JPH03296464A - 塗布装置 - Google Patents
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- JPH03296464A JPH03296464A JP2097705A JP9770590A JPH03296464A JP H03296464 A JPH03296464 A JP H03296464A JP 2097705 A JP2097705 A JP 2097705A JP 9770590 A JP9770590 A JP 9770590A JP H03296464 A JPH03296464 A JP H03296464A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
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- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、塗布装置に関し、更に詳しくは、その先端部
近傍の一部をドクターエツジ化して成り、移動中の支持
体表面に向けて連続的に押出した塗布液を、前記ドクタ
ーエツジを介して前記支持体表面に均一な厚さをもって
塗布するエクストルーダの改良に関するものである。
近傍の一部をドクターエツジ化して成り、移動中の支持
体表面に向けて連続的に押出した塗布液を、前記ドクタ
ーエツジを介して前記支持体表面に均一な厚さをもって
塗布するエクストルーダの改良に関するものである。
上記の如く塗布には種々の塗布方式が用いられているが
、その一つとしてドクターエツジ付きエクストルージョ
ン型塗布装置が各分野で用いられている（例えば特開昭
５０−１３８０３６号公報、特公昭５４−７３０６号公
報、特開昭５７−８４７７１号公報、特開昭５８−１０
４６６６号公報）。
、その一つとしてドクターエツジ付きエクストルージョ
ン型塗布装置が各分野で用いられている（例えば特開昭
５０−１３８０３６号公報、特公昭５４−７３０６号公
報、特開昭５７−８４７７１号公報、特開昭５８−１０
４６６６号公報）。
しかし、これらのエクストルーダにおける共通の欠点は
、塗布可能な領域が非常に狭いことである。特に、１０
０〜１５０ｍ／分以上の速度では、いずれの方法によっ
ても液状で２０μ−以下を安定に塗布するのは極めて困
難であった。
、塗布可能な領域が非常に狭いことである。特に、１０
０〜１５０ｍ／分以上の速度では、いずれの方法によっ
ても液状で２０μ−以下を安定に塗布するのは極めて困
難であった。
この現象は以下に述べる理由によるものである。
つまり、塗布速度が高速度になるのに伴って、走行する
ウェブによって、塗布ヘッドと支持体との間に引き込ま
れる空気量が急に顕著になるが、この領域で薄膜を均一
に塗布するにはスロット出口の液圧等を適当に大きくす
るなどして空気巻き込みによる悪影響を排除する必要が
生じてくる。すなわち、小さな液圧しか得られないもの
では、塗膜中への気泡の混入等により膜厚の不均一を生
じる。
ウェブによって、塗布ヘッドと支持体との間に引き込ま
れる空気量が急に顕著になるが、この領域で薄膜を均一
に塗布するにはスロット出口の液圧等を適当に大きくす
るなどして空気巻き込みによる悪影響を排除する必要が
生じてくる。すなわち、小さな液圧しか得られないもの
では、塗膜中への気泡の混入等により膜厚の不均一を生
じる。
そこで、塗布時の液圧を大きくし且つ支持体幅方向の厚
みむら等がなく高速塗布を可能とする試みとして例えば
特開昭５８−１０４６６号公報（第６図）が開示されて
いる。このような構造の塗布装置によると、ドクターエ
ツジ面のスロット側頂点にて塗布液に極部的な高圧をか
けられると共に液圧の均一性を良好に保てるので、バッ
クェツジ面からの空気の侵入が阻止され、高速で均一な
１層塗布が可能となった。
みむら等がなく高速塗布を可能とする試みとして例えば
特開昭５８−１０４６６号公報（第６図）が開示されて
いる。このような構造の塗布装置によると、ドクターエ
ツジ面のスロット側頂点にて塗布液に極部的な高圧をか
けられると共に液圧の均一性を良好に保てるので、バッ
クェツジ面からの空気の侵入が阻止され、高速で均一な
１層塗布が可能となった。
しかしながら、上記のように高速塗布、液圧の高圧化は
塗布ヘッドの先端部分に多大の負荷を与える結果、この
負荷に伴う問題として、エツジ部分の欠けが発生し易く
なる。このエツジ欠けによって塗布膜にスジが生じる極
めて重大な欠陥が発生する。その対策として、例えば特
願平１−８５６７２号明細書が提案されている。この明
細書に提案された塗布装置は、塗布圧等の負荷に対して
欠けが発生し難い材質を規定したものである。このよう
な素材による塗布ヘッドによって、欠けの問題はある程
度改善された。しかし、塗布速度の超高速且つ薄層化を
推進するにあたり、磁性分散液内の強磁性酸化鉄粉末、
研磨材粒子等の塗布時の圧力・摩耗により欠けの問題が
クローズアップされてきた。
塗布ヘッドの先端部分に多大の負荷を与える結果、この
負荷に伴う問題として、エツジ部分の欠けが発生し易く
なる。このエツジ欠けによって塗布膜にスジが生じる極
めて重大な欠陥が発生する。その対策として、例えば特
願平１−８５６７２号明細書が提案されている。この明
細書に提案された塗布装置は、塗布圧等の負荷に対して
欠けが発生し難い材質を規定したものである。このよう
な素材による塗布ヘッドによって、欠けの問題はある程
度改善された。しかし、塗布速度の超高速且つ薄層化を
推進するにあたり、磁性分散液内の強磁性酸化鉄粉末、
研磨材粒子等の塗布時の圧力・摩耗により欠けの問題が
クローズアップされてきた。
一方、特開平２−３５９５９号公報に開示された塗布装
置で、ドクターエツジの上流縁部に０．０１〜１１Ｉ＋
の範囲の比較的大きい幅の傾斜平面が形成されたもので
あるが、この平面は異物のトラップを防止すべく設けら
れたもので、その初期の目的は達成されているが、エツ
ジ欠けによる問題に対してはそれほど効果は発揮されて
いない。
置で、ドクターエツジの上流縁部に０．０１〜１１Ｉ＋
の範囲の比較的大きい幅の傾斜平面が形成されたもので
あるが、この平面は異物のトラップを防止すべく設けら
れたもので、その初期の目的は達成されているが、エツ
ジ欠けによる問題に対してはそれほど効果は発揮されて
いない。
従って、上記の改良された塗布装置を用いて超高速で長
時間連続塗布を行うと、塗布面にスジむらが発生し、例
えば磁気記録媒体の場合にはＳ／間やＣ／Ｎ等の特性に
悪影響を与えることが起きる。
時間連続塗布を行うと、塗布面にスジむらが発生し、例
えば磁気記録媒体の場合にはＳ／間やＣ／Ｎ等の特性に
悪影響を与えることが起きる。
従って、本発明の目的は、従来技術の欠点を解消し欠け
によるスジむらの発生をともなうことなく高速塗布と良
好な薄層塗布を可能にした塗布装置を提供することにあ
る。
によるスジむらの発生をともなうことなく高速塗布と良
好な薄層塗布を可能にした塗布装置を提供することにあ
る。
、〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、ドクターエツジ
面のスロット側の端縁の構造とバックェツジの下流端縁
の構造の微妙な組み合わせが前記欠けを効果的に防止で
きることを突き止めた。
面のスロット側の端縁の構造とバックェツジの下流端縁
の構造の微妙な組み合わせが前記欠けを効果的に防止で
きることを突き止めた。
すなわち、本発明の上記目的は、バックェツジ面及びド
クターエツジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体
表面にスロット先端部から塗布液を連続的に押出して該
支持体表面に塗布液を塗布するエクストルージョン型塗
布装置において、前記エクストルージョン型塗布装置に
おけるドクターエツジ面の上流端が２〜３μｍの大きさ
に面取りされている一方、バックェツジの下流端がエツ
ジ素材粒子サイズよりも大きくかつ５０μｍ以下に面取
りされたことを特徴とする塗布装置によって達成される
。
クターエツジ面に沿って連続的に走行する可撓性支持体
表面にスロット先端部から塗布液を連続的に押出して該
支持体表面に塗布液を塗布するエクストルージョン型塗
布装置において、前記エクストルージョン型塗布装置に
おけるドクターエツジ面の上流端が２〜３μｍの大きさ
に面取りされている一方、バックェツジの下流端がエツ
ジ素材粒子サイズよりも大きくかつ５０μｍ以下に面取
りされたことを特徴とする塗布装置によって達成される
。
なお、本発明でいう可撓性支持体とは、プラスチックフ
ィルム、紙、ポリオレフィン塗布紙、アルミニウム銅等
の金属シート等の可撓性シート又はウェブを指し、下塗
層等が設けられていてもよい。このような支持体に、磁
性塗布液、写真感光性塗布液、その他種々の塗布液を塗
布し、磁気記録媒体、各種写真フィルム、印画紙等とす
る。
ィルム、紙、ポリオレフィン塗布紙、アルミニウム銅等
の金属シート等の可撓性シート又はウェブを指し、下塗
層等が設けられていてもよい。このような支持体に、磁
性塗布液、写真感光性塗布液、その他種々の塗布液を塗
布し、磁気記録媒体、各種写真フィルム、印画紙等とす
る。
以下、添付図面に基づいて本発明の実施態様について詳
細に説明する。
細に説明する。
第１図は本発明の塗布装置のエクストルーダの一例を示
す概略断面図でエクストルーダを支持体に対してセット
して塗布状態を示す０本発明におけるエクストルージョ
ン型塗布装置１（以下、単にエクストルーダー１と称す
る）の要部は、次に夫々詳述するような給液系２、ポケ
ット３、スロット４、ドクターエツジ５、及びバックェ
ツジ６に区分される。
す概略断面図でエクストルーダを支持体に対してセット
して塗布状態を示す０本発明におけるエクストルージョ
ン型塗布装置１（以下、単にエクストルーダー１と称す
る）の要部は、次に夫々詳述するような給液系２、ポケ
ット３、スロット４、ドクターエツジ５、及びバックェ
ツジ６に区分される。
前記給液系２は、エクストルーダ１の躯体よりも外部に
あって塗布液Ｆを連続的にかつ一定の流量で送液可能な
定量送液ポンプ手段（図示せず）、並びに前記エクスト
ルーダ１の躯体内部を支持体Ｗの幅方向に透設したポケ
ット３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を夫々
具備して成っている。
あって塗布液Ｆを連続的にかつ一定の流量で送液可能な
定量送液ポンプ手段（図示せず）、並びに前記エクスト
ルーダ１の躯体内部を支持体Ｗの幅方向に透設したポケ
ット３と前記ポンプ手段を連通せしめる配管部材を夫々
具備して成っている。
前記ポケット３は、その断面が略円形を成し、前記支持
体Ｗの幅方向に路間−の断面形状をもって延長された一
種の液溜めである。
体Ｗの幅方向に路間−の断面形状をもって延長された一
種の液溜めである。
又、その有効延長長さは、通常、塗布幅と同等もしくは
若干長く設定される。
若干長く設定される。
なお、前記ポケット３の貫通した両端開口部は、前記エ
クストルーダ１の両端部に取付けられる各シールド７．
８により閉止されている。
クストルーダ１の両端部に取付けられる各シールド７．
８により閉止されている。
前記一方のシールド板７に突設した短管９に、前記給液
系２を接続することにより、前記ポケット３の内部に前
記塗布液Ｆが注入され且つ充満して、後述するスロット
４を経て外部に前記塗布液Ｆを均一な液圧分布をもって
押圧せしめるものである。
系２を接続することにより、前記ポケット３の内部に前
記塗布液Ｆが注入され且つ充満して、後述するスロット
４を経て外部に前記塗布液Ｆを均一な液圧分布をもって
押圧せしめるものである。
前記スロット４は、前記ポケット３から前記支持体Ｗに
向け、通常、０．０３〜２鵬の開口幅をもって前記エク
ストルーダ１の躯体内部を貫通しかつ前記ポケット３と
同じように前記支持体Ｗの幅方向に延長された比較的狭
隘な流路であり、前記支持体Ｗの幅方向の開口長さは塗
布幅と路間等に設定される。
向け、通常、０．０３〜２鵬の開口幅をもって前記エク
ストルーダ１の躯体内部を貫通しかつ前記ポケット３と
同じように前記支持体Ｗの幅方向に延長された比較的狭
隘な流路であり、前記支持体Ｗの幅方向の開口長さは塗
布幅と路間等に設定される。
なお、前記スロット４における前記支持体Ｗに向けた流
路の長さは、前記塗布液Ｆの液組成、物性、供給流量、
供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得るもので
あり、要は前記塗布液Ｆが前記支持体Ｗの幅方向に均一
な流量と液圧分布をもって層流状に前記ポケット３から
流出可能であれば良い。
路の長さは、前記塗布液Ｆの液組成、物性、供給流量、
供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得るもので
あり、要は前記塗布液Ｆが前記支持体Ｗの幅方向に均一
な流量と液圧分布をもって層流状に前記ポケット３から
流出可能であれば良い。
前記ドクターエツジ５は前記スロット４の出口から前記
支持体Ｗの下流側に、前記バックェツジ６は同上流側に
位置する。前記ドクターエツジ５のエツジ面の上流端か
ら下流端にわたった全体的な断面形状は適宜湾曲した形
状であり、前記スロット４の出口部分と前記上流端が交
わる縁部は支持体幅方向全域にわたワて２〜３μｍの幅
の面取りであるドクターエツジ面取り部５ｂが形成され
ている。一方、前記バックェツジ６のスロット出口端に
おいては、支持体幅方向全域にわたって５〜５０μｍの
幅の面取りであるバックエッジ面取り部６ｂが形成され
ている。
支持体Ｗの下流側に、前記バックェツジ６は同上流側に
位置する。前記ドクターエツジ５のエツジ面の上流端か
ら下流端にわたった全体的な断面形状は適宜湾曲した形
状であり、前記スロット４の出口部分と前記上流端が交
わる縁部は支持体幅方向全域にわたワて２〜３μｍの幅
の面取りであるドクターエツジ面取り部５ｂが形成され
ている。一方、前記バックェツジ６のスロット出口端に
おいては、支持体幅方向全域にわたって５〜５０μｍの
幅の面取りであるバックエッジ面取り部６ｂが形成され
ている。
前記スロット出口と前記ドクターエツジ面５ａとの実質
的な角度θ、はθ１≧８０°を満足するように構成され
ており、前記スロット出口と前記バックェツジ面６ａと
の実質的な角度θ２はθ２≦６０°を満足するように構
成されている。
的な角度θ、はθ１≧８０°を満足するように構成され
ており、前記スロット出口と前記バックェツジ面６ａと
の実質的な角度θ２はθ２≦６０°を満足するように構
成されている。
前記ドクターエツジ面の横断面方向の長さ、即ち、ドク
ターエツジ表面の有効長さは直線として約０．５〜約１
７５ｍ、バックェツジ表面の有効長（支持体が接する面
）は約０．１〜約５０ｍで、バックェツジ表面は平面状
であっても、ややまるみを持っていてもよい。なお、本
実施態様においては前記ドクターエツジ面５ａの形状は
湾曲面としたが、一つの平面或は複数の平面さらには平
面と湾曲面の組み合わせの構成であってもよい。
ターエツジ表面の有効長さは直線として約０．５〜約１
７５ｍ、バックェツジ表面の有効長（支持体が接する面
）は約０．１〜約５０ｍで、バックェツジ表面は平面状
であっても、ややまるみを持っていてもよい。なお、本
実施態様においては前記ドクターエツジ面５ａの形状は
湾曲面としたが、一つの平面或は複数の平面さらには平
面と湾曲面の組み合わせの構成であってもよい。
以上、記述したように構成される本発明装置はガイドロ
ーラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって
かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架された前
記支持体Ｗが第１図に示すように前記ドクターエツジ５
及びバックェツジ６と略平行して湾曲するようにエクス
トルーダ支持機構（図示せず）を介して近接せしめる一
方、前記給液系２から前記塗布液Ｆを所望する流量をも
って送液を始めると、前記塗布液Ｆは前記ポケット３及
びスロット４を経過した後、前記支持体Ｗの幅方向に均
一な流量及び圧力分布をもって前記スロット４の出口先
端部に押出される。
ーラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって
かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架された前
記支持体Ｗが第１図に示すように前記ドクターエツジ５
及びバックェツジ６と略平行して湾曲するようにエクス
トルーダ支持機構（図示せず）を介して近接せしめる一
方、前記給液系２から前記塗布液Ｆを所望する流量をも
って送液を始めると、前記塗布液Ｆは前記ポケット３及
びスロット４を経過した後、前記支持体Ｗの幅方向に均
一な流量及び圧力分布をもって前記スロット４の出口先
端部に押出される。
前記スロット４の出口先端部に押出された前記塗布液Ｆ
は、各エツジ面の形状を前述の如く規定することによっ
て適当に制御された液圧を発生して、前記支持体Ｗの同
伴空気の混入を防ぐと共に前記支持体Ｗの表面と、各エ
ツジ面との間に借手の間隙を作りながら、矢印Ｒの方向
に連続的に移動する前記支持体の表面に沿って、前記ド
クターエツジ５のエツジ面５ａと支持体Ｗとの間を押し
拡げるように通過して行く、そして、前記ドクターエツ
ジ５のエツジ面５ａ全域と支持体Ｗの表面は、その幅方
向全域にわたり薄層化されて通過する前記塗布液Ｆによ
り、一定した間隙をもって完全に分離される。
は、各エツジ面の形状を前述の如く規定することによっ
て適当に制御された液圧を発生して、前記支持体Ｗの同
伴空気の混入を防ぐと共に前記支持体Ｗの表面と、各エ
ツジ面との間に借手の間隙を作りながら、矢印Ｒの方向
に連続的に移動する前記支持体の表面に沿って、前記ド
クターエツジ５のエツジ面５ａと支持体Ｗとの間を押し
拡げるように通過して行く、そして、前記ドクターエツ
ジ５のエツジ面５ａ全域と支持体Ｗの表面は、その幅方
向全域にわたり薄層化されて通過する前記塗布液Ｆによ
り、一定した間隙をもって完全に分離される。
前記ドクターエツジ面取り部５ｂの面取りの大きさ（面
取り幅ｐｓ）を上記範囲より大きく設定すると、塗布液
がスロットからエツジ上に流出するときの流動の乱れが
出やすくなるり、特に塗布層表面寄りの液流動に大きく
影響を及ぼす為に、欠けによる面質とは別に塗布面質の
低下があられれてくる。また、前記面取り幅ｆｓを上記
範囲より小さく設定すると、前記ドクターエツジ５は概
して鈍角の構成であり欠けに対しては比較的強いものの
長期の使用による負荷によって欠けが発生してくる。
取り幅ｐｓ）を上記範囲より大きく設定すると、塗布液
がスロットからエツジ上に流出するときの流動の乱れが
出やすくなるり、特に塗布層表面寄りの液流動に大きく
影響を及ぼす為に、欠けによる面質とは別に塗布面質の
低下があられれてくる。また、前記面取り幅ｆｓを上記
範囲より小さく設定すると、前記ドクターエツジ５は概
して鈍角の構成であり欠けに対しては比較的強いものの
長期の使用による負荷によって欠けが発生してくる。
前記バックェツジ面取り部６ｂの面取りの大きさ（面取
り幅！６）を上記範囲より小さく、即ち超硬合金の粒子
であるＷＣ（タングステンカーバイド）等の炭化物結晶
粒子の粒子サイズ（約５μｍ）よりも小さくすると、そ
の面取り加工によっても該面取り部分の面性を良好にす
ることが出来ないだけでなく、前記バックェツジ６の下
流端縁は概して鋭角に構成されているので、この程度の
面取り量では欠けが生じ易く、長期に使用に耐えられな
い。一方、前記バックェツジ面取り部６ｂの面取り幅２
６を上記範囲より大きくすると、該バックェツジ面取り
部６ｂのより前記塗布液を支持体走行方向とは逆方向に
引っ張り込む作用が大きくなりすぎてしまい、前記塗布
液Ｆが前記支持体Ｗに接する側の塗布液界面の挙動に悪
影響を及ぼして厚みむらや更に酷くなると空気の巻き込
みが発生してしまうものと推定できる。
り幅！６）を上記範囲より小さく、即ち超硬合金の粒子
であるＷＣ（タングステンカーバイド）等の炭化物結晶
粒子の粒子サイズ（約５μｍ）よりも小さくすると、そ
の面取り加工によっても該面取り部分の面性を良好にす
ることが出来ないだけでなく、前記バックェツジ６の下
流端縁は概して鋭角に構成されているので、この程度の
面取り量では欠けが生じ易く、長期に使用に耐えられな
い。一方、前記バックェツジ面取り部６ｂの面取り幅２
６を上記範囲より大きくすると、該バックェツジ面取り
部６ｂのより前記塗布液を支持体走行方向とは逆方向に
引っ張り込む作用が大きくなりすぎてしまい、前記塗布
液Ｆが前記支持体Ｗに接する側の塗布液界面の挙動に悪
影響を及ぼして厚みむらや更に酷くなると空気の巻き込
みが発生してしまうものと推定できる。
前記分離間隔は、前記支持体Ｗの張力、塗布液Ｆの供給
量、等の設定条件により定まるものであり、特に、前記
塗布液Ｆの供給量のみの設定変更により、きわめて容易
にかつ正確に所望する分離間隔即ち塗膜の厚さが得られ
る。
量、等の設定条件により定まるものであり、特に、前記
塗布液Ｆの供給量のみの設定変更により、きわめて容易
にかつ正確に所望する分離間隔即ち塗膜の厚さが得られ
る。
なお前記ドクターエツジ５及びバックェツジ６の構成材
料として超硬合金材又はセラミック材料を採用して、前
記両エツジ部の真直度及び平面度を一層高めることによ
り、上記間隔が巾方向により均一になり、その結果とし
て、塗膜厚みの巾方向均一性も一段と良くなり、又高速
及び薄層塗布適性を更に良化させることが出来る。
料として超硬合金材又はセラミック材料を採用して、前
記両エツジ部の真直度及び平面度を一層高めることによ
り、上記間隔が巾方向により均一になり、その結果とし
て、塗膜厚みの巾方向均一性も一段と良くなり、又高速
及び薄層塗布適性を更に良化させることが出来る。
第２図及び第３図は、前記ポケット３への前記塗布液Ｆ
の供給方式に関する変更例を示したものである。
の供給方式に関する変更例を示したものである。
第３図に示した供給方式は、第２図における方式と同じ
ように前記ポケット３への前記塗布液Ｆを片側供給を行
うものであるが、前記他方のシールド板８にも短管１０
を取付け、前記一方のシールド板７における短管９を通
して前記ポケット３内に注入された前記塗布液Ｆの一部
を、前記他方の短管１０を通して外部に排出せしめるこ
とにより、前記塗布液Ｆが前記ポケット３内で著しく滞
留することを防止でき、特に揺変性を有しかつ凝集し易
い磁性塗布液に対しては極めて有効な手段となるもので
ある。
ように前記ポケット３への前記塗布液Ｆを片側供給を行
うものであるが、前記他方のシールド板８にも短管１０
を取付け、前記一方のシールド板７における短管９を通
して前記ポケット３内に注入された前記塗布液Ｆの一部
を、前記他方の短管１０を通して外部に排出せしめるこ
とにより、前記塗布液Ｆが前記ポケット３内で著しく滞
留することを防止でき、特に揺変性を有しかつ凝集し易
い磁性塗布液に対しては極めて有効な手段となるもので
ある。
又、第４図は、第３図のような両側の短管９及び１０以
外に前記ポケット３の略中央部に連通ずる別の短管１１
を取付け、該短管１１から前記塗布液Ｆを供給する中央
供給方式を示したものである。
外に前記ポケット３の略中央部に連通ずる別の短管１１
を取付け、該短管１１から前記塗布液Ｆを供給する中央
供給方式を示したものである。
前記ポケット３内に注入された前記塗布液Ｆの一部は、
前記両側の短管９および１０から外部に排出され、残り
の塗布液Ｆは前記ポケット３内で停滞することなくかつ
圧力分布がより均一化されて前記スロット４から押出さ
れるものである。
前記両側の短管９および１０から外部に排出され、残り
の塗布液Ｆは前記ポケット３内で停滞することなくかつ
圧力分布がより均一化されて前記スロット４から押出さ
れるものである。
なお、本発明装置における塗布液供給方式は、前述した
第２図〜第４図に示した各方式に限らず、それらを適宜
組合せて行っても良い。又、前記ポケット３も、前述し
たような円筒状のものムご限らず、角形、船底形、等に
変更可能であり、要は幅方向に液圧分布を均一可能な形
状であれば良い。
第２図〜第４図に示した各方式に限らず、それらを適宜
組合せて行っても良い。又、前記ポケット３も、前述し
たような円筒状のものムご限らず、角形、船底形、等に
変更可能であり、要は幅方向に液圧分布を均一可能な形
状であれば良い。
前記実施態様においては単層塗布の塗布装置について述
べたが、本発明はこれに限るものではなく、重層同時塗
布の塗布装置についても適用できるものである。この重
層同時塗布の塗布装置の概略図を第５図に示す、この装
置の場合、バックェツジ面６ａの下流端のバックェツジ
面取り部６ｂに関しては、前記実施態様と同様であるが
、第１及び第２のドクターエツジ５５．５□に関しては
、その両方に面取り部を形成するのではなく、上層塗布
液Ｆ２の塗布に関与する支持体走行方向の下流側の第２
ドクターエツジ５□にドクターエツジ面取り部５ｂを形
成すればよい。
べたが、本発明はこれに限るものではなく、重層同時塗
布の塗布装置についても適用できるものである。この重
層同時塗布の塗布装置の概略図を第５図に示す、この装
置の場合、バックェツジ面６ａの下流端のバックェツジ
面取り部６ｂに関しては、前記実施態様と同様であるが
、第１及び第２のドクターエツジ５５．５□に関しては
、その両方に面取り部を形成するのではなく、上層塗布
液Ｆ２の塗布に関与する支持体走行方向の下流側の第２
ドクターエツジ５□にドクターエツジ面取り部５ｂを形
成すればよい。
以上、記述したように本発明装置はエクストルージョン
型塗布装置の断面におけるドクターエツジ面の上流端が
２〜３μｍの大きさの比較的小さい面取りを施されてい
る共に、バックェツジの下流端がエツジ素材粒子のサイ
ズより大きく面取り構成されたので、前記ドクターエツ
ジ面の上流端においては塗布液の乱れを防止しつつエツ
ジ欠けを回避でき、且つ前記バックェツジの下流端がエ
ツジ素材粒子のサイズより大きく面取りされたことで、
該面取り部の面性は良く液面との接触性を高めつつ、面
取りの大きさを特定範囲以下に構成したことで、液面の
挙動の乱れを防止している。
型塗布装置の断面におけるドクターエツジ面の上流端が
２〜３μｍの大きさの比較的小さい面取りを施されてい
る共に、バックェツジの下流端がエツジ素材粒子のサイ
ズより大きく面取り構成されたので、前記ドクターエツ
ジ面の上流端においては塗布液の乱れを防止しつつエツ
ジ欠けを回避でき、且つ前記バックェツジの下流端がエ
ツジ素材粒子のサイズより大きく面取りされたことで、
該面取り部の面性は良く液面との接触性を高めつつ、面
取りの大きさを特定範囲以下に構成したことで、液面の
挙動の乱れを防止している。
従って、高速塗布に適した高液圧により空気の巻き込み
を回避でき、かつ高液圧等によるエツジ欠けにも耐えう
るので、前記塗布液の塗布において生ずるエツジ部の磨
耗・欠けによる塗布性能の劣化を防止し、塗布面のスジ
のない良好な塗布を長期にわたって保証することができ
た。
を回避でき、かつ高液圧等によるエツジ欠けにも耐えう
るので、前記塗布液の塗布において生ずるエツジ部の磨
耗・欠けによる塗布性能の劣化を防止し、塗布面のスジ
のない良好な塗布を長期にわたって保証することができ
た。
以下、実施例により本発明の効果をより明確にすること
ができる。
ができる。
本発明の実施例について説明する。
第１表に示す組成の各成分をボールミルに入れて十分に
混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エポキシ当量５０
０）を３０重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗
布液とした。
混合分散させたのち、エポキシ樹脂（エポキシ当量５０
０）を３０重量部を加えて均一に混合分散させて磁性塗
布液とした。
第１表
こうして得られた磁性塗布液の平衡粘度を島原製作所製
の島原レオメータＲＭ−１により測定したところ剪断速
度が１０ｓｅｃ −’においては８ｐｏｉｓｅ 。
の島原レオメータＲＭ−１により測定したところ剪断速
度が１０ｓｅｃ −’においては８ｐｏｉｓｅ 。
又５００ｓｅｃ−’においてはｌ ｐｏｉｓｅを示した
。
。
実施例−１
次に、前記塗布液をエクストルージョン型塗布装置を用
いて、下記条件に基づき塗布した。
いて、下記条件に基づき塗布した。
１、支持体；
材質・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム
厚さ・ ・ ・２０μｍ
幅・・・・３００ＩｎＩ１１
張力・・・４ ｋｇ／全幅
移動速度・・・３００ｍ／ｌ１ｌｉｎ
２、エクストルーダ
第１図に示すものを基本にして各面取りのサイズを変え
たものと面取りしないエクストルーダを多数作成して塗
布を行った。材質は超硬合金でその粒子サイズは平均５
μｍである。
たものと面取りしないエクストルーダを多数作成して塗
布を行った。材質は超硬合金でその粒子サイズは平均５
μｍである。
３、塗膜厚（液状）１０μ
その結果を第２表に示す。エツジ欠は数並びに塗布面の
スジ発生数について調べた。なお、ドクターエツジの面
取り幅が５０μｍのものとバックェツジの面取り幅が１
５０μｍのものにおいては、塗布面性が悪く評価できな
かった。なお、表中において、使用後とは５００時間使
用した後の結果であり、又、総合評価は５００時間使用
したのちでもＯ印はスジ並びにカケもなく良好に塗布で
きた、Δ印は実用的には問題がないがＯ印にくらべてや
や悪い、Ｘ印はスジもカケも多く発生し良好な塗布がで
きはかったことを示す、又、表中のムラアリは欠けによ
らない何らかの原因で生じた僅かな塗膜の乱れ。
スジ発生数について調べた。なお、ドクターエツジの面
取り幅が５０μｍのものとバックェツジの面取り幅が１
５０μｍのものにおいては、塗布面性が悪く評価できな
かった。なお、表中において、使用後とは５００時間使
用した後の結果であり、又、総合評価は５００時間使用
したのちでもＯ印はスジ並びにカケもなく良好に塗布で
きた、Δ印は実用的には問題がないがＯ印にくらべてや
や悪い、Ｘ印はスジもカケも多く発生し良好な塗布がで
きはかったことを示す、又、表中のムラアリは欠けによ
らない何らかの原因で生じた僅かな塗膜の乱れ。
第 ２ 表
実施例−２
次に、前記塗布液を重層同時塗布のエクストルージョン
型塗布装置を用いて、下記条件に基づき塗布した。
型塗布装置を用いて、下記条件に基づき塗布した。
１、支持体：
材質・・・ポリエチレンテレフタレートフィルム
厚さ・ ・・２０μｍ
幅・・・・３００１ＩＩ１１
張力・・・４ ｋｇ／全幅
移動速度・・・３００Ｉｌ／１ｌｉｎ
２、エクストルーダ
第５図に示すものを基本にして各面取りのサイズを変え
たものと面取りしないエクストルーダを多数作成して塗
布を行った。なお、第１ ドクターエツジの曲率は６Ｉ
ｌｌＩ、第２ドクターエツジの曲率も６ｍ１１とした。
たものと面取りしないエクストルーダを多数作成して塗
布を行った。なお、第１ ドクターエツジの曲率は６Ｉ
ｌｌＩ、第２ドクターエツジの曲率も６ｍ１１とした。
材質は超硬合金でその粒子サイズは平均５μｍである。
３、塗布液は下層（Ｆｌ）に第３表の組成の塗布液、上
層（Ｆ２）には第４表の塗布液を用いた。塗布量は下層
が１５ｃｃ／ｍ” 、上層が１０ｃｃ／ｍ”とした。ナ
オ、下層の塗布液は剪断速度Ｉ ＸＩＯ’ ｓｅｃ −
’において０．２ｐｏｉｓｅを示し、上層の塗布液は剪
断速度１×１０’ ｓｅｃ −’において０．３ｐｏｉ
ｓｅを示した。
層（Ｆ２）には第４表の塗布液を用いた。塗布量は下層
が１５ｃｃ／ｍ” 、上層が１０ｃｃ／ｍ”とした。ナ
オ、下層の塗布液は剪断速度Ｉ ＸＩＯ’ ｓｅｃ −
’において０．２ｐｏｉｓｅを示し、上層の塗布液は剪
断速度１×１０’ ｓｅｃ −’において０．３ｐｏｉ
ｓｅを示した。
その結果を第５表に示す、エツジ欠は数並びに塗布面の
スジ発生数について調べた。なお、ドクターエツジの面
取り幅が５０ａｍのものとバックェツジの面取り幅が１
５０μｍのものにおいては、実施例−１と同様に塗布面
性が悪く評価できなかった。なお、表中において、使用
後とは５００時間使用した後の結果であり、又、総合評
価は５００時間使用したのちでもＯ印はスジ並びにカケ
も７ヨク良好に塗布できた、Δ印は実用的には問題がな
いがＯ印にくらべてやや悪い、Ｘ印はスジもカケも多（
発生し良好な塗布ができはかったことを示す。
スジ発生数について調べた。なお、ドクターエツジの面
取り幅が５０ａｍのものとバックェツジの面取り幅が１
５０μｍのものにおいては、実施例−１と同様に塗布面
性が悪く評価できなかった。なお、表中において、使用
後とは５００時間使用した後の結果であり、又、総合評
価は５００時間使用したのちでもＯ印はスジ並びにカケ
も７ヨク良好に塗布できた、Δ印は実用的には問題がな
いがＯ印にくらべてやや悪い、Ｘ印はスジもカケも多（
発生し良好な塗布ができはかったことを示す。
又、表中のムラアリは欠けによらない何らかの原因で生
じた僅かな塗膜の乱れ。
じた僅かな塗膜の乱れ。
（以下余白）
第
３
表
（下層）
第 ４
表 （上層）
上記第２表及び第５表から、単層塗布及び重層塗布にお
いてもバックェツジ面取り部の面取り幅は５μｍ〜５０
μｍの範囲で、ドクターエツジ面取り部の面取り幅が２
〜３μｍの範囲であると極めて良好な塗布を行えること
が判る。
いてもバックェツジ面取り部の面取り幅は５μｍ〜５０
μｍの範囲で、ドクターエツジ面取り部の面取り幅が２
〜３μｍの範囲であると極めて良好な塗布を行えること
が判る。
第１図は本発明塗布装置の一実施態様であるエクストル
ーダの断面図、第２図は第１図におけるエクストルーダ
の一部を切断して示した斜視図、第３図及び第４図は本
発明装置におけるエクストルーダへの塗布液供給方式の
変更例を夫々示した斜視図、第５図は本発明の他の実施
態様である重層塗布装置の要部概略断面図、第６図は従
来のエキストルーダの断面図である。 １・・・エクストルーダ 第 ５ 表 ２ ・ ・ ４ ・ ・ ５ ・ ・ ５ａ・ ・ ５ｂ・ ・ ６ ・ ・ ６ａ・ ・ ６ｂ・ ・ ７．８ ９ ・ ・ Ｆ、Ｆい ・給液系 ３・・・ポケット ・スロット ・ドクターエツジ ・ドクターエツジ面、 ・ドクターエツジ面取り部、 ・バックェツジ ・バックェツジ面、 ・バックェツジ面取り部、 ・・・シールド 、短管 Ｗ・・・支持体 Ｆ２・・・塗布液 （ほか ３名） 第 １ 図 第 図 ｈ 第 図 弔 図
ーダの断面図、第２図は第１図におけるエクストルーダ
の一部を切断して示した斜視図、第３図及び第４図は本
発明装置におけるエクストルーダへの塗布液供給方式の
変更例を夫々示した斜視図、第５図は本発明の他の実施
態様である重層塗布装置の要部概略断面図、第６図は従
来のエキストルーダの断面図である。 １・・・エクストルーダ 第 ５ 表 ２ ・ ・ ４ ・ ・ ５ ・ ・ ５ａ・ ・ ５ｂ・ ・ ６ ・ ・ ６ａ・ ・ ６ｂ・ ・ ７．８ ９ ・ ・ Ｆ、Ｆい ・給液系 ３・・・ポケット ・スロット ・ドクターエツジ ・ドクターエツジ面、 ・ドクターエツジ面取り部、 ・バックェツジ ・バックェツジ面、 ・バックェツジ面取り部、 ・・・シールド 、短管 Ｗ・・・支持体 Ｆ２・・・塗布液 （ほか ３名） 第 １ 図 第 図 ｈ 第 図 弔 図
Claims (2)
- （１）バックエッジ面及びドクターエッジ面に沿って連
続的に走行する可撓性支持体表面にスロット先端部から
塗布液を連続的に押出して該支持体表面に塗布液を塗布
するエクストルージョン型塗布装置において、前記エク
ストルージョン型塗布装置におけるドクターエッジ面の
上流端が２〜３μｍの大きさに面取りされている一方、
バックエッジの下流端がエッジ素材粒子サイズよりも大
きくかつ５０μｍ以下に面取りされたことを特徴とする
塗布装置。 - （２）重層同時塗布可能な前記エクストルージョン型塗
布装置において、最上層を塗布する前記ドクターエッジ
面の上流端が２〜３μｍの大きさの面取りされたことを
特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2097705A JP2565414B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 塗布装置 |
| US07/684,725 US5105760A (en) | 1990-04-16 | 1991-04-15 | Applicator device for applying thin liquid films on carriers |
| DE4112428A DE4112428C2 (de) | 1990-04-16 | 1991-04-16 | Auftragsvorrichtung zum Auftragen dünner flüssiger Filme auf Träger |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2097705A JP2565414B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03296464A true JPH03296464A (ja) | 1991-12-27 |
| JP2565414B2 JP2565414B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=14199338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2097705A Expired - Lifetime JP2565414B2 (ja) | 1990-04-16 | 1990-04-16 | 塗布装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5105760A (ja) |
| JP (1) | JP2565414B2 (ja) |
| DE (1) | DE4112428C2 (ja) |
Cited By (1)
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| JP2017042758A (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | 京セラ株式会社 | 塗工用ダイヘッドおよび塗工装置 |
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| EP0542635B1 (en) * | 1991-10-15 | 1999-06-09 | Eastman Kodak Company | Magnetic dispersion coating method and apparatus having high shear regions |
| EP0552654B1 (en) * | 1992-01-21 | 1999-07-07 | Sterling Diagnostic Imaging, Inc. | Coating lip geometry for slide bead coating |
| JP2916557B2 (ja) * | 1992-04-16 | 1999-07-05 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布装置 |
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| JPH10286508A (ja) * | 1997-04-11 | 1998-10-27 | Sony Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
| TWI399276B (zh) * | 2006-08-16 | 2013-06-21 | Fujifilm Corp | 流延裝置、溶液流延設備及溶液流延方法 |
Family Cites Families (11)
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|---|---|---|---|---|
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