ES2300502T3 - Plancha de vapor. - Google Patents

Abstract

Plancha de vapor con una suela (12) dotada de aberturas de salida de vapor (13) que están en unión para vapor con una cámara de vapor (10), un dispositivo de calentamiento (9) que calienta la suela (12) y la cámara de vapor (10) para generar vapor, un depósito de líquido (4), una válvula de goteo (14) para suministrar a la cámara de vapor (10) líquido (21) del depósito de líquido (4), y un dispositivo de compensación de presión (16, 22) cuya primera abertura (16a, 22a) está dispuesta en la cámara de vapor (10) y cuya segunda abertura (16b, 22b) está dispuesta en una zona exenta de líquido del depósito de líquido (4), estando construido el depósito de líquido (4) en forma hermética al gas al menos en la zona de la segunda abertura (16b, 22b) de tal manera que se pueda establecer una presión de gas, caracterizada porque una pared del depósito de líquido (4) o de una zona de carga de líquido (17) está provista de una primera válvula de gas (18) de una sola vía a través de la cual se puede introducir aire ambiente en el depósito de líquido (4), y porque la pared del depósito de líquido (4) o de la zona de carga de líquido (17) y la válvula de gas (18) de una sola vía están construidas de tal manera que se pueda generar una depresión localmente en el depósito de líquido, en la zona de la válvula de gas (18) de una sola vía, por medio de líquido del depósito de líquido (4) que se puede mover durante el planchado de una manera comparable a un pistón de una bomba de pistón, con lo que se puede introducir aire ambiente en el depósito de líquido a través de la válvula de gas (18) de una sola vía.

Description

Plancha de vapor.

La presente invención concierne a una plancha de vapor con las características del preámbulo de la reivindicación 1.

En una plancha de vapor con válvula de goteo se introduce gota a gota agua del tanque de agua o del depósito de líquido en una cámara de vapor calentada. El vapor generado en la cámara de vapor sale de la suela por aberturas de salida de vapor y ataca al material que se quiere planchar. La presión del vapor en la cámara de vapor corresponde aquí en general tan sólo a la presión atmosférica o bien está incrementada en el valor que representa la altura de la columna de agua en el depósito de agua y la presión atmosférica ejercida sobre ella.

Usualmente, las aberturas de salida de vapor están rodeadas por la superficie de la suela, de modo que, en el caso de un material a planchar especialmente tupido, como tela de pantalones vaqueros, y/o una tabla de planchado poco permeable al vapor, por ejemplo hecha de madera, la presión del vapor generable por la plancha de vapor con válvula de goteo no basta para descargar una cantidad suficiente de vapor por las aberturas de salida de vapor. En este caso, a causa del material a planchar tan sólo difícilmente permeable al vapor, se establece una presión de vapor incrementada en la cámara de vapor, la cual está comunicada con las aberturas de salida de vapor mediante una unión de compensación de la presión. Por tanto, se aplica, por un lado, a la válvula de goteo la presión de vapor incrementada de la cámara de vapor, la cual, teniendo en cuenta la altura de la columna de agua en el tanque de agua, se opone a la presión atmosférica reinante en el otro lado de la válvula de goteo. Por consiguiente, la cantidad de vapor aplicada sobre el material a planchar disminuye claramente en mayor medida.

Para afrontar este problema, es conocido desde hace bastante tiempo el recurso de unir la cámara de vapor por medio de un tubo de compensación de presión con la zona exenta del líquido del tanque de agua (el tanque de agua no se llena completamente). Con esta solución, una presión de vapor de la cámara de vapor incrementada alguna vez, por ejemplo, debido a la naturaleza del material a planchar no se opone ya a la presión atmosférica reinante en el otro lado de la válvula de goteo.

En la práctica, la soluciones de detalle utilizadas hasta ahora para una plancha de vapor con dispositivo de compensación de presión han conducido ciertamente a un resultado mejorado, pero que aún no es suficientemente satisfactorio. En las planchas de vapor según los documentos DE 33 28 453, US 2,387,281, US 2,892,272 o GB 1,234,856, que están construidas en la forma citada al principio, se presentan problemas cuando el agua del tanque de la plancha de vapor se mueve en vaivén debido al movimiento de planchado normal. Se tiene así que, por ejemplo, el vapor conducido de la cámara de vapor al tanque de agua se condensa en la pared del tanque debido a las ondas del agua. Puesto que entre el vapor de agua y el agua existe una relación en volumen de aproximadamente 1000 a 1, se produce, debido a la condensación, una caída de presión o una depresión no deseada en el tanque de agua. Las fluctuaciones de presión en el tanque de agua generadas por el movimiento ondulatorio del agua repercuten también desventajosamente sobre el equilibrio de presión entre la cámara de vapor y el tanque de agua y sobre la presión aplicada a la válvula de goteo.

Se conoce por el documento US 4,920,668 A una plancha de vapor que presenta un tubo de compensación de presión cuya primera abertura desemboca en la suela de la plancha y cuya segunda abertura está dispuesta en una zona exenta de líquido del depósito de líquido. El tubo de compensación de presión no presenta ninguna abertura hacia la cámara de vapor, de modo que no es posible una compensación de presión entre la cámara de vapor y el depósito de líquido. El depósito de líquido presenta también un tabique 5 que, según el principio del abrevadero de pájaros, subdivide el depósito de líquido en dos zonas de líquido. Asimismo, en una pared del depósito de líquido está previsto un generador de presión conectable que, según el ajuste del dispositivo de regulación de presión, transporta aire ambiente hacia el depósito de líquido.

Se conoce por el documento US 4,571,862 A una plancha de vapor cuya primera abertura desemboca también en la suela de la plancha y cuya segunda abertura desemboca en una zona separada por fuera del depósito de líquido. La plancha de vapor conocida no presenta ninguna válvula de goteo, ya que el líquido del depósito de líquido se calienta inmediatamente según el principio de la caldera para generar vapor.

Por tanto, un cometido de la presente invención consiste en proporcionar una plancha de vapor con dispositivo de compensación de presión de la clase antes citada, que elimine los inconvenientes del estado de la técnica y entregue una cantidad de vapor suficiente, especialmente también al moverse la plancha de vapor, y que, en comparación con soluciones técnicas conocidas, no requiera entonces modificaciones que hagan más costosa su fabricación.

Este problema se resuelve mediante una plancha de vapor con las características de la reivindicación 1.

Según la invención, se ha previsto una plancha de vapor del tipo con válvula de goteo en la que está montado un dispositivo de compensación de presión, tal como, por ejemplo, un tubo de unión, entre un depósito de líquido y una cámara de vapor. El depósito de líquido y la zona de carga de líquido están ambos construidos no sólo estancos al líquido, sino también herméticos al gas, de tal manera que se pueda establecer una presión de gas en el depósito de líquido. Esto se aplica al menos en una posición contigua a una segunda abertura del dispositivo de compensación de presión. En la zona de la pared del depósito de líquido o de la zona de carga de líquido está prevista una primera válvula de gas de una sola vía a través de la cual puede entrar aire ambiente en el depósito de líquido. En una ejecución ventajosa la primera válvula de gas de una sola vía se abre automáticamente a partir de un determinado valor de presión umbral. Como valor de presión umbral están previstas preferiblemente presiones negativas en el depósito de líquido o 0 milibares como umbral. Por consiguiente, mediante la primera válvula de gas de una sola vía se puede introducir, bajo depresión, aire ambiente en el depósito de líquido. De manera ventajosa, se puede hacer así aprovechable -tal como se ha descrito anteriormente- el movimiento ondulatorio en sí perturbador del agua en el depósito de líquido. El agua que, debido al movimiento de la plancha, se mueve casi siempre violentamente en vaivén en el depósito de líquido despliega casi la acción de una bomba de pistón o una "termobomba" con el agua actuando como pistón movido. Al producirse un movimiento del agua en el depósito de líquido es habitual que una zona extrema de dicho depósito de líquido esté netamente más cargada con agua que una zona opuesta. Por tanto, se produce una depresión en esta zona del depósito de líquido que más bien es más pobre en agua. Una primera válvula de gas de una sola vía, que está dispuesta en una pared del depósito de líquido situada en esta zona con depresión, permite así la entrada de aire ambiente, con lo que, como resultado, el movimiento en vaivén del agua en el depósito de líquido a través de la primera válvula de gas de una sola vía conduce a un abastecimiento adicional continuo con aire ambiente.

En otra ejecución ventajosa de la plancha de vapor se ha previsto en una pared del depósito de líquido o de la zona de carga de líquido una segunda válvula de gas de una sola vía que, al contrario que la primera válvula de gas de una sola vía, admite la salida de gas desde el depósito de líquido. Esta segunda válvula de gas de una sola vía está construida de tal manera que se abra automáticamente a partir de un valor de presión umbral positivo, con lo que, a una sobrepresión determinada en el depósito de líquido, puede descargarse gas de dicho depósito de líquido a través de la segunda válvula de gas de una sola vía. Este valor de presión umbral de la segunda válvula de gas de una sola vía está ajustado a una sobrepresión de, por ejemplo, > 50 o > 100 milibares, que no se presenta durante el uso habitual de la plancha de vapor. La segunda válvula tiene una función de seguridad para evitar presiones más extremas en el depósito de gas o en la cámara de vapor en caso de que se cierren las aberturas de salida de vapor.

En un perfeccionamiento ventajoso la segunda válvula de gas de una sola vía está formada en el cierre de la zona de carga de líquido. El cierre puede encastrarse en la carcasa o en la pared del depósito de líquido, por ejemplo por medio de una unión de abrochado automático. La fuerza que es necesaria para soltar esta unión de abrochado automático se fija de tal manera que corresponda al valor de presión umbral positivo conforme a la segunda válvula de gas de una sola vía.

En otra ejecución ventajosa de la invención no es necesaria para el dispositivo de compensación de presión una segunda unión a aislar o a sellar entre el depósito de líquido y la cámara de vapor cuando la válvula de goteo esté provista de un tubo interior cuya cavidad sirva de dispositivo de compensación de presión.

Otros objetivos, ventajas, características y posibilidades de aplicación de la presente invención se desprenden de la descripción siguiente de dos ejemplos de realización con ayuda de los dibujos. Todas las características descritas y/o representadas gráficamente forman aquí por sí solas o en cualquier combinación pertinente el objeto de la presente invención, incluso independientemente de su recopilación en las reivindicaciones o de la relación de subordinación de éstas.

Muestran:

La figura 1, una representación en sección esquemática a través de una plancha de vapor dotada de un dispositivo de compensación de presión, con agua movida hacia atrás en el depósito de líquido, según la invención,

La figura 2, otra representación en sección esquemática de una plancha de vapor según la figura 1 con agua movida hacia delante en el depósito de líquido,

La figura 3, una representación en sección esquemática de una plancha de vapor con dispositivo de compensación de presión integrada en la válvula de goteo, según la invención,

La figura 4, una medición de presión en el depósito de líquido para una plancha de vapor en estado no movido y sin una primera válvula de gas de una sola vía,

La figura 5, una medición de presión en el depósito de líquido con plancha de vapor movida y sin una primera válvula de gas de una sola vía, y

La figura 6, una medición de presión en el depósito de líquido con plancha de vapor movida y con una primera válvula de gas de una sola vía según la invención.

La figura 1 muestra esquemáticamente una sección longitudinal a través de una plancha de vapor 1 con una carcasa 2 que comprende un asa 3, un depósito de líquido 4 y un faldón inferior 5. El depósito de líquido 4 presenta una extensión sustancialmente alargada con un tramo de menor altura 4a y un tramo de mayor altura 4b. Como es usual, el recipiente de líquido no ha de llenarse nunca completamente de agua, de modo que el tramo de menor altura está lleno de agua, sin mayores problemas, hasta la altura completa y en el tramo de mayor altura 4b está prevista una zona exenta de agua con aire remanente. En una zona delantera del depósito de líquido está formado un cierre 6 que ha de abrirse mediante desplazamiento o basculación, de modo que se pueda cargar agua en el depósito de líquido. Preferiblemente, el cierre presenta una unión de abrochado automático, de modo que éste puede cerrarse por abrochado automático en la pared adyacente al depósito de líquido o a la carcasa 2. En posición adyacente a la pared de la carcasa 2 están previstos unos medios de junta 7 en el cierre 6. La pared -que rodea al agua- del depósito de líquido y de la zona de carga de líquido 17, con cierre 6 y junta de sellado 7, está construida en forma no sólo estanca al líquido, sino también hermética al gas, de tal manera que se pueda establecer una presión de gas en el recipiente de líquido.

En la zona inferior de la plancha de vapor 1 está previsto un cuerpo 8 de fundición a presión. En el cuerpo 8 de fundición a presión está empotrado un dispositivo de calentamiento 9. El cuerpo de fundición a presión presenta una cavidad o un rebajo que sirve de cámara de vapor 10. La cámara de vapor 10 se cierra hacia arriba con el cuerpo adyacente 8 de fundición a presión por medio de una tapa 11 de dicha cámara de vapor. En una zona inferior del cuerpo de fundición a presión está formada una suela 12 con una superficie de planchado. La suela 12 puede estar fijada al cuerpo de fundición 8 como una pieza de chapa realizada en el modo de construcción de material compuesto o puede estar formada directamente por el lado inferior del cuerpo de fundición 8. En la suela 12 están previstas varias aberturas de salida de vapor 13 que están en unión para vapor con la cámara de vapor 10.

La plancha de vapor 1 presenta también una válvula de goteo 14 que puede estar formada, por ejemplo, como un fresado acanalado en una varilla longitudinal. A través del fresado acanalado lateral de la varilla pasa agua gota a gota desde el depósito de líquido 4 hasta la cámara de vapor 10. Las gotas de agua atacan al lado interior caliente de la cámara de vapor y se evaporan. En el otro extremo de la válvula de goteo 14 de forma de varilla un regulador de vapor 15 se extiende hacia fuera del lado exterior superior de la carcasa. El regulador de vapor 15 permite un ajuste de la cantidad de agua que puede introducirse en la cámara de vapor 10 o un ajuste de la cantidad de vapor que puede generarse.

Asimismo, está previsto un dispositivo de compensación de presión 16 que está configurado en forma de un tubo. La primera abertura 16a del dispositivo de compensación de presión 16 penetra en la cámara de vapor 10. La segunda abertura 16b o el otro extremo del tubo del dispositivo de compensación de presión 16 penetra en la zona más alta 4b del depósito de líquido 4. Por tanto, la segunda abertura 16b termina en una zona del depósito de líquido 4 que, tanto en posición horizontal como en posición vertical de la plancha de vapor, no es humedecida con el agua del depósito de líquido 4. A través del dispositivo de compensación de presión 16 se proporciona una compensación de presión entre la presión de la cámara de vapor y la presión en el depósito de líquido. Esto es especialmente importante cuando, por ejemplo por planchado de un material a planchar especialmente tupido, apenas pueda salir vapor desde las aberturas de salida de vapor.

En un tramo extremo del depósito de líquido, preferiblemente en dirección longitudinal y de preferencia en el cierre de la zona de carga de líquido 17, está dispuesta una válvula de gas 18 de una sola vía. La primera válvula de gas de una sola vía es una válvula de gas pura, es decir que es estanca al líquido. Está construida, por ejemplo, como una válvula de bola y se abre a partir de un valor de presión umbral determinado. Este valor de presión umbral es preferiblemente negativo o de 0 milibares, de modo que, en caso de una depresión en el depósito de líquido 4, llega aire ambiente a dicho depósito de líquido a través de la primera válvula de gas 18 de una sola vía, con lo que una depresión que eventualmente se establezca es compensado inmediatamente a través de la primera válvula de gas de una sola vía. En una variante otra primera válvula de gas 19 de una sola vía está dispuesta casi enfrente de la primera válvula de gas 18 de una sola vía en la otra zona extrema del depósito de líquido.

En la región de la zona de carga de líquido 17 está prevista también una segunda válvula de gas de una sola vía que se abre automáticamente a una sobrepresión determinada en el depósito de líquido, con lo que se puede eliminar inmediatamente la sobrepresión. La segunda válvula de gas 20 de una sola vía puede estar construida análogamente a la primera válvula de gas 18 de una sola vía, por ejemplo como una válvula de bola, pero cargada por muelle en este caso, sólo que esta válvula actúa en la dirección contraria en comparación con la primera válvula de gas de una sola vía. La fuerza de muelle que carga sobre la bola fija en este caso el valor de presión umbral a partir del cual se abre la segunda válvula de gas 20 de una sola vía. En una variante la segunda válvula de gas de una sola vía está íntegramente construida en el cierre 6 sin dispositivos valvulares convencionales, tal como una válvula de bola. Por consiguiente, el cierre 6 presenta una unión de abrochado automático con la carcasa 2, cuya unión se abre a partir de una determinada fuerza aplicada desde dentro por el depósito de líquido. Por tanto, esta apertura del cierre 6 corresponde a una apertura de una segunda válvula de gas 20 de una sola vía.

La figura 1 muestra la plancha de vapor en un estado en el que ésta se mueve justamente hacia delante en dirección longitudinal hacia la punta. El agua 21 contenida en el depósito de líquido 4 se acumula predominantemente en una zona trasera de dicho depósito de líquido. La zona delantera del depósito de líquido es en este caso más bien pobre en líquido, generándose una depresión por efecto del movimiento del agua en la zona delantera. Sin embargo, esta depresión es eliminada inmediatamente por la primera válvula de gas 18 de una sola vía, de modo que dicha presión no se transmite a través del dispositivo de compensación de presión 16 desde el depósito de líquido 4 hasta la cámara de vapor 10. Sin la primera válvula de gas de una sola vía se aspira vapor de la cámara de vapor hacia el depósito de líquido al producirse una depresión en dicho depósito de líquido, con lo que sale una proporción menor de vapor por las aberturas de salida de vapor.

La figura 2 muestra la misma plancha de vapor que en la figura 1, con la diferencia de que la plancha de vapor se mueve justamente en la dirección hacia atrás, con lo que el agua 21 contenida en el depósito de líquido 4 se acumula en grado multiplicado en la zona delantera de dicho depósito de líquido 4. Por tanto, el agua y más bien una sobrepresión se aplican a la primera válvula de gas 18 de una sola vía, de modo que ésta permanece cerrada. La otra primera válvula de gas 19 de una sola vía prevista en una variante trabaja análogamente a la primera válvula de gas 18 de una sola vía y libera la abertura en el caso de movimiento de la figura 2 para compensar la depresión adyacente a la primera válvula de gas 19 de una sola vía. La primera válvula de gas 19 de una sola vía está dispuesta, en la figura 1 y en la figura 2, en una zona más trasera de la pared del depósito de líquido 4. Sin embargo, puede estar dispuesta también cerca del asa y a la misma altura de la primera válvula de gas 18 de una sola vía situada en la pared del depósito de líquido. Por tanto, el agua que se mueve en vaivén en el depósito de líquido 4 tiene un efecto semejante al de una bomba de pistón y aspira aire ambiente hacia dentro del depósito de líquido 4 a través de la primera válvula de gas 18 (o eventualmente también 19) de una sola vía. Para que la primera válvula de gas 18, 19 de una sola vía despliegue óptimamente su acción con relación a la presión reinante en la cámara de vapor 10, es ventajoso que esté dispuesta cerca de la segunda abertura 16b, 22b. Además, es importante para la disposición de la primera o primeras válvulas de gas de una sola vía que se pueda producir una depresión apreciable en el sitio en cuestión por efecto del movimiento del agua en el depósito de líquido 4.

La figura 3 muestra una plancha de vapor 1 que está construida análogamente a la plancha de vapor según la figura 1 y la figura 2, pero con la diferencia de que la válvula de goteo de forma de varilla presenta una cavidad que sirve de dispositivo de compensación de presión 22. La primera abertura 22a del dispositivo de compensación de presión 22 termina inalterada en la cámara de vapor 10 y la segunda abertura 22b del dispositivo de compensación de presión 22 termina inalterada en las proximidades del botón de regulación de presión 15 dispuesto en una abertura lateral de la varilla 14 de la válvula de goteo dentro del depósito de líquido 4. La válvula de goteo 14 está fresada lateralmente en forma inalterada como un canal lateral en la pared de la varilla o del tubo, de modo que se puede ajustar a través de este canal la cantidad de alimentación de agua para la cámara de vapor. Debido a esta construcción está prevista solamente una única lumbrera o una única abertura en el fondo del depósito de líquido y en la tapa 11 de la cámara de vapor, de modo que es necesaria también solamente una junta de sellado 23 alrededor de esta abertura única.

La figura 4 muestra una curva de medida de presión en la que se ha registrado el tiempo en el eje horizontal y una presión en milibares en el eje vertical. La curva de medida representada muestra la presión en el depósito de líquido de una plancha de vapor con dispositivo de compensación de presión, pero sin una primera válvula de gas de una sola vía. Por consiguiente, en el depósito de líquido no se produce ningún movimiento ondulatorio ni ningún chapoteo en vaivén del agua, con lo que no se presentan gravosas fluctuaciones de presión.

La figura 5 muestra una curva de medida según la figura 4, pero en la que la plancha de vapor según la figura 4 se mueve en vaivén. El movimiento ondulatorio del agua conduce a presiones negativas que, debido a la unión con la cámara de vapor, tienen repercusiones sobre la salida de vapor por las aberturas de salida de vapor 13.

La figura 6 muestra una curva de medida de presión en la que se representan nuevamente la presión en milibares sobre el eje vertical y el tiempo transcurrido sobre el eje horizontal. Se mide nuevamente la presión en el depósito de líquido bajo un movimiento simultáneo de la plancha de vapor y del contenido de su depósito de líquido. Sin embargo, en este caso se ha empleado una plancha de vapor 1 según las figuras 1 a 3, estando prevista una primera válvula de gas 18 de una sola vía en la plancha de vapor 1. Por tanto, se puede establecer en conjunto una presión algo más alta en el depósito de líquido, con lo que se presentan presiones negativas más raramente y en menor grado. Por consiguiente, a pesar del movimiento de la plancha de vapor, es posible una capacidad de entrega de vapor de las aberturas de salida de vapor 13 que se mantiene en un alto valor ampliamente constante. Se puede conseguir una cantidad de vapor constantemente elevada con independencia de la naturaleza del material a planchar y con independencia del estado de movimiento de la plancha de vapor.

La plancha de vapor se hace funcionar con el procedimiento siguiente: Se introduce líquido gota a gota en una cámara de vapor a través de un depósito de líquido, con lo que se genera vapor en la cámara de presión. El vapor sale de una suela de la plancha de vapor a través de aberturas de salida de vapor que están unidas con la cámara de vapor. Bajo el movimiento de vaivén normal de la plancha, se introduce aire ambiente en el depósito de líquido a través de una válvula de gas de una sola vía y mediante una configuración del depósito de líquido que por lo demás es hermética al gas, ya que por efecto del movimiento de vaivén de la plancha se mueve también en vaivén el agua contenida en el depósito de líquido, con lo que ésta genera, al igual que un pistón de una bomba de pistón o una termobomba, una depresión local en la zona más pobre en agua del depósito de líquido. Por tanto, una válvula de gas de una sola vía dispuesta en esta zona momentánea más pobre en agua admite aire ambiente hacia dentro del depósito de líquido. Se ha hecho así utilizable el movimiento ondulatorio en sí perturbador del agua en el depósito de líquido de una plancha de vapor que, además, presenta un dispositivo de compensación de presión entre la cámara de vapor y el depósito de líquido, puesto que las fluctuaciones de la presión en el depósito de líquido son compensadas por el movimiento en vaivén del agua, con lo que se puede establecer una presión en conjunto más alta a través del dispositivo de compensación de presión.

Claims (6)

1. Plancha de vapor con una suela (12) dotada de aberturas de salida de vapor (13) que están en unión para vapor con una cámara de vapor (10), un dispositivo de calentamiento (9) que calienta la suela (12) y la cámara de vapor (10) para generar vapor, un depósito de líquido (4), una válvula de goteo (14) para suministrar a la cámara de vapor (10) líquido (21) del depósito de líquido (4), y un dispositivo de compensación de presión (16, 22) cuya primera abertura (16a, 22a) está dispuesta en la cámara de vapor (10) y cuya segunda abertura (16b, 22b) está dispuesta en una zona exenta de líquido del depósito de líquido (4), estando construido el depósito de líquido (4) en forma hermética al gas al menos en la zona de la segunda abertura (16b, 22b) de tal manera que se pueda establecer una presión de gas, caracterizada porque una pared del depósito de líquido (4) o de una zona de carga de líquido (17) está provista de una primera válvula de gas (18) de una sola vía a través de la cual se puede introducir aire ambiente en el depósito de líquido (4), y porque la pared del depósito de líquido (4) o de la zona de carga de líquido (17) y la válvula de gas (18) de una sola vía están construidas de tal manera que se pueda generar una depresión localmente en el depósito de líquido, en la zona de la válvula de gas (18) de una sola vía, por medio de líquido del depósito de líquido (4) que se puede mover durante el planchado de una manera comparable a un pistón de una bomba de pistón, con lo que se puede introducir aire ambiente en el depósito de líquido a través de la válvula de gas (18) de una sola vía.

2. Plancha de vapor según la reivindicación 1, caracterizada porque la primera válvula de gas (18) de una sola vía está construida de tal manera que se abre automáticamente a partir de un valor de presión umbral negativo, de modo que, en caso de depresión en el depósito de líquido (4), se puede introducir aire ambiente en dicho depósito de líquido (4) a través de la primera válvula de gas (18) de una sola vía.

3. Plancha de vapor según la reivindicación 1 ó 2, caracterizada porque una pared del depósito de líquido (4) o de la zona de carga de líquido (17) está provista de una segunda válvula de gas (20) de una sola vía a través de la cual se puede descargar un gas del depósito de líquido (4).

4. Plancha de vapor según la reivindicación 3, caracterizada porque la segunda válvula de gas (20) de una sola vía está construida de tal manera que se abre automáticamente a partir de un valor de presión umbral positivo, de modo que, a una sobrepresión determinada en el depósito de líquido (4), se puede descargar gas de dicho depósito de líquido (4) a través de la segunda válvula de gas (20) de una sola vía.

5. Plancha de vapor según la reivindicación 3 ó 4, caracterizada porque la segunda válvula de gas (20) de una sola vía está construida como un cierre (6) para cerrar adicionalmente la zona de carga de líquido (17).

6. Plancha de vapor según la reivindicación 1 ó 2, caracterizada porque la válvula de goteo (14) está provista de un tubo cuya cavidad está concebida como dispositivo de compensación de presión (22).