ES2608411T3 - Método para hacer una imagen en relieve - Google Patents

Abstract

Un método de hacer una imagen en relieve, comprendiendo el método: A) formar una imagen máscara formando regiones expuestas y no expuestas en una película filmada, la cual película antes de filmar, comprende: una lámina soporte transparente que tiene sobre ella al menos una capa formadora de imagen termosensible que no es de halogenuro de plata y un colorante dispuesto en dicha capa formadora de imagen o en una capa diferente entre dicha lámina soporte y dicha capa formadora de imagen, un compuesto absorbente de radiación infrarroja dispersado en un aglutinante polimérico, y dicha película comprende, además, una capa transparente dispuesta entre dicha lámina soporte y la capa que contiene dicho colorante, la cual capa transparente tiene un índice de refracción inferior que el índice de refracción de dicha lámina soporte o el índice de refracción de cualquier capa opcional inmediatamente adyacente entre dicha lámina soporte y la dicha capa transparente, B) transferir la dicha imagen máscara de dicha película filmada a un elemento sensible a las radiaciones mientras que hay contacto óptico completo entre dicha imagen máscara y dicho elemento sensible a las radiaciones, C) exponer dicho elemento sensible a las radiaciones a una radiación de curado a través de dicha imagen máscara para formar un elemento grabado, en donde la imagen máscara es opaca para dicha radiación de curado, y D) revelar dicho elemento grabado para formar una imagen en relieve.

Description

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DESCRIPCION

Metodo para hacer una imagen en relieve Campo de la invencion

Esta invencion se relaciona con un metodo de hacer una imagen en relieve el cual comprende que se forma una imagen mascara que luego puede ser usada para formar un elemento grabado que soporta una imagen en relieve. En particular, esta invencion se relaciona con preparar planchas de impresion flexografica.

Antecedentes de la invencion

Elementos sensibles a las radiaciones que tienen una capa mascara ablativa por laser sobre la superficie son conocidos en la tecnica. Una imagen en relieve puede ser producida en tales elementos sin el uso de una imagen en negativo digital u otro elemento grabado o dispositivo de generacion de imagenes. Pueden formarse pelfculas con una capa mascara ablativa por laser exponiendo primero en modo imagen la pelfcula con radiacion laser (generalmente una radiacion laser infrarroja bajo control por computadora) para retirar de manera selectiva la capa mascara en las zonas expuestas. La pelfcula de mascara es puesta luego en contacto con un elemento sensible a las radiaciones y sometida a una exposicion total con radiacion actfnica (por ejemplo, radiacion UV) para curar el elemento sensible a las radiaciones en las zonas no enmascaradas y, de este modo, formar una imagen en negativo de la mascara en el elemento. La pelfcula que contiene la capa mascara y el elemento sensible a las radiaciones grabado (tal como un precursor de una plancha de impresion grabado) son sometidos entonces a solvente revelador. Las zonas de la plancha de impresion no expuestas y la capa mascara son completamente revelados y, despues de secar, el elemento grabado resultante es util, por ejemplo como una plancha impresion flexografica.

Aunque planchas de impresion flexografica que tienen una capa mascara ablativa por laser integral permiten la exposicion en modo imagen directa usando un laser y no requieren un dispositivo de generacion de imagenes separado, el tiempo para grabar es generalmente demasiado largo ya que la sensibilidad del sistema para la radiacion de grabado es baja. Se han hecho diferentes intentos en la industria para superar este problema incrementando la sensibilidad infrarroja de la capa mascara. No obstante, obtener una sensibilidad mas elevada ha sido un reto debido a los criterios de calidad ampliamente variables que deben ser satisfechos simultaneamente. Ademas, esta aproximacion requiere el uso de aparatos de generacion de imagenes equipados con laser de alta potencia que esten especialmente configurados para grabar artfculos flexograficos. Debido a la necesidad de variar el grosor de las planchas flexograficas dependiendo de los usos especfficos pretendidos, pueden requerirse mas de un aparato de generacion de imagenes para la aproximacion de mascara integral.

Un avance importante en la tecnica de hacer y usar pelfculas de mascara esta descrito en la publicacion de solicitud de patente de EE.UU. 2005/0227182 (Ali y otros, citada en adelante en este documento como US'182). El metodo descrito proporciona una imagen mascara en un tiempo significativamente menor debido a una mayor sensibilidad de filmacion.

Problema a ser resuelto

Aunque el metodo de formacion de una imagen en relieve, segun se describe en el documento US'182 proporciona una imagen mascara en significativamente menos tiempo, se ha observado que cuando se hace la exposicion UV a traves de la lamina soporte de la pelfcula mascara, el angulo de hombro que resulta es menor que el deseable. Esto da como resultado un nivel mas elevado de efecto de halo de la imagen impresa. El nivel mas elevado de efecto de halo es particularmente notorio a presion de impresion mas elevada durante la impresion.

Para imprimir, la calidad superficial y las propiedades de una plancha de impresion flexografica son atributos importantes. En la practica, a menudo es necesario un tiempo de exposicion prolongado con el fin de mantener o curar completamente las propiedades mas pequenas tales como los puntos de destacado, por ejemplo, puntos de 1% a 5% (en donde el porcentaje se refiere a la cantidad de papel cubierta con tinta de impresion) de imagenes impresas de alta calidad. No obstante, la sobreexposicion rellena las lfneas inversas o zonas de sombra. Asf, la sobreexposicion da como resultado una degradacion de la calidad de la imagen.

El termino “latitud de exposicion” describe el grado hasta el cual puede ser sobreexpuesto un elemento fotosensible con unicamente una degradacion de la calidad de la imagen despreciable. La latitud de exposicion puede ser definida, ademas, como la capacidad para formar imagen simultaneamente propiedades de rendimiento de baja luz, por ejemplo, puntos 1-2%, y propiedades de rendimiento de luz elevada, por ejemplo, lfneas inversas de 0,01 cm (4- mil), sobre una plancha flexografica. Las planchas de impresion flexograficas fotosensibles con mayor latitud de exposicion son deseables puesto que son mas tolerantes al tiempo de exposicion real usado durante la exposicion en modo imagen frontal y son, asf, mas faciles de usar

El efecto de halo en la impresion flexografica es bien conocido. El documento de patente de EE.UU.US 6,864,039 (Cheng Lap Kin y otros) describe el efecto de halo causado por la dispersion de la luz UV dentro de zonas no grabadas del medio fotopolimerizable. Como casi todos los compuestos fotorreticulables heterogeneos presentan algun grado de dispersion de la luz, la exposicion en modo imagen prolongada conduce a un alto nivel de radiacion

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actfnica dispersada en el fondo, lo cual es a menudo suficiente para causar el reticulacion o curado del polfmero en regiones no expuestas a la radiacion en modo imagen. El efecto global de tal reticulacion no deseado es el relleno del negativo fino esto es, “halos” alrededor de las zonas de imagen solida. Los halos conducen a una degradacion en la calidad de impresion de las placas de impresion flexografica y estan ligados a la ganancia de punto, esto es, la formacion de un tamano de punto de imagen mayor que el pretendido. Esta patente divulga el uso de compuestos fotoblanqueables en la composicion del polfmero para incrementar la resistencia a la luz dispersada.

El documento de patente de EE.UU. US 5,496,685 (Faber y otros) tambien describe el efecto de halo causado por dispersion excesiva o reflexion irregular de luz desde el soporte del elemento de impresion, que da como resultado un relieve somero. Tambien ensena el uso de un absorbente de radiacion actfnica para mejorar la latitud de exposicion.

El documento de patente europea EP 0 504 824A (Swatton y otros) describe el uso de agentes anti-efecto de halo en el soporte del polfmero. Los agentes anti-efecto de halo son absorbentes de radiacion actfnica.

Otra causa de efecto de halo es la presencia de una radiacion con bajo angulo de incidencia durante la exposicion que puede entrar en el fotopolfmero por debajo de la mascara en los bordes de las zonas expuestas, reduciendo los angulos de hombro. Cuando el angulo de hombro medio decrece por debajo de 50°, la perdida en la nitidez del relieve se hace crecientemente notoria y cuando el angulo de hombro medio decrece por debajo de 40°, hay una considerable perdida en la estabilidad y nitidez de impresion . Una fuente de luz colimada puede reducir el efecto de halo reduciendo el nivel de luz incidente con angulo mas bajo. No obstante, una fuente de luz colimada es mas cara de usar que la fuente de fuente de luz general o de luz puntual usada normalmente.

El anadir una capa anti-efecto de halo de bajo fndice de refraccion a pelfculas de halogenuro de plata fotograficas para controlar la luz dispersada o incidente no deseada se describe en el documento de patente de EE.UU. US 2,481,770 (Nadeau). Pero el uso de tales capas en las pelfculas de mascara para proveer placas de impresion flexografica es desconocido.

Hay una necesidad de resolver el problema causado por la radiacion incidente de angulo mas bajo en la preparacion de imagenes en relieve en elementos formadores de imagen tales como precursores de planchas de impresion flexografica de forma que la imagen en relieve tenga angulos de hombro de al menos 50°. Tambien hay una necesidad de mejorar la latitud de exposicion de forma que puntos pequenos puedan ser retenidos sobre un plano sin degradar las imagenes de sombra y lineas inversas.

Resumen de la invencion

Para abordar estos problemas, la presente invencion proporciona un metodo de hacer una imagen en relieve que comprende:

A) formar una imagen mascara formando regiones expuestas y no expuestas en una pelfcula filmada, la cual pelfcula antes de filmar, comprende:

una lamina soporte transparente que tiene sobre ella al menos una capa formadora de imagen termosensible que no es de halogenuro de plata y un colorante dispuesto en la capa formadora de imagen o en una capa diferente entre la lamina soporte y la capa formadora de imagen,

un compuesto absorbente de radiacion infrarroja dispersado en un aglutinante polimerico, y

una capa transparente dispuesta entre la lamina soporte y la capa que contiene dicho colorante, la cual capa transparente tiene un fndice de refraccion inferior que el fndice de refraccion de la lamina soporte o el fndice de refraccion de cualquier capa opcional inmediatamente adyacente entre la lamina soporte y la capa transparente,

B) transferir (por ejemplo por laminacion) la imagen mascara de la pelfcula filmada a un elemento sensible a las radiaciones mientras que hay contacto optico completo entre la imagen mascara y el elemento sensible a las radiaciones,

C) exponer el elemento sensible a las radiaciones a una radiacion de curado a traves de la lamina soporte y la imagen mascara para formar un elemento grabado, en donde la imagen mascara es opaca para la radiacion de curado, y

D) revelar el elemento grabado para formar una imagen en relieve.

En algunas realizaciones, un metodo de hacer una imagen en relieve usa una pelfcula de esta invencion que comprende sobre la lamina soporte, en orden:

a) la capa transparente que comprende un fluoroelastomero y que tiene un grosor de 0,2 a 10 pm, incluyendo opcionalmente la capa transparente un promotor de adherencia,

b) una capa intermedia que comprende un alcohol de polivinilo y que tiene un grosor de 0,2 a 10 pm, y que incluye

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opcionalmente un promotor de adherencia,

c) una capa barrera que comprende un policianoacrilato y un tinte absorbente de radiacion infrarroja,

d) la capa formadora de imagen que comprende un tinte absorbente de radiacion infrarroja y un colorante absorbente de UV dispersado en un aglutinante, y

e) una capa cubierta, que comprende partfculas de un copolfmero de acido metacrflico y partfculas de fluoropolfmero,

teniendo la capa transparente un fndice de refraccion al menos inferior en 0,04 al fndice de refraccion de la lamina soporte.

La presente invencion proporciona un metodo de usar una pelfcula formadora de mascara para proporcionar elementos sensibles a la radiacion grabados (tales como placas de impresion flexografica) con imagenes en relieve mejoradas que tienen predominantemente angulos de hombro de al menos 50° al tiempo que que mantienen las propiedades de punto pequeno deseadas en zonas de semitono y mantienen buena profundidad de lfnea inversa.

Cuando la pelfcula filmada (pelfcula de mascara) se usa para formar una imagen en relieve en un elemento sensible a las radiaciones, la pelfcula filmada es colocada en contacto optico completo o intimo con el elemento de tal manera que se elimine cualquier aire, espacio vado o hueco en la interfaz (asf, una interfaz “libre de aire”). Un hueco tal puede estar bajo vacfo de forma que esta fugando aire, pero tal hueco bajo vacfo tampoco se considerarfa una interfaz “libre de aire”.

La pelfcula tambien proporciona un recorrido modificado para la radiacion formadora de relieve incidente en la interfaz libre de aire durante la exposicion a traves de la mascara de forma que luz de radiacion incidente es curvada apropiadamente para entrar en el elemento sensible a las radiaciones en un angulo deseado para proporcionar unos angulos de hombro o pendientes mas pronunciados alrededor de los bordes de las zonas grabadas en la imagen en relieve resultante.

Se cree que la pelfcula restringe la entrada de radiacion de bajo angulo de incidencia en el material sensible a las radiaciones mediante el proceso de reflexion interna total en la interfaz entre la lamina soporte de elevado fndice de refraccion y la capa transparente de bajo fndice de refraccion. El angulo de incidencia (^critico) por encima del cual ocurre reflexion interna total es dependiente de la diferencia entre la lamina soporte de elevado fndice de refraccion y el fndice de refraccion de la capa transparente puede ser calculado mediante la ley de Snell y esta dado explfcitamente por la relacion ^critico = arcsen(RL/RH), donde Rl es el fndice de refraccion del medio de fndice bajo y Rh es el del medio de fndice elevado.

Estas mejoras se consiguen incorporando una capa transparente con un fndice refraccion inferior en la pelfcula entre su capa formadora de imagen y la lamina soporte. La capa transparente incorporada tiene un fndice de refraccion mas bajo que la lamina soporte o cualquier capa opcional inmediatamente adyacente que esta en contacto directo con la capa transparente sobre su lado de la lamina soporte.

Breve descripcion de los dibujos

La figura 1a es una vista esquematica representativa en seccion transversal de una zona de impresion elevada solida de una imagen en relieve que tiene un angulo de hombro “pronunciado”, por ejemplo esto es al menos 50°.

La figura 1b es una vista esquematica representativa en seccion transversal de una zona de impresion elevada solida de una imagen en relieve que tiene un angulo de hombro “somero”, por ejemplo esto es menos de 50°.

La figura 2 es una representacion grafica de la altura de relieve (pm) frente a la distancia desde el borde solido (pm) obtenida en los Ejemplos de Invencion 1 y 2 y en el Ejemplo Comparativo 1.

Las figuras 3a y 3b son vistas en seccion transversal de imagenes micrograficas reales de imagenes en relieve proporcionadas por el Ejemplo de la Invencion 1 y el Ejemplo Comparativo 1 descritos mas abajo.

La figura 4 es un diagrama esquematico que ilustra la definicion de “angulo de hombro (9) para esta invencion.

Descripcion detallada de la invencion

Definiciones

A menos que se indique otra cosa, la “pelfcula” descrita en este documento es una realizacion de la presente invencion. La pelfcula puede tambien ser conocida como un “elemento mascara”, “pelfcula mascara” o “elemento de mascara”. Tras la filmacion, la pelfcula puede ser conocida como una “mascara”, “pelfcula filmada” o “pelfcula de mascara filmada” y contiene una “imagen mascara”.

A menos que se indique de otra manera, los porcentajes son en peso.

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El termino “elemento sensible a las radiaciones” usado en este documento incluye cualquier elemento o material formador de imagen en el cual puede ser producida una imagen en relieve por exposicion a traves de la pelfcula de mascara filmada. Ejemplos de elementos sensibles a las radiaciones incluyen, pero no se limitan a, precursores de placa de impresion flexografica, placas de circuitos impresos y precursores de planchas de impresion litografica.

Por “ablativa”, se quiere decir que la capa formadora de imagen de la pelfcula puede ser filmada usando unos medios de ablacion termica tales como radiacion laser que causa cambios locales rapidos en la capa formadora de imagen causando con ello que el(los) material(es) de la capa formadora de imagen sean expelidos de la capa. Esto se puede distinguir de otras tecnicas de formacion de imagen o transferencia de material en que un cambio qufmico mas bien que un cambio ffsico (por ejemplo, fusion, evaporacion o sublimacion) es el mecanismo predominante de la formacion de imagen.

Por “contacto optico” se quiere decir que dos capas o dos elementos (como en el caso de la pelfcula de mascara filmada y un elemento sensible a las radiaciones) estan en contacto fntimo de forma que esencialmente no hay ningun hueco de aire o vado entre las superficies en contacto, proporcionando asf una “interfaz libre de aire”. Con mas precision, se define que dos superficies estan en contacto optico cuando las caracterfsticas de reflexion y transmision de su interfaz son esencialmente descritas totalmente por las leyes de Fresnel para la reflexion y transmision de la luz en el lfmite del fndice de refraccion.

“Angulo de hombro” es el angulo definido por la superficie de impresion plana y la pendiente del borde de la zona elevada, segun se ilustra por ejemplo en la figura 4. Un “angulo de hombro predominante de al menos 50°” significa que dentro de una zona dada de la imagen en relieve, el angulo de hombro medio de los bordes solidos es al menos 50° y, preferiblemente, al menos 55°. Por “angulo de hombro medio” se quiere decir el angulo medio de la pendiente de la pared de borde hasta una profundidad de 100 micrometros desde la superficie de impresion.

Pelfcula:

La pelfcula descrita en esta invencion se usa para formar una imagen mascara usada eventualmente para formar una imagen en relieve. Esta pelfcula comprende dos o mas capas, incluyendo una o mas capas formadoras de imagen y una capa transparente (de bajo fndice de refraccion) dispuesta sobre una lamina soporte transparente. La pelfcula puede incluir una o mas de otras capas, que incluyen una capa barrera, capa intermedia, capa adhesiva u otras capas usadas generalmente en la tecnica en pelfculas de mascara de acuerdo con el documento US'182 mencionado arriba. Diferentes construcciones de la pelfcula pueden usarse en uno o mas metodos de filmacion diferentes.

Lamina soporte:

La lamina soporte pude ser cualquier substrato transparente adecuado. Laminas soportes utiles incluyen, pero no se limitan a, laminas y pelfculas polimericas transparentes tales como poliesteres incluyendo tereftalato de polietileno, naftalato de polietileno y polfmeros de poliester fluorado, polietileno, polipropileno, polibutadienos, policarbonatos, poliacrilatos, cloruro de polivinilo y copolfmeros de los mismos, y acetato de celulosa hidrolizado y no hidrolizado. Generalmente, la lamina soporte tiene un grosor de 20 a 200 pm. Por ejemplo, una lamina de tereftalato de polietileno transparente vendida bajo el nombre de MELINEX por DuPont Teijin Films (Hopewell, VA) es adecuada para este proposito.

Si es necesario, la superficie de la lamina soporte puede ser tratada para modificar su capacidad de humectacion y adherencia a los revestimientos aplicados. Tales tratamientos superficiales incluyen, pero no se limitan a, tratamiento por descarga de corona y la aplicacion de capas de sustitucion.

Ademas, la lamina soporte puede contener uno o mas “promotores de adherencia” que mejoren la adherencia entre la lamina soporte y la siguiente capa adyacente, cualquiera que sea el tipo de capa o cualquiera que sea el proposito que esa capa pueda tener. Promotores de adherencia utiles incluyen, pero no se limitan a, gelatina, cloruro de polivinilideno, poli(acido de acrilonitril-covinilideno y cloruro co-acrflico) y polietillenimina.

Capa transparente:

La capa transparente esta compuesta generalmente de uno o mas materiales polimericos formadores de pelfcula que proporcionan colectivamente un fndice de refraccion que es inferior que el fndice de refraccion de la lamina soporte (o cualquier capa opcional inmediatamente adyacente entre la capa transparente y la lamina soporte). Esta diferencia en el fndice de refraccion puede ser tan baja como 0,04 y, mas tfpicamente, al menos 0,08. Un especialista en la tecnica puede determinar facilmente materiales formadores de pelfcula polimericos utiles puesto que hay cientos de materiales posibles disponibles comercialmente. Para ver si un material dado es util, su fndice de refraccion (si no es conocido ya de la bibliograffa tecnica o comercial), puede ser determinado mediante, por ejemplo, medir con precision la localizacion de los maximos de interferencia en el barrido espectral de una pelfcula uniforme delgada del material sobre el intervalo requerido de longitudes de onda. Este fndice de refraccion puede,entonces, ser comparado con el de la lamina soporte (o capa intermedia opcional) cuyo fndice de refraccion es conocido en la tecnica o pude ser determinado usando un procedimiento conocido tal como el recien descrito.

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Por “transparente”, se quiere decir que la capa transparente, esto es generalmente, tiene una densidad optica de transmision de menos de 0,3, y es asf no considerada opaca o incluso traslucida. La capa transparente tiene, deseablemente, un fndice de refraccion que es al menos 0,08 inferior al fndice de refraccion de la base de pelfcula de soporte.

Ciertas clases de materiales polimericos formadores de pelfcula que pueden ser usados incluyen uno o mas fluoroelastomeros tales como los descritos en el documento de patente de EE.UU. US 5,176,972 (Bloom y otros). Tales polfmeros incluyen polfmeros de acrilato fluorados que son derivados de monomeros de acrilato fluorados que tienen la formula siguiente:

CH2=CR-C(=O)-O-(CH2)n-Y-T

donde n es 1 o 2, R es hidrogeno o u grupo metilo, Y es un grupo perfluoroalquileno y T es un grupo fluor o -CF2H (por ejemplo, acrilato de 1H,1H-pentadecafluoroocilo, acrilato de 1H,1H,5H-octafluoropentanilo, acrilato de trifluoroetilo y acrilato de heptafluorobutilo). El monomero de acrilato monofuncional fluorado puede contener tambien heteroatomos tales como atomos de oxfgeno, azufre y nitrogeno, por ejemplo teniendo la formula siguiente:

CH2=CR-C(=O)-O-(CH2)2-NR'-SO2-Z

donde Z es H(CF2)m o F(CF2)m donde m es un entero de 3 a 12, R es hidrogeno o un grupo metilo y R' es un grupo alquilo.

Tales monomeros o polfmeros derivados de los mismos pueden obtenerse de varias fuentes comerciales que incluyen 3M Corporation (St. Paul, MN).

Otros fluoroelastomeros utiles incluyen fluoro olefinas tales como copolfmeros de fluoruro de vinilideno y hexafluoropropileno, terpolfmeros de fluoruro de vinilideno, hexafluoropropileno y tetrafluoroetileno, mezclas de dos o mas de tales polfmeros, o mezclas de tales copolfmeros o terpolfmeros con politetrafluoroetileno (PTFE) que puede ser suministrado como un latex. Algunos de estos fluoroelastomeros pueden obtenerse de 3M Corporation, o pueden ser preparados mediante copolimerizacion de monomeros conocidos usando condiciones conocidas segun se describe, por ejemplo, en el documento de patente de EE.UU. US 5,176,972 (mencionado arriba). Un copolfmero especffico de este tipo esta disponible de 3M Corporation como Fluorel FC-2175.

Como alternativa, la capa transparente puede estar compuesta de materiales polimericos formadores de pelfcula que no tienen por sf mismos el fndice de refraccion deseado, pero varios materiales no formadores de pelfcula tales como agentes de matificacion, rellenos, microcapsulas o una sal, pueden ser dispersados en los materiales formadores de pelfcula, que actuan como aglutinantes, para proporcionar el fndice de refraccion deseado. Ejemplos de tales aditivos dispersados se describen en el documento de patente de EE.UU. US 2,481,700 (Kuan-han Sun y otros) que incluyen, pero no se limitan a, NaBF4 y NH4BF4 dispersados en alcohol de polivinilo y MgSiF6 dispersado en un aglutinante adecuado.

La capa transparente tiene generalmente un grosor sustancialmente uniforme de la menos 0,25 pm y, tfpicamente, de 0,4 a 10 pm. Generalmente, se suministra como un revestimiento sustancialmente uniforme con poca variacion del grosor en toda su superficie.

La capa transparente puede contener tambien promotores de adherencia ademas de o como alternativa a la lamina soporte. Ejemplos de promotores de adherencia utiles son polietilenimina, cloruro de polivinilideno y copolfmeros similares y Fusabond (vendido por DuPont). Los promotores de adherencia son escogidos de tal forma que sean solubles en el solvente de revestimiento para el material de fndice de refraccion bajo.

Capa(s) formadora(s) de imagen:

La(s) capa(s) formadora(s) de imagen estan dispuestas generalmente sobre la capa transparente como revestimientos relativamente uniformes (esto es, que son sustancialmente continuos y que tienen un grosor bastante uniforme). En algunas realizaciones, la capa formadora de imagen y la capa transparente por debajo de ella son las unicas capas sobre la lamina soporte. En otras realizaciones, hay multiples capas que incluyen multiples capas formadoras de imagen o una capa formadora de imagen con una capa barrera, intermedia, u otra(s) capa(s) segun se describe mas abajo.

Los componentes de la(s) capa(s) capa formadora de imagen(s) se escogen para ser solubles o hinchables en reveladores de planchas de impresion flexografica que incluyen tanto solventes organicos clorados como solventes organicos no clorados descritos mas abajo que se usan para crear la imagen en relieve despues de la exposicion del elemento sensible a las radiaciones para una radiacion curable a traves de la pelfcula de mascara filmada.

La(s) capa(s) formadora(s) de imagen incluye(n) generalmente uno o mas “colorantes” o sustancias que pueden o no conferir color visible basandose en los solidos totales de la capa. El colorante, generalmente, es capaz de una fuerte absorbancia de la radiacion de curado o es capaz de otra manera de bloquear la radiacion de curado. Segun se usa en este documento, “colorante” indica un componente que impide sustancialmente la transmision de la

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radiacion de curado a traves de la imagen mascara.

El colorante puede ser uno o mas tintes o pigmentos, o mezclas de los mismos, que proporcionaran las propiedades de espectro deseadas. Puede ser un material particulado que es dispersado dentro del (los) aglutinante(s) polimerico(s) descritos abajo. Por ejemplo, pueden ser tintes o pigmentos negros tales como negro de humo, oxidos metalicos y otros materiales descritos, por ejemplo, en el documento US'182 (mencionado arriba). Es util que los pigmentos o tintes sean sustancialmente no absorbentes de IR de forma que el grabado del elemento sensible a las radiaciones no sea afectada de manera adversa. Por ejemplo, el colorante puede absorber radiacion UV o visible y, en muchas realizaciones, el colorante es un tinte absorbente de UV.

En una realizacion, el colorante es un tinte o pigmento negro que absorbe energfa en sustancialmente todas las longitudes de onda a traves del espectro visible, por ejemplo desde 350 hasta 750 nm. El tinte o pigmento negro puede ser una mezcla de tintes o pigmentos, o mezclas de ambos, tintes y pigmentos, que individualmente pueden o no ser negros pero cuando se mezclan juntos proporcionan un color negro neutro. Por ejemplo, puede usarse una mezcla de pigmentos NEPTUN Black, Blue Shade Magenta y Red Shade Yellow (disponibles de BASF en Alemania) que proporciona un color negro neutro. Tambien puede ser adecuado DISPERSAL CBJ (de Runnemade Dispersions KV del Reino Unido).

Un pigmento negro adecuado es negro de humo del cual hay numerosos tipos con diferentes tamanos de partfculas que estan disponibles comercialmente. Ejemplos incluyen RAVEN 450, 760 ULTRA, 890, 1020, 1250 y otros que estan disponibles de Columbia Chemicals Co. (Atlanta, GA) asf como BLACK PEARLS 170, BLACK PEARLS 480, VULCAN XC72, BLACK PEARLS 1100 y otros disponibles de Cabot Corp. (Waltham, MA).

El (los) colorante(s) pueden estar presentes en la capa formadora de imagen en una cantidad de 10 a 50% en peso y, tfpicamente, de 10 a 40% en peso.

Puede ser deseable combinar el uso de negro de humo con un tinte o pigmento negro absorbente de infrarrojos para reducir la interferencia con la radiacion y mejorar la calidad de la pelfcula de mascara filmada resultante. Tambien es adecuado como pigmento un material particulado no carbonoso tal como partfculas de metal o partfculas de oxido de metal.

La(s) capa(s) formadora(s) de imagen generalmente incluyen tambien uno o mas compuestos absorbentes de radiacion infrarroja. En algunas realizaciones, el colorante actua en esta funcion tambien pero en otras realizaciones, se incluye un compuesto separado para este proposito, esto es, para sensibilizar la(s) capa(s) formadora(s) de imagen a la radiacion IR de grabado. Asf, el compuesto absorbente de radiacion infrarroja es sensible a las radiaciones en el intervalo de 700 a 1.500 nm y, tfpicamente, de 700 a 1.200 nm. Ejemplos de compuestos absorbentes IR utiles incluyen, pero no se limitan a, tintes absorbentes de radiacion infrarroja (IR) de cianina, negros de humo y metales tales como aluminio. En una realizacion, se usa una mezcla de tintes IR, los cuales tintes IR pueden absorber en diferentes longitudes de onda, por ejemplo en 830 nm y 1.064 nm.

Ejemplos de tintes IR adecuados incluyen, pero no se limitan a, tintes azoicos, tintes de escuarilio, tintes de croconato, tintes de triarilamina, tintes de tiazol, tintes de indolio, tintes de oxonol, tintes de oxaxolio, tintes de cianina, tintes de merocianina, tintes de ftalocianina, tintes de indocianina, tintes de indotricarbocianina, tintes de oxatricarbocianina, tintes de tiocianina, tintes de tiatricarbocianina, tintes de merocianina, tintes de criptocianina, tintes de naftalocianina, tintes de polianilina, tintes de polipirrol, tintes de politiofeno, tintes de chalcogenopiriloarilideno y bi(chalcogenopirilo), tintes de polimetina, tintes de oxiindolizina, tintes de pirilio, tintes de azo pirazolina, tintes de oxacina, tintes de naftoquinona, tintes de antraquinona, tintes de quinoneimina, tintes de metina, tintes de arilmetina, tintes de escuarina, tintes de oxazol, tintes de croconina, tintes de porfirina y cualquier forma ionica o sustituida de las clases de tinte precedentes. Tintes adecuados tambien se describen en los documentos de patentes de EE.UU. 5,208,135 (Patel y otros), 6,569,603 (Furakawa) y 6,787,281 (Tao y otros) y en la publicacion de patente europea EP 1,182,033 (Fijimaki y otros). Una descripcion general de una clase de tintes de cianina adecuados se muestra por la formula del parrafo [0026] del documento de patente internacional WO 2004/101280.

Ademas, para tintes absorbentes de IR de bajo peso molecular, pueden usarse tambien fracciones de tinte IR ligados a polfmeros. Es mas, pueden usarse tambien cationes de tinte IR, esto es, el cation es la porcion absorbente de IR de la sal del tinte que interactua ionicamente con un polfmero que comprende grupos carboxi, sulfo, fosfo o fosfono en las cadenas laterales.

Tambien son utiles los tintes de cianina que absorben cerca del IR y se describen, por ejemplo, en los documentos de patentes de EE.UU. US 6,309,792 (Hauck y otros), US 6,264,920 (Achilefu y otros), US 6,153,356 (Urano y otros). US 5,496,903 (Watanabe y otros). Pueden formarse tintes adecuados usando metodos y materiales de inicio convencionales u obtenidos de diferentes fuentes comerciales que incluyen American Dye Source (Baie D'Urfe, Quebec, Canada) y FEW Chemicals (Alemania). Otros tintes utiles para heces laser de diodo cerca del infrarrojo estan descritos, por ejemplo, en el documento de patente de EE.UU. Us 4,973,572 (DeBoer).

Compuestos absorbentes de IR utiles incluyen negros de humo, algunos de los cuales tienen la superficie funcionalizada con grupos solubilizantes son bien conocidos en la tecnica. Negros de humo que son injertados a

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polfmeros no ionicos hidrofilos, tales como FX-GE-003 (fabricado por Nippon Shokubai), o los que tienen la superficie funcionalizada con grupos anionicos, tales como CAB-O-JET® 200 o CAB-O-JET® 300 (fabricados por la Cabot Corporation) tambien son utiles.

El compuesto absorbente de radiacion (por ejemplo compuesto absorbente de IR) esta presente generalmente en una cantidad para proporcionar una densidad optica de transmision de al menos 0,5, y tfpicamente de la menos 0,75, en la longitud de onda de exposicion. Generalmente, esto se consigue incluyendo de 1 a 20% en peso de uno o mas compuestos, basandose en el contenido de solidos de la capa formadora de imagen. Por ejemplo, el compuesto absorbente de IR deberfa ser suficiente para producir zonas transparentes donde la pelfcula es expuesta a radiacion infrarroja, lo que significa que tales zonas tendrfan una densidad optica de transmision de 0,5 o menos cuando se mide usando un filtro adecuado sobre un densitometro convencional.

En otras realizaciones, el compuesto absorbente de radiacion puede incluir un absorbente de ultravioleta que absorba radiacion desde 150 hasta 400 nm. El absorbente de UV puede usarse como el unico compuesto absorbente de radiacion o en combinacion con un compuesto absorbente de IR.

La capa formadora de imagen puede incluir, opcionalmente, un aditivo fluorocarbono para aumentar la transferencia de una pelfcula fundida o ablandada y produccion de puntos de semitono (esto es, pfxeles) que tengan bordes bien definidos, generalmente continuos y relativamente nftidos. Ejemplos de aditivos fluorocarbono utiles y cantidades se proporcionan en los parrafos [0087] a [0089] del documento US'182 (mencionado arriba).

Componentes opcionales adicionales de la(s) capa(s) formadora(s) de imagen incluyen, pero no se limitan a, plastificantes, ayudas para el revestimiento o tensoactivos, ayudas dispersantes, absorbentes de UV y rellenos, todos los cuales son bien conocidos en la tecnica segun se describe, por ejemplo, en los parrafos [0094] a [0096] del documento US'182 (mencionado arriba).

Todos los componentes descritos arriba para la(s) capa(s) formadora(s) de imagen son dispersados en uno o mas aglutinantes polimericos (materiales polimericos tanto sinteticos como que se dan naturalmente) que son capaces de disolver o dispersar los otros componentes en la capa formadora de imagen. El uno o mas aglutinantes polimericos estan presentes generalmente en una cantidad de 25 a 75% en peso, y tfpicamente de 35 a 65% en peso, basandose en el peso seco total de la capa formadora de imagen.

Aunque puede usarse una amplia variedad de aglutinantes polimericos, pueden conseguirse algunas ventajas usando ciertos aglutinantes polimericos “primarios” en una cantidad de al menos el 50% en peso, y tfpicamente al menos el 70% en peso y hasta el 100% en peso del peso total del aglutinante polimerico. Los aglutinantes polimericos utiles son aquellos en los cuales pueden incorporarse diferentes componentes y que son solubles en solventes de revestimiento adecuados tales como alcoholes inferiores, cetonas, eteres, hidrocarburos y halogenuros de alquilo. Los aglutinantes polimericos son tambien, deseablemente, solubles o hinchables en el revelador escogido (descrito abajo).

Aglutinantes polimericos:

Aglutinantes polimericos utiles incluyen los materiales descritos, por ejemplo, en los parrafos [0081] a [0085] del documento US'182. Los aglutinantes polimericos pueden ser conocidos como “aglutinantes adhesivos” segun se describe por ejemplo en el parrafo [0081] del documento US'182 (mencionado arriba). Ejemplos de aglutinantes adhesivos adecuados incluyen, pero no se limitan a, acetilpolfmeros tales como butirales de polivinilo que pueden ser obtenidos, por ejemplo, como BUTVAR® B-76 de Solution, Inc, (St. Louis, MO) y polfmeros de acrilamida que pueden obtenerse como MACROMELT 6900 de Henkel Corp. (Gulph Mills, PA). Pueden usarse tambien para este proposito polfmeros adhesivos sensibles a la presion. En alguna realizacion, en donde la capa de colorante es ablativa, es ventajoso usar aglutinantes que sean inflamables facilmente por calor y generen gases y fragmentos volatiles a temperatura inferior a 200 °C. Ejemplos de estos aglutinantes son nitrocelulosa, policarbonatos, poliuretanos, poliesteres, poliortoesteres, poliacetales y copolfmeros de los mismos (vease el documento de patente de EE.UU. US 5,171,650 de Ellis y otros, Col. 9, lfneas 41-50).

Otros aglutinantes polimericos secundarios utiles son resinas que tengan grupos hidroxilos (o polfmeros hidroxflicos) como se describen en los parrafos [0082] a [0084] del documento US'182 (mencionado arriba) e incluyen, por ejemplo, alcoholes de polivinilo y polfmeros celulosicos (tales como nitrocelulosa). Aun mas aglutinantes polimericos secundarios son poliesteres no reticulables, poliamidas, policarbamatos, poliolefinas, poliestirenos, polieteres, eteres de polivinilo, esteres de polivinilo y poliacrilatos y polimetacrilatos que tengan grupos alquilo con 1 y 2 atomos de carbono.

Algunos otros aglutinantes polimericos utiles que se ha encontrado que son facilmente disueltos o dispersados en solventes organicos no clorados se describen mas abajo. Estos pueden ser tambien solubles o dispersables tambien en solventes organicos clorados. Tales clases utiles de aglutinantes polimericos que cumplen con estas caracterfsticas incluyen, pero no se limitan a, resinas de terpeno, resinas fenolicas, resinas de hidrocarburos aromaticos, poliuretanos (incluyendo poli eter poliuretanos), resinas de acrilato de cadena larga y de metacrilato. Resinas de terpeno utiles incluyen, pero no se limitan a, las resinas de terpeno SYLVARES tales como la resina de terpeno SYLVARES TR-A25 que esta disponible de Arizona Chemical Co. (Jacksonville, FL). Resinas fenollicas

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utiles incluyen, pero no se limitan a, resinas de novolac tales como resinas de novolac CK2500 y CK2400 que estan disponibles de Georgia Pacific Resins (Atlanta, GA). Resinas de hidrocarburos aromaticos incluyen, pero no se limitan a, resinas NORSOLENE® tales como la resina NORSOLENE® S-155 que esta disponible de Sartomer Co. (Warrington, PA). Poliuretanos utiles incluyen, pero no se limitan a, las resinas de poliuretano SURKOPAK® 5245 y SURKOFILM® 72S que estan disponibles de Tennants Inks & Coatings Supplies, Ltd. (Surrey, Reino Unido) y la resina de poliuretano NeoRez 322 que esta disponible de DSM NeoResins (Wilmington, MA). Resinas de acrilato de cadena larga y metacrilato incluyen los polfmeros de vinilo derivados de uno o mas monomeros de acrilato de cadena larga o metacrilato en los que la cadena alquilo larga tiene al menos 3 atomos de carbono. Tales monomeros incluyen, pero no se limitan a, isobutil metacrilato, n-butil metacrilato y mezclas de los mismos.

Aglutinantes polimericos utiles son homopolfmeros y copolfmeros derivados de al menos isobutil metacrilato, n-butil metacrilato o mezclas de los mismos. Materiales polimericos primarios disponibles comercialmente de este tipo incluyen los polfmeros ELVACITE® 2045 y ELVACITE® 2046 que estan disponibles de Lucite International (Cordova, TN). Por ejemplo, se encontro que los polfmeros comerciales disponibles como la resina de poliuretano SURKOPAK® 5245 y la resina de poliuretano sUrKOFILM® 72S, el material polimerico ELVACITE® 2045 y la resina novolac CK 2500 son utiles.

La capa formadora de imagen puede incluir, ademas, plastificantes, ayudas al revestimiento, agentes dispersantes, absorbentes de UV, rellenos, tensoactivos, fluorocarbonos y otros aditivos descritos en el documento US'182 (mencionado arriba). Promotores de adherencia, tales como los descritos arriba para la hija soporte tambien pueden estar incluidos.

Capa intermedia:

En algunas realizaciones de esta invencion, la pekcula puede incluir una “capa intermedia” dispuesta entre la lamina soporte y la(s) capa(s) formadora(s) de imagen. En algunas ocasiones, la capa intermedia esta dispuesta directamente sobre la lamina soporte y entre ella y la capa transparente descrita arriba. En otras realizaciones, la capa intermedia esta dispuesta directamente sobre la capa transparente y esta entre ella y la capa formadora de imagen. La presencia de una capa intermedia puede ser deseable para facilitar la transferencia de una imagen mascara resultante al elemento sensible a las radiaciones. Generalmente, la capa intermedia es revelable, dispersable o facilmente extrafble despues del curado a traves de la imagen mascara o durante el procesado subsiguiente (revelado) del elemento grabado. Ademas, la capa intermedia usualmente no absorbe o dispersa de manera significativa la radiacion de curado. Por ejemplo, aquella no incluye usualmente agentes de matificacion u otros materiales dispersadores de luz. Si se usa un solvente de revestimiento para recubrir la capa intermedia, el solvente de revestimiento se escoge de tal manera que durante el revestimiento haya poca mezcla entre la capa transparente y la capa intermedia.

Revestimientos representativos adecuados para su uso como capa intermedia incluyen, pero no se limitan a, alcoholes de polivinilo o polfmeros similares, polfmeros celulosicos tales como metilcelulosa o hidroxipropilmetil celulosa, butiral de polivinilo o estireno-anhfdrido maleico hidrolizado. En esta invencion, la exposicion a UV es llevada a cabo a traves de la lamina soporte de forma que la lamina soporte impide la migracion de oxfgeno.

La capa intermedia puede ser relativamente delgada y tener un grosor en seco de 0,1 a 10 pm.

En otras realizaciones, la capa intermedia es una capa de polfmero termorresistente que tiene la integridad de capa deseada y buenas propiedades de liberacion despues del grabado termico. Los polfmeros termorresistente incluyen, pero no se limitan a, poliimidas, polisulfonas, polieter etil-cetona, tereftalato de bisfenol-A, alcoholes de polivinilo y poliamidas y pueden ser optimizados para proporcionar propiedades de liberacion, capacidad de curado y capacidad de revelado deseadas .

La capa intermedia puede, tambien, incluir agentes de reticulacion para mejorar las propiedades de liberacion, ayudas de revestimiento, tensoactivos y agentes de aumento de liberacion. Mas detalles de composiciones de capa intermedia utiles se proporcionan en el documento US'182 (mencionado arriba).

Capa barrera:

La pelfcula de esta invencion puede, tambien, incluir una capa barrera, dispuesta entre la capa transparente o capa intermedia (si esta presente) y la(s) capa(s) formadora(s) de imagen, que puede usarse para impedir la migracion de colorante a o el dano termico a las capas transparente o intermedia durante el proceso de ablacion. En la mayorfa de realizaciones, la capa barrera esta dispuesta sobre de la capa intermedia y debajo de la capa formadora de imagen. Capas barrera adecuadas y sus composiciones estan descritas tambien el el documento US'182 (mencionado arriba) y las referencias citadas en el. Por ejemplo, la capa barrera puede incluir uno o mas aglutinantes polimericos, en particular, aglutinantes de polfmero “inflamables por calor” tales como polialquilcianoacrilatos y nitrocelulosa y materiales particulados tales como partfculas de oxido metalico (por ejemplo, partfculas de oxido de hierro) para proporcionar densidad optica elevada con respecto a la radiacion de grabado o curado. Las partfculas de oxido metalico pueden ser utiles para formacion de imagenes ablativa porque pueden descomponerse termicamente para generar gases propulsores.

La capa barrera puede, opcionalmente, incluir un compuesto absorbente de infrarrojos, tal como tintes absorbentes de infrarrojos (tintes IR) que incluyen tintes absorbentes de infrarrojos cationicos y tintes blanqueables por fototermia, y agentes de reticulacion tales como resinas de melamina-formaldelddo, dialdetudos, fenolicos, aziridinas polifuncionales, isocianatos y epoxidos de urea-formaldetudo para proporcionar resistencia termica.

5 Otros componentes de la pelfcula:

Una capa adhesiva puede estar presente en la pelfcula solapando la(s) capa(s) formadora(s) de imagen para aumentar la adherencia de la imagen mascara al elemento sensible a las radiaciones durante la transferencia y para ayudar en la transferencia de la imagen mascara. La capa adhesiva puede comprender un termoplastico, termoadhesivo o adhesivo sensible a la presion que es bien conocido en la tecnica.

10 En algunas realizaciones, la capa adhesiva, o usada tambien como una capa de cubierta, puede comprender un copolfmero de acido metacnlico (tal como un copolfmero de etilmetacrilato y acido metacnlico) y partfculas de uno o mas fluoropolfmeros dispersadas en el segun se describe, por ejemplo, en el Ejemplo 1 (capa de partfculas superior) del documento de patente de EE.UU. US 6,259,465 (Tutt y otros). La capa cubierta puede, tambien, proporcionar resistencia a la abrasion para la manipulacion debido a la presencia de particulados. La capa cubierta puede, 15 tambien, actuar como una capa barrera de tinte para impedir la migracion del tinte desde la pelfcula de mascara hasta el fotopolfmero despues de la laminacion.

Asf, en algunas realizaciones de esta invencion, la pelfcula comprende una lamina soporte, que tiene dispuestas sobre ella, en orden:

a) una capa transparente segun se describe arriba,

20 b) una capa intermedia segun se describe arriba,

c) una capa barrera segun se describe arriba,

d) una capa formadora de imagen segun se describe arriba y

e) una cubierta segun se describe arriba.

en donde la capa transparente tiene un mdice de refraccion al menos 0,08 mas bajo que el mdice de refraccion de la 25 lamina soporte.

Elementos sensibles a las radiaciones

En el documento US'182 (mencionado arriba), se proporcionan considerables detalles de elementos sensibles a las radiaciones tales como precursores de placas de impresion flexografica, placas de circuitos impresos y planchas de impresion litografica. Tales elementos incluyen un substrato dimensionalmente estable adecuado, al menos una 30 capa sensible a las radiaciones y , opcionalmente, una capa de separacion, lamina de cubierta o capa de metal. Substratos adecuados incluyen pelmulas polimericas dimensionalmente estables y laminas de aluminio. Se prefieren las pelmulas de poliester. Cualquier elemento sensible a las radiaciones que sea capaz de producir una imagen en relieve usando la pelmula descrita en este documento es util en la practica de esta invencion.

El elemento sensible a las radiaciones puede ser de trabajo en positivo o en negativo pero, tfpicamente, es de 35 trabajo en negativo y, generalmente, incluye una capa formadora de imagen sensible a UV o al espectro visible que contiene una composicion curable por radiacion UV o radiacion visible que es curada o endurecida por polimerizacion o reticulacion con la exposicion al la radiacion de curado. Por ejemplo, el elemento sensible a las radiaciones puede ser sensible a UV. Muchos detalles de diferentes componentes de los elementos sensibles a las radiaciones se proporcionan en el documento US'182 (mencionado arriba) y las referencias citadas en el.

40 Algunas realizaciones tambien incluyen una lamina de cubierta removible asf como una capa de separacion, o a la que se hace referencia a veces como capa anti-fugas, que ayuda a la retirada de la lamina de cubierta y protege la capa formadora de imagen sensible a las radiaciones de las huellas de dedos y otros danos y que esta dispuesta entre la capa formadora de imagen sensible a las radiaciones y la lamina de cubierta. Materiales de capa de separacion utiles incluyen, pero no se limitan a, poliamidas, alcoholes de polivinilo, copolfmeros de etileno y acetato 45 de vinilo, interpolfmeros anfotericos, polfmeros celulosicos, butiral de polivinilo, cauchos dclicos y combinaciones de los mismos.

La capa formadora de imagen sensible a las radiaciones puede incluir un aglutinante elastomerico, al menos un monomero y un iniciador que sea sensible a las radiaciones no IR. En la mayona de los casos, el iniciador sera sensible a las radiaciones UV o visible. Compuestos iniciadores adecuados incluyen, pero no se limitan a, los 50 descritos en los documentos de patentes de EE.UU. US 4,323,637 (Chen y otros), US 4,427,749 (Gruetzmacher y otros) y US 4,894,315 (Feinberg y otros).

El aglutinante elastomerico puede ser uno unico o una mezcla de polfmeros que puede ser soluble, hinchable o dispersable en reveladores solventes acuosos, semiacuosos u organicos e incluyen, pero no se limitan a,

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aglutinantes que son solubles, hinchables o dispersables en solventes organicos tales como polfmeros naturales o sinteticos de diolefinas conjugadas, copolfmeros bloque, microgeles de nucleo-corteza y mezclas de microgeles y polfmeros macromoleculares preformados. El aglutinante elastomerico puede comprender al menos el 65% de la capa formadora de imagen basado en los solidos de capa totales. Mas detalles de tales aglutinantes elastomericos se proporcionan en el parrafo [0190] del documento US'182 (mencionado arriba) y en las referencias citadas en el.

La capa formadora de imagen puede, tambien, incluir una monomero unico o una mezcla de monomeros que debe ser compatible con el aglutinante elastomerico hasta el punto en que se produce una capa sensible a las radiaciones clara, no turbia. Monomeros para este proposito son bien conocidos en la tecnica e incluyen compuestos polimerizables insaturados etilenicamente que tienen un peso molecular relativamente bajo (generalmente menos de 30.000 Daltons). Ejemplos de monomeros adecuados incluyen diferentes mono- y poliacrilatos, acrilato derivados de isocianatos, esteres y epoxidos. Monomeros especfficos estan descritos en el parrafo [0191] del documento US'182 (mencionado arriba) y en las referencias citadas en el. El fotoiniciador puede ser un compuesto unico o una combinacion de compuestos que son sensibles a la radiacion UV o la visible y que generan radicales libres que inician la polimerizacion del (los) monomero(s) sin terminacion excesiva y estan presentes generalmente en una cantidad de 0,001 a 10% basado en el peso en seco total de la capa formadora de imagen. Ejemplos de iniciadores adecuados incluyen quininas polinucleares sustituidas o no sustituidas y mas detalles se proporcionan en el parrafo [0192] del documento US'182 (mencionado arriba) y en las referencias citadas en el.

La capa sensible a las radiaciones puede incluir otros aditivos que proporcionen diferentes propiedades que incluyen, pero no se limitan a, sensibilizadores, plastificantes, modificadores de la reologfa, inhibidores de la termopolimerizacion, agentes de adhesividad, colorantes, antioxidantes, antiozonizantes y rellenos.

El grosor de la capa formadora de imagen sensible a las radiaciones puede variar dependiendo del tipo de plancha grabada deseada. En algunas realizaciones, una capa formadora de imagen sensible a UV puede tener un grosor de 500 a 6.400 pm.

En una realizacion, el elemento sensible a las radiaciones es un precursor de plancha de impresion flexografica que incluye una resina curable por UV adecuada y cuando es expuesto y procesado, proporciona una plancha de impresion flexografica. Tales elementos incluyen generalmente un substrato adecuado, una o mas capas formadoras de imagen sensibles a UV que comprenden un material fotosensible que incluye un polfmero o prepolfmero. Ejemplos de precursores de plancha de impresion flexografica disponibles comercialmente incluyen, pero no se limitan a, elementos flexograficos FLEXCEL disponibles de Kodak Polychrome Graphics, una subsidiaria de Eastman Kodak Company (Norwalk, CT), planchas flexograficas CYREL® disponibles de DuPont (Wilmington, DE), planchas NYLOFLeX® FAR 284 disponibles de BASF (Alemania), plancha FLEXILIGHT CBU disponible de MacDermid (Denver, CO) y ASAHI AFP XDI disponible de Asahi Kasei (Japon).

El elemento sensible a las radiaciones puede, tambien, usarse para formar placas de circuito impreso en las que una capa conductora (tambien conocida como un “circuito de impresion”) es formada sobre un substrato en el diseno impuesto por la imagen mascara. Precursores adecuados para placas de circuitos impresos comprenden generalmente un substrato, una capa de metal y una capa fotosensible. Substratos adecuados incluyen pelfculas de poliimida, epoxido con carga de vidrio o fenolformaldehfdo cargado de vidrio o cualesquiera otros materiales aislantes conocidos en la tecnica. La capa de metal que cubre el substrato es generalmente un metal conductor tal como cobre o una aleacion o metales. La capa fotosensible puede incluir una resina curable por UV, monomeros u oligomeros, fotoiniciadores y un aglutinante. La capa fotosensible del precursor de placa de circuito impreso puede ser una capa que trabaja en positivo o en negativo. Mas detalles de placas de circuito impreso se proporcionan en los parrafos [0196] a [0205] del documento US'182 (mencionado arriba).

Formar una imagen mascara:

En la practica de esta invencion, se forma una imagen mascara produciendo regiones expuestas y no expuestas en la pelfcula de esta invencion. La eleccion del mecanismo de filmacion determinara las posibles variaciones en formar la imagen mascara, segun se describe abajo.

Exponer la pelfcula puede ser llevado a cabo en regiones seleccionadas, conocidas de otra manera como “exposicion en negativo”. Pueden usarse tanto metodos analogicos como digitales para la exposicion en modo imagen y son convencionales en la tecnica. En lagunas realizaciones, la exposicion en modo imagen puede efectuarse usando radiacion laser de un laser que es escaneado o rasterizado bajo control por ordenador. Cualquiera de los dispositivos de escaneado conocidos puede usarse incluyendo los escaneres de cama plana, escaneres de tambor externo y escaneres de tambor interno. En estos dispositivos, la pelfcula es fijada al tambor o a la cama y el haz laser es enfocado a un punto que puede impactar sobre la pelfcula. Dos o mas laseres pueden escanear regiones diferentes de la pelfcula simultaneamente.

Por ejemplo, la pelfcula puede ser expuesta a radiacion infrarroja, por ejemplo, en el intervalo de 700 a 1.400 nm. Tales pelfculas contienen uno o mas compuestos absorbentes de radiacion infrarroja segun se describe arriba para proporcionar sensibilidad a la radiacion infrarroja. En estas realizaciones, la pelfcula puede ser montada de manera adecuada a un generador de imagenes de infrarrojos y expuesta a la radiacion infrarroja usando un laser infrarrojo

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tal como un diodo laser o un laser Nd:YAG que puede ser escaneado bajo control por ordenador. Generadores de imagenes infrarrojos adecuados incluyen, pero no se limitan a, los generadores de imagenes DESERTCAT 88 disponibles de ECRM (Tewksbury, MA) usados en pruebas de color, filmadoras TRENDSETTER y generadores de imagenes ThermoFlex Flexographic CTP disponibles de Eastman Kodak Company (Burnaby, British Columbia, Canada) usado para aplicaciones de planchas litograficas CTP y para filmar elementos flexograficos, filmadoras DIMENSION disponibles de Presstek (Hudson, NH) util para aplicaciones de plancha litografica CTP, CYREL® Digital Imager (CDI SPARK) disponible de Esko-Graphics (Kennesaw, GA) y generadores de imagenes OMNISETTER disponibles de Misomex International (Hudson, NH) util para filmar elementos flexograficos.

En otras realizaciones, la pelfcula es expuesta a luz laser visible, por ejemplo, en el intervalo de 400 a 750 nm. Pueden usarse fotocomponedoras y filmadoras disponibles comercialmente incluyendo, pero no limitados a, filmadora ACCUSET Plus (diodo laser rojo visible, 670 nm) y filmadora ADVANTAGE DL3850 (410 nm), filmadora SELECTSET 5000 (HeNe, 630 nm), todos disponibles de Agfa-Gevaert (Belgica), LUXEL V-9600 (410 nm) disponible de Fuji Photo Film (Japon) y filmadora DiANONDSETTER (laser Nd-YAG de frecuencia doblada, 532 nm) disponible de Western Lithotech (St, Louis, MO).

En aun otras realizaciones, la pelfcula puede ser expuesta a radiacion ultravioleta mediante filmacion directa por laser en el intervalo de 150 a 410 nm. Aparatos utiles para tal filmacion incluyen, pero no se limitan a, generadores de imagenes DP-100 disponibles de Orbotech (Billerica, MA) y generador de imagenes DIGIRITE 2000 disponible de Etec Systems (Tucson, AZ).

El paso de formar la imagen mascara puede incluir, tambien, un paso de eliminar regiones o bien expuestas o bien no expuestas de la capa formadora de imagen. En algunas realizaciones, las regiones expuestas son removed, dejando la imagen mascara sobre la lamina soporte transparente (y la capa transparente dispuesta sobre ella). Para estas realizaciones, puede usarse, opcionalmente, una lamina receptora para eliminacion de las porciones no deseadas de la capa formadora de imagen. Tal lamina receptora puede ser cualquier papel, pelfcula transparente o lamina de metal adecuados a los cuales se han aplicado uno o mas revestimientos antes de la irradiacion de las pelfculas para facilitar la transferencia de la capa formadora de imagen al receptor. Despues de filmar, la lamina receptora puede ser retirada de la pelfcula para revelar la imagen mascara sobre la lamina soporte. Una imagen complementaria a la imagen mascara puede permanecer sobre la lamina receptora.

En otras realizaciones, se forma una imagen mascara sobre la lamina soporte (y la capa transparente dispuesta sobre ella) produciendo regiones expuestas y no expuestas de la capa formadora de imagen y otras capas, y retirando las regiones no expuestas de esas capas.

En algunas realizaciones, la imagen mascara que reside en la lamina soporte puede ser curada sometiendola a tratamiento termico, supuesto que la propiedad de transferencia de la imagen mascara no sea afectada de manera adversa. El tratamiento termico puede ser hecho mediante una variedad de medios que incluyen, pero no se limitan a, almacenar en un horno, tratamiento con aire caliente o contacto con una platina caliente o paso a traves de un dispositivo de rodillos calientes. No es necesario que tenga lugar el tratamiento para el curado.

En aun otras realizaciones, puede formarse una imagen mascara segun se menciona arriba y las regiones expuestas son transferidas a una lamina receptora. La lamina receptora es retirada entonces de la pelfcula de mascara filmada antes de que la imagen mascara sea transferida a un elemento sensible a las radiaciones. Asf, la pelfcula puede estar provista de una lamina receptora en contacto con el elemento sensible a las radiaciones o el elemento es puesto en contacto con una lamina receptora separada.

Donde se usa una lamina receptora separada durante la grabado, la pelfcula y la lamina receptora son ensambladas en estrecha cercanfa antes de grabar, con el lado receptor de imagen de la lamina receptora adyacente a la capa formadora de imagen. El termino “estrecha cercama” en este contexto puede significar que la capa formadora de imagen y la lamina receptora son puestas en contacto o que no hacen contacto entre sf pero estan suficientemente cerca como para permitir la transferencia de la capa formadora de imagen o colorante con la exposicion a la radiacion de grabado. Pueden usarse retencion mediante vacfo o unos medios mecanicos para fijar la pelfcula y la lamina receptora en conjunto.

A continuacion, el conjunto de la pelfcula y las laminas receptoras es expuesto en modo imagen usando radiacion de grabado para formar una imagen mascara, segun se describe abajo. La exposicion en modo imagen causa la transferencia en modo imagen de la capa formadora de imagen o colorante desde la pelfcula a la lamina receptora. Despues de grabar, la pelfcula puede ser retirada de la lamina receptora para revelar la imagen mascara sobre la lamina receptora.

Varios mecanismos de grabado se mencionan brevemente a continuacion y se proporcionan mas detalles en el documento US *182 (mencionado anteriormente) y las referencias citadas en el comenzando con los parrafos [0142].

Ablacion

En este mecanismo, las regiones expuestas de la capa formadora de imagen son retiradas de la pelfcula filmada

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mediante la generacion de un gas, dejando una imagen mascara. Pueden usarse aglutinantes especfficos que se descomponen con la exposicion al calor (tal como una irradiacion laser IR) para generar rapidamente un gas. Esta accion tiene que ser distinguida de otras tecnicas de transferencia de masa en que un cambio qufmico mas bien que uno ffsico causa una transferencia casi completa de la capa formadora de imagen mas bien que una transferencia parcial.

Tecnica de Melt-Stick

Las zonas expuestas de la capa formadora de imagen pueden ser transferidas en un estado fundido o semifundido desde la pelfcula filmada a una lamina receptora adecuada con la exposicion a la radiacion. Las zonas expuestas se caracterizan por una viscosidad reducida que proporciona fluidez a la capa formadora de imagen que fluye a traves de y se adhiere a la superficie de la lamina receptora con mayor resistencia de lo que se adhiere a la lamina soporte (y la capa transparente dispuesta sobre ella). A continuacion de esta transferencia ffsica, la lamina soporte, junto con la capa formadora de imagen no transferida, es separada de la lamina receptora.

En una realizacion, la imagen mascara comprende las regiones no expuestas que permanecen sobre la lamina soporte. En otra realizacion, la imagen mascara comprende las regiones expuestas de la capa formadora de imagen que son transferidas a la lamina receptora.

Transferencia de la pelfcula inducida por laser:

Con este mecanismo de grabado, las regiones expuestas de la capa formadora de imagen son retiradas de la lamina soporte (y la capa transparente dispuesta sobre ella) a traves de transferencia de pelfcula inducida por laser (“LIFT”). Una capa intermedia que contiene un agente de reticulacion latente esta dispuesta entre la lamina soporte y la capa formadora de imagen. El agente de reticulacion latente reacciona con el aglutinante para formar una red de peso molecular elevado en las regiones expuesta para proporcionar un mejor control de los fenomenos de flujo fundido, transferencia de mas material cohesivo a la lamina receptora y nitidez de borde de calidad elevada de la imagen mascara.

En una realizacion, la capa formadora de imagen incluye un colorante transferible y un tinte absorbente de infrarrojos (tinte IR). En otra realizacion, la capa formadora de imagen incluye un colorante transferible, un aglutinante polimerico segun se describe arriba, una aditivo fluorocarbono, un tinte IR cationico y un agente de reticulacion latente segun se describe arriba.

La imagen mascara puede comprender las regiones no expuestas de la capa formadora de imagen que permanecen en la pelfcula filmada, pero en otras realizaciones, la imagen mascara comprende las regiones expuestas que son transferidas a la lamina receptora.

Peel-Apart

En este mecanismo de grabado, las regiones expuestas de la capa formadora de imagen son retiradas de la lamina soporte (y la capa transparente dispuesta sobre ella) usando una lamina receptora adecuada basandose en las propiedades de adherencia diferenciales en la capa formadora de imagen. Despues de la exposicion en modo imagen de la pelfcula, la lamina receptora es separada de la lamina soporte y las regiones o bien expuestas o bien no expuestas permanecen en la pelfcula.

Difusion o sublimacion de tinte:

En aun otra tecnica de grabado, se retira colorante de las regiones expuestas de la capa formadora de imagen a traves de sublimacion en donde el colorante es difundido o sublimado sin transferencia simultanea del aglutinante. Puede generarse una imagen mascara en la pelfcula sin la necesidad de una lamina receptora. En otras realizaciones, se usa una lamina receptora para capturar el colorante sublimado. La imagen mascara comprende, entonces, la capa formadora de imagen que permanece en la pelfcula filmada. En aun otras realizaciones, la imagen mascara comprende el colorante que es trasferido a la lamina receptora.

Revelado alcalino de la mascara:

Las regiones expuestas de la capa formadora de imagen pueden ser retiradas tambien mediante revelador alcalino convencional cuando la pelfcula filmada es lavada con un revelador alcalino adecuado mientras que las regiones no expuestas permanecen sobre la lamina soporte. La capa formadora de imagen es un positivo en este caso y puede estar compuesta de cualquiera de las composiciones de positivo conocidas. El revelador tiene un pH de 9 a 14 y comprende agua y, generalmente, un hidroxido y otros diferentes aditivos comunes a tales soluciones.

Como alternativa, se retiran de la pelfcula filmada las regiones no expuestas de la capa formadora de imagen para producir una imagen mascara. Tales composiciones de la capa formadora de imagen son negativos y se vuelven insolubles en el revelador con la exposicion. reveladores utiles para tales materiales tienen, generalmente, un pH de 7 a 13 e incluyen solventes organicos miscibles en agua de alto punto de ebullicion y diferentes aditivos comunes para tales soluciones.

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Reveladores utiles para estos materiales son bien conocidos y estan disponibles de varias fuentes incluyendo Eastman Kodak Company (Norwalk, CT).

Una vez que la imagen mascara ha sido formada, es transferida a un elemento sensible a las radiaciones adecuado (descrito arriba) que es sensible a las radiaciones de curado (usualmente radiacion UV). La transferencia de la imagen mascara incluye colocar la pelfcula con la imagen mascara sobre el elemento sensible a las radiaciones o una composicion sensible a las radiaciones o una capa de la misma.

La pelfcula y el elemento sensible a las radiaciones son colocados en un contacto tal como para proporcionar una interfaz libre de aire. Generalmente, esto se consigue laminando la pelfcula en el elemento sensible a las radiaciones aplicando presion o calor o ambos, presion y calor, para formar una interfaz libre de aire o libre de huecos.

Pueden usarse laminadores disponibles comercialmente que suministran tanto calor como presion incluyendo, pero que no se limitan a, KODAK modelo 800XL APPROVAL LAMINATOR disponible de Eastman Kodak Company (Rochester, NY), CODOR LPP650 LAMINATOR disponible de CODOR (Amsterdam, Holanda) y laminadores LEDCO HD disponibles de Filmsource (Casselbury, fL). Una lamina de cubierta protectora, si esta presente en la pelfcula, es retirada antes de la laminacion. La pelfcula montada con la imagen mascara y el elemento sensible a las radiaciones son alimentados en el laminador a la velocidad, temperatura y presion deseadas. Un ejemplo representativo de este proceso se muestra en los ejemplos que describen mas abajo.

En una realizacion, el elemento sensible a las radiaciones para aplicaciones flexograficas no tiene la capa de separacion (capa anti-fugas), donde la presion sola puede ser suficiente para conseguir la interfaz libre de aire, asf el elemento sensible a las radiaciones es pegajoso o actua como un adhesivo sensible a la presion, debido a la presencia de monomeros.

En aun otra realizacion, la transferencia de la imagen mascara puede conseguirse usando adherencia sensible a la presion cuando la pelfcula de mascara y el elemento sensible a las radiaciones son puestos en contacto uno con otro por presion para formar una interfaz libre de aire. Un adhesivo sensible a la presion puede ser incorporado en el elemento sensible a las radiaciones o puede ser colocado en una capa separada entre la capa formadora de imagen y el elemento sensible a las radiaciones. Adhesivos sensibles a la presion adecuados son conocidos en la tecnica.

En aun otra realizacion, la imagen mascara puede ser transferida usado lo que se conoce como un “proceso de fotopoKmero hquido” en el cual un compuesto sensible a las radiaciones o fotopolfmero es aplicado uniformemente, en forma de lfquido o pasta, a la capa transparente de la pelfcula filmada que contiene la imagen mascara, por ejemplo, colocando el compuesto sensible a las radiaciones entre la pelfcula filmada y un material de soporte transparente que entonces se convierte en el “soporte” o substrato para el elemento sensible a las radiaciones (definido abajo). Por ejemplo, el material soporte transparente puede ser una pelfcula polimerica segun se describio arriba para los elementos sensibles a las radiaciones.

Exposicion del elemento sensible a las radiaciones

Despues de que se hace un contacto libre de aire entre la pelfcula mascara y el elemento sensible a las radiaciones segun se describe arriba, el elemento sensible a las radiaciones es expuesto a una radiacion de curado a traves de la pelfcula que contiene la imagen mascara para formar un elemento grabado. En este paso, la radiacion de curado es proyectada sobre el elemento sensible a las radiaciones a traves de la imagen mascara que bloquea preferentemente algo de la radiacion. En regiones no enmascaradas, la radiacion de curado causara el endurecimiento o curado del (los) compuesto(s) sensibles a la radiacion. La imagen mascara debe ser, por lo tanto, sustancialmente opaca a la radiacion de exposicion lo que significa que la imagen mascara debe tener una densidad optica de transmision de 2 o mas y preferiblemente 3 o mas. Las regiones no enmascaradas deben ser sustancialmente transparentes lo que significa que las regiones no enmascaradas del elemento sensible a las radiaciones deben tener una densidad optica de transmision de 0,5 o menos, preferiblemente 0,1 o menos, mas preferiblemente 0,05 o menos. La densidad optica de transmision puede ser medida usando un filtro adecuado sobre un densitometro, por ejemplo, un densitometro MACBETH TR 927.

Generalmente, la exposicion del elemento sensible a las radiaciones a traves de la pelfcula que contiene la imagen mascara se consigue mediante exposicion en modo focos desde fuentes de irradiacion adecuadas (por ejemplo, radiacion visible o radiacion UV). La exposicion puede ser llevada a cabo en presencia de oxfgeno atmosferico. La exposicion bajo vacfo no es necesaria cuando ya se ha hecho contacto libre de aire (o contacto optico).

En la fabricacion de una plancha de impresion en relieve, tal como una placa de impresion flexografica, un lado del elemento sensible a las radiaciones generalmente es expuesto primero a la radiacion de curado a traves de un soporte transparente (conocido como “exposicion dorsal”) para preparar una capa curada uniforme delgada sobre el lado del soporte del elemento. El elemento sensible a las radiaciones es expuesto entonces a radiacion de curado a traves de la pelfcula que contiene la imagen mascara, causando con ello que el compuesto sensible a las radiaciones se endurezca o cure en las zonas no enmascaradas. Las regiones no expuestas y no curadas del elemento sensible a las radiaciones son retiradas entonces mediante un proceso de revelado (descrito mas abajo), dejando las regiones curadas que definen la superficie de impresion en relieve. La exposicion dorsal podrfa ser

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realizada o bien antes o bien despues de que se haya hecho el contacto libre de aire entre la pelfcula mascara y el elemento sensible a las radiaciones.

La longitud de onda o el intervalo de longitudes de onda adecuado como radiacion de curado sera impuesto por la naturaleza del elemento sensible a las radiaciones. En algunas realizaciones, la radiacion de curado es radiacion ultravioleta en una longitud de onda de 340 a 400 nm. Fuentes de radiacion visible o UV para exposicion en modo foco o general incluyen, pero no se limitan a, arcos de carbono, arcos de vapor de mercurio, lamparas fluorescentes, unidades de flash electronico y lamparas de focos fotograficos. La radiacion UV es particularmente util desde lamparas de vapor de mercurio y mas particularmente lamparas de luz solar. Fuentes de radiacion UV representativas incluyen la lampara fluorescente SYLVANIA 350 BLACKLIGHT (FR 48T12/350 VL/VHO/180,115 vatios) que tiene una longitud de onda de emision central de 354 nm que esta disponible de Topbulb (East Chicago, IN) y BURGESS EXPOSURE FRAME, Model 5K-3343VSII con lampara ADDALUX 754-18017 disponible de Burgess Industries, Inc. (Plymouth, MA).

Otras fuentes adecuadas de radiacion UV incluyen procesadores que son capaces tanto de exponer a radiacion el elemento sensible a las radiaciones como de revelar el elemento despues de la exposicion a la radiacion. Ejemplos de procesadores adecuados incluyen, pero no se limitan a, procesador KELLEIGH MODEL 310 disponible de Kelleigh Corporation (Trenton, NJ) y el GPP500F PLATE PROCESSOR disponible de Global Asia Ltd. (Hong Kong).

El tiempo para la exposicion a traves de la imagen mascara dependera de la naturaleza y el grosor del elemento sensible a las radiaciones y la fuente de la radiacion. Por ejemplo, en una realizacion, un precursor de plancha FLEXCEL-SRH disponible de Eastman Kodak Company (Norwalk, CT) puede ser montado sobre un procesador KELLEIGH MODEL 310 y expuesto dorsalmente a radiacion UV-A a traves del soporte durante 20 segundos para preparar una capa curada uniforme delgada sobre el lado de soporte del elemento. La lamina de cubierta del elemento sensible a las radiaciones es retirada entonces del lado frontal y la pelfcula que contiene la imagen mascara es entonces puesta a contacto libre de aire con el elemento sensible a las radiaciones sobre el lado frontal. El conjunto puede, entonces, ser expuesto a una radiacion UV a traves de la pelfcula que contiene la imagen mascara durante 14 minutos. A informacion de la imagen mascara es transferida asf al precursor de plancha flexografica.

Revelado de la imagen en relieve

La lamina soporte que incluye la mascara, o la lamina soporte sin la mascara, es retirada entonces mediante cualesquiera medios apropiados, tales como desprendimiento. El elemento expuesto (o elemento grabado), es entonces revelado generalmente con un revelador adecuado para formar la imagen en relieve. El revelador sirve para retirar las regiones no curadas del elemento sensible a las radiaciones, dejando las regiones curadas que definen la imagen en relieve sobre el substrato.

Cualquier revelador conocido para el elemento grabado puede usarse en este paso de procesamiento incluyendo los que contienen solventes organicos clorados. Algunos reveladores utiles son predominantemente solventes organicos no clorados. Por “predominantemente” se quiere decir que mas del 50% (en volumen) del revelador comprende uno o mas solventes organicos no clorados tales como hidrocarburos alifaticos y alcoholes de cadena larga (esto es, alcoholes con la menos 7 atomos de carbono). El resto de las soluciones puede ser solventes organicos clorados pero, tfpicamente, los solventes organicos clorados comprenden menos del 50% (en volumen) del revelador.

Asf, ciertos reveladores utiles son predominantemente los que se conocen como “solventes alternativos al percloroetileno” (PAS). Estos PAS son, generalmente, compuestos organicos volatiles compuestos tfpicamente de mezclas de hidrocarburos alifaticos y alcoholes de cadena larga. Son generalmente estables bajo condiciones de almacenamiento y temperatura del local normales. Ejemplos de tales solventes disponibles comercialmente incluyen, pero no se limitan a, PLATESOLV disponible de Hydrite Chemical Co. (Brookfield, WI), NYLOSOLV® disponible de BASF (Alemania), FLEXOSOL® disponible de DuPont (Wilmington, DE), OptiSol® disponible de DuPont (Wilmington, DE) y SOLVIT® QD disponible de MacDermid (Denver, CO).

El revelador es llevado a cabo usualmente bajo condiciones convencionales tales como de 5 a 20 minutos y de 23 a 32 °C. El tipo de aparato de revelado y el revelador especffico que se usan impondran las condiciones de revelador especfficas.

Un procesamiento post-revelado de la imagen en relieve puede ser adecuado bajo algunas circunstancias. El procesamiento post-revelado tfpico incluye secar la imagen en relieve para retirar cualquier exceso de solvente y postcurado exponiendo la imagen en relieve a una radiacion de curado para causar un mayor endurecimiento o reticulacion. Las condiciones para estos procesos son bien conocidas para los expertos en la tecnica. Por ejemplo, la imagen en relieve puede ser secada con papel secante o con un pano, o secada con aire forzado o un horno de infrarrojos. Los tiempos y temperaturas de secado estaran claros para un tecnico experto. El postcurado puede ser llevado a cabo usando el mismo tipo de radiacion usada previamente para exponer a traves de la imagen mascara.

Eliminacion de la pegajosidad (o “acabado por luz”) puede usarse si la superficie de la imagen en relieve esta todavfa pegajosa. Tales tratamientos, por ejemplo, mediante tratamiento con soluciones de bromuro o cloro o exposicion a radiacion UV o visible, son bien conocidos para el tecnico experto.

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La imagen en relieve resultante puede tener una profundidad de 2 a 40% del grosor original de la capa formadora de imagen del elemento sensible a las radiaciones. Para una plancha de impresion flexografica, la profundidad de la imagen en relieve puede ser de 150 a 500 pm. Para una placa de circuito impreso, la capa formadora de imagen es retirada completamente tanto las regiones expuestas como las no expuestas, para revelar la capa de metal de debajo. Asf, en tales elementos, la profundidad de la imagen en relieve depende del grosor de la capa formadora de imagen. Ventajosamente, la imagen en relieve tiene predominantemente angulos de hombro mayores de 50°.

El revelador puede ser posible tambien mediante el proceso termico divulgado en los documentos de patentes de EE.UU. 5,175,072 (Martens), 5,279,697 (Peterson y otros) y 6,998,218 (Markhart).

Los siguientes ejemplos ilustran la practica de esta invencion pero la invencion no debe ser limitada por ellos. Ejemplos

Los materiales y metodos siguientes se usaron en los ejemplos:

Solucion premezclada AIRVOL® 205 es una solucion acuosa con el 10% de solidos de un alcohol de polivinilo que puede obtenerse de Air Products (Allentown, PA).

BUTVAR® B-76 es una resina de butiral de polivnilo que puede obtenerse de Solutia, Inc. (St. Louis, MO).

Byk® 333 es un polidimetilsiloxano modificado con polieter que puede obtenerse de Byk Chemie (Wallingford, CT).

Curcumina es un tinte amarillo que puede obtenerse de Cayman Chemicals (Ann Arbor, MI)

Dyneon™ FC 2211 y 2178 son fluoroelastomeros que pueden obtenerse de 3M Company (St. Paul, MN).

EMAX es un copolfmero 60:40 de etilmetacrilato y acido metacrflico que puede obtenerse de Eastman Kodak Company (Rochester, NY).

Fluon® AD1 es una dispersion de PTFE que puede obtenerse de Asahi Glass Fluoropolymers USA.

IR Dye A es un tinte absorbente de IR que tiene la estructura siguiente y se obtuvo de Eastman Kodak Company (Rochester, NY).

imagen1

MEK representa metiletilcetona.

MIBK representa metilisobutilcetona.

Resina de poliuretano NeoRez 322 que puede obtenerse de DSM NeoResins (Wilmington, MA).

NeoRez U395 es una resina de poliuretano que puede obtenerse de DSM NeoResins (Wilmington, MA).

PCA representa una mezcla de 70% en peso de polimetilcianoacrilato y 30% en peso de polietilcianoacrilato como una solucion con el 10% de solidos totales en 50/50 ciclopentanona/acetona, obtenida de Eastman Kodak Company (Rochester, NY).

Sudan Black es un tinte negro que puede obtenerse de Aldrich Chemicals Co. (Milwaukee, WI).

Surfynol® FS-80 es un agente de humectacion que puede obtenerse de Air Products & Chemicals, Inc. (Allentown, PA).

UVINUL® 3050 es un tinte absorbente de radiacion ultravioleta que puede obtenerse de BASF (Alemania).

Ejemplos de invencion 1 y 2 y Ejemplo comparativo 1:

Dos pelfculas de la presente invencion se prepararon de la manera siguiente:

Una lamina soporte, formada por un tereftalato de polietileno de 0,01 cm de grosor, fue revestida con la formulacion de capa transparente que comprende Dyneon™ FC 2211 (Ejemplo de invencion 1) o Dyneon™ FC 2178 (Ejemplo de invencion 2) hecho de MEK usando una varilla de alambre #12 para proporcionar una capa transparente que tiene una cobertura en seco de 562 mg/m2 cuando se seca durante 2 minutos a 93 °C. Esta capa tiene un fndice de 5 refraccion en 400 nm de aproximadamente 1,40 que es menos que el fndice de refraccion de la lamina soporte, el cual es (en 400 nm) aproximadamente 1,65.

Sobre esta capa transparente se revistio una formulacion de capa intermedia que contenfa alcohol de polivinilo Airvol® 205 hecho de una mezcla de agua:n-propanol 80:20 usando una varilla de revestimiento de alambre arrollado #10. El revestimiento resultante se seco durante 2 minutos a 93 °C para proporcionar una cobertura de 10 revestimiento seco de aproximadamente 648 mg/m2.

Una formulacion de capa barrera se formo con los componentes y solventes de revestimiento de la TABLA I que sigue y se aplico a la capa intermedia seca usando una varilla de revestimiento de alambre arrollado #10. El revestimiento resultante se seco a alrededor de 93 °C durante 2 minutos para formar una capa barrera para proporcionar una cobertura de revestimiento de aproximadamente 378 mg/m2.

15 TABLAI

Componente de la formulacion de capa barrera

Cantidad de formulacion (% de solidos)

PCA

84

NeoRez U395

5

IR Dye A

11

Acetona

40 partes

Ciclopentanona

60 partes

Sobre la capa barrera seca, se formo una capa formadora de imagen usando los componentes y solventes de revestimiento mostrados en la TABLA II que sigue usando una varilla de revestimiento de alambre arrollado #20. Los revestimientos resultantes se secaron a aproximadamente 93 °C durante 2 minutos para forma capas formadoras de imagen sobre la capa barrera con una cobertura de revestimiento de aproximadamente 1,51 g/m2.

20 TABLA II

Componente de la formulacion de capa formadora de imagen

Cantidad de formulacion (% de solidos)

Sudan Black

10

UVINUL® 3050

14,3

Curcumina

28,7

Nitrocelulosa

16

NeoRez U395

8,8

NeoRez U322

8,8

IR Dye A

13,5

MEK

5 partes

Ciclohexanona

5 partes

MIBK

80 partes

Etanol

10 partes

La cubierta se formo usando los componentes y solventes de revestimiento mostrados en la TABLA III que sigue, se aplico sobre la capa formadora de imagen seca usando varilla de revestimiento de alambre arrollado #20. Los revestimientos resultantes fueron secados a aproximadamente 93 °C durante 2 minutos a una cubierta con una cobertura de revestimiento de aproximadamente 120 mg/m2.

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TABLA III

Componente de la formulacion de cubierta

Cantidad de formulacion (% de solidos)

EMAX

61,5

Fluon® AD1

10,5

Byk® 333

30

Surfynol® FS-80

10

Airvol® 205

15

NeoRez U322

8,8

Agua

80 partes

Etanol

20 partes

Las pelfculas resultantes de esta invencion (Ejemplos de invencion 1 y 2) se usaron para preparar planchas de impresion flexografica de la manera siguiente.

Cada pelfcula fue filmada en una filmadora de planchas Trendsetter® 800 (cabezal Kodak SQUARESPOT, longitud de onda de exposicion 830 nm) para formar una imagen mascara. La imagen mascara fue transferida entonces desde la pelfcula filmada laminandola aplicando presion (sin calor) a un precursor de plancha de impresion flexografica FLEXEL, que no tenia capa de separacion o capa anti-fugas) disponible de Eastman Kodak Company (Rochester, NY), de forma que la interfaz entre la pelfcula filmada y el precursor era libre de aire.

La pelfcula de mascara y el precursor de plancha de impresion flexografica fueron expuestos a traves de la lamina soporte a una radiacion ultravioleta de curado usando un procesador Kelleigh Model 310 durante 10 minutos y revelados usando revelador Optisol™ (disponible de Hydrite Chemical Co., LaCrosse, WI), seguido por secado normal y postcurado para proporcionar planchas de impresion flexografica grabadas.

En el Ejemplo comparativo 1, se uso un metodo similar al de arriba, segun se describe para los ejemplos 1 y 2, para preparar planchas de impresion flexografica usando una pelfcula de mascara como en los Ejemplos de invencion 1 y 2, pero que no tenia la capa de fndice de refraccion bajo.

La figura 2 muestra los resultados de las imagenes en relieve resultantes como altura de relieve frente a la distancia desde el borde obtenida para las tres planchas de impresion flexografica resultantes preparadas para los Ejemplos de invencion 1 (Curva A) y 2 (Curva B) y Ejemplo comparativo 1 (Curva C).

Los resultados se proporcionan tambien en la TABLA IV siguiente.

TABLA IV

Ejemplo

Profundidad de relieve (zonas no grabadas) (mm) Exposicion UV principal (min) Retencion de punto en tonos 1 % (%) Profundidad de 0,40 mm de lfneas inversas (pm)

Ejemplo de invencion 1

0,61 10 98 159

Ejemplo de invencion 2

0,63 10 96 178

Ejemplo comparativo 1

0,64 10 98 58

En los ejemplos de invencion 1 y 2, los angulos de hombro medios fueron 55° mientras que el angulo de hombro medio en el Ejemplo comparativo 1 fue de aproximadamente 25°.

Estos resultados pueden verse tambien en las figuras 3a y 3b que muestran secciones transversales de una lfnea inversa de 380 pm de las planchas de impresion flexografica resultantes para el Ejemplo comparativo 1 (figura 3a) y Ejemplo de invencion 1 (figura 3b).

Ejemplo de invencion 3:

Se prepararon formulaciones de capa transparente usando los componentes mostrados en la TABLA V siguiente y

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luego se usaron para preparar muestras de pelfcula.

TABLA V

Componente de la formulacion

Formulacion de muestra de pelfcula 1 (% de solidos) Formulacion de muestra de pelfcula 2 (% de solidos) Formulacion de muestra de pelfcula 3 (% de solidos)

Alcohol de polivinilo Airvol® 205

90 84 78

Polietilenglicol PEG 600

10 10 10

NaBF4

0 6 12

n-Propanol

20 partes 20 partes 20 partes

Agua

80 partes 80 partes 80 partes

PEG 600 y NaBF4 estan disponibles de Aldrich Chemical Company.

Cada una de las muestras de pelfcula anteriores se prepararon revistiendo las formulaciones de capa transparente mostradas en la TABLA V y sobre un soporte (lamina soporte) de tereftalato de polietileno de 0,01 cm (4 mil) usando una varilla de revestimiento de alambre arrollado #26. Las capas transparentes resultantes se secaron a 93 °C durante 2 minutos para proporcionar una cobertura seca de aproximadamente 3,5 g/m2. Construcciones de pelfcula completamente funcionales se prepararon revistiendo y secando sobre cada una de estas capas transparentes: capas (i) barrera, (ii) formadora de imagen y (iii) cubierta segun se describe para el Ejemplo de invencion 1. Despues de secar, cada una de las pelfculas fue filmada en un generador de imagenes Kodak Trendsetter® 800 (cabezal Kodak SQUARESPOT, longitud de onda de exposicion 830 nm) para formar una imagen mascara. La imagen mascara fue transferida entonces desde la pelfcula filmada laminandola aplicando presion (sin calor) a un precursor de plancha de impresion flexografica FLEXEL (que no tenia capa de separacion o capa anti-fugas) disponible de Eastman Kodak Company (Rochester, NY), de forma que la interfaz entre la pelfcula filmada y el precursor era libre de aire (esto es, se consiguio contacto optico).

El conjunto de la pelfcula de mascara y el precursor de plancha de impresion flexografica fue expuesto a traves de la lamina soporte a una radiacion ultravioleta de curado usando un procesador Kelleigh Model 310 durante 10 minutos y revelado en revelador Optisol™ seguido por secado normal y postcurado para proporcionar planchas de impresion flexografica grabadas.

La Tabla VI que va abajo lista el mdice de refraccion (“RI” en 400 nm) de cada capa transparente descrita arriba, el angulo cntico calculado para reflexion interna y las profundidades (“RLD”) de lmeas inversas de 0,50 mm de ancho en las planchas de impresion finales hechas usando las tres pelfculas (construcciones de imagen mascara). Las exposiciones a UV fueron todas de 10 minutos.

TABLA VI

Muestra (pelfcula #)

Profundidad de relieve (mm) UV principal (min.) RI de la capa transparente Angulo crftico RLD (pm)

1

0,77 10 1,62 80° 78

2

0,77 10 1,57 72° 100

3

0,77 10 1,51 66° 126

Segun se muestra en la TABLA VI, hay una fuerte relacion entre el fndice de refraccion (RI) de la capa transparente y la profundidad de las lfneas inversas de 500 micras (pm) en las planchas acabadas. Esta relacion es (en este caso especffico y sobre este intervalo de valores de RI:

RLD = 785 - 436 x (RI) RA2 o (R)2 = 100%

Claims (12)

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   10

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   40

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   1. Un metodo de hacer una imagen en relieve, comprendiendo el metodo:

   A) formar una imagen mascara formando regiones expuestas y no expuestas en una pelfcula filmada, la cual pelfcula antes de filmar, comprende:

   una lamina soporte transparente que tiene sobre ella al menos una capa formadora de imagen termosensible que no es de halogenuro de plata y un colorante dispuesto en dicha capa formadora de imagen o en una capa diferente entre dicha lamina soporte y dicha capa formadora de imagen,

   un compuesto absorbente de radiacion infrarroja dispersado en un aglutinante polimerico, y

   dicha pelfcula comprende, ademas, una capa transparente dispuesta entre dicha lamina soporte y la capa que contiene dicho colorante, la cual capa transparente tiene un fndice de refraccion inferior que el fndice de refraccion de dicha lamina soporte o el fndice de refraccion de cualquier capa opcional inmediatamente adyacente entre dicha lamina soporte y la dicha capa transparente,

   B) transferir la dicha imagen mascara de dicha pelfcula filmada a un elemento sensible a las radiaciones mientras que hay contacto optico completo entre dicha imagen mascara y dicho elemento sensible a las radiaciones,

   C) exponer dicho elemento sensible a las radiaciones a una radiacion de curado a traves de dicha imagen mascara para formar un elemento grabado, en donde la imagen mascara es opaca para dicha radiacion de curado, y

   D) revelar dicho elemento grabado para formar una imagen en relieve.
2. 2. El metodo de la reivindicacion 1, en el que dicha capa transparente tiene un fndice de refraccion al menos 0,04 inferior que el indice de refraccion de dicha lamina soporte.
3. 3. El metodo de la reivindicacion 1 o 2, en el que dicha capa transparente tiene un fndice de refraccion al menos 0,08 inferior que el fndice de refraccion de cada una de dicha lamina soporte y dicha capa formadora de imagen, y dicha capa transparente comprende, ademas, opcionalmente, un promotor de adherencia.
4. 4. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 3, en el que dicha capa transparente comprende un fluoroelastomero.
5. 5. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 4, que comprende, ademas, una capa intermedia dispuesta entre dicha capa formadora de imagen y dicha capa transparente, teniendo dicha capa intermedia un grosor de 0,1 a 10 pm.
6. 6. El metodo de la reivindicacion 5, en el que dicha capa intermedia comprende un alcohol de polivinilo, un polfmero celulosico o estireno-anhidrido maleico hidrolizado y un promotor de adherencia.
7. 7. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 6, en el que dicho compuesto absorbente de radiacion infrarroja es un tinte IR y dicho colorante es un tinte absorbente de UV.
8. 8. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 7, que comprende, ademas, una capa barrera dispuesta entre dicha capa formadora de imagen y dicha lamina soporte, incluyendo opcionalmente dicha capa barrera un compuesto absorbente de infrarrojos.
9. 9. El metodo de la reivindicacion 8, en el que dicha capa barrera comprende un aglutinante de polfmero inflamable por calor o es una capa de metal o metalizada.
10. 10. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, que comprende sobre dicha lamina soporte, en orden:

    a) dicha capa transparente que comprende un fluoroelastomero y que tiene un grosor de 0,25 a 10 pm, incluyendo opcionalmente dicha capa transparente un promotor de adherencia,

    b) una capa intermedia que comprende un alcohol de polivinilo y que tiene un grosor de 0,1 a 10 pm, comprendiendo dicha capa intermedia un colorante e incluyendo opcionalmente un promotor de adherencia,

    c) una capa barrera que comprende un policianoacrilato y un tinte absorbente de radiacion infrarroja,

    d) dicha capa formadora de imagen que comprende un tinte absorbente de radiacion infrarroja y un colorante absorbente de UV dispersado en un aglutinante de poliuretano, y

    e) una cubierta de alcohol de polivinilo,

    teniendo dicha capa transparente una fndice de refraccion al menos 0,08 inferior que el fndice de refraccion de dicha lamina soporte.
11. 11. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 10, en el que dicha pelfcula filmada es retirada del contacto optico con dicho elemento sensible a las radiaciones expuesto entre los pasos C y D.
12. 12. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 11, en el que dichas lamina soporte y capa transparente son retiradas de dicha pelfcula filmada entre los pasos C y D.

    5 13. El metodo de cualquiera de las reivindicaciones 1 a 12, en el que dicho elemento sensible a las radiaciones es

    un precursor de plancha de impresion flexografica y dicho elemento grabado es una plancha de impresion flexografica.