1 (es) |
| JP (1) | JP2002543027A (es) |
| KR (1) | KR100754338B1 (es) |
| AT (1) | ATE316945T1 (es) |
| DE (1) | DE60025815T2 (es) |
| ES (1) | ES2258004T3 (es) |
| FR (1) | FR2792628B1 (es) |
| WO (1) | WO2000064829A1 (es) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6491987B2 (en) | 1999-05-03 | 2002-12-10 | Guardian Indusries Corp. | Process for depositing DLC inclusive coating with surface roughness on substrate |
| US6284377B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-09-04 | Guardian Industries Corporation | Hydrophobic coating including DLC on substrate |
| FR2811316B1 (fr) * | 2000-07-06 | 2003-01-10 | Saint Gobain | Substrat texture transparent et procedes pour l'obtenir |
| FR2840297B1 (fr) * | 2002-05-31 | 2005-03-25 | Centre Nat Rech Scient | Procede pour l'elaboration d'un substrat mineral modifie en surface, et substrat obtenu |
| KR20050000738A (ko) | 2003-06-24 | 2005-01-06 | 삼성전자주식회사 | 벽걸이형 전자렌지 |
| EP1829675B1 (en) * | 2006-02-22 | 2014-07-30 | AGC Glass Europe | Glazing panel |
| KR100854486B1 (ko) * | 2007-04-05 | 2008-08-26 | 한국기계연구원 | 초발수 표면 제조 방법 |
| FR2953212B1 (fr) | 2009-12-01 | 2013-07-05 | Saint Gobain | Procede de structuration de surface par gravure ionique reactive,surface structuree et utilisations. |
| FR2953213B1 (fr) | 2009-12-01 | 2013-03-29 | Saint Gobain | Procede de structuration de surface par abrasion ionique,surface structuree et utilisations |
| KR101280710B1 (ko) | 2010-03-22 | 2013-07-01 | 주식회사 엘지화학 | 발수유리의 제조방법 및 이에 의해 제조된 발수유리 |
| KR101360821B1 (ko) * | 2012-02-01 | 2014-02-12 | (주)에스이피 | 반사방지 효과와 내지문성을 구비한 투명기판 |
| CN104370267B (zh) * | 2013-08-16 | 2017-04-12 | 法国圣戈班玻璃公司 | 疏水和/或疏油组件及其制作方法、显示装置 |
| CN108136633B (zh) | 2015-09-07 | 2021-02-05 | 沙特基础工业全球技术公司 | 具有塑料玻璃的后挡板的照明系统 |
| CN108025469B (zh) | 2015-09-07 | 2020-12-25 | 沙特基础工业全球技术公司 | 后栏板的塑料玻璃的成型 |
| CN108025624B (zh) | 2015-09-07 | 2021-04-27 | 沙特基础工业全球技术公司 | 车辆的后挡板的塑料装配玻璃 |
| WO2017042698A1 (en) | 2015-09-07 | 2017-03-16 | Sabic Global Technologies B.V. | Surfaces of plastic glazing of tailgates |
| KR102215029B1 (ko) | 2015-11-23 | 2021-02-15 | 사빅 글로벌 테크놀러지스 비.브이. | 플라스틱 글레이징을 갖는 윈도우를 위한 라이팅 시스템 |
| JP6867217B2 (ja) * | 2017-04-19 | 2021-04-28 | 旭化成株式会社 | 膜 |
| FR3093334B1 (fr) * | 2019-02-28 | 2022-07-22 | Saint Gobain | Substrat transparent revêtu d’une couche organique transparente incolore ou colorée discontinue texturée, d’une couche métallique et d’une surcouche diélectrique et/ou d’adhésion |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04124047A (ja) * | 1990-09-17 | 1992-04-24 | Nissan Motor Co Ltd | ガラス表面の撥水処理方法 |
| JP2500149B2 (ja) * | 1991-01-23 | 1996-05-29 | 松下電器産業株式会社 | 撥水撥油性被膜及びその製造方法 |
| JP2500150B2 (ja) * | 1991-02-06 | 1996-05-29 | 松下電器産業株式会社 | 撥水撥油コ―ティング膜及びその製造方法 |
| US5418039A (en) * | 1991-04-01 | 1995-05-23 | Ppg Industries, Inc. | Reflective patterned glass product and coating method |
| JP3358131B2 (ja) * | 1992-10-05 | 2002-12-16 | 松下電器産業株式会社 | 撥水撥油性フィルムとその製造方法 |
| DE4338969C2 (de) * | 1993-06-18 | 1996-09-19 | Schott Glaswerke | Verfahren zur Herstellung anorganischer diffraktiver Elemente und Verwendung derselben |
| JPH0781979A (ja) * | 1993-09-17 | 1995-03-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防汚性ガラス物品 |
| JP3413286B2 (ja) * | 1994-08-01 | 2003-06-03 | セントラル硝子株式会社 | 撥水性ガラスおよびその製造方法 |
| US5575878A (en) * | 1994-11-30 | 1996-11-19 | Honeywell Inc. | Method for making surface relief profilers |
| JPH09228073A (ja) * | 1995-06-14 | 1997-09-02 | Toto Ltd | 撥水性部材及びこの撥水性部材を用いた着氷雪防止方法 |
| DE69632863T2 (de) * | 1995-08-01 | 2004-11-18 | Boris Iliich Belousov | Banddatenträger, verfahren und vorrichtung zum herstellen desselben |
| JPH09100141A (ja) * | 1995-08-03 | 1997-04-15 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 撥水性ガラスの製造方法 |
| JPH1046527A (ja) * | 1996-05-31 | 1998-02-17 | Toto Ltd | 防汚性道路用化粧板 |
| JP3760528B2 (ja) * | 1996-11-07 | 2006-03-29 | ソニー株式会社 | 表示素子用フィルター |
| FR2756276B1 (fr) * | 1996-11-26 | 1998-12-24 | Saint Gobain Vitrage | Substrat a proprietes hydrophiles ou hydrophobes ameliorees, comportant des irregularites |
| JPH11100234A (ja) * | 1996-12-09 | 1999-04-13 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 防曇物品及びその製造方法 |
| WO1999012740A1 (en) * | 1997-09-10 | 1999-03-18 | Seiko Epson Corporation | Porous structure, ink jet recording head, methods of their production, and ink jet recorder |
| EP0952122A1 (en) * | 1998-03-20 | 1999-10-27 | Glaverbel | Glass |
| FR2787350B1 (fr) * | 1998-12-21 | 2002-01-04 | Saint Gobain Vitrage | Vitrage a revetement mesoporeux fonctionnel, notamment hydrophobe |
-
1999
- 1999-04-22 FR FR9905082A patent/FR2792628B1/fr not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-04-20 WO PCT/FR2000/001051 patent/WO2000064829A1/fr not_active Ceased
- 2000-04-20 JP JP2000613784A patent/JP2002543027A/ja active Pending
- 2000-04-20 AT AT00922704T patent/ATE316945T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-04-20 DE DE60025815T patent/DE60025815T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-20 EP EP00922704A patent/EP1173391B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 2000-04-20 KR KR1020017013523A patent/KR100754338B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 2000-04-20 ES ES00922704T patent/ES2258004T3/es not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1173391A1 (fr) | 2002-01-23 |
| KR20020005714A (ko) | 2002-01-17 |
| KR100754338B1 (ko) | 2007-08-31 |
| DE60025815D1 (de) | 2006-04-13 |
| EP1173391B1 (fr) | 2006-02-01 |
| DE60025815T2 (de) | 2006-11-02 |
| FR2792628A1 (fr) | 2000-10-27 |
| ATE316945T1 (de) | 2006-02-15 |
| WO2000064829A1 (fr) | 2000-11-02 |
| FR2792628B1 (fr) | 2001-06-15 |
| JP2002543027A (ja) | 2002-12-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2258004T3 (es) | Sustrato texturado susceptible de constituir un acristalamiento, procedimiento para su obtencion. | |
| ES2339309T3 (es) | Acristalamiento con revestimiento mesoporoso funcional, particularmente hidrofobo. | |
| US7851045B2 (en) | Transparent textured substrate and methods for obtaining same | |
| JP5575781B2 (ja) | 局所に限定され、構造化され、電気的に加熱可能である透明領域を有している透明物体、その製造方法および使用 | |
| JP5689600B2 (ja) | 多孔性層、その製造方法およびその用途 | |
| JP2943768B2 (ja) | 親水性の光触媒性表面を備えた複合材 | |
| JP7440499B2 (ja) | 液晶による可変の拡散を有する電気的に制御可能な装置及びその方法 | |
| CN1199128A (zh) | 层压体及用其制成的窗户 | |
| CN1155468C (zh) | 亲水性构件 | |
| CN205368144U (zh) | 防眩增透玻璃 | |
| JP3003581B2 (ja) | 光半導体の光励起に応じて親水性を呈する部材 | |
| JP3315004B2 (ja) | 表面処理された基材およびその製造方法 | |
| CN102471141A (zh) | 用于生产经涂覆和降低反射的板的方法 | |
| JPH11323194A (ja) | 親水性の光触媒性表面を備えた複合材の製造方法、光触媒性親水性複合材および光触媒性親水性コーティング組成物 | |
| CN201017049Y (zh) | 一种自洁抗光反射结构物 |