JP2000262947A - 塗布装置および塗布方法 - Google Patents
塗布装置および塗布方法Info
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0254—Coating heads with slot-shaped outlet
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E60/00—Enabling technologies; Technologies with a potential or indirect contribution to GHG emissions mitigation
- Y02E60/10—Energy storage using batteries
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Nozzles (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 搬送される支持体をバックアップロールで保
持および反転する過程において、コーティングヘッドか
ら吐出された塗布液を塗布するための塗布装置および塗
布方法において、塗膜厚み均一性を達成し、塗布スジ故
障も低減された高精度な塗布装置および塗布方法を提供
する。 【解決手段】 コーティングヘッドは塗布液供給手段か
ら塗布液を受け入れるための塗布液供給口２１と、塗布
液供給口につながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニ
ホールド２２と、マニホールドにつながって塗布液を吐
出させるスリット２３を有し、マニホールドへの塗布液
の供給が塗布幅中心に対し左右対象になるように塗布液
供給口および塗布液供給手段が設けられており、且つ、
式（１）を満たす。 Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕
持および反転する過程において、コーティングヘッドか
ら吐出された塗布液を塗布するための塗布装置および塗
布方法において、塗膜厚み均一性を達成し、塗布スジ故
障も低減された高精度な塗布装置および塗布方法を提供
する。 【解決手段】 コーティングヘッドは塗布液供給手段か
ら塗布液を受け入れるための塗布液供給口２１と、塗布
液供給口につながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニ
ホールド２２と、マニホールドにつながって塗布液を吐
出させるスリット２３を有し、マニホールドへの塗布液
の供給が塗布幅中心に対し左右対象になるように塗布液
供給口および塗布液供給手段が設けられており、且つ、
式（１）を満たす。 Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はバックアップロール
で反転搬送される長尺の支持体上に塗布液を塗布するた
めの塗布装置および塗布方法に関し、さらに詳しくは、
塗布スジ故障を低減し、塗膜厚み均一性を向上させた塗
布装置および塗布方法に関する。
で反転搬送される長尺の支持体上に塗布液を塗布するた
めの塗布装置および塗布方法に関し、さらに詳しくは、
塗布スジ故障を低減し、塗膜厚み均一性を向上させた塗
布装置および塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】支持体上に塗布液を塗布するための塗布
装置としては、その塗布方式から大きくは２つに分類す
ることが出来る。一つは、塗膜を形成する量だけ塗布液
を吐出して支持体上に乗せるタイプで、エクストルージ
ョン塗布、スライドビード塗布、カーテン塗布等に代表
される「前計量型」の塗布装置、もう一つは、支持体上
に大量に塗布液を乗せた後、過剰の塗布液をブレード、
エアーナイフ、ロール、ワイヤーバー等で掻き取るタイ
プの「後計量型」の塗布装置である。塗布方式の概要に
ついては、”Ｍｏｄｅｒｎ ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ
ｄｒｙｉｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：Ｅｄｗａｒｄ
Ｄ．Ｃｏｈｅｎ ａｎｄ Ｅｄｇａｒ Ｂ．Ｇｕｔｏｆ
ｆ（１９９２ ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎ
ｓ．）”に詳しく記載されている。
装置としては、その塗布方式から大きくは２つに分類す
ることが出来る。一つは、塗膜を形成する量だけ塗布液
を吐出して支持体上に乗せるタイプで、エクストルージ
ョン塗布、スライドビード塗布、カーテン塗布等に代表
される「前計量型」の塗布装置、もう一つは、支持体上
に大量に塗布液を乗せた後、過剰の塗布液をブレード、
エアーナイフ、ロール、ワイヤーバー等で掻き取るタイ
プの「後計量型」の塗布装置である。塗布方式の概要に
ついては、”Ｍｏｄｅｒｎ ｃｏａｔｉｎｇ ａｎｄ
ｄｒｙｉｎｇ ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ：Ｅｄｗａｒｄ
Ｄ．Ｃｏｈｅｎ ａｎｄ Ｅｄｇａｒ Ｂ．Ｇｕｔｏｆ
ｆ（１９９２ ＶＣＨ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ｉｎ
ｓ．）”に詳しく記載されている。
【０００３】後計量型の塗布では、過剰に塗布した塗布
液を後で掻き取り調整するのでコーティングヘッドから
吐出される一次塗膜の塗布幅方向の厚み精度は要求され
ないが、後計量するための装置が別途必要となり、ま
た、高品質な塗布は原理的な要因からあまり期待出来な
い。
液を後で掻き取り調整するのでコーティングヘッドから
吐出される一次塗膜の塗布幅方向の厚み精度は要求され
ないが、後計量するための装置が別途必要となり、ま
た、高品質な塗布は原理的な要因からあまり期待出来な
い。
【０００４】一方、高品質な塗布には前計量型の塗布が
有利であるが、コーティングヘッドから吐出される塗布
液がそのまま塗膜となるため、塗布幅方向の厚み均一性
については高精度が要求される。塗布幅方向の塗膜厚み
均一性は、塗布幅方向の塗布液吐出量分布の均一性と考
えてほぼ間違いない。
有利であるが、コーティングヘッドから吐出される塗布
液がそのまま塗膜となるため、塗布幅方向の厚み均一性
については高精度が要求される。塗布幅方向の塗膜厚み
均一性は、塗布幅方向の塗布液吐出量分布の均一性と考
えてほぼ間違いない。
【０００５】塗布幅方向の塗布液吐出量分布の均一性を
向上させるための技術としては、コーティングヘッドの
スリット間隙を狭くすることが提案されている。しか
し、スリット間隙をただ狭くするだけでは、スリット部
に塗布液圧力がかかり過ぎてしまい、塗布液を送り出す
ことが困難であったり、塗布液中の異物やゴミ等が引っ
かかりやすくなるという問題がある。また、スリット間
隙を狭くすると、その分高い間隙精度が要求され、コー
ティングヘッドの加工が困難になるという問題もあっ
た。また類似の技術としては、スリット長を長くする技
術が提案されているが、同様に高い塗布液圧力が必要だ
ったり、コーティングヘッドの加工が難しいという問題
がある。
向上させるための技術としては、コーティングヘッドの
スリット間隙を狭くすることが提案されている。しか
し、スリット間隙をただ狭くするだけでは、スリット部
に塗布液圧力がかかり過ぎてしまい、塗布液を送り出す
ことが困難であったり、塗布液中の異物やゴミ等が引っ
かかりやすくなるという問題がある。また、スリット間
隙を狭くすると、その分高い間隙精度が要求され、コー
ティングヘッドの加工が困難になるという問題もあっ
た。また類似の技術としては、スリット長を長くする技
術が提案されているが、同様に高い塗布液圧力が必要だ
ったり、コーティングヘッドの加工が難しいという問題
がある。
【０００６】特開平８−２６６９７９号公報では、上述
の、スリット間隙を狭くするのみ、または、スリット長
を長くするのみといった手法ではなく、コーティングヘ
ッドのマニホールド内での圧力損失量とスリットでの圧
力損失量を圧力計を用いて測定し、コントロールするこ
とによって塗膜厚み均一性を達成しようとする技術を開
示している。しかし、圧力損失の定義が明確ではなく、
また、圧力計を用いて塗布中ずっと圧力損失量の調整を
行う必要があることから、実用上煩雑になる問題があ
る。さらに、ここで開示されている塗布方式は、支持体
がフリースパンの状態（支持体を保持せず、浮かせて搬
送している状態）で塗布する、支持体が１０μｍ以下の
薄い場合のみであり、支持体厚が厚くても塗布可能な、
バックアップロールで支持体を保持および反転する過程
で塗布する方式においてどうなのかは全く言及がない。
の、スリット間隙を狭くするのみ、または、スリット長
を長くするのみといった手法ではなく、コーティングヘ
ッドのマニホールド内での圧力損失量とスリットでの圧
力損失量を圧力計を用いて測定し、コントロールするこ
とによって塗膜厚み均一性を達成しようとする技術を開
示している。しかし、圧力損失の定義が明確ではなく、
また、圧力計を用いて塗布中ずっと圧力損失量の調整を
行う必要があることから、実用上煩雑になる問題があ
る。さらに、ここで開示されている塗布方式は、支持体
がフリースパンの状態（支持体を保持せず、浮かせて搬
送している状態）で塗布する、支持体が１０μｍ以下の
薄い場合のみであり、支持体厚が厚くても塗布可能な、
バックアップロールで支持体を保持および反転する過程
で塗布する方式においてどうなのかは全く言及がない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、搬送
される支持体をバックアップロールで保持および反転す
る過程において、コーティングヘッドから吐出された塗
布液を塗布するための塗布装置および塗布方法におい
て、塗膜厚み均一性を達成し、塗布スジ故障も低減され
た高精度な塗布装置および塗布方法を提供しようとする
ものである。
される支持体をバックアップロールで保持および反転す
る過程において、コーティングヘッドから吐出された塗
布液を塗布するための塗布装置および塗布方法におい
て、塗膜厚み均一性を達成し、塗布スジ故障も低減され
た高精度な塗布装置および塗布方法を提供しようとする
ものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、以下の
構成によって達成された。
構成によって達成された。
【０００９】１．連続搬送されている長尺の支持体を保
持および反転するためのバックアップロールと、前記反
転する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布
を行うためのコーティングヘッドと、前記コーティング
ヘッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段と
を有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは
前記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための
塗布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口に
つながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールド
と、前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させる
スリットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供
給が塗布幅中心に対し左右対称になるように前記塗布液
供給口および前記塗布液供給手段が設けられており、且
つ、式（１）を満たすことを特徴とする塗布装置。
持および反転するためのバックアップロールと、前記反
転する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布
を行うためのコーティングヘッドと、前記コーティング
ヘッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段と
を有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは
前記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための
塗布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口に
つながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールド
と、前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させる
スリットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供
給が塗布幅中心に対し左右対称になるように前記塗布液
供給口および前記塗布液供給手段が設けられており、且
つ、式（１）を満たすことを特徴とする塗布装置。
【００１０】
【数４】
【００１１】Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕 ２．前記塗布液供給口が前記マニホールドの塗布幅中心
に一つ設けられていることを特徴とする上記１に記載の
塗布装置。
に一つ設けられていることを特徴とする上記１に記載の
塗布装置。
【００１２】３．前記塗布液供給口が前記マニホールド
の塗布幅両端に１つづつ設けられ、前記塗布液供給手段
から前記塗布液供給口のそれぞれに塗布液の総流量の１
／２づつが供給されるようになっていることを特徴とす
る上記１に記載の塗布装置。
の塗布幅両端に１つづつ設けられ、前記塗布液供給手段
から前記塗布液供給口のそれぞれに塗布液の総流量の１
／２づつが供給されるようになっていることを特徴とす
る上記１に記載の塗布装置。
【００１３】４．連続搬送されている長尺の支持体を保
持および反転するためのバックアップロールと、前記反
転する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布
を行うためのコーティングヘッドと、前記コーティング
ヘッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段と
を有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは
前記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための
塗布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口に
つながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールド
と、前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させる
スリットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供
給が塗布幅方向の中心に対し左右非対称になるように前
記塗布液供給口および前記塗布液供給手段が設けられて
おり、且つ、式（２）を満たすことを特徴とする塗布装
置。
持および反転するためのバックアップロールと、前記反
転する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布
を行うためのコーティングヘッドと、前記コーティング
ヘッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段と
を有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは
前記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための
塗布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口に
つながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールド
と、前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させる
スリットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供
給が塗布幅方向の中心に対し左右非対称になるように前
記塗布液供給口および前記塗布液供給手段が設けられて
おり、且つ、式（２）を満たすことを特徴とする塗布装
置。
【００１４】
【数５】
【００１５】Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕 ５．前記塗布液供給口が前記マニホールドの塗布幅方向
片端に一つ設けられていることを特徴とする上記４に記
載の塗布装置。
片端に一つ設けられていることを特徴とする上記４に記
載の塗布装置。
【００１６】６．前記マニホールド断面形状が円形また
は半円形であることを特徴とする上記１ないし５のいず
れか１項に記載の塗布装置。
は半円形であることを特徴とする上記１ないし５のいず
れか１項に記載の塗布装置。
【００１７】７．前記コーティングヘッドの断面積を前
記マニホールドの断面積の１０倍以上とすることを特徴
とする上記１ないし６のいずれか１項に記載の塗布装
置。
記マニホールドの断面積の１０倍以上とすることを特徴
とする上記１ないし６のいずれか１項に記載の塗布装
置。
【００１８】８．前記連続搬送される支持体の前記コー
ティングヘッドに対して上流側に減圧室を設けたことを
特徴とする上記１ないし７のいずれか１項に記載の塗布
装置。
ティングヘッドに対して上流側に減圧室を設けたことを
特徴とする上記１ないし７のいずれか１項に記載の塗布
装置。
【００１９】９．式（３）を満たすことを特徴とする上
記８に記載の塗布装置。
記８に記載の塗布装置。
【００２０】
【数６】
【００２１】Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｑ：塗布液供給量〔ｃｃ／ｍｉｎ〕 μ：塗布液粘度〔Ｐａ・ｓｅｃ〕 ΔＰ：減圧度〔Ｐａ〕 １０．上記１ないし９のいずれか１項に記載の塗布装置
を用いて塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
を用いて塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【００２２】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について、以
下、図面を参照しながら説明する。
下、図面を参照しながら説明する。
【００２３】図１は、本発明の塗布装置を示す模式図で
ある。図中、１はバックアップロール、２は式（１）ま
たは式（２）を満たす寸法のエクストルージョン型のコ
ーティングヘッド、３はコーティングヘッド２の上流に
配設された減圧室、４は矢印の方向に搬送されている長
尺の支持体である。支持体４がバックアップロール１に
保持され反転される過程において、コーティングヘッド
２から吐出された塗布液を塗布される。バックアップロ
ール１で支持体４にテンションをかけつつ塗布を行うの
で、ツレやシワの発生しやすい膜厚の厚い（５０μｍ以
上）支持体であっても安定した塗布を行うことが出来
る。塗布液は図示しない塗布液供給手段からコーティン
グヘッド２に供給される。コーティングヘッド２の上流
には減圧室３が設けられており、式（３）を満たす減圧
度ΔＰで吸引している。減圧室３により塗布前の支持体
４の表面近傍が減圧されて、空気同伴と呼ばれる支持体
と塗布液の間に空気が入り込み塗布ムラ故障を引き起こ
す問題が低減されたり、コーティングヘッドを支持体か
らある程度離して配置しても塗布が可能になる等の塗布
条件が広くなるメリットを有することになり、本発明に
おいては好ましい態様である。従来は減圧度ΔＰの決定
は、実際の塗布実験により、塗布可能な上限値および下
限値を確認した後に最適な減圧度を決定していく時間の
かかる作業であったが、本発明においてはコーティング
ヘッドとの関係において、式（３）を満たすように設定
するだけで最適値が決定出来、非常に効率的である。
ある。図中、１はバックアップロール、２は式（１）ま
たは式（２）を満たす寸法のエクストルージョン型のコ
ーティングヘッド、３はコーティングヘッド２の上流に
配設された減圧室、４は矢印の方向に搬送されている長
尺の支持体である。支持体４がバックアップロール１に
保持され反転される過程において、コーティングヘッド
２から吐出された塗布液を塗布される。バックアップロ
ール１で支持体４にテンションをかけつつ塗布を行うの
で、ツレやシワの発生しやすい膜厚の厚い（５０μｍ以
上）支持体であっても安定した塗布を行うことが出来
る。塗布液は図示しない塗布液供給手段からコーティン
グヘッド２に供給される。コーティングヘッド２の上流
には減圧室３が設けられており、式（３）を満たす減圧
度ΔＰで吸引している。減圧室３により塗布前の支持体
４の表面近傍が減圧されて、空気同伴と呼ばれる支持体
と塗布液の間に空気が入り込み塗布ムラ故障を引き起こ
す問題が低減されたり、コーティングヘッドを支持体か
らある程度離して配置しても塗布が可能になる等の塗布
条件が広くなるメリットを有することになり、本発明に
おいては好ましい態様である。従来は減圧度ΔＰの決定
は、実際の塗布実験により、塗布可能な上限値および下
限値を確認した後に最適な減圧度を決定していく時間の
かかる作業であったが、本発明においてはコーティング
ヘッドとの関係において、式（３）を満たすように設定
するだけで最適値が決定出来、非常に効率的である。
【００２４】図２は、本発明の塗布装置においてコーテ
ィングヘッドの一形態を示す模式図である。図２（ａ）
はコーティングヘッドの側面図、図２（ｂ）は同コーテ
ィングヘッドを上から見た平面図である。図中、２１は
塗布液供給口、２２はマニホールド、２３はスリット、
２４はエッジ長、Ｍはスリット長、Ｇはスリット間隙、
Ｌは塗布幅である。Ｓはマニホールド２２の断面積であ
り、図中の網かけ部面積を指す。Ｒはマニホールド断面
の周囲長であり、図中の網かけ部周囲長を指す。Ｑは塗
布液供給量（総量）である。図２においてはマニホール
ド２２の断面形状は円形、塗布液供給口２１は塗布幅Ｌ
の中心１ケ所に設けられており、塗布幅中心に対して左
右対称に塗布液供給が行われるので、式（１）を満たす
ことが必要である。
ィングヘッドの一形態を示す模式図である。図２（ａ）
はコーティングヘッドの側面図、図２（ｂ）は同コーテ
ィングヘッドを上から見た平面図である。図中、２１は
塗布液供給口、２２はマニホールド、２３はスリット、
２４はエッジ長、Ｍはスリット長、Ｇはスリット間隙、
Ｌは塗布幅である。Ｓはマニホールド２２の断面積であ
り、図中の網かけ部面積を指す。Ｒはマニホールド断面
の周囲長であり、図中の網かけ部周囲長を指す。Ｑは塗
布液供給量（総量）である。図２においてはマニホール
ド２２の断面形状は円形、塗布液供給口２１は塗布幅Ｌ
の中心１ケ所に設けられており、塗布幅中心に対して左
右対称に塗布液供給が行われるので、式（１）を満たす
ことが必要である。
【００２５】図示しない塗布液供給手段から塗布液供給
口２１に塗布液が供給され、マニホールド２２に溜ま
り、スリット２３を通って吐出されることになる。
口２１に塗布液が供給され、マニホールド２２に溜ま
り、スリット２３を通って吐出されることになる。
【００２６】スリット長Ｍは、マニホールドとの境界よ
り、エッジ出口までの距離であり、スリットを形成する
上のバーと下のバーで長さが異なる場合には、その長さ
の短い方をスリット長Ｍとする。また、スリット長Ｍは
コーティングヘッドの塗布幅方向で一定であるが、万が
一、加工精度の問題で一定でない場合には、その最も短
い部分をスリット長Ｍとする。
り、エッジ出口までの距離であり、スリットを形成する
上のバーと下のバーで長さが異なる場合には、その長さ
の短い方をスリット長Ｍとする。また、スリット長Ｍは
コーティングヘッドの塗布幅方向で一定であるが、万が
一、加工精度の問題で一定でない場合には、その最も短
い部分をスリット長Ｍとする。
【００２７】スリット間隙Ｇは、スリットを形成する上
のバーと下のバーの距離であり、スリット長方向および
塗布幅方向に一定であるが、万が一、加工精度の問題で
一定でない場合は、最も距離の大きい値をスリット間隙
Ｇとする。
のバーと下のバーの距離であり、スリット長方向および
塗布幅方向に一定であるが、万が一、加工精度の問題で
一定でない場合は、最も距離の大きい値をスリット間隙
Ｇとする。
【００２８】塗布幅Ｌは塗布液が吐出可能なスリットの
幅のことである。
幅のことである。
【００２９】式（１）を満たすには、コーティングヘッ
ドの設計時に上記Ｍ、Ｇ、Ｌ、ＳまたはＲを適宜変化さ
せることで達成出来る。これにより塗膜厚み均一性を達
成し、塗布スジ故障を低減出来る。コーティングヘッド
の設計段階でコントロールすれば済み、塗布中の最初か
ら最後まで制御を必要とする従来技術に比べて簡易で優
れている。
ドの設計時に上記Ｍ、Ｇ、Ｌ、ＳまたはＲを適宜変化さ
せることで達成出来る。これにより塗膜厚み均一性を達
成し、塗布スジ故障を低減出来る。コーティングヘッド
の設計段階でコントロールすれば済み、塗布中の最初か
ら最後まで制御を必要とする従来技術に比べて簡易で優
れている。
【００３０】更に、本発明の塗布装置において減圧室を
設ける場合には、式（３）を満たすような塗布液供給量
Ｑ、塗布液粘度μ、減圧度ΔＰとすることで、より本発
明の効果が顕著に奏されることとなる。
設ける場合には、式（３）を満たすような塗布液供給量
Ｑ、塗布液粘度μ、減圧度ΔＰとすることで、より本発
明の効果が顕著に奏されることとなる。
【００３１】塗布液供給量Ｑは、コーティングヘッドよ
り上流におけるポンプ等での塗布液供給量設定値のこと
を指す。すなわち、ポンプや流量計等で規定された量で
ある。
り上流におけるポンプ等での塗布液供給量設定値のこと
を指す。すなわち、ポンプや流量計等で規定された量で
ある。
【００３２】塗布液粘度μは、塗布直前の塗布液がコー
ティングヘッドから吐出された時点での粘度を指す。塗
布液が非ニュートン流体の場合は、スリットでかかる剪
断における粘度である。
ティングヘッドから吐出された時点での粘度を指す。塗
布液が非ニュートン流体の場合は、スリットでかかる剪
断における粘度である。
【００３３】減圧度ΔＰは、減圧室内の減圧度測定値で
ある。
ある。
【００３４】図３は、本発明の塗布装置においてコーテ
ィングヘッドの別の２形態を示す模式図である。図中、
２１、２２および２３は上述と同様である。
ィングヘッドの別の２形態を示す模式図である。図中、
２１、２２および２３は上述と同様である。
【００３５】図３（ａ）のコーティングヘッドは、塗布
液供給口２１が、マニホールド２２の両端に一つづつ配
設されていて、それぞれから全塗布液供給量の１／２量
（１／２Ｑ）づつを供給するようになっている。図３
（ａ）のコーティングヘッドは、マニホールド２２の塗
布幅中心に対し左右対称になるように塗布液の供給が行
われるので、式（１）を満たすように設計されている。
液供給口２１が、マニホールド２２の両端に一つづつ配
設されていて、それぞれから全塗布液供給量の１／２量
（１／２Ｑ）づつを供給するようになっている。図３
（ａ）のコーティングヘッドは、マニホールド２２の塗
布幅中心に対し左右対称になるように塗布液の供給が行
われるので、式（１）を満たすように設計されている。
【００３６】図３（ｂ）のコーティングヘッドは、塗布
液供給口２１が、マニホールド２２の片端に一つ設けら
れ、全塗布液供給量Ｑをここから供給する。図３（ｂ）
のコーティングヘッドは、マニホールド２２の塗布幅中
心に対し左右非対称に塗布液の供給が行われるので、式
（２）を満たすように設計されている。
液供給口２１が、マニホールド２２の片端に一つ設けら
れ、全塗布液供給量Ｑをここから供給する。図３（ｂ）
のコーティングヘッドは、マニホールド２２の塗布幅中
心に対し左右非対称に塗布液の供給が行われるので、式
（２）を満たすように設計されている。
【００３７】図４は、本発明のコーティングヘッドの別
の一形態を示す模式図である。図中、２１、２２および
２３は上述と同様である。マニホールド２２の断面形状
が半円形である。図２のコーティングヘッドのマニホー
ルドは円形であったが、このようにマニホールドの断面
形状が円形または半円形であると、塗布液の圧力をコー
ティングヘッド全体に均一に分散させることが可能とな
り、塗布幅方向の塗膜厚み均一性に効果がある。また、
マニホールド内部において局所的に圧力がかかることに
よる変形を防止することも可能である。さらに、流体の
流入および流出がスムーズなので、塗布終了後のマニホ
ールド内の洗浄性も高まり、場合によっては洗浄液の通
液のみで洗浄が可能となる。
の一形態を示す模式図である。図中、２１、２２および
２３は上述と同様である。マニホールド２２の断面形状
が半円形である。図２のコーティングヘッドのマニホー
ルドは円形であったが、このようにマニホールドの断面
形状が円形または半円形であると、塗布液の圧力をコー
ティングヘッド全体に均一に分散させることが可能とな
り、塗布幅方向の塗膜厚み均一性に効果がある。また、
マニホールド内部において局所的に圧力がかかることに
よる変形を防止することも可能である。さらに、流体の
流入および流出がスムーズなので、塗布終了後のマニホ
ールド内の洗浄性も高まり、場合によっては洗浄液の通
液のみで洗浄が可能となる。
【００３８】本発明のコーティングヘッドのマニホール
ド断面積Ｓに対し、コーティングヘッド全体の断面積
（マニホールド断面積Ｓを含む）を１０倍以上とする
と、マニホールド内における塗布液圧力によるコーティ
ングヘッド全体、またはスリット部の変形を防止出来、
塗布幅方向の塗布液吐出量分布ひいては塗膜の厚み均一
性を向上させることが出来る。
ド断面積Ｓに対し、コーティングヘッド全体の断面積
（マニホールド断面積Ｓを含む）を１０倍以上とする
と、マニホールド内における塗布液圧力によるコーティ
ングヘッド全体、またはスリット部の変形を防止出来、
塗布幅方向の塗布液吐出量分布ひいては塗膜の厚み均一
性を向上させることが出来る。
【００３９】
【実施例】以下に本発明の実施例を示すが、本発明はこ
れに限定されない。
れに限定されない。
【００４０】〔実施例１〕全実施例および比較例におい
て、下記の共通条件については同じ条件で、又、それぞ
れ異なる条件については表１に記載のそれぞれの条件で
塗布、乾燥を行い塗布試料を得た。各塗布試料について
下記の評価項目にて評価を行った。結果を併せて表１に
示す。
て、下記の共通条件については同じ条件で、又、それぞ
れ異なる条件については表１に記載のそれぞれの条件で
塗布、乾燥を行い塗布試料を得た。各塗布試料について
下記の評価項目にて評価を行った。結果を併せて表１に
示す。
【００４１】（共通条件） 塗布液：粘度０．５Ｐａ・ｓｅｃ 支持体：幅１３００ｍｍ、厚み１７５μｍ、ポリエチレ
ンテレフタレート バックアップロール：直径３００ｍｍ 塗布方式：エクストルージョン（押し出し塗布） コーティングヘッドエッジ長（図４の２４参照）：１ｍ
ｍ コーティングヘッドエッジとバックアップロールに保持
された支持体表面との距離：８０μｍ 塗布幅Ｌ：１０８５ｍｍ 塗膜厚み：５０μｍ（塗布直後未乾燥状態での目標値） 塗布速度：２０ｍ／ｍｉｎ 塗布液供給量Ｑ：１０８５ｃｃ／ｍｉｎ （評価項目） １．塗布幅方向の塗膜厚み分布：接触式の膜厚計を使用
し、塗布幅方向に均一な間隔で２０点の塗膜厚みを測定
し、その平均値を算出した。塗布幅方向の分布を「塗膜
最大厚み」から「塗膜最小厚み」を引いたものを「平均
値」で除したもののパーセンテージで求め、２０％を超
えるものを××、１０％を超えて２０％までを×、５％
を超えて１０％までを△、１％を超えて５％までを○、
１％以下を◎の５段階評価で表した。
ンテレフタレート バックアップロール：直径３００ｍｍ 塗布方式：エクストルージョン（押し出し塗布） コーティングヘッドエッジ長（図４の２４参照）：１ｍ
ｍ コーティングヘッドエッジとバックアップロールに保持
された支持体表面との距離：８０μｍ 塗布幅Ｌ：１０８５ｍｍ 塗膜厚み：５０μｍ（塗布直後未乾燥状態での目標値） 塗布速度：２０ｍ／ｍｉｎ 塗布液供給量Ｑ：１０８５ｃｃ／ｍｉｎ （評価項目） １．塗布幅方向の塗膜厚み分布：接触式の膜厚計を使用
し、塗布幅方向に均一な間隔で２０点の塗膜厚みを測定
し、その平均値を算出した。塗布幅方向の分布を「塗膜
最大厚み」から「塗膜最小厚み」を引いたものを「平均
値」で除したもののパーセンテージで求め、２０％を超
えるものを××、１０％を超えて２０％までを×、５％
を超えて１０％までを△、１％を超えて５％までを○、
１％以下を◎の５段階評価で表した。
【００４２】２．塗布故障（１ｍ2あたりのスジ本
数）：目視により１ｍ2あたりのスジ本数をカウントし
た。
数）：目視により１ｍ2あたりのスジ本数をカウントし
た。
【００４３】
【表１】
【００４４】表１から明らかな通り、本発明の塗布装置
を用いた塗布においては、塗布幅方向の塗膜厚み分布お
よび塗布故障について優れた効果を奏していることがわ
かる。
を用いた塗布においては、塗布幅方向の塗膜厚み分布お
よび塗布故障について優れた効果を奏していることがわ
かる。
【００４５】〔実施例２〕実施例１において、試料５，
６および９の塗布装置において、コーティングヘッドの
上流側に減圧室を設けて同様な塗布を行った。このと
き、塗布装置での式（３）の右辺の値を計算すると２３
７０．３７０Ｐａであるが、減圧室の減圧値を２０００
Ｐａとした。すると、塗布幅方向の塗膜厚み分布が○か
ら◎となり、さらに良好な塗布性能を得ることが出来
た。
６および９の塗布装置において、コーティングヘッドの
上流側に減圧室を設けて同様な塗布を行った。このと
き、塗布装置での式（３）の右辺の値を計算すると２３
７０．３７０Ｐａであるが、減圧室の減圧値を２０００
Ｐａとした。すると、塗布幅方向の塗膜厚み分布が○か
ら◎となり、さらに良好な塗布性能を得ることが出来
た。
【００４６】
【発明の効果】搬送される支持体をバックアップロール
で保持および反転する過程において、コーティングヘッ
ドから吐出された塗布液を塗布するための塗布装置およ
び塗布方法において、塗膜厚み均一性を達成し、塗布ス
ジ故障も低減された高精度な塗布装置および塗布方法を
提供することが出来た。
で保持および反転する過程において、コーティングヘッ
ドから吐出された塗布液を塗布するための塗布装置およ
び塗布方法において、塗膜厚み均一性を達成し、塗布ス
ジ故障も低減された高精度な塗布装置および塗布方法を
提供することが出来た。
【図１】本発明の塗布装置を示す模式図である。
【図２】本発明の塗布装置においてコーティングヘッド
の一形態を示す模式図である。
の一形態を示す模式図である。
【図３】本発明の塗布装置においてコーティングヘッド
の別の２形態を示す模式図である。
の別の２形態を示す模式図である。
【図４】本発明のコーティングヘッドの別の一形態を示
す模式図である。
す模式図である。
１ バックアップロール ２ コーティングヘッド ３ 減圧室 ４ 支持体 ２１ 塗布液供給口 ２２ マニホールド ２３ スリット ２４ エッジ長 Ｍ スリット長 Ｇ スリット間隙 Ｌ 塗布幅 Ｓ マニホールド断面積 Ｒ マニホールド断面周囲長 Ｑ 塗布液供給量 μ 塗布液粘度 ΔＰ 減圧度
Claims (10)
- 【請求項１】 連続搬送されている長尺の支持体を保持
および反転するためのバックアップロールと、前記反転
する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布を
行うためのコーティングヘッドと、前記コーティングヘ
ッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段とを
有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは前
記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための塗
布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口につ
ながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールドと、
前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させるスリ
ットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供給が
塗布幅中心に対し左右対称になるように前記塗布液供給
口および前記塗布液供給手段が設けられており、且つ、
式（１）を満たすことを特徴とする塗布装置。 【数１】 Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕 - 【請求項２】 前記塗布液供給口が前記マニホールドの
塗布幅中心に一つ設けられていることを特徴とする請求
項１に記載の塗布装置。 - 【請求項３】 前記塗布液供給口が前記マニホールドの
塗布幅両端に１つづつ設けられ、前記塗布液供給手段か
ら前記塗布液供給口のそれぞれに塗布液の総流量の１／
２づつが供給されるようになっていることを特徴とする
請求項１に記載の塗布装置。 - 【請求項４】 連続搬送されている長尺の支持体を保持
および反転するためのバックアップロールと、前記反転
する過程において前記支持体上に塗布液を吐出し塗布を
行うためのコーティングヘッドと、前記コーティングヘ
ッドに前記塗布液を供給するための塗布液供給手段とを
有する塗布装置において、前記コーティングヘッドは前
記塗布液供給手段から前記塗布液を受け入れるための塗
布液供給口を少なくとも１つと、前記塗布液供給口につ
ながって塗布幅方向に塗布液を溜めるマニホールドと、
前記マニホールドにつながって塗布液を吐出させるスリ
ットを有し、前記マニホールドへの前記塗布液の供給が
塗布幅方向の中心に対し左右非対称になるように前記塗
布液供給口および前記塗布液供給手段が設けられてお
り、且つ、式（２）を満たすことを特徴とする塗布装
置。 【数２】 Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｓ：マニホールド断面積〔ｍｍ2〕 Ｒ：マニホールド断面周囲長〔ｍｍ〕 - 【請求項５】 前記塗布液供給口が前記マニホールドの
塗布幅方向片端に一つ設けられていることを特徴とする
請求項４に記載の塗布装置。 - 【請求項６】 前記マニホールド断面形状が円形または
半円形であることを特徴とする請求項１ないし５のいず
れか１項に記載の塗布装置。 - 【請求項７】 前記コーティングヘッドの断面積を前記
マニホールドの断面積の１０倍以上とすることを特徴と
する請求項１ないし６のいずれか１項に記載の塗布装
置。 - 【請求項８】 前記連続搬送される支持体の前記コーテ
ィングヘッドに対して上流側に減圧室を設けたことを特
徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の塗布
装置。 - 【請求項９】 式（３）を満たすことを特徴とする請求
項８に記載の塗布装置。 【数３】 Ｍ：スリット長〔ｍｍ〕 Ｇ：スリット間隙〔ｍｍ〕 Ｌ：塗布幅〔ｍｍ〕 Ｑ：塗布液供給量〔ｃｃ／ｍｉｎ〕 μ：塗布液粘度〔Ｐａ・ｓｅｃ〕 ΔＰ：減圧度〔Ｐａ〕 - 【請求項１０】 請求項１ないし９のいずれか１項に記
載の塗布装置を用いて塗布を行うことを特徴とする塗布
方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11077811A JP2000262947A (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 塗布装置および塗布方法 |
| US09/527,644 US6436190B1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Coating apparatus and method of coating |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11077811A JP2000262947A (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 塗布装置および塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000262947A true JP2000262947A (ja) | 2000-09-26 |
Family
ID=13644419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11077811A Pending JP2000262947A (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | 塗布装置および塗布方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6436190B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000262947A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003236451A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
| US6726958B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-04-27 | Konica Corporation | Coating method with select parameters |
| JP2004148229A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置及びダイスリット厚み制御方法 |
| JP2006113329A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクルの成膜方法 |
| WO2012035602A1 (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | トヨタ自動車株式会社 | 電池の電極の製造方法および電池の電極の製造装置 |
| JP2016033884A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 東レエンジニアリング株式会社 | 電池用極板の製造装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB201011280D0 (en) * | 2010-07-05 | 2010-08-18 | Cambridge Entpr Ltd | Patterning |
| US12533703B2 (en) * | 2020-11-11 | 2026-01-27 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Electrode mixture slurry coating device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE513714A (ja) * | 1951-08-23 | 1900-01-01 | ||
| US4259055A (en) * | 1979-10-01 | 1981-03-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Coating apparatus |
-
1999
- 1999-03-23 JP JP11077811A patent/JP2000262947A/ja active Pending
-
2000
- 2000-03-17 US US09/527,644 patent/US6436190B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6726958B2 (en) * | 2001-06-28 | 2004-04-27 | Konica Corporation | Coating method with select parameters |
| JP2003236451A (ja) * | 2002-02-14 | 2003-08-26 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
| JP2004148229A (ja) * | 2002-10-31 | 2004-05-27 | Toppan Printing Co Ltd | 塗布装置及びダイスリット厚み制御方法 |
| JP2006113329A (ja) * | 2004-10-15 | 2006-04-27 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | 大型ペリクルの成膜方法 |
| WO2012035602A1 (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | トヨタ自動車株式会社 | 電池の電極の製造方法および電池の電極の製造装置 |
| JP5304902B2 (ja) * | 2010-09-13 | 2013-10-02 | トヨタ自動車株式会社 | 電池の電極の製造方法および電池の電極の製造装置 |
| JP2016033884A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 東レエンジニアリング株式会社 | 電池用極板の製造装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6436190B1 (en) | 2002-08-20 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050921 |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051004 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060221 |