JP2000258606A - 防眩性反射防止フィルムおよび画像表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 支持体上にハードコート層と低屈折率層の２
層を形成するのみによって、簡便かつ安価にして十分な
反射防止性能と耐傷性、防汚性を有し、しかも色むらの
少ない防眩性反射防止フィルムを提供する。 【解決手段】 透明支持体上に、ハードコート層と該ハ
ードコート層上の屈折率１．４３乃至１．４９の低屈折
率層とを設けた光学フィルムにおいて、該ハードコート
層を形成する素材の屈折率が１．５８乃至２．００であ
って、該ハードコート層中に平均粒径１．０乃至１０．
０μｍの不定形シリカ粒子を含有し、該低屈折率層が、
動摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９
０乃至１２０°の、含フッ素化合物の架橋体を含んでな
り、該光学フィルムのヘイズが３．０乃至２０．０％、
４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８％以下
である防眩性反射防止フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、防眩性の優れた反
射防止フィルムおよびそれを用いた液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】反射防止フィルムは一般に、液晶表示装
置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッ
センスディスプレイのような画像表示装置において、外
光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止
するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減する
ディスプレイの最表面に配置される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、透明支
持体上にハードコート層と低屈折率層のみを有する反射
防止フィルムにおいては、反射率を低減するためには低
屈折率層を十分に低屈折率化しなければならず、例えば
トリアセチルセルロースを支持体とし、ジペンタエリス
リトールヘキサアクリレートのＵＶ硬化被膜をハードコ
ート層とする反射防止フィルムで４５０ｎｍから６５０
ｎｍにおける平均反射率を１．６％以下にするためには
屈折率を１．４０以下にしなければならない。屈折率
１．４０以下の素材としては無機物ではフッ化マグネシ
ウムやフッ化カルシウム、有機物ではフッ素含率の大き
い含フッ素化合物が挙げられるが、これらフッ素化合物
は凝集力がないためディスプレイの最表面に配置するフ
ィルムとしては耐傷性が不足していた。従って、十分な
耐傷性を有するためには１．４３以上の屈折率を有する
化合物を用いることが従来必要となっていた。

【０００４】特開平７−２８７１０２号においては、気
相法によってＳｉＯ_ｘ（１．５≦ｘ≦４．００）の低屈
折率層を形成しハードコート層の屈折率を大きくするこ
とにより、反射率を低減させることが記載されている。
しかしながら、このような高屈折率ハードコート層は支
持体との屈折率差が大きいためにフィルムの色むらが発
生し、反射率の波長依存性も大きく振幅してしまう。本
発明の課題は、支持体上にハードコート層と低屈折率層
の２層を形成するのみによって、簡便かつ安価にして十
分な反射防止性能と耐傷性、防汚性を有し、しかも色む
らの少ない防眩性反射防止フィルムを提供することであ
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下のよ
うに達成された。 （１）透明支持体上に、ハードコート層と該ハードコー
ト層上の屈折率１．４３乃至１．４９の低屈折率層とを
順に設けた光学フィルムにおいて、該ハードコート層を
形成する素材の屈折率が１．５８乃至２．００であっ
て、該ハードコート層中に平均粒径１．０乃至１０．０
μｍの不定形シリカ粒子を含有し、該低屈折率層が、動
摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触角９０
乃至１２０°の、含フッ素化合物の架橋体を含んでな
り、該光学フィルムのヘイズが３．０乃至２０．０％、
４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８％以下
であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。 （２）ハードコート層の膜厚の２分の１よりも大きい粒
径のシリカ粒子が、重量比で該シリカ粒子全体の４０乃
至１００％を占めることを特徴とする（１）項記載の防
眩性反射防止フィルム。 （３）ハードコート層を形成する素材が、二以上のエチ
レン性不飽和基を有するモノマーと、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選
ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ
以下の微粒子とを（好ましくは電離放射線により）架橋
したものであることを特徴とする防眩性反射防止フィル
ム。 （４）（１）から（３）項のいずれか１項に記載の防眩
性反射防止フィルムを偏光板における偏光層の２枚の保
護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを特徴
とする偏光板。 （５）（１）から（３）項のいずれか１項に記載の防眩
性反射防止フィルムまたは請求項４に記載の防眩性反射
防止偏光板の反射防止層をディスプレイの最表層に反射
防止用として用いたことを特徴とする液晶表示装置。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態として好適
な防眩性反射防止フィルムの基本的な構成を図面を参照
しながら説明する。

【０００７】図１に示す態様は本発明の防眩性反射防止
フィルムの一例であり、トリアセチルセルロースからな
る透明支持体１、ハードコート層２、そして低屈折率層
３の順序の層構成を有する。４は不定形シリカ粒子であ
り、そのハードコートの層からの突出部も低屈折率層３
で覆われている。ハードコート層のシリカ粒子以外の部
分の素材の屈折率が１．５８乃至２．００であり、低屈
折率層の屈折率は１．４３乃至１．４９である。反射防
止膜では、低屈折率層が下記式（Ｉ）をそれぞれ満足す
ることが好ましい。

【０００８】 ｍλ／４×０．７＜ｎ_１ｄ_１＜ｍλ／４×１．３ （Ｉ）

【０００９】式中、ｍは正の奇数（一般に１）であり、
ｎ_１は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ_１は低屈
折率層の膜厚（ｎｍ）である。λは使用光線の波長であ
る。

【００１０】本発明のハードコート層の屈折率は１つの
値で記述されない。ハードコート層を形成する素材の屈
折率は１．５８乃至２．００、シリカ粒子の屈折率は
１．４７であり、支持体として用いうるトリアセチルセ
ルロースの屈折率は１．４８であるため、該ハードコー
ト層は支持体より高屈折率のマトリクスに低屈折率のシ
リカ粒子が分散している屈折率不均一層である。本発明
のハードコート層において素材の屈折率は１．５８乃至
２．００であるが、これが小さすぎると十分な反射防止
性能が得られず、大きすぎると色つきが悪化する。高屈
折率素材が二以上のエチレン性不飽和基を有するモノマ
ーとチタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、ア
ンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの酸化物か
らなる粒径１００ｎｍ以下の微粒子とからなる場合、微
粒子の粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生
じず、光学的には均一な物質として挙動する。このこと
は特開平８−１１０４０１号等に記載されている。

【００１１】本発明においてこのハードコート層は、高
屈折率素材中に分散する低屈折率のシリカ粒子によって
内部散乱が生じるために、ハードコート層での光学干渉
の影響を生じない。シリカ粒子を有しない高屈折率ハー
ドコート層では、ハードコート層と支持体との屈折率差
による光学干渉のために、反射率の波長依存性において
反射率の大きな振幅が見られ、結果として反射防止効果
が悪化し、同時に色むらが発生してしまうが、本発明の
反射防止フィルムではシリカ粒子の内部散乱効果によっ
てこれらの問題を解決した。

【００１２】透明支持体としては、トリアセチルセルロ
ースが好ましい。本発明の防眩性反射防止フィルムを液
晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等して
ディスプレイの最表面に配置する。トリアセチルセルロ
ースは偏光板の偏光層を保護する保護フィルムに用いら
れるため、本発明の防眩性反射防止フィルムをそのまま
保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。

【００１３】ハードコート層に用いる化合物は、飽和炭
化水素またはポリエーテルを主鎖として有するポリマー
であることが好ましく、飽和炭化水素を主鎖として有す
るポリマーであることがさらに好ましい。バインダーポ
リマーは架橋していることが好ましい。飽和炭化水素を
主鎖として有するポリマーは、エチレン性不飽和モノマ
ーの重合反応により得ることが好ましい。架橋している
バインダーポリマーを得るためには、二以上のエチレン
性不飽和基を有するモノマーを用いることが好ましい。
高屈折率にするためには、このモノマーの構造中に芳香
族環、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄、リン、窒素の
原子から選ばれた少なくとも１つを含むことが好まし
い。

【００１４】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの例には、多価アルコールと（メタ）アクリル酸と
のエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペン
タエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペン
タエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチ
ロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロ
ールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリス
リトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリ
トールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シク
ロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリア
クリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニル
ベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベン
ゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエ
ステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニル
スルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド
（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリル
アミドが含まれる。高屈折率モノマーの例には、ビス
（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニ
ルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタク
リロキシフェニル−４‘−メトキシフェニルチオエーテ
ル等が含まれる。ポリエーテルを主鎖として有するポリ
マーは、多官能エポシキ化合物の開環重合反応により合
成することが好ましい。これらのエチレン性不飽和基を
有するモノマーは、塗布後電離放射線、熱などによる重
合反応により硬化させる必要がある。

【００１５】二以上のエチレン性不飽和基を有するモノ
マーの代わりまたはそれに加えて、架橋性基の反応によ
り、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ
基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カ
ルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロー
ル基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン
酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、
エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テト
ラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構
造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロッ
クイソシアナート基のように、分解反応の結果として架
橋性を示す官能基を用いてもよい。また、本発明におい
て架橋基とは、上記化合物に限らず上記官能基が分解し
た結果反応性を示すものであってもよい。これら架橋基
を有する化合物は塗布後熱などによって架橋させる必要
がある。

【００１６】ハードコート層には、ハードコート層を形
成する素材の屈折率を高めるために、チタン、アルミニ
ウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選
ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１００ｎｍ
以下、好ましくは５０ｎｍ以下の微粒子を含有すること
が好ましい。微粒子の例としては、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ
_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴ
Ｏ等が挙げられる。無機微粒子の添加量は、ハードコー
ト層の全重量の１０乃至９０重量％であることが好まし
く、２０乃至８０重量％であると更に好ましく、３０乃
至６０重量％が特に好ましい。

【００１７】ハードコート層には、防眩性付与とハード
コート層の干渉による反射率悪化防止、色むら防止の目
的で、不定形シリカ粒子が用いられる。平均粒径は１．
０乃至１０．０μｍが好ましく、２．０乃至８．０μｍ
がより好ましい。シリカ粒子として不定形のものを用い
るのは表面のギラツキを防止するためであり、これ以外
に真球シリカや架橋アクリル粒子、ＴｉＯ_２粒子等を併
用してもよい。また、ハードコート層の膜厚の２分の１
よりも大きい粒径の不定形シリカ粒子が、重量比で該シ
リカ粒子全体の４０乃至１００％を占めることが好まし
い。ハードコート層中のシリカ粒子は、必ずしもその底
面が支持体に接してはおらず、むしろ塗布時に浮いてい
る状態が普通である。またこのハードコート層の膜厚の
２分の１よりも大きい粒径の不定形シリカ粒子はハード
コート層の素材中３〜５０重量％が好ましく、５〜３０
重量％がより好ましい。粒度分布はコールターカウンタ
ー法や遠心沈降法等により測定できる不定形シリカの粒
径測定法であるが、コールターカウンター法の場合、粒
子数分布になるので、この場合は重量分布に換算するこ
とにしている。ちなみに、レーザー法（マスターサイザ
ー）でも体積分布（＝重量分布）が求められる。これは
原理的には球換算径（体積をその体積の球の直径に換算
したもの）となっている。分布は粒子数分布に換算して
考える。ハードコート層膜厚は２乃至１０μｍが好まし
く、３乃至６μｍがより好ましい。

【００１８】低屈折率層には、動摩擦係数０．０３乃至
０．１５、水に対する接触角９０乃至１２０°の、熱ま
たは電離放射線により架橋させた含フッ素化合物（高分
子）が用いられる。低屈折率層の屈折率は１．４３〜
４．４９であり、この値が低すぎると耐傷性が著しく悪
化し、高すぎると十分な反射防止性能が得られない。ま
たこの層の動摩擦係数は０．０３〜０．１５であり、こ
れが小さすぎると製造工程においてロールでスリップが
発生して傷が発生してしまい、大きすぎると耐傷性その
ものが悪化する。ポリマーを構成する架橋性のフッ素高
分子化合物としてはパーフルオロアルキル基含有シラン
化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２
−テトラデシル）トリエトキシシラン）等の他、含フッ
素モノマー成分と架橋性基付与のためのモノマー成分を
構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。ポリマ
ーを構成する含フッ素モノマー成分の具体例としては、
例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレ
ン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレ
ン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレ
ン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキ
ソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ
素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６Ｆ
Ｍ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）
等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等であ
る。架橋性基付与のためのモノマー成分としてはグリシ
ジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性
官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カ
ルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸
基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば
（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレー
ト、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリル
アクリレート等）が挙げられる。後者は共重合の後、架
橋構造を導入できることが特開平１０−２５３８８号お
よび特開平１０−１４７７３９号に知られている。

【００１９】また上記含フッ素モノマー成分を構成成分
とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモ
ノマーとの共重合体を用いてもよい。併用可能なモノマ
ー成分には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチ
レン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニ
リデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシ
ル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、
メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレング
リコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチ
レン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチル
スチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテ
ル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸
ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔ
ｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアク
リルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリ
ル誘導体等を挙げることができる。

【００２０】反射防止膜の各層は、ディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエ
クストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号
明細書）により、塗布により形成することができる。二
以上の層を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法につ
いては、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８
号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細
書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝
倉書店（１９７３）に記載がある。本発明において各層
の厚さは特に制限はなく、透明支持体は、用途により全
く異なる。ハードコート層は前記の通りであり、低屈折
率層は好ましくは９０〜１１０μｍ、より好ましくは９
５〜１０５μｍである。

【００２１】反射防止膜は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロル
ミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置
（ＣＲＴ）のような画像表示装置に適用する。反射防止
膜が透明支持体を有する場合は、透明支持体側を画像表
示装置の画像表示面に接着する。本発明の防眩性反射フ
ィルムを適用しうる画像表示装置としては、特開平７−
２８７１０２号公報（例えば段落（００５９）〜（００
６１）及び図１４、１５）、特開平７−３３３４０４号
公報（例えば段落（００７８）〜（００７９）及び図１
９、２０）などに記載のものがある）。

【００２２】

【実施例】本発明を詳細に説明するために、以下に実施
例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。

【００２３】（二酸化チタン分散物の調製）二酸化チタ
ン（一次粒子重量平均粒径：５０ｎｍ、屈折率２．７
０）３０重量部、アニオン性ジアクリレートモノマー
（商品名：ＰＭ２１、日本化薬（株）製）４．５重量
部、カチオン性メタクリレートモノマー（商品名：ＤＭ
ＡＥＡ、興人（株）製）０．３重量部およびメチルエチ
ルケトン６５．２重量部をサンドグラインダーにより分
散し、二酸化チタン分散物を調製した。

【００２４】（ハードコート層用塗布液Ａの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイル
チオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化
（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン
／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６２であった。さらにこの溶液に平均粒径３
μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５２
６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速デ
ィスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、
孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して
ハードコート層の塗布液を調製した。

【００２５】（ハードコート層用塗布液Ｂの調製）シク
ロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケトン６１．
３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら前記二
酸化チタン分散物２１７．０ｇ、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
１１０．４ｇを順に添加した。この液を遮光しながら室
温で３０分攪拌の後、光重合開始剤イルガキュア９０７
（チバガイギー社製）５．４４ｇおよび光増感剤カヤキ
ュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）１．８１ｇを添加
してさらに室温にて１時間攪拌した。この溶液を塗布、
紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６６であっ
た。さらにこの溶液に平均粒径３μｍの不定形シリカ粒
子（商品名：ミズカシルＰ−５２６、水澤化学工業
（株）製）５ｇを添加して、高速ディスパにて５０００
ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポリ
プロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗
布液を調製した。

【００２６】（ハードコート層用塗布液Ｃの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）１２５ｇ、ビス（４−メタクリロイル
チオフェニル）スルフィド（ＭＰＳＭＡ、住友精化
（株）製）１２５ｇを、４３９ｇのメチルエチルケトン
／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶媒に溶
解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガキュア
９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増感剤
（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．０ｇ
を４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加え
た。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈
折率は１．６２であった。この液を孔径３０μｍのポリ
プロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の塗
布液を調製した。

【００２７】（ハードコート層用塗布液Ｄの調製）ジペ
ンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリ
スリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日
本化薬（株）製）２５０ｇを、４３９ｇのメチルエチル
ケトン／シクロヘキサノン＝５０／５０重量％の混合溶
媒に溶解した。得られた溶液に、光重合開始剤（イルガ
キュア９０７、チバガイギー社製）７．５ｇおよび光増
感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）５．
０ｇを４９ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を加
えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の
屈折率は１．５３であった。さらにこの溶液に平均粒径
３μｍの不定形シリカ粒子（商品名：ミズカシルＰ−５
２６、水澤化学工業（株）製）１０ｇを添加して、高速
ディスパにて５０００ｒｐｍで１時間攪拌、分散した
後、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過
してハードコート層の塗布液を調製した。

【００２８】（ハードコート層用塗布液Ｅの調製）シク
ロヘキサノン１０４．１ｇ、メチルエチルケトン６１．
３ｇの混合溶媒に、エアディスパで攪拌しながら前記二
酸化チタン分散物２１７．０ｇ、ジペンタエリスリトー
ルペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）
１１０．４ｇを順に添加した。この液を遮光しながら室
温で３０分攪拌の後、光重合開始剤イルガキュア９０７
（チバガイギー社製）５．４４ｇおよび光増感剤カヤキ
ュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）１．８１ｇを添加
してさらに室温にて１時間攪拌した。この溶液を塗布、
紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．６６であっ
た。さらにこの溶液に平均粒径１．５μｍの真球シリカ
粒子（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ１５０、（株）日
本触媒製）１０ｇを添加して、高速ディスパにて５００
０ｒｐｍで１時間攪拌、分散した後、孔径３０μｍのポ
リプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層の
塗布液を調製した。

【００２９】（低屈折率層用塗布液Ａの調製）屈折率
１．４６の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
１、ＪＳＲ（株）製）２００ｇにメチルイソブチルケト
ンを２００ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調
製した。

【００３０】（低屈折率層用塗布液Ｂの調製）屈折率
１．４０の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２
３、ＪＳＲ（株）製）２００ｇにメチルイソブチルケト
ンを２００ｇ添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピ
レン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調
製した。

【００３１】［実施例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は約５０％である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架
橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３２】［実施例２］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ｂをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は約５０％である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架
橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３３】［比較例１］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ｃをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。このハードコート層にはシリカ粒子は含まれてい
ない。その上に、上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコー
ターを用いて塗布し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０
℃で１０分間熱架橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率
層を形成した。

【００３４】［比較例２］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ｄをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は約５０％である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架
橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３５】［比較例３］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ｅをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は０％である。その上に、上記
低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布し、
８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架橋
し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３６】［比較例４］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ１０μｍのハードコート層を形
成した。ハードコート層膜厚の２分の１である５μｍよ
り大きい粒径のシリカ粒子は約５％である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ａをバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架
橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３７】［比較例５］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は約５０％である。その上に、
上記低屈折率層用塗布液Ｂをバーコーターを用いて塗布
し、８０℃で乾燥の後、さらに１２０℃で１０分間熱架
橋し、厚さ０．０９６μｍの低屈折率層を形成した。

【００３８】［比較例６］８０μｍの厚さのトリアセチ
ルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真
フイルム（株）製）に、上記のハードコート層用塗布液
Ａをバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で乾燥の
後、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイ
グラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／
ｃｍ^２、照射量３００ｍＪ／ｃｍ^２の紫外線を照射して
塗布層を硬化させ、厚さ６μｍのハードコート層を形成
した。ハードコート層膜厚の２分の１である３μｍより
大きい粒径のシリカ粒子は約５０％以上である。

【００３９】（反射防止膜の評価）得られたフィルムに
ついて、以下の項目の評価を行った。 （１）平均反射率 分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７
８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光
反射率を測定した。結果には４５０〜６５０ｎｍの平均
反射率を用いた。 （２）ヘイズ 得られたフィルムのヘイズをヘイズメーターＭＯＤＥＬ
１００１ＤＰ（日本電色工業（株）製）を用いて測定
した。 （３）鉛筆硬度評価 耐傷性の指標としてＪＩＳ Ｋ ５４００に記載の鉛筆
硬度評価を行った。反射防止膜を温度２５℃、湿度６０
％ＲＨで２時間調湿した後、ＪＩＳ Ｓ ６００６に規
定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、１ｋｇの荷重にてひ
っかき試験を行った。 ｎ＝５の評価において傷が全く認められない ：○ ｎ＝５の評価において傷が１または２つ ：△ ｎ＝５の評価において傷が３つ以上 ：× （４）接触角、指紋付着性評価 表面の耐汚染性の指標として、光学材料を温度２５℃、
湿度６０％ＲＨで２時間調湿した後、水に対する接触角
を測定した。またこのサンプル表面に指紋を付着させて
から、それをクリーニングクロスで拭き取ったときの状
態を観察して、以下のように指紋付着性を評価した。 指紋が完全に拭き取れる ：○ 指紋がやや見える ：△ 指紋がほとんど拭き取れない ：×

【００４０】（５）動摩擦係数測定 表面滑り性の指標として動摩擦係数にて評価した。動摩
擦係数は試料を２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿し
た後、ＨＥＩＤＯＮ−１４動摩擦測定機により５ｍｍφ
ステンレス鋼球、荷重１００ｇ、速度６０ｃｍ／ｍｉｎ
にて測定した値を用いた。 （６）防眩性評価 作成した防眩性フィルムにルーバーなしのむき出し蛍光
灯（８０００ｃｄ／ｍ ^２）を映し、その反射像のボケの
程度を以下の基準で評価した。 蛍光灯の輪郭が全くわからない ：◎ 蛍光灯の輪郭がわずかにわかる ：○ 蛍光灯はぼけているが、輪郭は識別できる ：△ 蛍光灯がほとんどぼけない ：× （７）ギラツキ評価 作成した防眩性フィルムにルーバーありの蛍光灯拡散光
を映し、表面のギラツキを以下の基準で評価した。 ほとんどギラツキが見られない ：○ わずかにギラツキがある ：△ 目で識別できるサイズのギラツキがある ：×

【００４１】表１に実施例および比較例の結果を示す。
実施例１、２とも反射防止性能に優れ、鉛筆硬度、指紋
付着性、防眩性、ギラツキのような防眩性反射防止フィ
ルムに必要とする全ての性能は良好であった。比較例１
はシリカ粒子が存在しないため、防眩性が全くなかっ
た。また、表には記載していないが、フィルムの色味む
らが顕著であった。比較例２はハードコート層の素材屈
折率が小さいために十分な反射防止性能（反射率）が得
られなかった。比較例３は粒径の小さい真球シリカを用
いているため、防眩性にやや劣り、反射光にギラツキが
見られた。比較例４はハードコート層膜厚がシリカ粒子
と比較して厚いため、防眩性が不十分であり、ギラツキ
がやや劣っていた。比較例５はフッ素含率が大きく屈折
率の小さい熱架橋性含フッ素ポリマーを低屈折率層に用
いているが、反射防止性能は若干優れるものの、鉛筆硬
度が極めて悪く、耐傷性が不足していた。比較例６は低
屈折率層がないため、反射防止性能が全く見られず、ま
た指紋付着性も全くなかった。

【００４２】

【表１】

【００４３】次に、実施例１及び２のフィルムを用いて
防眩性反射防止偏光板を作成した。この偏光板を用いて
反射防止層を最表層に配置した液晶表示装置を作成した
ところ、外光の映り込みがないために優れたコントラス
トが得られ、防眩性により反射像が目立たず優れた視認
性を有していた。

【００４４】

【発明の効果】本発明の防眩性反射防止フィルムは、支
持体上にハードコート層と低屈折率層の２層を形成する
のみによって、簡便かつ安価にして十分な反射防止性能
と耐傷性、防汚性を有し、しかも色むらの少ないという
優れた作用効果を奏する。したがってこの防眩性反射防
止フィルムを表示装置の前面に用いた画像表示装置は外
光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みがな
く、画像の色むらがなく、表示面の耐傷性、防汚性が高
い、という優れた作用効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る防眩性反射防止フィルムの一例の
断面図である。

【符号の説明】

１ 透明支持体 ２ ハードコート層 ３ 低屈折率層 ４ 不定形シリカ粒子

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持体上に、ハードコート層と該ハ
   ードコート層上の屈折率１．４３乃至１．４９の低屈折
   率層とを順に設けた光学フィルムにおいて、該ハードコ
   ート層を形成する素材の屈折率が１．５８乃至２．００
   であって、該ハードコート層中に平均粒径１．０乃至１
   ０．０μｍの不定形シリカ粒子を含有し、該低屈折率層
   が、動摩擦係数０．０３乃至０．１５、水に対する接触
   角９０乃至１２０°の、含フッ素化合物の架橋体を含ん
   でなり、該光学フィルムのヘイズが３．０乃至２０．０
   ％、４５０ｎｍから６５０ｎｍの平均反射率が１．８％
   以下であることを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
2. 【請求項２】 ハードコート層の膜厚の２分の１よりも
   大きい粒径のシリカ粒子が、重量比で該シリカ粒子全体
   の４０乃至１００％を占めることを特徴とする請求項１
   記載の防眩性反射防止フィルム。
3. 【請求項３】 ハードコート層を形成する素材が、二以
   上のエチレン性不飽和基を有するモノマーと、チタン、
   アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのう
   ちより選ばれる少なくとも一つの酸化物からなる粒径１
   ００ｎｍ以下の微粒子とを架橋したものであることを特
   徴とする防眩性反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 請求項１から３のいずれか１項に記載の
   防眩性反射防止フィルムを偏光板における偏光層の２枚
   の保護フィルムのうちの少なくとも一方に用いたことを
   特徴とする偏光板。
5. 【請求項５】 請求項１から３のいずれか１項に記載の
   防眩性反射防止フィルムまたは請求項４に記載の防眩性
   反射防止偏光板をディスプレイの最表層に反射防止用と
   して用いたことを特徴とする液晶表示装置。