JP2000215425A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】再付着物を効率よく除去し、磁気ディスク装置
の信頼性を向上する。 【解決手段】浮上面にレールをエッチングもしくはスパ
ッタエッチングもしくはイオンミリングにより加工した
後に、少なくとも磁気素子上を、有機膜ないし薄膜で被
覆した状態で、研磨布と該被加工物を接触摺動させて、
再付着物の除去加工を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【発明の属する技術分野】本技術は、磁気ディスク装置
及びその製造技術に関し、特に非直線形状のレールを有
する浮上量の小さい薄膜磁気ヘッドの製造方法及び磁気
ヘッドスライダの形状に関する。特に、本発明はドライ
エッチング技術に係り、エッチング速度の遅いセラミッ
クス等の加工時に生じる再付着物を除去する加工方法に
関する。また、ヘッドクラッシュを防止するのに好適な
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法に関する。

【従来の技術】磁気ディスク装置の記録密度は年々飛躍
的に向上しており、そのためには磁気ヘッドの浮上量を
低減することが必須となっている。図１０は磁気ヘッド
の浮上状態を説明する図であって、磁気ヘッド１は、磁
気ディスク１１と相対する面である浮上面２、テーパ部
４、磁気素子５、空気流入端７、空気流出端８を有し、
板バネ１０により支持されている。浮上面２には図２に
示すレール３が形成されている。磁気ディスク回転停止
時は磁気ヘッド１と磁気ディスク１１は接触状態にある
が、回転数が一定値に達すると、レール３に沿って空気
流入端７から流入し空気流出端８から流出する空気流４
０により空気ベアリングスライダ機構が形成され浮上力
が発生し、板バネ１０の押圧力と浮上力により浮上量１
２が決定される。この浮上量１２を低減するとともに、
磁気ディスクの内周と外周の周速度の差に起因する浮上
量変動を低減することも重要な課題の一つである。図１
１は従来の磁気ヘッドスライダ及びその加工方法を示す
図であり、従来の磁気ヘッドスライダは直線のレール３
を有し、その加工は砥石２７を用いた機械加工によって
行われていた。図１４は周速度と浮上量の関係を示すも
のであり、直線形状のレールの場合はディスクの周速度
の使用範囲１５から３５ｍ／ｓにおいて浮上量は約１４
０から２００ｎｍであり、浮上量はディスク内外周にお
いて約６０ｎｍ変動しており周速度に大きく依存してい
る。また、直線形状のレールにおいてはレール幅と浮上
量が比例関係にあり、浮上量を低減するためにはレール
幅をより細幅とすることが望まれるが、磁気素子５の部
分においてレール幅は磁気素子５と同等の幅が必要であ
るためおのずと限界が生じる。そこで、米国特許第４６
７３９９６号公報に開示されているようにレール３の前
期空気流に沿う角部にチャンファと呼ばれる傾斜面を設
けることにより浮上量の低減とその変動の抑制を実現し
ている。この傾斜面は、浮上面とのなす角度が０．５度
から２度の間であり、レールの面積に対してチャンファ
の面積が占める割合は１２．５から２２．５％であり、
チャンファの一例としては１０μｍ程度の幅と２μｍの
高さを有する。近年、浮上量を低減する最も有効な手段
として、特開平４−２７６３６７号公報に開示されてい
るように非直線形状のレールを用いる方法が盛んに行わ
れている。非直線形状のレールを有する磁気ヘッドの一
例を図１２に示す。このような非直線形状のレールを用
いる場合、浮上量は図１４に示すように、周速度１５か
ら３５ｍ／ｓにおいて約６０から７５ｎｍと低浮上化さ
れ、ディスク内外周での浮上量変動も約１５ｎｍと非常
に小さくなっている。非直線形状のレールを有する磁気
ヘッドの形成プロセスを図１３を用いて説明する。基板
材料であるアルミナチタンカーバイド１３に磁気素子５
を形成した後、該基板を複数のスライダからなるブロッ
ク１４に切断し所定の寸法になるように研磨して浮上面
２を形成し（ａ）、浮上面に保護膜１５をスパッタ、Ｃ
ＶＤ等で成膜し（ｂ）、レールを形成するためのマスク
材であるレジスト１６を塗布しリソグラフィーによりレ
ジストパターンを形成して（ｃ）、浮上面にエッチング
加工によりレールを形成し（ｄ），（ｅ）、個々のスラ
イダに切断し（ｆ）図１２の磁気ヘッド１’を得る。浮
上面にレールを形成する工程（ｄ）は、レール形状が非
直線のため従来の砥石を用いた機械加工により形成する
ことは不可能であるため、通常反応性イオンエッチン
グ、プラズマエッチング、スパッタエッチングやイオン
ミリングのようなエッチング加工が用いられる。基板材
であるアルミナチタンカーバイドはエッチングガスとの
反応性が非常に低いためにエッチング加工は主に高エネ
ルギーのイオンの衝撃による物理的な除去作用による。
そのため、物理的にエッチングされ飛散した被エッチン
グ物はすべて真空ポンプ側へ排気されるのではなく、図
５（ａ）に示すように一部マスク材料やアルミナチタン
カーバイドの側壁に付着する。この現象を再付着と呼
ぶ。この再付着物１９は、マスク材であるレジスト１６
を除去した後も図５（ｂ）に示すように突起状に残って
形状不良を生じる。この再付着を除去するために、特開
平５−１０９６６８号公報に示されているアルゴンイオ
ンビームの基板への入射角度を加工中に変化させること
により再付着を除去する方法が開示されている。この方
法は、アルゴンイオンビームの入射角度が５度以内でま
ず加工を行いその後イオンビームの入射角度を３０度以
上として再付着を除去するという方法である。また、特
開平６−１３３５７号公報に示すようにイオンミリング
後に等方性のプラズマエッチングを行うことにより再付
着１７除去する方法が開示されている。

【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドスライダの
加工において再付着が生じると、エッチング加工後にマ
スク材料の除去を行っても依然として再付着物が磁気ヘ
ッドスライダレールの浮上面に残り、磁気ヘッドの始
動、停止時に磁気ディスクへ傷を付ける、再付着物が磁
気ディスク装置使用中に落下し不良の原因となる等の問
題がある。そればかりではなく、浮上量は年々低下して
いるために、この再付着物の浮上面からの高さが浮上量
と同等もしくはそれ以上になり、低浮上量を得られない
という問題がある。そのため再付着を除去するプロセス
の開発が要求されている。前記従来例（特開平５−１０
９６６８号公報）に開示されているアルゴンイオンビー
ムの入射角を変えて再付着を除去する方法は、再付着除
去方法として最も有効な方法の一つである。しかしなが
ら、磁気ヘッドスライダの基板材料であるアルミナチタ
ンカーバイド等セラミックのイオンミリング等のエッチ
ング加工においては、入射角度６０度以上で、再付着を
除去する事ができるが、このように入射角度が大きい場
合は、エッチングされた浮上面レールの断面形状にレジ
ストマスクの影に起因する、長い斜面が形成されてしま
う。このようなエッチング形状を有する磁気ヘッドスラ
イダは、浮上ばらつきを生じ易いという問題点がある。
また、等方性のプラズマエッチングにより再付着を除去
する方法は薄膜プロセスが主体で加工量の少ない半導体
プロセスにおいては有効であるが、磁気ヘッドスライダ
の場合は加工量が大きく同時に再付着量も多いためこの
手法では長時間を要することが問題である。さらに、磁
気ヘッドスライダはレールの幅とその深さが浮上量に密
接に関係するため、加工精度が非常に厳しく上記等方性
のエッチングは側壁のエッチング量が多いために加工中
の寸法シフトが大きく、形状が大きく変化するため適用
することはできない。そこで、再付着除去方法として、
特開平８−３１５３４２号公報に示すように、再付着物
を研磨により除去する方法が開発され、良好な除去効果
を得た。ここでは、図４に示すように、ヘッドブロック
固定ジグ１８上に固定されたヘッドブロック１４をチャ
ック２１に取り付け、回転する研磨布１７の表面に研磨
液２３を供給しながら、ヘッドブロック固定ジグ１８上
に固定されたヘッドブロック１４を研磨布１７に押圧摺
動させながら、定盤２２の半径方向に揺動させることに
より、再付着物を除去している。この方法は、図９に示
すようにレール側面に付着した再付着物を除去するた
め、除去速度が比較的遅く、１０分から３０分と長時間
を要していた。近年、より低浮上化を実現し、同時にデ
ィスク内外周での浮上量差や、浮上ばらつきを生じない
ためにも、エッチングされた浮上面レールの断面形状
は、より垂直に近く、かつ、レジストの影に起因する傾
斜面が少ない事が望ましいため、アルゴンイオンビーム
で加工する場合、入射角度をより小さくする傾向にあ
る。図８はアルミナチタンカーバイドを１μｍ加工した
場合のレール側壁に付着した再付着物のおおよその厚さ
とイオンビームの入射角度との関係を示したものであ
り、入射角度を小さくするほど、再付着量が増える事が
解る。そのため、たとえば、入射角度０度で１μｍ加工
した場合のレール側面の再付着物は厚さ約０．５μｍと
なり、前述の研磨方法で除去しようとすると、約３時間
を要するため、より、除去速度の早い再付着除去方法を
開発する事が課題となっている。

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明では浮上面に非直線形状のレールをエッチ
ング加工により形成した後に、少なくとも磁気素子上を
有機膜ないし薄膜で保護した状態で、再付着物除去加工
を行う。この加工においては砥粒を含まない加工液ない
し砥粒を含んだ加工液ないし水ないし純水が加工液とし
て用いられる。また研磨布として、繊維状ないし発泡構
造を有し、被加工物から荷重を受ける方向の剛性が、被
加工物から荷重を受ける方向と直交する方向の剛性より
も小なる研磨布を用いるが用いられる。本発明では、少
なくとも磁気素子上のみをレジスト等で保護することに
より、特に、再付着物を、浮上面レール側壁側からのみ
ならず。浮上面側、すなわち再付着物の上面側から研磨
する事により、より短時間で、再付着突起を除去する事
ができる。

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に従
って説明する。本発明の第１の実施例を図１から図８及
び図１９、図２１を用いて説明する。図２は本発明によ
り形成された磁気ヘッド１の概観図である。本発明の磁
気ヘッド１は浮上面２、該浮上面に形成された非直線形
状のレール３、テーパ部４、磁気素子５、素子形成部
６、空気流入端７、空気流出端８を有する。本発明の磁
気ヘッドスライダの作成プロセスを以下に説明する。図
３に示すように、アルミナチタンカーバイド１３に磁気
素子５を形成した後、所定の寸法に切断して複数のヘッ
ドブロック１４を形成し、このヘッドブロックをヘッド
ブロック研磨治具２０に固定して研磨を行い（ｂ）、浮
上面２を形成する（ｃ）。このブロックを磁気素子側か
ら見た側面図を図１（ａ）に示す。浮上面２に保護膜１
５をスパッタもしくはＣＶＤにより成膜した後（ｂ）、
レジスト１６を塗布してリソグラフィーによりレール加
工用のマスクを形成する（ｃ）。レジスト１６をマスク
材としてエッチング加工、例えばアルゴンガスを用いる
イオンミリング（ｄ）によりレジストのレールパターン
をアルミナチタンカーバイドに転写する。図１９は公知
のイオンミリング装置の構成図である。図１９におい
て、１３はアルミナチタンカーバイド、２８は試料ホル
ダ、２９は真空ポンプ、３０は試料交換室、３１は永久
磁石、３２はソレノイドコイル、３３はマイクロ波、３
４はマイクロ波発振器、３５はガス導入口、３６はプラ
ズマ、３７は引き出し電極である。本装置は、ガス導入
口３５よりイオンミリングガスを供給し、マイクロ波３
３によりプラズマ３６を励起し、イオンを引き出し電極
３７により高エネルギーに加速して引き出し、試料に照
射して加工を行うものである。イオンビーム入射角度は
イオンビーム３９と被加工物の法線とのなす角度４２で
定義される。イオンミリング条件の一例は次の通りであ
る。イオンミリングガスにはアルゴンを用い、流量１０
sccm、真空度０．２Pa、ビーム電流密度０．８mA/cm2、
加速電圧９００V、ビーム入射角０゜、加工時間１１０
分である。このようにして加工されたレール３の溝深さ
は約１μｍである。このときのレールの断面形状を図５
（ａ）に示す。アルミナチタンカーバイドとレジストの
側壁全体にかけて再付着物１９が付着している。その厚
みは約０．５μｍである。ここで、いったんレジスト１
６を除去する（ｅ）。レジスト除去後のレールの断面形
状を図５（ｂ）に示す。再付着物の一部はレジストと共
に切断され除去されるが、依然として、レール側壁には
再付着物が残り、浮上面より突出しており、その高さは
約０．１５μｍである。レジスト除去後、磁気素子上に
磁気素子を再付着除去加工中スクラッチ等から保護する
ためのレジスト１６ａを形成したうえで（ｆ）、再付着
物除去加工を行う（ｇ）。このときの除去加工について
以下に詳述する。図４は、ヘッドブロック１４の除再付
着物去加工の概念図である。図４において、１４はヘッ
ドブロック固定ジグ１８上に固定されたヘッドブロッ
ク、２１は回転可能なチャック、１７は回転可能な定盤
２２の上に貼付けた研磨布、２３は加工液である。本発
明の再付着物除去加工によりイオンミリング時に生じた
再付着物を除去するプロセスを図４を用いて説明する。
図４に示すように、ヘッドブロック固定ジグ１８上に固
定されたヘッドブロック１４をチャック２１に取り付
け、回転する研磨布１７の表面に純水２３を供給しなが
ら、ヘッドブロック固定ジグ１８上に固定されたヘッド
ブロック１４を研磨布１７に押圧摺動させながら、定盤
２２の半径方向に揺動させる。加工条件の一例は次の通
りである。定盤２２及び研磨布１７の直径は３００mm、
チャック２１と定盤２２の回転数は、同方向に２０r/mi
n、チャック２０の揺動幅１０mm、揺動速度５mm/sec、
圧力１０ｋＰａ、平均加工速度８０mm/sec、研磨布１７
としてポリエステル不織布、加工液２３として純水を用
い、１０ml/minの量を滴下した。加工時間は５分であ
る。上記条件において、ポリエステル不織布は十分に変
形し、図１（ｇ）に示すようにレジスト及びレールの側
壁とポリエステル不織布は接触した状態で加工が行われ
る。この時の被加工物をポリエステル不織布との接触状
態の拡大図を図７に示す。図７に示すように磁気素子形
成部のみレジスト１６で被覆した状態で再付着物除去加
工を行うと、再付着物１９の側面のみならず上面にもポ
リエステル不織布の繊維が接触し、特に再付着物が浮上
面よりも突出している部分に集中的に接触しているため
に、除去加工が効率よく行われる。この再付着除去研磨
加工後のレールの断面形状を図６に示す。図５（ａ）の
研磨前の状態と比較すると、再付着物は除去されて減少
し、浮上面２より突出する部分はなくなる。また、再付
着物19の上面は、選択的に除去されることにより曲面４
０が形成される。ただし、レール幅とレール溝深さは加
工前と比べ変化していない。ここで使用するポリエステ
ル不織布の一例を図２１に示す。本発明に好適な研磨布
は、図２１（ａ）に示すｂｉｋａｌｏｘ（バイコウスキ
ージャパン製）、図２１（ｂ）に示すｓｕｂａ−ＬＩＴ
Ｅ（ロデールニッタ製）等の、繊維状ないし発泡構造を
有し、被加工物から荷重を受ける方向の剛性が、被加工
物から荷重を受ける方向と直交する方向の剛性よりも小
なる研磨布である。再付着物除去加工の後、レジストを
除去し、ヘッドブロック固定治具からブロックを剥離
し、図１（ｈ）に示す個々の磁気ヘッド１に切断する。
以上説明したように、イオンミリング後に再付着物除去
加工を行うことによってレールの側壁に付着した再付着
物は除去され、その高さは浮上面より突出することはな
い。これにより、再付着物からなる突起が磁気ディスク
を傷つけたり、浮上量が変化するといった問題点はまっ
たく生じなくなる。また、再付着物の上面に曲面が形成
されるために、ディスクとヘッドが接触した際の衝撃を
緩和する効果も有する。なお、イオンミリング時の入射
角度が０度から３０度と小さい場合は、再付着物は、レ
ール側壁に強固に付着し、落下することはない。従来の
磁気ヘッドスライダの作成プロセスの一例を図１２を用
いて説明する。イオンミリングまでの工程は図１（ａ）
〜（ｅ）に示す実施例１の工程と全く同じである。イオ
ンミリング後のレジスト及びアルミナチタンカーバイド
の側壁には実施例１とまったく同様に図５（ａ）に示す
ような再付着物が付着している。ここで、イオンミリン
グに用いたレジストを除去することなく、実施例１と同
様に図４に示すように、再付着物除去加工を行う。加工
条件の一例は次の通りである。定盤２２及び研磨布１７
の直径は３００mm、チャック２１と定盤２２の回転数
は、同方向に２０r/min、チャック２０の揺動幅１０m
m、揺動速度５mm/sec、圧力１０ｋＰａ、平均加工速度
８０mm/sec、研磨布１７としてポリエステル不織布、加
工液２３として純水を用い、１０ml/minの量を滴下し
た。加工時間は１８０分である。この時の被加工物をポ
リエステル不織布との接触状態の拡大図を図９に示す。
実施例１の場合と異なり、イオンミリングに用いたレジ
ストを除去していないために、再付着物はレール側面側
からのみ除去加工される。浮上面より再付着物を突出さ
せないためには、側面に付着した再付着物をすべて除去
する必要があり、それには約１８０分という長時間を要
し生産性が非常に悪く、実際の生産プロセスとして使用
することはできない。本発明の第2の実施例を図１５を
用いて説明する。図１５において、本発明の第２の実施
例ではレールのイオンミリングによる形成の工程（ｅ）
までは第１の実施例と同様である。この時のレール断面
形状を図１７（ａ）に示す。レール側壁には、再付着物
が付着している。ここで、イオンミリングに使用したレ
ジストを除去する。この時のレール断面形状を図１７
（ｂ）に示す。実施例１と同様に再付着物は残ってお
り、その高さは同じく０．１５μｍである。ここで、さ
らに、再度所定の形状のレジストマスクを形成し、２回
目のイオンミリングを行う。イオンミリング条件の一例
は次の通りである。イオンミリングガスにはアルゴンを
用い、流量１０sccm、真空度０．２Pa、ビーム電流密度
０．８mA/cm2、加速電圧９００V、ビーム入射角７５
゜、加工時間１０分である。このようにして加工された
レール３の溝深さは約０．１μｍである（ｇ）。このと
きのレールの断面形状を図１７（ｃ）に示す。１回目に
イオンミリングをしたレール側壁全体には再付着物１９
が付着しているが、その高さは、２回目のイオンミリン
グによりやや減少し、０．１μｍとなっている。２回目
にイオンミリングをしたレール側壁はイオンミリング時
の入射角度を７５度としたため、再付着物は存在しな
い。ここで、２回目のイオンミリングに使用したレジス
トを除去することなく、再付着物除去加工を行う。加工
条件は以下の通りである。定盤２２及び研磨布１７の直
径は３００mm、チャック２１と定盤２２の回転数は、同
方向に２０r/min、チャック２０の揺動幅１０mm、揺動
速度５mm/sec、圧力１０ｋＰａ、平均加工速度８０mm/s
ec、研磨布１７としてポリエステル不織布、加工液２３
として純水を用い、１０ml/minの量を滴下した。加工時
間は３分である。第２回目のイオンミリングにより、再
付着物の突起高さが減少しているためにより短い時間で
加工が可能である。再付着物は減少し図１７（ｄ）に示
すような、レール断面形状を得る。ここでも、実施例１
と同様の除去効果が得られるために、再付着物は除去さ
れて減少し、浮上面２より突出する部分はなくなる。ま
た、再付着物19の上面は、選択的に除去されることによ
り曲面４０が形成される。ただし、レール幅とレール溝
深さは加工前と比べ変化していない。再付着物除去加工
の後、レジストを除去し、ヘッドブロック固定治具から
ブロックを剥離し、図１５（ｉ）に示す個々の磁気ヘッ
ド１に切断する。本実施例においては、２回のイオンミ
リングを行うことにより図（ｂ）に示す２段階のレール
深さを有する磁気ヘッドスライダが得られる。第２の実
施例においても、第１の実施例と同様な再付着除去効果
が得られ、その高さは浮上面より突出することはない。
これにより、再付着物からなる突起が磁気ディスクを傷
つけたり、浮上量が変化するといった問題点はまったく
生じなくなる。第２の実施例においては、２回のイオン
ミリングを行うことにより、再付着物は本発明の第３の
実施例を図１を用いて説明する。本発明の第３の実施例
では磁気素子保護用レジストの形成（ｆ）までは第１の
実施例と同様であり、以下の条件で再付着物除去加工を
行う（ｇ）。定盤２２及び研磨布１７の直径は３００m
m、チャック２１と定盤２２の回転数は、同方向に２０r
/min、チャック２０の揺動幅１０mm、揺動速度５mm/se
c、圧力１０ｋＰａ、平均加工速度８０mm/sec、研磨布
１７としてポリエステル不織布、加工液２３として平均
粒径０．１２５μｍのダイヤモンドスラリーを用い、５
ml/minの量を滴下した。加工時間は２分である。本加工
条件では、加工液にダイヤモンドスラリーを用いること
により、除去速度が速くなり、研磨時間が短縮できる。
第３の実施例においても、第１の実施例と同等なレール
断面形状が得られるために、実施例１と同じ効果が得ら
れる。本発明の第４の実施例を図１及び図１８を用いて
説明する。本発明の第４の実施例では第１図（ｃ）に示
すレジスト形成のプロセスまでは第１の実施例と同様で
あり、次なるエッチング加工を行う（ｄ）。第４の実施
例においては反応性イオンエッチング（以下ＲＩＥと呼
ぶ）によりエッチング加工を行う。図２０は公知の高周
波誘導方式のＲＩＥ装置である。図２０において、１３
はアルミナチタンカーバイド、２９は真空ポンプ、３０
は試料交換室、３５はガス導入口、３６はプラズマ、３
８はコイルである。本装置は従来のＲＩＥ装置に比べプ
ラズマ密度が高いという特徴を持つ。ガス導入口３５よ
りエッチングガスを供給しコイル３８に印加した高周波
電力によりプラズマ３６を励起し、基板にバイアス電圧
をかけることによりイオンは基板へ入射し加工が行われ
る。ＲＩＥにはＣＦ４とアルゴンの混合ガスを用い、そ
れぞれのガスの流量各１５sccm、真空度０．５Pa、バイ
アス電圧５００V、加工時間１０分である。このように
して加工されたレール３の溝深さは約１μｍである。こ
のときのレールの断面形状を図１８（ａ）に示す。アル
ミナチタンカーバイドとレジストの側壁全体にかけて再
付着物１９が付着している。そこで、ＲＩＥ後、いった
んレジストを除去し（ｅ）、磁気素子上にレジストマス
クを形成した上で（ｆ）、再付着物除去加工（ｇ）を行
い、ＲＩＥ時に生じた再付着物を除去する。加工条件は
実施例１と同様である。この再付着物除去加工後の浮上
面レールの断面形状を図１８（ｂ）に示す。再付着物は
完全に除去されてなくなっている。ただし、レール幅と
レール溝深さは加工前と比べ変化していない。再付着物
除去加工の後、レジストを除去し、ヘッドブロック固定
治具からブロックを剥離し、図１（ｈ）に示す個々の磁
気ヘッド１に切断する。以上説明したように、ＲＩＥ後
に再付着物除去加工を行うことによってレールの側壁に
付着した再付着物は完全に除去される。そこで、再付着
物からなる突起が磁気ディスクを傷つけたり、浮上量が
変化するといった問題点はまったく生じなくなる。

【発明の効果】本発明により、レールの浮上面に付着し
た再付着物は、少なくとも浮上面より突出する部分、も
しくはすべて除去され、再付着により磁気ディスクに傷
を生じる、浮上量が変化するといった問題がなくなり、
磁気ディスク装置の信頼性が向上する。また、残留する
再付着物に微小な傾斜面もしくは曲面が設けられること
により、磁気ヘッドとディスク衝突事の衝撃を緩和す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す
図。

【図２】本発明の磁気ヘッドを示す斜視図。

【図３】本発明の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す
図。

【図４】本発明の再付着物除去加工の概念図。

【図５】実施例１の磁気ヘッド浮上面レールの拡大断面
図。

【図６】実施例１の磁気ヘッド浮上面レールの拡大断面
図。

【図７】実施例１の再付着除去加工の加工状態を示す拡
大図。

【図８】ビーム入射角度と再付着量の関係を示す特性
図。

【図９】従来例の再付着除去加工の加工状態を示す拡大
図。

【図１０】磁気ヘッドの浮上状態を説明する図。

【図１１】従来の磁気ヘッドスライダ及びその加工方法
を示す斜視図。

【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す
側断面図。

【図１３】従来の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す
側断面図。

【図１４】磁気ヘッドの周速度と浮上量の関係を示す特
性図。

【図１５】実施例２の磁気ヘッドの製造方法の各工程を
示す側断面図。

【図１６】実施例２の磁気ヘッド浮上面レールの拡大断
面図。

【図１７】研磨布のＳＥＭ写真を示す図。

【図１８】実施例３の磁気ヘッド浮上面レールの拡大断
面図。

【図１９】イオンミリング装置の構成図。

【図２０】ＲＩＥ装置の概念図。

【符号の説明】

１…磁気ヘッド、２…浮上面、３…レール、４…テーパ
部、５…磁気素子、６…磁気素子形成部、７…空気流入
端、８…空気流出端、９…傾斜面、１０…板バネ、１１
…磁気ディスク、１２…浮上量、１３…アルミナチタン
カーバイド、１４…ヘッドブロック、１５…保護膜、１
６…レジスト、１７…研磨布、１８…ヘッドブロック固
定治具、１９…再付着物、１９ａ…再付着物、２０…ヘ
ッドブロック研磨治具、２１…チャック、２２…定盤、
２３…加工液、２４…テーパ角、２７…砥石、２８…試
料ホルダ、２９…真空ポンプ、３０…試料交換室、３１
…永久磁石、３２…ソレノイドコイル、３３…マイクロ
波、３４…マイクロ波発振器、３５…ガス導入口、３６
…プラズマ、３７…引き出し電極、３８…コイル、３９
…イオンビーム、４０…空気流、４１…曲面、４２…イ
オンビーム入射角度。

フロントページの続き (72)発明者 阿南 秀利 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 遠藤 正義 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 高倉 昭雄 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 深澤 克也 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 Ｆターム(参考） 5D042 NA02 PA01 PA05 PA09 QA03 RA02 RA04 SA10

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気ヘッドスライダにおいて、浮上面にレ
   ールをエッチングもしくはスパッタエッチングもしくは
   イオンミリングにより加工した後に、少なくとも磁気素
   子上を、有機膜ないし薄膜で被覆した状態で、研磨布と
   該被加工物を接触摺動させて、再付着物の除去加工を行
   うことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法にお
   いて、繊維状ないし発泡構造を有し、被加工物から荷重
   を受ける方向の剛性が、被加工物から荷重を受ける方向
   と直交する方向の剛性よりも小なる研磨布を用いること
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載の磁気ヘッドの製造方
   法において、有機膜として、感光性材料を使用すること
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
4. 【請求項４】請求項１から３のいずれか１項記載の再付
   着物除去工程において、砥粒を含まない加工液を用いる
   ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
5. 【請求項５】請求項１から３のいずれか１項記載の研磨
   工程において、砥粒を含む研磨液を用いて研磨すること
   を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
6. 【請求項６】請求項４記載の再付着物除去工程におい
   て、加工液が水ないし純水であることを特徴とする磁気
   ヘッドの製造方法。
7. 【請求項７】非直線形状のレールを有する磁気ヘッドス
   ライダにおいて、浮上面のレールの側壁に再付着物が付
   着している事を特徴とする磁気ヘッド。
8. 【請求項８】請求項７記載の磁気ヘッドにおいて、再付
   着物の上面が、傾斜面もしくは曲面であることを特徴と
   する磁気ヘッド。
9. 【請求項９】請求項８記載の磁気ヘッドにおいて、２段
   階以上のレール深さを有することを特徴とする磁気ヘッ
   ド。