JP2000269353A - 交流用スイッチ素子及び交流スイッチ回路 - Google Patents

交流用スイッチ素子及び交流スイッチ回路

Info

Publication number
JP2000269353A
JP2000269353A JP11076062A JP7606299A JP2000269353A JP 2000269353 A JP2000269353 A JP 2000269353A JP 11076062 A JP11076062 A JP 11076062A JP 7606299 A JP7606299 A JP 7606299A JP 2000269353 A JP2000269353 A JP 2000269353A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor
region
circuit
switch element
switch
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11076062A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3857462B2 (ja
Inventor
Kazuo Imanishi
和雄 今西
Akihiro Iida
明弘 飯田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP07606299A priority Critical patent/JP3857462B2/ja
Priority to US09/526,881 priority patent/US6313513B1/en
Publication of JP2000269353A publication Critical patent/JP2000269353A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3857462B2 publication Critical patent/JP3857462B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/06Modifications for ensuring a fully conducting state
    • H03K17/063Modifications for ensuring a fully conducting state in field-effect transistor switches
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03KPULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/51Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used
    • H03K17/56Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices
    • H03K17/687Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors
    • H03K17/6871Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor
    • H03K17/6874Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the components used by the use, as active elements, of semiconductor devices the devices being field-effect transistors the output circuit comprising more than one controlled field-effect transistor in a symmetrical configuration
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10DINORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
    • H10D84/00Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers
    • H10D84/40Integrated devices formed in or on semiconductor substrates that comprise only semiconducting layers, e.g. on Si wafers or on GaAs-on-Si wafers characterised by the integration of at least one component covered by groups H10D12/00 or H10D30/00 with at least one component covered by groups H10D10/00 or H10D18/00, e.g. integration of IGFETs with BJTs
    • H10D84/401Combinations of FETs or IGBTs with BJTs

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)
  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】素子数を削減した低価格の交流用スイッチ素子
のゲート駆動を良好に行うことができる交流スイッチ回
路を提供する。 【解決手段】MOS形トランジスタからなる双方向に導
通可能な交流用スイッチ素子S1、S2と、前記MOS
形トランジスタのゲートの駆動電圧を制御するドライブ
回路DR1〜DR3と、このドライブ回路へ前記駆動電
圧を供給するコンデンサC1〜C3と、交流用スイッチ
素子S1、S2が接続された交流電源ACの変化する最
低電位を検出するためのスイッチ素子SWE、SWF及
びダイオードDI4、DI5と、前記最低電位を受け取
りこの最低電位を基準にしてコンデンサC1〜C3を昇
圧するブートストラップ回路とから構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、交流回路に用い
られる交流用スイッチ素子及び交流スイッチ回路に関す
るものであり、特に小型家電機器のインバータ用の交流
回路に使用されるものである。
【0002】
【従来の技術】近年、小型家電機器ではインバータ化が
進行している。このインバータ化の中で、DCブラシレ
ス型に対し、安価で信頼性の高いシステムを提供する手
段として、交流(AC)を高速でスイッチングする以下
のような交流スイッチ回路が用いられている。
【0003】図14は、前記交流スイッチ回路の基本的
な構成を示す回路図である。交流電源A101から流れ
る電流は、スイッチSW101がオンしたとき負荷L1
01に流れ、スイッチSW101がオフしたとき遮断さ
れる。しかし、このような回路の場合、実際には図15
に示すように、スイッチSW101がオフしたときに回
生電流を流すためのスイッチSW102が設けられる。
さらに、スイッチSW101−SW102間の貫通を防
ぐためにデッドタイムをもうけるが、このことにより発
生するサージを吸収するための双方向ツェナーダイオー
ドZ101、Z102、また交流電源A101のインピ
ーダンスにより発生するサージを吸収するためのコンデ
ンサC101が必要になる。
【0004】さらに、コスト面や電力ロスの面で有力な
手段は、図16に示すように、双方向に電流を流せる交
流スイッチ回路を構成することである。この回路では、
図15に示した回路において、前記スイッチSW10
1、SW102に、双方向に電流を流すことが可能な交
流用スイッチ素子AS101、AS102が用いられて
いる。この交流用スイッチ素子AS101、AS102
は、いずれも2つのMOS形電界効果トランジスタ(以
下MOSFET)TR101、TR102を直列に接続
したものである。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図16
に示した交流用スイッチ素子では、MOSFETを直列
に2つ接続しているため、MOSFET(素子)の数が
増加し、さらに配線抵抗が大きくなってしまう。したが
って、従来の交流スイッチ回路では、素子オン抵抗に余
裕のあるMOSFETを多数準備しなければならず、低
価格化が阻害されてしまうという問題がある。
【0006】また、前記TR101、TR102のゲー
ト駆動回路についてはソース電圧が異なるため、図17
に示すように、フローティングの電源をそれぞれ用意し
なければならず、トランスを用いて電源を分離しなけれ
ばならないなど、回路が複雑になる。そこで、一般に、
図18に示すようなブートストラップ電源Vbs、制御
信号発生回路101、レベルシフト回路102、ドライ
ブ回路103、104、ダイオードD101、D10
2、コンデンサC101、C102などから構成される
回路を用いるのが安価な方法として知られている。しか
し、交流用スイッチ素子の場合は、両端の電位が固定さ
れないため適用が困難である。
【0007】そこでこの発明は、前記課題に鑑みてなさ
れたものであり、素子数を削減した簡素な構成で低価格
の交流用スイッチ素子を提供すること、及びこの交流用
スイッチ素子のゲート駆動を良好に行うことができる交
流スイッチ回路を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、この発明に係る交流用スイッチ素子は、第1導電形
の半導体基板上に形成された前記第1導電形と反対の第
2導電形の第1半導体領域と、前記第1半導体領域内に
分離されて形成された前記第1導電形の第2、第3半導
体領域と、前記第2半導体領域内に分離されて形成され
た前記第2導電形の第4、第5半導体領域と、前記第3
半導体領域内に分離されて形成された前記第2導電形の
第6、第7半導体領域と、前記第4、第5半導体領域と
前記第6、第7半導体領域との間の前記第2半導体領域
上部に形成された第1チャネル領域と、前記第4、第5
半導体領域と前記第6、第7半導体領域との間の前記第
3半導体領域上部に形成された第2チャネル領域と、前
記第1チャネル領域上に形成された第1制御電極と、前
記第2チャネル領域上に形成された第2制御電極とを具
備することを特徴とする。
【0009】また、この発明に係る交流スイッチ回路
は、電流検出用端子付のMOS形トランジスタを有する
双方向に導通可能なスイッチ素子と、前記電流検出用端
子に流れる電流を検出する検出手段と、前記検出手段に
より検出した電流値に応じて前記MOS形トランジスタ
のゲートへの印加電圧を制御する制御手段とを具備する
ことを特徴とする。
【0010】また、この発明に係る交流スイッチ回路
は、MOS形トランジスタを有する双方向に導通可能な
スイッチ素子と、前記MOS形トランジスタのゲートの
駆動電圧を制御する制御手段と、前記制御手段へ前記駆
動電圧を供給するコンデンサと、前記スイッチ素子が接
続された交流電源と、前記交流電源の変化する最低電位
を基準にして前記コンデンサを昇圧するブートストラッ
プ回路とを具備することを特徴とする。
【0011】また、この発明に係る交流スイッチ回路
は、MOS形トランジスタを有する双方向に導通可能な
スイッチ素子と、前記MOS形トランジスタのゲートの
駆動電圧を制御する制御手段と、前記制御手段へ前記駆
動電圧を供給するコンデンサと、前記スイッチ素子が接
続された交流電源と、前記交流電源の変化する最低電位
を検出する検出手段と、前記検出手段より前記最低電位
を受け取り、前記最低電位を基準にして前記コンデンサ
を昇圧するブートストラップ回路とを具備することを特
徴とする。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
実施の形態について説明する。まず、交流用スイッチ素
子(双方向スイッチ素子)について説明し、以下この素
子を駆動するドライブ回路を含む交流スイッチ回路につ
いて説明する。
【0013】図1は、この発明の第1の実施の形態の交
流用スイッチ素子の構造を示す断面図である。図2は、
前記交流用スイッチ素子の回路図である。
【0014】図1に示すように、p形半導体基板10上
にはドレインであるn形の低濃度領域(以下n領域)
11が形成され、このn領域11内には2つのp形領
域12A、12Bが形成されている。さらに、この2つ
のp形領域12A、12B内にはソースであるn形の高
濃度領域(以下n領域)13A、13Bがそれぞれ形
成されている。
【0015】前記n領域13Aとn領域13B間の
p形領域12A上部、及び前記n領域13Aとn
域13B間のp形領域12B上部はチャネル領域であ
る。これらチャネル領域上には、それぞれゲート絶縁膜
を介してゲート電極16A、16Bが形成され、さらに
ゲート電極16A、16Bにはゲート端子GA、GBが
接続される。前記n領域13A及びp形領域12Aに
はソース端子SAが接続され、前記n領域13B及び
p形領域12Bにはソース端子SBが接続される。
【0016】前述した構造を有する交流用スイッチ素子
では、ドレインであるn領域を共有したDMOS(Do
uble-Diffused MOSFET)形のnチャネルMOSFETが
2つ組み合わされて1つの素子が構成されている。MO
SFETにラテラル構造を用いることで2つのMOSF
ETの一体化(モノリシック化)が可能となり、さらに
2つのMOSFETのソース、ドレインを対称に配置す
ることでドレインを共有化している。図面上、左側のス
イッチ素子をSWA、右側のスイッチ素子をSWBとす
る。
【0017】このような交流用スイッチ素子を構成する
2つのスイッチ素子SWA、SWBでは、ゲート端子G
AとソースSAの間、及びゲート端子GBとソースSB
の間に正バイアスを加えることにより、チャネル領域の
p領域が反転して反転層(チャネル)が形成され、一方
のスイッチ素子から他方のスイッチ素子へ電流が流れ
る。2つのスイッチ素子SWA、SWBがオンするよう
にゲートGAとソースSAの間、及びゲートGBとソー
スSBの間がバイアスされれば、どちら側から電圧を印
加しても電流が流れる。一方、2つのスイッチ素子SW
A、SWBがオフの状態では、互いの寄生ダイオードの
カソード同士が接続されているため、電流が流れる経路
はない。
【0018】次に、図1に示した交流用スイッチ素子の
ドライブ回路について説明する。
【0019】図3、図4は、前記交流用スイッチ素子の
ドライブ回路を考察するための回路図である。
【0020】図3に示すように、ゲート端子GAとソー
スSAの間、及びゲート端子GBとソースSBの間に電
源Eにより正バイアスを加えると、スイッチ素子SW
A、SWBがオンして交流電源ACから負荷20に電流
が流れる。
【0021】今、図3に示す回路において、スイッチ素
子SWAのゲートへの正バイアスを止めて図4に示すよ
うな状態にした場合を考えてみる。この場合、バイアス
を停止した方のスイッチ素子SWAは、図4に示すよう
に、p領域がIGBTのコレクタと同様の動きをする。
このため、SWA及びSWBからなる交流用スイッチ素
子はIGBTとして動作する。しかし、交流ラインのス
イッチとして用いるためには、図1に示す素子は電流の
向きに応じて、片方のスイッチ素子のゲート−ソース間
バイアスをオン、オフしなければならない。
【0022】そこで、電流の向きを検出する機能を備え
たドライブ回路を形成する必要がある。図5は、電流検
出機能を備えた交流用スイッチ素子のドライブ回路の構
成を示す回路図である。図6は図5に用いた交流用スイ
ッチ素子の構造を示す斜視図であり、図7は前記交流用
スイッチ素子の回路図である。なお、図6ではp形領域
12A、12Bとn領域13A、13Bのみを示す。
【0023】図6、図7に示すように、この交流用スイ
ッチ素子は、図1に示す素子において、ソース領域であ
るn+領域13A、13Bの一部を切り離し、その切り
離した領域を電流を検出するセンス領域SE1としたも
のである。残りのソース領域はMA1にて示してある。
センス領域SE1にはセンス端子SEA、SEBがそれ
ぞれ接続され、ソース領域MA1にはメイン端子MN
A、MNBが接続されている。図6、図7に示す交流用
スイッチ素子は、このように構成された電流センス付き
MOSFETである。その他の構造は、図1に示す素子
と同様である。
【0024】図6、図7に示す交流用スイッチ素子で
は、パターン上におけるセンス領域SE1とソース領域
MA1の面積比により電流が分流される。例えば、セン
ス領域SE1とソース領域MA1がN:1の面積比の場
合、電流もN:1の比で流れることになる。
【0025】次に、図5に示すドライブ回路について説
明する。図5に示すように、A端子は、交流用スイッチ
素子S1におけるスイッチ素子SWAのメイン端子MN
Aに接続されるとともに、抵抗R1を介して前記スイッ
チ素子SWAのセンス端子SEAに、電源E1を介して
オペアンプOP1の負端子にぞれぞれ接続される。前記
抵抗R1とセンス端子SEAの接続点は、オペアンプO
P1の正端子に接続され、このオペアンプOP1の出力
端子はAND回路AD1の第1端子に接続される。
【0026】また、B端子は、スイッチ素子SWBのメ
イン端子MNBに接続されるとともに、抵抗R2を介し
て前記スイッチ素子SWBのセンス端子SEBに、また
電源E2を介してオペアンプOP2の負端子にぞれぞれ
接続される。前記抵抗R2とセンス端子SEBの接続点
は、オペアンプOP2の正端子に接続され、このオペア
ンプOP2の出力端子はAND回路AD2の第1端子に
接続される。さらに、前記AND回路AD1、AD2の
第2端子同士が接続されている。
【0027】このように構成されたドライブ回路は、電
流の向きとその電流値を電流センス付きMOSFETの
センス端子SEA、SEBで検出し、検出した電流値が
設定値を超えるとそのMOSFETのゲートをオフする
回路である。B端子を正電圧に、A端子を負電圧に設定
すれば、電流が流れ込む側のスイッチ素子SWBについ
ては、ゲートがオフされる。そして、以降電流の向きが
反転するまで、IGBTのコレクタとして動作する。交
流の波形が反転し、電流の向きが逆転すると、もう一
度、スイッチ素子SWBのゲートがバイアスされ、MO
SFETとして動作する。
【0028】また、図5に示したドライブ回路を、図1
6に示した交流スイッチ回路に適用すると、図8に示す
ようになる。
【0029】図8に示す交流スイッチ回路は、交流電源
ACと負荷20とを接続する電源ラインに対して、交流
用スイッチ素子S1を含む前記ドライブ回路を直列に接
続し、交流用スイッチ素子S2を含む前記ドライブ回路
を負荷20に対して並列に接続して、図に示すように構
成したものである。交流用スイッチ素子S1のゲートに
接続されたAND回路AD1、AD2の第2端子同士は
接続され、この接続点にはレベルシフト回路21の出力
部が接続される。同様に、交流用スイッチ素子S2のゲ
ートに接続されたAND回路AD3、AD4の第2端子
同士は接続され、この接続点にはレベルシフト回路21
の出力部が接続される。さらに、このレベルシフト回路
21には、制御信号発生回路22が接続されている。
【0030】この第1の実施に形態を用いれば、電流の
向きに応じていずれか片方のスイッチ素子をオフしてI
GBTを形成することができ、複雑な回路と単体IGB
Tを組み合わせることなく、交流を切り換えるスイッチ
を形成することができる。また、電流値によりMOSF
ETとIGBTとを自在に切り換えられるので、残り電
圧が大きくなる大電流領域では、IGBTとして低いV
ceを実現でき、IGBT特有のダイオードVF分のロ
スが問題となる低電流(残り電圧の低い)領域ではMO
SFETとして動作するように設定できる。これによ
り、単体のIGBTを用いるよりも、さらに低い電力ロ
スのスイッチを実現できる。
【0031】次に、この発明の第2の実施の形態の交流
スイッチ回路について説明する。
【0032】図9は、この発明の第2の実施の形態の交
流スイッチ回路の構成を示す回路図である。
【0033】図9に示すように、ブートストラップ電源
Vbsの正電圧側は、ダイオードDI1を介してドライ
ブ回路DR1の第1端子T1に接続される。同様に、ブ
ートストラップ電源Vbsの正電圧側は、ダイオードD
I2を介してドライブ回路DR2の第1端子T1に、ま
たダイオードDI3を介してドライブ回路DR3の第1
端子T1にそれぞれ接続される。ダイオードDI1のカ
ソードは、コンデンサC1を介してドライブ回路DR1
の第2端子T2とスイッチ素子SWDのソースに接続さ
れる。同様に、ダイオードDI2のカソードは、コンデ
ンサC2を介してドライブ回路DR2の第2端子T2と
スイッチ素子SWBのソースに接続される。ダイオード
DI3のカソードは、コンデンサC3を介してドライブ
回路DR3の第2端子T2とスイッチ素子SWA、SW
Cのソース、及び負荷20の一端にそれぞれ接続され
る。
【0034】また、レベルシフト回路21には、ブート
ストラップ電源Vbsの正電圧側及び基準電圧(GN
D)、さらに制御信号発生回路22の出力部がそれぞれ
接続される。前記制御信号発生回路22には、基準電圧
(GND)が接続される。また、レベルシフト回路21
の出力部は、前記ドライブ回路DR1、DR2、DR3
の第3端子T3にそれぞれ接続される。そして、ドライ
ブ回路DR1の出力端子T4は、インバータIV1を介
してスイッチ素子SWDのゲートに接続される。ドライ
バ回路DR2の出力端子T4はスイッチ素子SWBのゲ
ートに接続される。さらに、ドライバ回路DR3の出力
端子T4は、スイッチ素子SWAのゲートに接続される
とともに、インバータIV2を介してスイッチ素子SW
Cのゲートに接続される。さらに、スイッチ素子SWA
とSWBのドレイン同士、またスイッチ素子SWCとS
WDのドレイン同士が接続される。
【0035】また、交流電源ACの一方の端子23に
は、スイッチ素子SWEのドレイン、ダイオードDI4
のカソード、及びスイッチ素子SWBのソースがそれぞ
れ接続される。交流電源ACの他方の端子24には、ス
イッチ素子SWFのドレイン、ダイオードDI5のカソ
ード、スイッチ素子SWDのソース、及び負荷20の他
端がそれぞれ接続される。
【0036】さらに、ブートストラップ電源Vbsの正
電圧側は、抵抗R3を介してスイッチ素子SWEのゲー
トとダイオードDI5のアノードに接続される。さら
に、前記正電圧側は、抵抗R4を介してスイッチ素子S
WFのゲートとダイオードDI4のアノードに接続され
る。スイッチ素子SWEとSWFのソース同士は接続さ
れ、この接続点には基準電圧が接続される。
【0037】また、図10は、前記レベルシフト回路2
1の構成の一例を示す回路図である。レベルシフト回路
21は、基準電圧(GND)を基準に、制御信号発生回
路22から入力される制御信号をドライブ回路DR1〜
DR3にそれぞれ供給する。ブートストラップ電源Vb
sから出力される信号Vbsは、抵抗R5を介してNA
ND回路ND1の第1端子とnチャネルMOSトランジ
スタ(以下nMOSトランジスタ)TR1のドレインに
入力される。さらに、信号Vbsは、抵抗R6を介して
NAND回路ND2の第1端子とnMOSトランジスタ
TR2のドレインに入力される。これらnMOSトラン
ジスタTR1、TR2のソースにはGNDが供給され
る。
【0038】また、NAND回路ND1の出力信号はN
AND回路ND2の第2端子に入力される。NAND回
路ND2の出力信号は、ドライブ回路DR1〜DR3に
それぞれ出力されるとともに、NAND回路ND1の第
2端子に入力される。さらに、制御信号発生回路22か
ら出力される制御信号がインバータIV3を介してnM
OSトランジスタTR1のゲートに入力され、さらに前
記制御信号がnMOSトランジスタTR2のゲートに入
力される。
【0039】このように構成されたレベルシフト回路で
は、オン、オフのそれぞれを受け持つソース接地の高耐
圧FET(TR1、TR2)が接続されており、入力さ
れる制御信号はFETのgmにより電流に変換され、受
け側の抵抗R5、R6によりブートストラップ電源Vb
sを基準にした信号に変換される。そして、制御信号発
生回路22から出力される制御信号が“H”のとき、N
AND回路ND2からドライブ回路DR1〜DR3にレ
ベル変換された信号が出力される。一方、制御信号が
“L”のとき、NAND回路ND2からドライブ回路D
R1〜DR3に基準電圧が出力される。
【0040】また、ドライブ回路DR1〜DR3は、例
えば図11に示すように、2つのnMOSトランジスタ
TR3、TR4が接続された回路により構成される。レ
ベルシフト回路21から“H”が入力されると、nMO
SトランジスタTR3がオンし、pMOSトランジスタ
TR4がオフして、Vbsがスイッチ素子に出力され
る。一方、レベルシフト回路21から“L”が入力され
ると、nMOSトランジスタTR4がオンし、pMOS
トランジスタTR3がオフして、基準電圧がスイッチ素
子に出力される。
【0041】以上のように構成された図9に示す交流ス
イッチ回路の動作は次にようになる。
【0042】図9に示した2つの交流用スイッチ素子
(双方向スイッチ素子)S1、S2は、それぞれドレイ
ン同士が接続されたスイッチ素子SWAとSWB、スイ
ッチ素子SWCとSWDからなる。スイッチ素子SWA
〜SWDの各ゲートは、ブートストラップにより充電さ
れたコンデンサC1〜C3の電位でドライブ回路を介し
てバイアスされる。
【0043】2つのスイッチS1、S2の接点になるス
イッチ素子SWA、SWCは、ソース同士が接続されて
おり基準が同じであるため、同一の電源で駆動される。
また、スイッチ素子SWB、SWDについては各々単独
での電源が必要になり、合計で3回路のブートストラッ
プ電源があればよい。ただし、交流電源が交互に変化す
るため、ブートストラップを構成するためには、常に最
低電位を基準に昇圧してやる必要がある。
【0044】図9中に25にて示す回路は、これを解決
するための回路である。スイッチ素子SWE、SWF
は、スイッチ素子SWA〜SWDにフローティング電源
を供給するためのブートストラップ回路の電源の接地側
を、交流最低電位に追従させるためのものである。よっ
て、スイッチ素子SWE、SWFは、端子23、端子2
4のうち、常に低い方の電圧に前記接地側を追従させる
ように働く。今、仮に端子23の電位が端子24の電位
より高いとすると、スイッチ素子SWFでは、ブートス
トラップ電源VbsのGNDがスイッチ素子SWFの寄
生ダイオードDfによりすでに端子24の電位に引かれ
ている。これにより、スイッチ素子SWE、SWFのソ
ースの接点電位は、端子24の電位V24にDfの電圧
降下分VFを加えたV24+VFになっている。一方、
スイッチ素子SWEのゲートはダイオードDI5により
同電位のV24+VFになる。したがって、スイッチ素
子SWEはオンせずに、スイッチ素子SWFがオンし、
ブートストラップ電源VbsのGNDはSWFを構成す
るMOSFETのオン抵抗を介して端子24の電源ライ
ンに接続される。これにより、コンデンサC1が充電さ
れる。
【0045】一方、端子24の電位が端子23の電位よ
り高いときも、同様にスイッチ素子SWEでは、ブート
ストラップ電源VbsのGNDがスイッチ素子SWEの
寄生ダイオードDeによりすでに端子23の電位に引か
れている。これにより、スイッチ素子SWE、SWFの
ソースの接点電位は、端子23の電位V23にDeの電
圧降下分VEを加えたV23+VEになっている。一
方、スイッチ素子SWFのゲートはDI4により同電位
のV23+VEになる。したがって、スイッチ素子SW
Fはオンせずに、スイッチ素子SWEがオンし、ブート
ストラップ電源VbsのGNDはSWEを構成するMO
SFETのオン抵抗を介して端子23の電源ラインに接
続される。これにより、コンデンサC2が充電される。
【0046】コンデンサC3の負極側は、スイッチ素子
SWBまたはSWDがオンし、かつソース側が最低電位
であるとき、スイッチ素子SWAまたはSWCの寄生ダ
イオードDa、Dcを介して最低電位になっている端子
23または端子24の電源ラインに接続される。これに
より、コンデンサC3が充電される。
【0047】前記コンデンサC1〜C3が充電された後
は、ブートストラップ電源としてVbsの電圧を発生す
るため、スイッチ素子SWA〜SWDのゲート制御は、
交流電源と無関係になり、ドライブ回路DR1〜DR3
から出力されるスイッチングパルスで行われる。このと
き、コンデンサC1〜C3が充電されるタイミングは、
図12に示すようになる。図12中の符号は、図9に示
す回路図における端子またはラインを示す。
【0048】また、前述した交流スイッチ回路に用いる
交流用スイッチ素子(双方向スイッチ素子)には、図1
3に示すようなSOI(Silicon on Insulator)構造を
有する素子を用いてもよい。図13は、交流用スイッチ
素子SWA、SWB(及びSWC、SWD)の構造を示
す模式的な断面図である。
【0049】図13に示すように、p形半導体基板10
上には絶縁膜、例えばシリコン酸化膜(SiO2)17
が形成され、このシリコン酸化膜17内にはドレインで
あるn形の低濃度領域(以下n領域)11が形成され
ている。このn領域11内には2つのp形領域12
A、12Bが形成されている。さらに、この2つのp形
領域12A、12B内にはソースであるn形の高濃度領
域(以下n領域)13A、13Bがそれぞれ形成され
ている。
【0050】前記n領域13Aとn領域13B間の
p形領域12A上部、及び前記n領域13Aとn
域13B間のp形領域12B上部はチャネル領域であ
る。これらチャネル領域上には、それぞれゲート絶縁膜
を介してゲート電極16A、16Bが形成されている。
さらに、ゲート電極16A、16Bにはゲート端子G
A、GBが接続され、前記n領域13A及びp形領域
12Aにはソース端子SA、前記n領域13B及びp
形領域12Bにはソース端子SBがそれぞれ接続され
る。
【0051】前述した構造を有する交流用スイッチ素子
では、ドレインであるn領域を共有したDMOS(Do
uble-Diffused MOSFET)形のnチャネルMOSFETが
2つ組み合わされて1つの素子が構成されている。MO
SFETにラテラル構造を用いることで2つのMOSF
ETの一体化(モノリシック化)が可能となり、さらに
2つのMOSFETのソース、ドレインを対称に配置す
ることでドレインを共有化している。
【0052】このような交流用スイッチ素子を構成する
2つのMOSFETでは、ゲート端子GAとソースSA
の間、及びゲート端子GBとソースSBの間に正バイア
スを加えることにより、チャネル領域のp領域が反転し
て反転層(チャネル)が形成され、一方のMOSFET
から他方のMOSFETへ電流が流れる。2つのMOS
FETがオンするようにゲートGAとソースSAの間、
及びゲートGBとソースSBの間がバイアスされれば、
どちら側から電圧を印加しても電流が流れる。一方、2
つのMOSFETがオフの状態では、互いの寄生ダイオ
ードのカソード同士が接続されているため、電流が流れ
る経路はない。以上により、誘電体分離を用いた集積回
路上に交流用スイッチ素子を形成できる。
【0053】このようなSOI構造を有する交流用スイ
ッチ素子によれば、誘電体分離の集積回路を応用し安価
で高速なスイッチングが可能な双方向スイッチ素子を実
現できる。また、ディスクリート回路ではノイズによる
誤動作が懸念されるが、この実施の形態のようにモノシ
リック化することにより、スイッチング時などに発生す
るノイズに誤動作することなく、安定した動作が可能に
なる。
【0054】以上説明したようにこの第2の実施の形態
によれば、交流電源で動作するフローティング電源を安
価で得られ、半導体素子で構成される双方向スイッチ素
子のゲート駆動を交流回路の中で良好に行うことができ
る。
【0055】
【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、素
子数を削減した簡素な構成で低価格の交流用スイッチ素
子を提供すること、及びこの交流用スイッチ素子のゲー
ト駆動を良好に行うことができる交流スイッチ回路を提
供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1の実施の形態の交流用スイッチ
素子の構造を示す断面図である。
【図2】この発明の第1の実施の形態の交流用スイッチ
素子の回路図である。
【図3】前記交流用スイッチ素子のドライブ回路を考察
するための回路図である。
【図4】前記交流用スイッチ素子のドライブ回路を考察
するための他の回路図である。
【図5】電流検出機能を備えた交流用スイッチ素子のド
ライブ回路の構成を示す回路図である。
【図6】前記交流用スイッチ素子の構造を示す斜視図で
ある。
【図7】前記交流用スイッチ素子の回路図である。
【図8】図5に示したドライブ回路を交流スイッチ回路
に適用した場合の回路図である。
【図9】この発明の第2の実施の形態の交流スイッチ回
路の構成を示す回路図である。
【図10】前記交流スイッチ回路におけるレベルシフト
回路の一構成例を示す回路図である。
【図11】前記交流スイッチ回路におけるドライブ回路
の一構成例を示す回路図である。
【図12】前記交流スイッチ回路におけるコンデンサ充
電時のタイミングチャートである。
【図13】SOI構造を有する交流用スイッチ素子の構
造を示す断面図である。
【図14】交流スイッチ回路の基本的な構成を示す回路
図である。
【図15】従来の交流スイッチ回路の一構成例を示す回
路図である。
【図16】従来の交流スイッチ回路の別の構成例を示す
回路図である。
【図17】前記交流スイッチ回路における交流用スイッ
チ素子のゲートバイアス用のフローティング電源を示す
回路図である。
【図18】前記交流用スイッチ素子のゲートバイアス用
のフローティング電源をブートストラップ法で実現した
回路図である。
【符号の説明】
10…p形半導体基板 11…n形の低濃度領域(以下n領域) 12A、12B…p形領域 13A、13B…n形の高濃度領域(以下n領域) 16A、16B…ゲート電極 20…負荷 21…レベルシフト回路 22…制御信号発生回路 AC…交流電源 AD1、AD2、AD3、AD4…AND回路 E、E1、E2…電源 GA、GB…ゲート端子 MA1…ソース領域 MNA、MNB…メイン端子 OP1、OP2…オペアンプ R1、R2…抵抗 S1、S2…交流用スイッチ素子 SA、SB…ソース端子 SE1…センス領域 SEA、SEB…センス端子 SWA、SWB…スイッチ素子
フロントページの続き Fターム(参考) 5F048 AA00 AA07 AB03 AB04 AB10 AC01 AC06 AC10 BA07 BC03 BD06 BG07 5J055 AX12 AX44 BX01 BX16 CX10 CX18 DX13 DX22 DX72 DX83 EX07 EX11 EY01 EY10 EY12 EZ07 EZ09 EZ18 EZ20 EZ25 EZ59 FX04 FX31 FX32 GX01 GX04 GX07

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1導電形の半導体基板上に形成された
    前記第1導電形と反対の第2導電形の第1半導体領域
    と、 前記第1半導体領域内に分離されて形成された前記第1
    導電形の第2、第3半導体領域と、 前記第2半導体領域内に分離されて形成された前記第2
    導電形の第4、第5半導体領域と、 前記第3半導体領域内に分離されて形成された前記第2
    導電形の第6、第7半導体領域と、 前記第4、第5半導体領域と前記第6、第7半導体領域
    との間の前記第2半導体領域上部に形成された第1チャ
    ネル領域と、 前記第4、第5半導体領域と前記第6、第7半導体領域
    との間の前記第3半導体領域上部に形成された第2チャ
    ネル領域と、 前記第1チャネル領域上に形成された第1制御電極と、 前記第2チャネル領域上に形成された第2制御電極と、 を具備することを特徴とする交流用スイッチ素子。
  2. 【請求項2】 前記第5半導体領域及び前記第7半導体
    領域は電流を検出するために設けられた領域であること
    を特徴とする請求項1記載の交流用スイッチ素子。
  3. 【請求項3】 電流検出用端子付のMOS形トランジス
    タを有する双方向に導通可能なスイッチ素子と、 前記電流検出用端子に流れる電流を検出する検出手段
    と、 前記検出手段により検出した電流値に応じて前記MOS
    形トランジスタのゲートへの印加電圧を制御する制御手
    段と、 を具備することを特徴とする交流スイッチ回路。
  4. 【請求項4】 前記電流検出用端子付のMOS形トラン
    ジスタは、第1導電形の半導体基板上に形成された前記
    第1導電形と反対の第2導電形の第1半導体領域と、前
    記第1半導体領域内に分離されて形成された前記第1導
    電形の第2、第3半導体領域と、前記第2半導体領域内
    に分離されて形成された前記第2導電形の第4、第5半
    導体領域と、前記第3半導体領域内に分離されて形成さ
    れた前記第2導電形の第6、第7半導体領域と、前記第
    4、第5半導体領域と前記第6、第7半導体領域との間
    の前記第2半導体領域上部に形成された第1チャネル領
    域と、前記第4、第5半導体領域と前記第6、第7半導
    体領域との間の前記第3半導体領域上部に形成された第
    2チャネル領域と、前記第1チャネル領域上に形成され
    た第1制御電極と、前記第2チャネル領域上に形成され
    た第2制御電極とを具備することを特徴とする請求項3
    記載の交流スイッチ回路。
  5. 【請求項5】 MOS形トランジスタを有する双方向に
    導通可能なスイッチ素子と、 前記MOS形トランジスタのゲートの駆動電圧を制御す
    る制御手段と、 前記制御手段へ前記駆動電圧を供給するコンデンサと、 前記スイッチ素子が接続された交流電源と、 前記交流電源の変化する最低電位を基準にして前記コン
    デンサを昇圧するブートストラップ回路と、 を具備することを特徴とする交流スイッチ回路。
  6. 【請求項6】 MOS形トランジスタを有する双方向に
    導通可能なスイッチ素子と、 前記MOS形トランジスタのゲートの駆動電圧を制御す
    る制御手段と、 前記制御手段へ前記駆動電圧を供給するコンデンサと、 前記スイッチ素子が接続された交流電源と、 前記交流電源の変化する最低電位を検出する検出手段
    と、 前記検出手段より前記最低電位を受け取り、前記最低電
    位を基準にして前記コンデンサを昇圧するブートストラ
    ップ回路と、 を具備することを特徴とする交流スイッチ回路。
  7. 【請求項7】 前記検出手段は、前記交流電源の両端子
    間に直列接続された2つのMOS形トランジスタと、前
    記MOS形トランジスタのゲートと前記交流電源の端子
    との間にそれぞれ設けられた2つのダイオードとを有す
    ることを特徴とする請求項6記載の交流スイッチ回路。
JP07606299A 1999-03-19 1999-03-19 交流スイッチ回路 Expired - Fee Related JP3857462B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07606299A JP3857462B2 (ja) 1999-03-19 1999-03-19 交流スイッチ回路
US09/526,881 US6313513B1 (en) 1999-03-19 2000-03-16 AC switch device used for switching AC circuit and AC switch circuit having the AC switch device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP07606299A JP3857462B2 (ja) 1999-03-19 1999-03-19 交流スイッチ回路

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000269353A true JP2000269353A (ja) 2000-09-29
JP3857462B2 JP3857462B2 (ja) 2006-12-13

Family

ID=13594295

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP07606299A Expired - Fee Related JP3857462B2 (ja) 1999-03-19 1999-03-19 交流スイッチ回路

Country Status (2)

Country Link
US (1) US6313513B1 (ja)
JP (1) JP3857462B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006166582A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Fuji Electric Holdings Co Ltd 電力変換装置
JP2006186307A (ja) * 2004-12-02 2006-07-13 Nissan Motor Co Ltd 半導体装置
JP2010172067A (ja) * 2009-01-20 2010-08-05 Daikin Ind Ltd 双方向スイッチ駆動回路及びマトリックスコンバータ
JP2017183957A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 三菱電機株式会社 双方向スイッチモジュールおよびマトリクスコンバータ
JP2024089848A (ja) * 2022-12-22 2024-07-04 三菱電機株式会社 半導体装置、半導体回路、及び、半導体装置の制御方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0417689D0 (en) * 2004-08-10 2004-09-08 Melexis Nv Transfer switch
US7432820B1 (en) 2007-05-31 2008-10-07 Phan Charlie D Sound-flag synchronized action controller
US7772668B2 (en) * 2007-12-26 2010-08-10 Fairchild Semiconductor Corporation Shielded gate trench FET with multiple channels
US20100181943A1 (en) * 2009-01-22 2010-07-22 Phan Charlie D Sensor-model synchronized action system
CA3025336A1 (en) 2010-09-30 2012-03-30 Philips Lighting Holding B.V. Apparatus and methods for supplying power
EP3654506A1 (de) * 2018-11-16 2020-05-20 Siemens Aktiengesellschaft Überstromerkennung eines elektronischen schalters

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6178167A (ja) * 1984-09-25 1986-04-21 Matsushita Electric Works Ltd 半導体装置
JPS63318781A (ja) * 1987-06-22 1988-12-27 Nissan Motor Co Ltd 過電流保護機能を備えたmosfet
JPH02138773A (ja) * 1988-05-25 1990-05-28 Toshiba Corp Mosfet
JPH02161769A (ja) * 1988-12-15 1990-06-21 Toshiba Corp 伝送ゲート
JPH04323863A (ja) * 1991-04-23 1992-11-13 Toyota Autom Loom Works Ltd 半導体装置
JPH053289A (ja) * 1991-01-09 1993-01-08 Nec Corp 電力用半導体装置
JPH06151740A (ja) * 1992-11-12 1994-05-31 Nippondenso Co Ltd パワー半導体装置
JPH0864690A (ja) * 1994-06-15 1996-03-08 Nippondenso Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JPH09266310A (ja) * 1996-01-22 1997-10-07 Denso Corp 半導体装置
JPH11307657A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Sanyo Electric Co Ltd 半導体集積回路
JP2000269354A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Toshiba Corp 交流用スイッチ素子及び交流回路

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4199774A (en) 1978-09-18 1980-04-22 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Monolithic semiconductor switching device
US4656493A (en) 1982-05-10 1987-04-07 General Electric Company Bidirectional, high-speed power MOSFET devices with deep level recombination centers in base region
US4783690A (en) 1983-09-06 1988-11-08 General Electric Company Power semiconductor device with main current section and emulation current section
FR2635930B1 (fr) 1988-08-31 1990-11-23 Sgs Thomson Microelectronics Commutateur bidirectionnel monolithique a transistors mos de puissance
JP3352840B2 (ja) 1994-03-14 2002-12-03 株式会社東芝 逆並列接続型双方向性半導体スイッチ
US5965919A (en) * 1995-10-19 1999-10-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Semiconductor device and a method of fabricating the same
US5736795A (en) 1996-04-22 1998-04-07 Honeywell Inc. Solid state AC switch with self-synchronizing means for stealing operating power
US5986304A (en) * 1997-01-13 1999-11-16 Megamos Corporation Punch-through prevention in trenched DMOS with poly-silicon layer covering trench corners
US5965925A (en) * 1997-10-22 1999-10-12 Artisan Components, Inc. Integrated circuit layout methods and layout structures

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6178167A (ja) * 1984-09-25 1986-04-21 Matsushita Electric Works Ltd 半導体装置
JPS63318781A (ja) * 1987-06-22 1988-12-27 Nissan Motor Co Ltd 過電流保護機能を備えたmosfet
JPH02138773A (ja) * 1988-05-25 1990-05-28 Toshiba Corp Mosfet
JPH02161769A (ja) * 1988-12-15 1990-06-21 Toshiba Corp 伝送ゲート
JPH053289A (ja) * 1991-01-09 1993-01-08 Nec Corp 電力用半導体装置
JPH04323863A (ja) * 1991-04-23 1992-11-13 Toyota Autom Loom Works Ltd 半導体装置
JPH06151740A (ja) * 1992-11-12 1994-05-31 Nippondenso Co Ltd パワー半導体装置
JPH0864690A (ja) * 1994-06-15 1996-03-08 Nippondenso Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JPH09266310A (ja) * 1996-01-22 1997-10-07 Denso Corp 半導体装置
JPH11307657A (ja) * 1998-04-22 1999-11-05 Sanyo Electric Co Ltd 半導体集積回路
JP2000269354A (ja) * 1999-03-19 2000-09-29 Toshiba Corp 交流用スイッチ素子及び交流回路

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006186307A (ja) * 2004-12-02 2006-07-13 Nissan Motor Co Ltd 半導体装置
JP2006166582A (ja) * 2004-12-07 2006-06-22 Fuji Electric Holdings Co Ltd 電力変換装置
JP2010172067A (ja) * 2009-01-20 2010-08-05 Daikin Ind Ltd 双方向スイッチ駆動回路及びマトリックスコンバータ
JP2017183957A (ja) * 2016-03-30 2017-10-05 三菱電機株式会社 双方向スイッチモジュールおよびマトリクスコンバータ
JP2024089848A (ja) * 2022-12-22 2024-07-04 三菱電機株式会社 半導体装置、半導体回路、及び、半導体装置の制御方法

Also Published As

Publication number Publication date
US6313513B1 (en) 2001-11-06
JP3857462B2 (ja) 2006-12-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101826794B (zh) 逆流防止电路以及电源切换装置
US5323044A (en) Bi-directional MOSFET switch
KR100302535B1 (ko) 가변 임계 전압을 가지는 soi형 반도체 장치 및 바이어스전압발생장치
JP2003529992A (ja) 低コストハーフブリッジドライバ集積回路
TW200524279A (en) Differential transistor and method therefor
JP2009284420A (ja) 半導体集積回路装置
JP2003143004A (ja) レベルシフタ回路
JP3857462B2 (ja) 交流スイッチ回路
WO2013142238A1 (en) Bi-directional switch using series connected n-type mos devices in parallel with series connected p-type mos devices
JP3680544B2 (ja) 高耐圧パワーicの出力段回路
US12375081B2 (en) Gate driver device having a driver circuit for supplying a backgate drive signal
JPH10233632A (ja) 高圧側mosfetゲート保護シャント回路
JPH0734476B2 (ja) 半導体集積回路
JPH06177733A (ja) パワーmosfetの駆動回路
CN103890682A (zh) 用于半导体电力开关的驱动器电路
CN1825602B (zh) 半导体装置
JP2000269354A (ja) 交流用スイッチ素子及び交流回路
JP5332112B2 (ja) 高耐圧横型mosfet
JP3635953B2 (ja) 高耐圧パワー集積回路
EP1137158A1 (en) AC switch device used for switching AC circuit and AC switch circuit having the AC switch device
JP2000307397A (ja) ハイサイドスイッチ回路
JP2003338740A (ja) 高耐圧スイッチング回路
JP3794481B2 (ja) 負荷駆動回路および負荷駆動回路を有する半導体装置
JP3569657B2 (ja) 表示装置
JP3431127B2 (ja) 電子装置および電子スイッチ装置

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20050221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20050308

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20050509

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20060912

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20060914

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees