JP2000273081A - ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法 - Google Patents
ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法Info
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Classifications
-
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- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C315/00—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides
- C07C315/04—Preparation of sulfones; Preparation of sulfoxides by reactions not involving the formation of sulfone or sulfoxide groups
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Abstract
(57)【要約】
【課題】感熱紙に使われるロイコ染料の顕色剤として有
用である一般式(II)で表わされる化合物を生産性、
経済性、安全性を備え、かつ安定に原料供給できる製造
方法を提供する。 【解決手段】従来用いられていた臭化アルキルより反応
性の大きい一般式(I)で表わされる沃化アルキル等を
用いて製造時間を短縮し、さらに製造廃水から沃素を回
収してアルコールに作用させ沃化アルキルを自製する沃
素回収工程を製造工程に組み込むことにより沃素を完全
に回収再利用でき、従来法より生産性、経済性、安全性
を向上させることができた。 〔化1〕 〔化2〕
用である一般式(II)で表わされる化合物を生産性、
経済性、安全性を備え、かつ安定に原料供給できる製造
方法を提供する。 【解決手段】従来用いられていた臭化アルキルより反応
性の大きい一般式(I)で表わされる沃化アルキル等を
用いて製造時間を短縮し、さらに製造廃水から沃素を回
収してアルコールに作用させ沃化アルキルを自製する沃
素回収工程を製造工程に組み込むことにより沃素を完全
に回収再利用でき、従来法より生産性、経済性、安全性
を向上させることができた。 〔化1〕 〔化2〕
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、感熱記録紙用の顕
色剤として有用な一般式(II)で表されるジフェニル
スルホン化合物を、有害なハロゲン化合物を環境中に排
出せず回収再利用し、効率よく製造する方法に関する。
色剤として有用な一般式(II)で表されるジフェニル
スルホン化合物を、有害なハロゲン化合物を環境中に排
出せず回収再利用し、効率よく製造する方法に関する。
【0002】
【従来技術】一般式(II)で表されるジフェニルスル
ホン化合物の製造方法については、特開昭58−204
93号、特開昭58−82788号、特開昭60−13
852号、特開昭60−56949号の各公報にジメチ
ルホルムアミド、アルコール等の極性溶媒を用い、アル
カリ存在下、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンと、ハロゲン化アルキル等のハロゲン化物を反応させ
製造する方法が記載されている。これらの方法は反応試
薬、反応生成物をよく溶解する溶媒を使用しているた
め、反応器の単位体積当たりの仕込み量を大きくするこ
とができるという利点がある。しかしながら、これらの
溶媒を使用すると反応の選択性を向上させるのが困難と
いう欠点があり、無視し得ない量のジエーテル誘導体、
即ち、4,4’−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホン
が副生してくるという問題があった。
ホン化合物の製造方法については、特開昭58−204
93号、特開昭58−82788号、特開昭60−13
852号、特開昭60−56949号の各公報にジメチ
ルホルムアミド、アルコール等の極性溶媒を用い、アル
カリ存在下、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンと、ハロゲン化アルキル等のハロゲン化物を反応させ
製造する方法が記載されている。これらの方法は反応試
薬、反応生成物をよく溶解する溶媒を使用しているた
め、反応器の単位体積当たりの仕込み量を大きくするこ
とができるという利点がある。しかしながら、これらの
溶媒を使用すると反応の選択性を向上させるのが困難と
いう欠点があり、無視し得ない量のジエーテル誘導体、
即ち、4,4’−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホン
が副生してくるという問題があった。
【0003】また、WO91/11433号公報には、
4,4’−ジヒドロキジフェニルスルホン1モルに対
し、1.5〜3モルのアルカリ存在下、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン1重量部に対し、0.3〜
1.5重量部の水溶媒中でハロゲン化アルキルを用いて
反応をすることで選択性、収率とも満足のいく結果が得
られることが報告されている。但し、塩化アルキルはそ
の反応性の低さから反応に長い時間を必要とし、又、沃
化アルキルは高価であるため、工業的に用いることので
きるハロゲン化アルキルは実質的に臭化アルキルに限ら
れており、実施例においても臭化アルキルを用いた例し
か報告されていない。
4,4’−ジヒドロキジフェニルスルホン1モルに対
し、1.5〜3モルのアルカリ存在下、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホン1重量部に対し、0.3〜
1.5重量部の水溶媒中でハロゲン化アルキルを用いて
反応をすることで選択性、収率とも満足のいく結果が得
られることが報告されている。但し、塩化アルキルはそ
の反応性の低さから反応に長い時間を必要とし、又、沃
化アルキルは高価であるため、工業的に用いることので
きるハロゲン化アルキルは実質的に臭化アルキルに限ら
れており、実施例においても臭化アルキルを用いた例し
か報告されていない。
【0004】
【解決しようとする課題】特に感熱紙に使われるロイコ
染料の顕色剤として有用である一般式(II)で表され
る化合物のうち、Rがイソプロピル基である化合物を製
造するのに用いられる臭化イソプロピルは国内での生産
はほとんど行われておらず、安定的に原料を確保するこ
とが困難な状況にある。そこで、臭化アルキルによるア
ルキル化に代わる生産性、経済性、安全性を備え、かつ
安定に原料供給できる製造方法が求められていた。
染料の顕色剤として有用である一般式(II)で表され
る化合物のうち、Rがイソプロピル基である化合物を製
造するのに用いられる臭化イソプロピルは国内での生産
はほとんど行われておらず、安定的に原料を確保するこ
とが困難な状況にある。そこで、臭化アルキルによるア
ルキル化に代わる生産性、経済性、安全性を備え、かつ
安定に原料供給できる製造方法が求められていた。
【0005】そこで本発明者らは、アルキル硫酸エステ
ルによる方法、不飽和炭化水素の付加による方法、塩化
アルキル、沃化アルキルを用いる方法等の各種のアルキ
ル化を検討した結果、臭化アルキルより反応性の高い沃
化アルキルを用いて製造時間を短縮し、別途、製造廃水
から沃素を回収してアルコールに作用させ沃化アルキル
を自製する沃素回収工程を製造工程に組み込むことによ
り沃素を完全に回収再利用でき、従来法より生産性、経
済性が向上する事を見出し本発明を完成するに至った。
ルによる方法、不飽和炭化水素の付加による方法、塩化
アルキル、沃化アルキルを用いる方法等の各種のアルキ
ル化を検討した結果、臭化アルキルより反応性の高い沃
化アルキルを用いて製造時間を短縮し、別途、製造廃水
から沃素を回収してアルコールに作用させ沃化アルキル
を自製する沃素回収工程を製造工程に組み込むことによ
り沃素を完全に回収再利用でき、従来法より生産性、経
済性が向上する事を見出し本発明を完成するに至った。
【0006】
【解決しようとする手段】本発明の第1は、4,4’−
ジヒドロキシジフェニルスルホンと一般式(I)
ジヒドロキシジフェニルスルホンと一般式(I)
【化5】 (式中Rは、直鎖もしくは分枝してもよいアルキル基、
アルケニル基もしくはアルキニル基;アリル基;または
置換基を有してもよいアラルキル基もしくはシクロアル
キル基を表す)で表される沃化アルキルを、塩基の存在
下に反応させ、廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収
し、回収した沃素と反応に用いる沃化アルキルに対応す
るアルコールから沃化アルキルを製造し、その際排出さ
れる廃水中からも、更に沃素を回収し、環境中へ沃素及
び/又は沃化物を排出しない沃素回収工程を含むことを
特徴とする一般式(II)
アルケニル基もしくはアルキニル基;アリル基;または
置換基を有してもよいアラルキル基もしくはシクロアル
キル基を表す)で表される沃化アルキルを、塩基の存在
下に反応させ、廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収
し、回収した沃素と反応に用いる沃化アルキルに対応す
るアルコールから沃化アルキルを製造し、その際排出さ
れる廃水中からも、更に沃素を回収し、環境中へ沃素及
び/又は沃化物を排出しない沃素回収工程を含むことを
特徴とする一般式(II)
【化6】 (式中、Rは前記と同じ基を表す)で表されるジフェニ
ルスルホン化合物の工業的製造法である。
ルスルホン化合物の工業的製造法である。
【0007】本発明の第2は、一般式(I)
【化7】 (式中、Rは前記と同じ基を表わす。)で表わされる化
合物が沃化イソプロピルであることを特徴とするジフェ
ニルスルホン化合物の工業的製造方法である。本発明の
第3は、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン1
モルに対して一般式(I)
合物が沃化イソプロピルであることを特徴とするジフェ
ニルスルホン化合物の工業的製造方法である。本発明の
第3は、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン1
モルに対して一般式(I)
【化8】 (式中、Rは前記と同じ基を表わす)で表わされる化合
物を0.8〜2モル、及び無機または有機塩基を2〜4
モル用い、塩基の濃度が20〜50重量%、反応温度が
50〜110℃、反応時間が4〜50時間であることを
特徴とするジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法
である。
物を0.8〜2モル、及び無機または有機塩基を2〜4
モル用い、塩基の濃度が20〜50重量%、反応温度が
50〜110℃、反応時間が4〜50時間であることを
特徴とするジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法
である。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明方法に用いられる一般式
(I)で表わされる化合物は、沃化メチル、沃化エチ
ル、沃化n−プロピル、沃化イソプロピル、沃化n−ブ
チル、沃化イソブチル、沃化sec−ブチル、沃化ペン
チル、沃化ヘキシル、沃化ヘプチル、沃化オクチルなど
の沃化アルキル、沃化アリルなどの沃化アルケニル、沃
化シクロヘキシルなどの沃化シクロアルキル、または芳
香環上に置換基を有していてもよい沃化ベンジルもしく
は沃化フェネチルなどが挙げられる。本発明では一般式
(I)で表わされる化合物(以下沃化アルキル等と略
す。)を4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンに
対して通常0.8〜2当量用い、好ましくは1.0〜
1.6当量用いる。
(I)で表わされる化合物は、沃化メチル、沃化エチ
ル、沃化n−プロピル、沃化イソプロピル、沃化n−ブ
チル、沃化イソブチル、沃化sec−ブチル、沃化ペン
チル、沃化ヘキシル、沃化ヘプチル、沃化オクチルなど
の沃化アルキル、沃化アリルなどの沃化アルケニル、沃
化シクロヘキシルなどの沃化シクロアルキル、または芳
香環上に置換基を有していてもよい沃化ベンジルもしく
は沃化フェネチルなどが挙げられる。本発明では一般式
(I)で表わされる化合物(以下沃化アルキル等と略
す。)を4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンに
対して通常0.8〜2当量用い、好ましくは1.0〜
1.6当量用いる。
【0009】沃化アルキル等は、過剰量使用しても反応
の選択率は大きく低下することはなく、逆に反応の転化
率が従来の70%前後から95%前後に向上し、反応効
率が改善される。通常、沃化アルキル等の方が臭化アル
キル等より反応性が高いため選択性が低下することが考
えられるが、反応溶媒として水を用いる系では沃化アル
キル等は水に対する溶解度が臭化アルキル等に比して低
いため(例えば溶解度臭化イソプロピル:0.381g
/100gH2O、沃化イソプロピル:0.139g/
10 0gH2 O)、選択性は低下しなかったと考えら
れる。また、沃素回収工程から過剰の沃化アルキル等を
ほぼ定量的に回収できるため、反応転化率を上げるため
に沃化アルキル等を過剰量用いたとしてもコスト面で大
きな不利になることはない。
の選択率は大きく低下することはなく、逆に反応の転化
率が従来の70%前後から95%前後に向上し、反応効
率が改善される。通常、沃化アルキル等の方が臭化アル
キル等より反応性が高いため選択性が低下することが考
えられるが、反応溶媒として水を用いる系では沃化アル
キル等は水に対する溶解度が臭化アルキル等に比して低
いため(例えば溶解度臭化イソプロピル:0.381g
/100gH2O、沃化イソプロピル:0.139g/
10 0gH2 O)、選択性は低下しなかったと考えら
れる。また、沃素回収工程から過剰の沃化アルキル等を
ほぼ定量的に回収できるため、反応転化率を上げるため
に沃化アルキル等を過剰量用いたとしてもコスト面で大
きな不利になることはない。
【0010】また先に述べたように、水に対する溶解度
が臭化アルキル等は沃化アルキル等に比して大きいた
め、臭化アルキル等が、4,4’−ジヒドロキシフェニ
ルスルホンと塩を形成していない塩基によって加水分解
を受けやすい問題がある。従って、反応転化率を上げる
ために、臭化アルキル等及び塩基をかなり過剰に用いる
必要があるのに対して、沃化アルキル等の場合、水に対
する溶解度が低い上反応性が高いため、1.5当量用い
る程度で反応転化率を95%まで向上させることができ
る利点がある。
が臭化アルキル等は沃化アルキル等に比して大きいた
め、臭化アルキル等が、4,4’−ジヒドロキシフェニ
ルスルホンと塩を形成していない塩基によって加水分解
を受けやすい問題がある。従って、反応転化率を上げる
ために、臭化アルキル等及び塩基をかなり過剰に用いる
必要があるのに対して、沃化アルキル等の場合、水に対
する溶解度が低い上反応性が高いため、1.5当量用い
る程度で反応転化率を95%まで向上させることができ
る利点がある。
【0011】また臭化アルキル等に比して沃化アルキル
等は反応性が高いうえに、さらに沸点が高いため常圧で
特別な装置を用いことなく反応温度を上げることができ
る。従って反応効率が上がり臭化アルキル等を用いる場
合に比して、短時間で反応を完結することができる。た
とえば、沃化イソプロピルを4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンに対して1.07当量用い70℃で反
応を行った場合、ほぼ8時間で反応が完結するのに対し
て臭化イソプロピルを用いて同様に反応を行った場合、
反応完結までほぼ倍の16時間を要する。また、反応温
度90℃に設定し、沃化イソプロピル用いてアルキル化
を行った場合は、ほぼ4時間で反応が終了するのに対し
て、臭化イソプロピルでは反応温度を90℃に設定する
ことは特殊な装置を用いる以外は不可能である。また、
加圧下に反応を行えば、沃化アルキル等の沸点以上の温
度で反応を行うことができ、更に反応時間の短縮等反応
効率を上げることができる。
等は反応性が高いうえに、さらに沸点が高いため常圧で
特別な装置を用いことなく反応温度を上げることができ
る。従って反応効率が上がり臭化アルキル等を用いる場
合に比して、短時間で反応を完結することができる。た
とえば、沃化イソプロピルを4,4’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホンに対して1.07当量用い70℃で反
応を行った場合、ほぼ8時間で反応が完結するのに対し
て臭化イソプロピルを用いて同様に反応を行った場合、
反応完結までほぼ倍の16時間を要する。また、反応温
度90℃に設定し、沃化イソプロピル用いてアルキル化
を行った場合は、ほぼ4時間で反応が終了するのに対し
て、臭化イソプロピルでは反応温度を90℃に設定する
ことは特殊な装置を用いる以外は不可能である。また、
加圧下に反応を行えば、沃化アルキル等の沸点以上の温
度で反応を行うことができ、更に反応時間の短縮等反応
効率を上げることができる。
【0012】脱酸剤として用いる塩基としては、水酸化
ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化
物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアル
カリ土類金属水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムなどのアルカリ金属炭酸塩を使用することができる
が、アルカリ金属水酸化物が特に好ましい。
ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化
物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムなどのアル
カリ土類金属水酸化物または炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムなどのアルカリ金属炭酸塩を使用することができる
が、アルカリ金属水酸化物が特に好ましい。
【0013】塩基の使用量は、反応溶媒としての水の使
用量と相まって、反応の選択性に大きな影響を与える。
即ち、塩基の使用量が4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルススルホン1モルに対し、2〜4モル、好ましくは
2.2〜3.2モルであり、水の使用量は、塩基の濃度
が20〜50重量%になる量、好ましくは30〜35重
量%用いるのが反応の選択性をあげる上で好ましい。
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのジアルカ
リ塩は水に対する溶解度が高く、一方、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンのモノ置換体のアルカリ塩
は、水に対する溶解度が低いため、反応が進行するにつ
れてモノ置換体の金属塩が析出してくるので選択的にモ
ノ置換体が得られてくると考えられる。従って反応当
初、塩基は4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
に対して2当量以上用い、熱時にジアルカリ塩を溶解さ
せるだけの水の量として塩基の濃度が20重量%以上と
なる水の量を用いる。一方、50重量%以上ではモノ置
換体のアルカリ塩が溶解してしまうため選択性が低下す
る。
用量と相まって、反応の選択性に大きな影響を与える。
即ち、塩基の使用量が4,4’−ジヒドロキシジフェニ
ルススルホン1モルに対し、2〜4モル、好ましくは
2.2〜3.2モルであり、水の使用量は、塩基の濃度
が20〜50重量%になる量、好ましくは30〜35重
量%用いるのが反応の選択性をあげる上で好ましい。
4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのジアルカ
リ塩は水に対する溶解度が高く、一方、4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンのモノ置換体のアルカリ塩
は、水に対する溶解度が低いため、反応が進行するにつ
れてモノ置換体の金属塩が析出してくるので選択的にモ
ノ置換体が得られてくると考えられる。従って反応当
初、塩基は4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
に対して2当量以上用い、熱時にジアルカリ塩を溶解さ
せるだけの水の量として塩基の濃度が20重量%以上と
なる水の量を用いる。一方、50重量%以上ではモノ置
換体のアルカリ塩が溶解してしまうため選択性が低下す
る。
【0014】沃素回収工程は、一般式(II)で表わさ
れるジフェニルスルホン化合物を製造する際に排出され
る廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収し、回収した
沃素と反応に用いる沃化アルキル等に対応するアルコー
ルから沃化アルキル等を製造し、その際出される廃水中
からも、更に沃素を回収して沃化アルキルの製造に再利
用する工程を含む。
れるジフェニルスルホン化合物を製造する際に排出され
る廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収し、回収した
沃素と反応に用いる沃化アルキル等に対応するアルコー
ルから沃化アルキル等を製造し、その際出される廃水中
からも、更に沃素を回収して沃化アルキルの製造に再利
用する工程を含む。
【0015】沃素を回収する工程としては、次のような
工程を例示することができる。まず、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを塩基存在下沃化アルキルで
アルキル化し反応終了後、少量副生したジアルキル体を
濾別し、酸でpH調整し、トルエン等の目的物を溶解す
る有機溶媒を加えて、有機層に目的物を抽出し、未反応
の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのナトリ
ウム塩と塩基の沃化物塩を含む水層を分液する。
工程を例示することができる。まず、4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを塩基存在下沃化アルキルで
アルキル化し反応終了後、少量副生したジアルキル体を
濾別し、酸でpH調整し、トルエン等の目的物を溶解す
る有機溶媒を加えて、有機層に目的物を抽出し、未反応
の4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホンのナトリ
ウム塩と塩基の沃化物塩を含む水層を分液する。
【0016】次に、水層をpH調整し、未反応の4,
4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンを回収する。p
H調整する範囲は酸性側であれば特に限定されないが、
後の沃素回収工程を考慮するとpH0.5〜4.0の範
囲が、特にpH2.0〜3.0の範囲が好ましい。用い
る酸は、特に限定されないが、塩酸、硫酸等の鉱酸が好
ましい。このように有機物成分を大方除去し、さらに水
層から沃素を遊離させる方法として、酸化剤で酸化する
方法や、直接電解する方法等を例示することができる
が、装置やコスト面から酸化剤による酸化方法が好まし
い。
4’―ジヒドロキシジフェニルスルホンを回収する。p
H調整する範囲は酸性側であれば特に限定されないが、
後の沃素回収工程を考慮するとpH0.5〜4.0の範
囲が、特にpH2.0〜3.0の範囲が好ましい。用い
る酸は、特に限定されないが、塩酸、硫酸等の鉱酸が好
ましい。このように有機物成分を大方除去し、さらに水
層から沃素を遊離させる方法として、酸化剤で酸化する
方法や、直接電解する方法等を例示することができる
が、装置やコスト面から酸化剤による酸化方法が好まし
い。
【0017】また、用いる酸化剤としては塩素、次亜塩
素酸もしくはその塩、過酸化水素、又は酸素等を例示す
ることができるが、廃水の処理及びコストを考慮すると
塩素が特に好ましい。酸化剤の使用量はモル比として沃
素の1〜1.5倍、好ましくは1.0〜1.3倍とする
のが望ましい。なお、酸化剤を加えるのに先立ち、溶液
に塩酸、硫酸等の酸を加え、溶液のpHを0.5〜3.
0、好ましくは1.0〜2.0とするのが望ましい。
素酸もしくはその塩、過酸化水素、又は酸素等を例示す
ることができるが、廃水の処理及びコストを考慮すると
塩素が特に好ましい。酸化剤の使用量はモル比として沃
素の1〜1.5倍、好ましくは1.0〜1.3倍とする
のが望ましい。なお、酸化剤を加えるのに先立ち、溶液
に塩酸、硫酸等の酸を加え、溶液のpHを0.5〜3.
0、好ましくは1.0〜2.0とするのが望ましい。
【0018】このように遊離した沃素含有水から沃素を
採取する方法としては、公知のブローアウト法、イオン
交換樹脂法、銅法、活性炭法、及び加圧溶融法等が知ら
れており、いずれの方法をも採用することができるが、
本反応では、中間工程で有機物及び不純物を大方取り除
かれていること、及び比較的簡便な装置で高品質の沃素
が得られることを考慮すると加圧溶融法が好ましい。
採取する方法としては、公知のブローアウト法、イオン
交換樹脂法、銅法、活性炭法、及び加圧溶融法等が知ら
れており、いずれの方法をも採用することができるが、
本反応では、中間工程で有機物及び不純物を大方取り除
かれていること、及び比較的簡便な装置で高品質の沃素
が得られることを考慮すると加圧溶融法が好ましい。
【0019】具体的には、例えば、遊離した沃素をサイ
クロンタイプの遠心分離機により水と分離した後、加圧
下で130〜150℃に加熱して溶融させ、冷却固化し
てフレーク状、昇華結晶状、塊状にし、或いは粉末状や
粒状等にすることができる。特に、溶解性がよく、しか
も昇華性が少なく取り扱いが容易な球状の沃素を得るた
めに、溶融物を細い径の噴出孔から一定速度で流出さ
せ、その落下途中において冷却ガスにより冷却固化させ
る方法が好ましく取られる。
クロンタイプの遠心分離機により水と分離した後、加圧
下で130〜150℃に加熱して溶融させ、冷却固化し
てフレーク状、昇華結晶状、塊状にし、或いは粉末状や
粒状等にすることができる。特に、溶解性がよく、しか
も昇華性が少なく取り扱いが容易な球状の沃素を得るた
めに、溶融物を細い径の噴出孔から一定速度で流出さ
せ、その落下途中において冷却ガスにより冷却固化させ
る方法が好ましく取られる。
【0020】沃素を用い、沃化アルキル等を製造する方
法としては、ロジウム、イリジウム、あるいはルテニウ
ム触媒の存在下、水素、沃素、とメタノールを原料とす
る方法、周期律表Ia、IIa、IIIa、Ib、II
b、IVb族金属、沃素とアルコール等を15〜150
℃、1〜50atmで反応させる方法、アルコール、沃
素、及び赤リンを原料とする方法等が知られているが、
反応装置や、コスト面を考慮すると、特に赤リンを用い
る方法が好ましい。
法としては、ロジウム、イリジウム、あるいはルテニウ
ム触媒の存在下、水素、沃素、とメタノールを原料とす
る方法、周期律表Ia、IIa、IIIa、Ib、II
b、IVb族金属、沃素とアルコール等を15〜150
℃、1〜50atmで反応させる方法、アルコール、沃
素、及び赤リンを原料とする方法等が知られているが、
反応装置や、コスト面を考慮すると、特に赤リンを用い
る方法が好ましい。
【0021】具体的には、例えばアルコール中に赤リン
を懸濁させておき、加熱下で、沃素を滴下して反応液よ
り蒸留することで、沃化アルキルを合成することができ
る。工業的には、沃素のアルコール溶液に、アルコール
中に懸濁した赤リンを滴下する方法で製造することもで
きる。用いる赤リンは無水赤リンまたは、含水の赤リン
どちらでも使用することができるが、安全性を考慮する
と含水物の方が好ましい。含水赤リンは、リンに対して
10〜40mol%、好ましくは10〜30mol%の
水分を含んだものが用いられる。
を懸濁させておき、加熱下で、沃素を滴下して反応液よ
り蒸留することで、沃化アルキルを合成することができ
る。工業的には、沃素のアルコール溶液に、アルコール
中に懸濁した赤リンを滴下する方法で製造することもで
きる。用いる赤リンは無水赤リンまたは、含水の赤リン
どちらでも使用することができるが、安全性を考慮する
と含水物の方が好ましい。含水赤リンは、リンに対して
10〜40mol%、好ましくは10〜30mol%の
水分を含んだものが用いられる。
【0022】反応溶媒は、通常、反応基質となるアルコ
ール中で行われるが、水を混在させることもでき、特に
反応が暴走するのを防ぐ目的で、水共存下で反応を行う
方が好ましい。用いる水の量は用いる沃素を基準とし、
5〜20ml/原子molの範囲で用いられ、好ましく
は10〜15ml/原子molの範囲で用いられる。5
ml/原子molより少ないと効果がなく、また20m
l/原子molより多いと反応を阻害する結果となる。
赤リンを懸濁させる水としては、滴下に支障をきたさな
い範囲で赤リンが十分に懸濁できる量であれば特に制限
はないが、通常赤リンと同重量程度の水であれば十分で
ある。
ール中で行われるが、水を混在させることもでき、特に
反応が暴走するのを防ぐ目的で、水共存下で反応を行う
方が好ましい。用いる水の量は用いる沃素を基準とし、
5〜20ml/原子molの範囲で用いられ、好ましく
は10〜15ml/原子molの範囲で用いられる。5
ml/原子molより少ないと効果がなく、また20m
l/原子molより多いと反応を阻害する結果となる。
赤リンを懸濁させる水としては、滴下に支障をきたさな
い範囲で赤リンが十分に懸濁できる量であれば特に制限
はないが、通常赤リンと同重量程度の水であれば十分で
ある。
【0023】本反応は沃素(I2 ):リン:アルコー
ル=3:2:6の割合で反応するが、反応効率及び廃液
中に存在する沃素は再び回収工程にまわされることを考
慮すると、沃素1原子molに対してアルコールを1〜
1.5当量、赤リンを0.2〜0.3当量用いるのが好
ましい。
ル=3:2:6の割合で反応するが、反応効率及び廃液
中に存在する沃素は再び回収工程にまわされることを考
慮すると、沃素1原子molに対してアルコールを1〜
1.5当量、赤リンを0.2〜0.3当量用いるのが好
ましい。
【0024】反応は、アルコール、赤リン中に沃素を添
加する方法、アルコール、沃素中にリンを添加する方法
ともにアルコールの沸点付近で添加し反応を行う。反応
は添加と同時に発熱を伴って進行する。従って、添加速
度を速くしすぎた場合、反応の制御が困難となるため、
適度の反応速度を保つ必要がある。
加する方法、アルコール、沃素中にリンを添加する方法
ともにアルコールの沸点付近で添加し反応を行う。反応
は添加と同時に発熱を伴って進行する。従って、添加速
度を速くしすぎた場合、反応の制御が困難となるため、
適度の反応速度を保つ必要がある。
【0025】反応終了後、反応液より、蒸留により目的
とする沃化アルキル等を単離することができる。また、
水蒸気蒸留により単離することもできる。特に、蒸留の
釜残から沃素をさらに回収する場合、含まれるリン−沃
素化合物等が十分に加水分解されているほうが有利であ
り、回収工程を考慮に入れる場合は水蒸気蒸留の方が好
ましい。
とする沃化アルキル等を単離することができる。また、
水蒸気蒸留により単離することもできる。特に、蒸留の
釜残から沃素をさらに回収する場合、含まれるリン−沃
素化合物等が十分に加水分解されているほうが有利であ
り、回収工程を考慮に入れる場合は水蒸気蒸留の方が好
ましい。
【0026】後処理工程で回収される4,4’−ジヒド
ロキシジフェニルスルホン、回収された反応により生成
するアルコール、及び再生された沃化アルキル等は反応
の原料の一部又は全部として再利用されるが、反応収率
や生成物の品質については問題となることなく再利用が
可能である。臭化アルキルを用いて一般式(II)で表
される化合物を合成した場合と、回収工程を含めて沃化
アルキル等を用いて一般式(II)で表される化合物を
合成した場合では、品質面でほぼ同等の製品を得ること
ができ、コスト面、生産性の面で有利となり、沃化アル
キル等を臭化アルキル等の代替原料として用いることが
可能となった。
ロキシジフェニルスルホン、回収された反応により生成
するアルコール、及び再生された沃化アルキル等は反応
の原料の一部又は全部として再利用されるが、反応収率
や生成物の品質については問題となることなく再利用が
可能である。臭化アルキルを用いて一般式(II)で表
される化合物を合成した場合と、回収工程を含めて沃化
アルキル等を用いて一般式(II)で表される化合物を
合成した場合では、品質面でほぼ同等の製品を得ること
ができ、コスト面、生産性の面で有利となり、沃化アル
キル等を臭化アルキル等の代替原料として用いることが
可能となった。
【0027】以下、実施例により本発明を詳細に説明す
るが、本発明は実施例に限定されるものではない。
るが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【0028】〔実施例〕 実施例1 1000mlの四つ口フラスコに純度96%のNaOH
26.0g(0.624mol)と水49.4gを仕
込み常温で溶解させ、その中に4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン(以下BPSと略す)60g(0.
24mol)を加え、100℃で30分間攪拌して溶解
させた。その後、内温を70℃まで冷却し、沃化イソプ
ロピル43.7g(0.258mol)を1時間かけて
滴下し、内温70 ℃で10時間反応を行った。反応開
始後8時間で反応液を一部抜き出し、HPLCで定量分
析を行ったところ収率72%で4−イソプロポキシ−
4′−ヒドロキシジフェニルスルホンが生成していた。
反応終了後、50℃の温水100gを加えて反応液を希
釈し、その後、常温まで冷却してメタノール600ml
を加えて反応物を完全に溶解させた。この反応希釈液を
HPLCで定量分析を行った結果、目的とする4−イソ
プロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンの生
成率は75.1%(BPSを基準)、副生成物である
4,4′−ジイソプロポキシジフェニルスルホンの生成
率は2.2%(BPSを基準)、原料のBPS残存率は
22.7%であった。
26.0g(0.624mol)と水49.4gを仕
込み常温で溶解させ、その中に4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン(以下BPSと略す)60g(0.
24mol)を加え、100℃で30分間攪拌して溶解
させた。その後、内温を70℃まで冷却し、沃化イソプ
ロピル43.7g(0.258mol)を1時間かけて
滴下し、内温70 ℃で10時間反応を行った。反応開
始後8時間で反応液を一部抜き出し、HPLCで定量分
析を行ったところ収率72%で4−イソプロポキシ−
4′−ヒドロキシジフェニルスルホンが生成していた。
反応終了後、50℃の温水100gを加えて反応液を希
釈し、その後、常温まで冷却してメタノール600ml
を加えて反応物を完全に溶解させた。この反応希釈液を
HPLCで定量分析を行った結果、目的とする4−イソ
プロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンの生
成率は75.1%(BPSを基準)、副生成物である
4,4′−ジイソプロポキシジフェニルスルホンの生成
率は2.2%(BPSを基準)、原料のBPS残存率は
22.7%であった。
【0029】実施例2 実施例1と同様のNaOH、水、BPS仕込み量で沃化
イソプロピルを61.2g(0.36mol)に変え
て、温度を70℃で20時間反応を行った。反応開始後
8時間及び14時間で反応液を一部抜き出しHPLCで
定量分析を行ったところ、それぞれ収率73%及び85
%で4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホンが生成していた。反応終了後、実施例1と同様
の処理をし、この反応希釈液を、HPLCで定量分析を
行った結果、目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒ
ドロキシジフェニルスルホンの生成率は89.8%(B
PSを基準)、副生物であるジ体の生成率は4.8%
(BPSを基準)、原料のBPS残存率は5.4%であ
った。
イソプロピルを61.2g(0.36mol)に変え
て、温度を70℃で20時間反応を行った。反応開始後
8時間及び14時間で反応液を一部抜き出しHPLCで
定量分析を行ったところ、それぞれ収率73%及び85
%で4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニル
スルホンが生成していた。反応終了後、実施例1と同様
の処理をし、この反応希釈液を、HPLCで定量分析を
行った結果、目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒ
ドロキシジフェニルスルホンの生成率は89.8%(B
PSを基準)、副生物であるジ体の生成率は4.8%
(BPSを基準)、原料のBPS残存率は5.4%であ
った。
【0030】実施例3 実施例1と同様のNaOH、水、BPS、及び沃化イソ
プロピルの仕込み量で温度を90℃に変えて4時間反応
を行った。反応開始後3時間で反応液を一部抜き出し、
HPLCで定量分析を行ったところ収率80%で4−イ
ソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンが
生成していた。反応終了後、実施例1と同様の処理を
し、この反応希釈液をHPLCで定量分析を行った結
果、目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシ
ジフェニルスルホンの生成率は82.0%(BPSを基
準)、副生物であるジ体の生成率は5.0%(BPSを
基準)、原料のBPS残存率は13.0%であった。
プロピルの仕込み量で温度を90℃に変えて4時間反応
を行った。反応開始後3時間で反応液を一部抜き出し、
HPLCで定量分析を行ったところ収率80%で4−イ
ソプロポキシ−4′−ヒドロキシジフェニルスルホンが
生成していた。反応終了後、実施例1と同様の処理を
し、この反応希釈液をHPLCで定量分析を行った結
果、目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒドロキシ
ジフェニルスルホンの生成率は82.0%(BPSを基
準)、副生物であるジ体の生成率は5.0%(BPSを
基準)、原料のBPS残存率は13.0%であった。
【0031】実施例4 1000mlの底部から液抜き可能な四つ口フラスコに
純度96%のNaOH26.0g(0.624mol)
と水49.4gを仕込み常温で溶解させ、その中にBP
S60g(0.24mol)を加え、100℃で30分
間攪拌して溶解させ た。その後、内温を70℃まで冷
却し、沃化イソプロピル43.7g(0.25 8mo
l)を1時間かけて滴下し、内温70℃で10時間反応
を行った。
純度96%のNaOH26.0g(0.624mol)
と水49.4gを仕込み常温で溶解させ、その中にBP
S60g(0.24mol)を加え、100℃で30分
間攪拌して溶解させ た。その後、内温を70℃まで冷
却し、沃化イソプロピル43.7g(0.25 8mo
l)を1時間かけて滴下し、内温70℃で10時間反応
を行った。
【0032】反応終了後、70℃の温水110gを加え
て反応液を希釈し、トルエン350mlを加え、希硫酸
でpH8.0〜9.0とし水層を分液した。この水層を
水層1とする。更に、70℃の温水100gを加えて希
硫酸でpH8.0〜9.0とし水層を分液した。この水
層を水層2とする。その後、70℃の温水100gを加
えてトルエン層を洗浄、分液し、トルエン層を冷却し、
晶析した。析出した結晶を濾過し、トルエンで洗浄後、
乾燥して目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒドロ
キシジフェニルスルホン49gを得た。このものの純度
は99.2%(HPLC相対面積比)で収率は70%
(BPSを基準)であった。
て反応液を希釈し、トルエン350mlを加え、希硫酸
でpH8.0〜9.0とし水層を分液した。この水層を
水層1とする。更に、70℃の温水100gを加えて希
硫酸でpH8.0〜9.0とし水層を分液した。この水
層を水層2とする。その後、70℃の温水100gを加
えてトルエン層を洗浄、分液し、トルエン層を冷却し、
晶析した。析出した結晶を濾過し、トルエンで洗浄後、
乾燥して目的とする4−イソプロポキシ−4′−ヒドロ
キシジフェニルスルホン49gを得た。このものの純度
は99.2%(HPLC相対面積比)で収率は70%
(BPSを基準)であった。
【0033】水層1と水層2を合わせた約300gの水
層に希硫酸を加えpH3とし、析出した未反応BPSを
濾過、水洗浄して回収した。回収量は15.3gで回収
率は25.5%(BPSを基準)であった。濾液中の沃
素分を滴定により求めたところ、反応に使用した沃素分
の99%を含有していた。
層に希硫酸を加えpH3とし、析出した未反応BPSを
濾過、水洗浄して回収した。回収量は15.3gで回収
率は25.5%(BPSを基準)であった。濾液中の沃
素分を滴定により求めたところ、反応に使用した沃素分
の99%を含有していた。
【0034】濾液に、希塩酸を加えpHを1とした後、
塩素ガス22g(0.31mol)を吹き込み沃素を遊
離させた。反応液をサイクロン型遠心分離器により沃素
と水層に分離した。分離した水層を滴定したところ沃素
分を1000ppm〜1300ppmの割合で含有して
いた。水層の沃素分が検出限界以下になるまで更に窒素
ガスを吹き込み、ガスを冷却して更に沃素を回収した。
分離した沃素を溶融釜で加圧下130℃で加熱し溶融さ
せた後、冷却し、高純度の沃素31gを得た。回収率9
7%であった。
塩素ガス22g(0.31mol)を吹き込み沃素を遊
離させた。反応液をサイクロン型遠心分離器により沃素
と水層に分離した。分離した水層を滴定したところ沃素
分を1000ppm〜1300ppmの割合で含有して
いた。水層の沃素分が検出限界以下になるまで更に窒素
ガスを吹き込み、ガスを冷却して更に沃素を回収した。
分離した沃素を溶融釜で加圧下130℃で加熱し溶融さ
せた後、冷却し、高純度の沃素31gを得た。回収率9
7%であった。
【0035】実施例5 沃素2438g(19.2原子mol)にイソプロパノ
ール1209g(20.2mol)及び水58mlを加
え、内温90℃に加熱した。ここに含水の赤リン16
0.9g(赤リン141.1g、水19.8g、4.6
mol)を水153.6mlに懸濁した溶液を内温90
℃に保ちながら約2時間かけて滴下した。その後、2時
間還流したのち、水蒸気を系内に通じて3時間かけて水
蒸気蒸留を行った。得られた留分に水600ml加えて
水洗し、純度98%の沃化イソプロピル2886g(収
率87%)を得た。水蒸気蒸留の釜残中の沃素分は滴定
により用いた沃素の11%を含有しており、沃化イソプ
ロピルとあわせて沃素の回収率は98%であった。
ール1209g(20.2mol)及び水58mlを加
え、内温90℃に加熱した。ここに含水の赤リン16
0.9g(赤リン141.1g、水19.8g、4.6
mol)を水153.6mlに懸濁した溶液を内温90
℃に保ちながら約2時間かけて滴下した。その後、2時
間還流したのち、水蒸気を系内に通じて3時間かけて水
蒸気蒸留を行った。得られた留分に水600ml加えて
水洗し、純度98%の沃化イソプロピル2886g(収
率87%)を得た。水蒸気蒸留の釜残中の沃素分は滴定
により用いた沃素の11%を含有しており、沃化イソプ
ロピルとあわせて沃素の回収率は98%であった。
【0036】
【発明の効果】一般式(II)で表わされる化合物を合
成する際、アルキル化剤等として臭化アルキル等の代わ
りに沃化アルキル等を用いると、反応時間を短縮するこ
とができ、しかも反応の選択性を落とさずに原料転化率
をあげることができる。これらの反応効率の改善に加
え、さらに反応工程に沃素回収工程を組み込むことでコ
スト面でも臭化アルキル等と同等の製品を提供すること
ができ、安定した供給源である沃化アルキル等を工業的
生産に用いることが可能となった。また、ほぼ完全に沃
素を回収することができ、有害な沃化物を環境に排出す
ることなく効率よく製造を行えるプロセスを見出すこと
ができた。
成する際、アルキル化剤等として臭化アルキル等の代わ
りに沃化アルキル等を用いると、反応時間を短縮するこ
とができ、しかも反応の選択性を落とさずに原料転化率
をあげることができる。これらの反応効率の改善に加
え、さらに反応工程に沃素回収工程を組み込むことでコ
スト面でも臭化アルキル等と同等の製品を提供すること
ができ、安定した供給源である沃化アルキル等を工業的
生産に用いることが可能となった。また、ほぼ完全に沃
素を回収することができ、有害な沃化物を環境に排出す
ることなく効率よく製造を行えるプロセスを見出すこと
ができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 半 澤 真 之 福島県郡山市笹川1丁目176 郡山化成株 式会社郡山工場内 (72)発明者 鈴 木 康 之 福島県郡山市笹川1丁目176 郡山化成株 式会社郡山工場内 (72)発明者 帰 山 稔 千葉県市原市五井南海岸12−54 日本曹達 株式会社機能製品研究所内 (72)発明者 肥 高 友 也 千葉県市原市五井南海岸12−54 日本曹達 株式会社機能製品研究所内 (72)発明者 川 辺 徹 千葉県市原市五井南海岸12−54 日本曹達 株式会社機能製品研究所内 Fターム(参考) 2H026 AA07 BB02 BB30 4H006 AA02 AC30 AC43 BA02 BA06 BA29 BA32 BD34 BD51 BD70 TA02 TB13 TB42 TC32
Claims (3)
- 【請求項1】 4,4'−ジヒドロキシジフェニルスルホ
ンと一般式(I) 【化1】 (式中Rは、直鎖もしくは分枝してもよいアルキル基、
アルケニル基もしくはアルキニル基;アリル基;または
置換基を有してもよいアラルキル基もしくはシクロアル
キル基を表す)で表される化合物を塩基の存在下に反応
させ、廃水中に含まれる沃化物から沃素を回収し、回収
した沃素と反応に用いる沃化アルキルに対応するアルコ
ールから沃化アルキルを製造し、その際排出される廃水
中からも、更に沃素を回収して沃化アルキルの製造に再
利用し、環境中へ沃素及び/又は沃化物を排出しない沃
素回収工程を含むことを特徴とする一般式(II) 【化2】 (式中、Rは前記と同じ基を表す)で表されるジフェニ
ルスルホン化合物の工業的製造法。 - 【請求項2】 一般式(I) 【化3】 (式中、Rは、前記と同じ基を表わす)で表わされる化
合物が沃化イソプロピルであることを特徴とする請求項
1に記載のジフェニルスルホン化合物の工業的製造方
法。 - 【請求項3】 4,4’−ジヒドロキシジフェニルスル
ホン1モルに対して一般式(I) 【化4】 (式中、Rは前記と同じ基を表わす)で表わされる化合
物を0.8〜2モル、及び無機または有機塩基を2〜4
モル用い、塩基の濃度が20〜50重量%、反応温度が
50〜110℃、反応時間が4〜50時間であることを
特徴とする請求項1又は請求項2に記載のジフェニルス
ルホン化合物の工業的製造方法
Priority Applications (16)
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|---|---|---|---|
| JP11078625A JP2000273081A (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法 |
| JP2000074612A JP3811735B2 (ja) | 1999-03-23 | 2000-03-16 | ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法 |
| DE60045198T DE60045198D1 (de) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Verarbeitungsprozess zur Herstellung von Diphenylsulfon-Verbindungen |
| EP00909706A EP1164129B1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrial process for the production of diphenyl sulfone compounds |
| EP07018222A EP1860099B1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrial process for the production of diphenyl sulfone compounds |
| KR10-2001-7011621A KR100499981B1 (ko) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | 디페닐 술폰 화합물의 공업적 제조 방법 |
| ES00909706T ES2325905T3 (es) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Procedimiento industrial para la produccion de compuestos de difenil sulfona. |
| AT07018222T ATE486846T1 (de) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Verarbeitungsprozess zur herstellung von diphenylsulfon-verbindungen |
| AT00909706T ATE431336T1 (de) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrielles verfahren zur herstellung von diphenylsulfonverbindungen |
| DE60042199T DE60042199D1 (de) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrielles verfahren zur herstellung von diphenylsulfonverbindungen |
| KR1020057002118A KR20050047093A (ko) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | 디페닐 술폰 화합물의 공업적 제조 방법 |
| ES07018222T ES2352975T3 (es) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Procedimiento industrial para la producción de compuestos de difenil sulfona. |
| PCT/JP2000/001639 WO2000056705A1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrial process for the production of diphenyl sulfone compounds |
| US09/937,248 US6590126B1 (en) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | Industrial process for the production of diphenyl sulfone compounds |
| CNB008054029A CN1183106C (zh) | 1999-03-23 | 2000-03-17 | 二苯砜的工业制备方法 |
| US10/446,581 US7241924B2 (en) | 1999-03-23 | 2003-05-28 | Industrial process for the production of diphenyl sulfone compounds |
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|---|---|---|---|
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| JP11078625A Pending JP2000273081A (ja) | 1999-03-23 | 1999-03-23 | ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法 |
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|---|---|
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| KR (2) | KR100499981B1 (ja) |
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| AT (2) | ATE431336T1 (ja) |
| DE (2) | DE60042199D1 (ja) |
| ES (2) | ES2325905T3 (ja) |
| WO (1) | WO2000056705A1 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
| JP2003028792A (ja) * | 2001-07-13 | 2003-01-29 | Nippon Soda Co Ltd | 含水粉状物の反応管理システム及びジフェニルスルホン化合物の製造方法 |
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| KR20050052551A (ko) * | 2001-01-22 | 2005-06-02 | 닛뽕소다 가부시키가이샤 | 디페닐술폰화합물의 제조 방법 |
| KR100529158B1 (ko) * | 2002-11-14 | 2005-11-17 | 주식회사 코오롱 | 4-이소프로폭시-4'-히드록시디페닐 술폰의 제조방법 |
| JP4473634B2 (ja) * | 2004-04-21 | 2010-06-02 | 日華化学株式会社 | 感熱記録用顕色剤及び感熱記録材料の製造方法 |
| WO2014170709A1 (en) * | 2013-04-16 | 2014-10-23 | Bandodkar Hemant Ratanakar | Process for the production of diphenyl sulfone compounds |
| CN107915665B (zh) * | 2017-11-15 | 2019-08-23 | 山东瑞康精化有限公司 | 一种热敏材料d-8的制备方法 |
| CN111018755B (zh) * | 2019-12-30 | 2021-08-13 | 江苏傲伦达科技实业股份有限公司 | 一种利用4,4’-二异丙氧基二苯砜制备4-羟基-4’-异丙氧基二苯砜的方法 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS5820493A (ja) | 1981-07-29 | 1983-02-05 | Yoshitomi Pharmaceut Ind Ltd | 感熱記録紙 |
| JPS5882788A (ja) | 1981-11-11 | 1983-05-18 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感熱記録材料 |
| JPS58164131A (ja) | 1982-03-24 | 1983-09-29 | Toshiba Chem Corp | アノ−ドキヤツプの1体成形方法 |
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