JP2000284473A - 酸発生組成物 - Google Patents

酸発生組成物

Info

Publication number
JP2000284473A
JP2000284473A JP9343499A JP9343499A JP2000284473A JP 2000284473 A JP2000284473 A JP 2000284473A JP 9343499 A JP9343499 A JP 9343499A JP 9343499 A JP9343499 A JP 9343499A JP 2000284473 A JP2000284473 A JP 2000284473A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
acid
polymerizable monomer
nucleophilic
formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9343499A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4376347B2 (ja
Inventor
Takemare Nakamura
剛希 中村
Kensuke Morita
健介 森田
Shunichi Ishikawa
俊一 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9343499A priority Critical patent/JP4376347B2/ja
Priority to US09/541,082 priority patent/US6432615B1/en
Publication of JP2000284473A publication Critical patent/JP2000284473A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4376347B2 publication Critical patent/JP4376347B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保存安定性に優れ、媒体の影響を受けること
なく少量の刺激(情報)から多量の酸を発生させる。 【解決手段】 少なくとも1種の求核性基を有する重合
性モノマーと少なくとも1種の酸発生性重合性モノマー
を含む酸発生組成物を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は増幅的な酸発生技術
に関し、さらに詳しくは、少量のラジカルを多量の酸へ
と増幅可能な酸発生組成物に関する。
【0002】
【従来技術】酸を触媒とする化学反応は数多く知られて
おり、産業的にも重要である。特にフォトレジスト分野
においては、光により酸を発生させ、発生した酸を触媒
として精密なパターニングを行う例が知られている。こ
れらは化学増幅型レジストと呼ばれ、「フォトポリマー
技術の新展開」(東レリサーチセンター刊、1993
年)などに述べられている。この方法は、光により酸を
発生する感光剤を用い、露光により酸を発生させ、続い
てこの酸を熱的に拡散させてポリマーを架橋またはポリ
マー側鎖を分解反応させ、現像液に対する溶解性を変化
させてパターンを形成させるものである。ここで用いら
れる酸発生法は1光子あたり最大1個の酸しか発生でき
ないため、さらなる高感度化には限界がある。
【0003】また、US5,441,850に記載され
ている酸による発色を利用したカラー画像形成法も知ら
れている。この方法においては超強酸オニウム塩と酸を
触媒として加熱により酸を発生する酸前駆体を用いる。
像様露光により超強酸オニウム塩を光分解し、発生した
超強酸を触媒として加熱により酸前駆体から多量の酸を
発生させ、最終段階として酸発色性の色素前駆体を発色
させて色像を得るものである。
【0004】しかし、この方法においては露光により生
成した少量の超強酸を作用させるためには酸受容性の小
さい媒体を用いる必要があり、このように設計された感
光材料はノイズとして発生する超強酸が増幅されやす
く、最終的に得られる画像のS/N比を損ねることにな
る。この問題を解決するために、少量のノイズは増幅し
ないように設計すると感度が低下する問題が新たに発生
する。
【0005】少量の酸から多量の酸へと増幅する別の方
法も知られている。ジャーナル・オブ・アメリカン・ケ
ミカル・ソサエティー、120巻、37頁(1998
年)に記されているように微量の酸により分解し、酸を
発生する化合物が知れらている。この化合物においては
新たに発生した酸が自己触媒的に酸を発生するため、大
きな増幅率が期待できるとされているが、実用的な観点
からは前述の感光材料と同様の問題があった。この酸増
幅系は実際に使用する際には何らかの媒体(バインダー
や発色剤など)と併用してその機能を発現するものであ
るが、増幅されるべき少量の酸は媒体に中和され、十分
な増幅が困難である。
【0006】また、カチオン重合と酸増殖剤を組み合わ
せた増幅法も提案されている。特開平9−34106号
には、カチオン付加重合可能な化合物、化学作用放射線
によりカチオン重合を活性化させるブレンステッド酸も
しくはルイス酸を発生させるカチオン重合光開始剤、お
よび酸により新たに酸を発生する物質(酸増殖剤)の組
み合わせが記載されている。しかし、この方法において
も露光により発生した少量の酸でカチオン重合させる方
法も前述の方法と同様、バインダーなどの媒体や大気中
の水分の影響を受けやすく、安定した感度を得ることは
困難であった。さらに、上で述べた酸発生法は可視光を
用いた露光による酸発生については十分な方法が確立さ
れていないという問題があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、保存
安定性に優れ、媒体の影響を受けることなく少量の刺激
(情報)から多量の酸を発生可能な技術を提供すること
である。また、可視光により増幅的に酸が発生できるこ
とは、技術の汎用性を高める上でなお望ましいことであ
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的は以下の手段に
よって達成された。 1)少なくとも1種の求核性基を有する重合性モノマー
と少なくとも1種の酸発生性重合性モノマーを含むこと
を特徴とする酸発生組成物。 2)少なくとも1種の求核性基を有する重合性モノマー
と少なくとも1種の酸発生性重合性モノマー、更には光
重合開始剤を含むことを特徴とする、光によって酸を発
生する酸発生組成物。
【0009】本発明は求核性基を有するモノマーと酸発
生性のモノマーを共重合させ、求核性基を有するモノマ
ー由来の求核性基が酸発生性モノマー由来の親電子セン
ターと反応することにより酸を発生する。すなわち、分
子間では実質的に反応しない2種のモノマーが共重合に
より分子内反応となることにより速やかに反応し、酸を
発生する。この方法は、2種のモノマーの重合度により
酸の発生量が決定され、媒体の影響が著しく小さい。こ
れによって酸触媒による酸発生方式の欠点、すなわち媒
体の影響により十分な酸の発生速度が得られない欠点を
克服することができた。
【0010】ラジカル重合は一般に大気中の酸素により
重合が阻害され、感度が低下することが知られている。
先に引用した特開平9−34106号には本質的な限界
があると記載されているが、本発明により媒体の影響が
著しく小さくなることにより、バインダー等で酸素透過
性の調節が可能になり、このような問題も解決可能とな
った。
【0011】さらに、本発明の酸発生系はラジカル共重
合反応に基づいているため、公知のカチオン性色素とボ
レートによる光ラジカル重合開始系が利用でき、これま
で不満足であった可視光による高濃度の酸発生が極めて
容易に達成できるようになった。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の組成物は少なくとも2つ
のモノマー、即ち、求核性基を有するモノマーと酸発生
性のモノマーからなり、これらの共重合に伴い、重合度
に応じて酸を発生させるものである。以下にこれらの2
つのモノマーについて詳細を述べる。
【0013】求核性基を有するモノマーは好ましくは下
記一般式(1)で表される。
【0014】
【化3】
【0015】式(1)中、Xは2価の連結基を表し、N
uは求核性部位を有する基(求核性基)を表す。nは0
または1を表す。R1、R2、R3はそれぞれ水素原子ま
たは置換基を表し、R1とR2、R1とR3、R2と−
(X)n−NuおよびR3と−(X)n−Nuは互いに結
合して環を形成してもよい。
【0016】一般式(1)について以下に詳しく説明す
る。Xは2価の連結基を表し、重合性不飽和基とNuを
連結する。Xの具体例として、好ましくは、置換または
無置換のアルキレン基、置換または無置換のアリーレン
基、−O−、−S−、−COO−、−CON(R)−、
−SO2−、−SO−、−SO2N(R)−、−OCON
(R)−、−N(R)−、−N(R)CON(R′)
−、−CO−およびこれらの組み合わせたものが挙げら
れ、より好ましくは、置換または無置換のアルキレン
基、置換または無置換のアリーレン基、−O−、−S
−、−COO−、−CON(R)−、−CO−およびこ
れらの組み合わせたものが挙げられ、最も好ましくは置
換または無置換のアルキレン基、置換または無置換のア
リーレン基、−COO−、−CON(R)−、−CO−
およびこれらの組み合わせたものが挙げられる。ここで
R、R′は水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ
環基または単なる結合を表す。
【0017】Nuは求核性部位を有する基を表す。求核
性部位はヘテロ原子の非共有電子対を少なくとも1つ有
しており、また、この非共有電子対は発生した酸を中和
しない要請から、共役酸のpKaが7以下である。好ま
しくは−CR(R′)−OH、−COOH、−CONH
R、−SH、−SOH、−SO2H、−CON(R)O
H、−N(OH)COR、−SO2NHR、−N(O
H)SO2Rであり、より好ましくは−CR(R′)−
OH、−COOH、−CONHR、−CON(R)O
H、−N(OH)CORであり、最も好ましくは−CR
(R′)−OH、−CON(R)OH、−N(OH)C
ORであり、Nuはこれらの求核性部位を2個以上10
個以下有していてもよく、2個以上有する場合にはそれ
ぞれ同じでも異なっていてもよい。ここでR、R′は水
素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基または単
なる結合を表す。
【0018】R1、R2、R3はそれぞれ水素原子または
置換基を表すが、R1、R2はそれぞれ好ましくは水素原
子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換
のアリール基、−COOR、−CONRR′、−SO2
R、−SO2NRR′、−SR、−SOR、−OR、−
NRR′または−(X)n−Nuを表し、より好ましく
は水素原子、置換または無置換のアルキル基、−COO
R、−CONRR′または−(X)n−Nuを表し、最
も好ましくは水素原子または置換または無置換のアルキ
ル基を表す。ここでR、R′は水素原子、アルキル基、
アリール基、ヘテロ環基または単なる結合を表す。
【0019】R3は好ましくは水素原子、置換または無
置換のアルキル基、置換または無置換のアリール基、−
COOR、−CONRR′、−SO2R、−SO2NR
R′、−SR、−SOR、−OR、−NRR′または−
(X)n−Nuを表し、より好ましくは水素原子、置換
または無置換のアルキル基、置換または無置換のアリー
ル基、−COOR、−CONRR′を表し、最も好まし
くは水素原子、置換または無置換のアルキル基、−CO
OR、−CONRR′を表す。ここでR、R′は水素原
子、アルキル基、アリール基、ヘテロ環基または単なる
結合を表す。
【0020】また、R1とR2、R1とR3、R2と−
(X)n−NuおよびR3と−(X)n−Nuは互いに結
合して環を形成してもよい。
【0021】一方、酸発生性のモノマーは求核性基を有
するモノマーと共重合した後に、求核性基を有するモノ
マー由来の求核性基と反応することにより酸を発生する
モノマーであり、好ましくは下記一般式(2)で表され
る。
【0022】
【化4】
【0023】式(2)中、Xは2価の基の連結基を表
し、Eは被求核性(親電子性)部位を有する基を表す。
Aは求核性基を有する重合性モノマーと一般式(2)で
表される酸発生性重合性モノマーが共重合し、求核性基
を有する重合性モノマーに由来する求核性基が一般式
(2)のEと反応した結果として酸を発生する基を表
す。nは0または1を表す。R4、R5、R6はそれぞれ
水素原子または置換基を表し、R4とR5、R4とR6、R
5と−(X)n−E−AおよびR6と−(X)n−E−Aは
互いに結合して環を形成してもよい。
【0024】Xについては一般式(1)で述べたものと
同義である。Eは被求核性(親電子性)部位を有する基
を表し、好ましくは−CO−、−COO−、−CON
(R″)−、−O−CO−O−、SO2−、−SO3−を
表し、最も好ましくは−COO−または−CON
(R″)−である。
【0025】Aは求核性基を有する重合性モノマーと酸
発生性重合性モノマーが共重合し、求核性基を有する重
合性モノマーに由来する求核性基が一般式(2)のEと
反応した結果として酸を発生する基を表すが、発生する
酸として好ましいのはHO−SO2−R、HO−SO2
Ar、HO−SO2−OR、HO−SO2−OAr、HC
l、HBr、HI、HO−COR、HO−COAr、H
SO2−R、HSO2−Arであり、より好ましくはHO
−SO2−R、HO−SO2−Ar、HO−SO 2−O
R、HO−SO2−OAr、HO−COR、HO−CO
Arであり、最も好ましくはHO−SO2−R、HO−
SO2−Arである。ここで、R、R″はそれぞれ前記
のR、R′と同義であり、Arはアリール基を表す。
【0026】また発生する酸とは、pKaが10以下、
−10以上のものを指し、pKaが5以下、−10以上
であることが好ましく、より好ましくはpKaが4以
下、−8以上であり、最も好ましくはpKaが3以下、
−5以上である。
【0027】一般式(1)と(2)のモノマーが共重合
した後に、NuとEが反応し、Aから酸が発生する機構
として用いることができる例としては、例えば米国特許
第4,146,396号、同4,652,516号また
は同4,698,297号に記載のあるヘミアセタール
の開裂反応を利用する基、米国特許第4,248,96
2号、同4,847,185号、同4,912,028
号または同4,857,440号に記載のある分子内求
核置換反応を利用して開裂反応を起こさせる基、米国特
許第4,409,323号、同5,034,311号、
同5,055,385号もしくは同4,421,845
号に記載のある電子移動反応を利用して開裂反応を起こ
させる基、米国特許第4,546,073号に記載のあ
るイミノケタールの加水分解を利用して開裂反応を起こ
させる基、または英国公開特許第1,531,927号
に記載のあるエステルの加水分解反応を利用して開裂反
応を起こさせる基が挙げられるが、一般式(2)で表さ
れる酸発生性モノマーの中でも、本発明において最も有
効に使用できる酸発生性モノマーは一般式(3)、一般
式(4)または一般式(5)で表される。
【0028】
【化5】
【0029】
【化6】
【0030】
【化7】
【0031】一般式(3)、(4)および(5)におい
て、R4、R5、R6は一般式(2)で述べたものと同義
である。R7、R8、R9、R10、R11およびR12は水素
原子または置換基を表す。
【0032】R7、R8、R9、R10、R11およびR12
好ましくは、炭素数1〜50の直鎖状、分岐鎖状または
環状のアルキル基、炭素数2〜50の直鎖状、分岐鎖状
または環状のアルケニル基、総炭素数2〜50のアルキ
ニル基、炭素数6〜50のアリール基、炭素数1〜50
のアシルオキシ基、炭素数1〜50のカルバモイルオキ
シ基、炭素数1〜50のカルボンアミド基、炭素数1〜
50のスルホンアミド基、炭素数1〜50のカルバモイ
ル基、炭素数0〜50のスルファモイル基、炭素数1〜
50のアルコキシ基、炭素数6〜50のアリールオキシ
基、炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基、炭
素数2〜50のアルコキシカルボニル基、炭素数1〜5
0のN−アシルスルファモイル基、炭素数1〜50のア
ルキルスルホニル基、炭素数6〜50のアリールスルホ
ニル基、炭素数2〜50のアルコキシカルボニルアミノ
基、炭素数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ
基、炭素数0〜50のアミノ基、シアノ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト
基、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基、炭素数
6〜50のアリールスルフィニル基、炭素数1〜50の
アルキルチオ基、炭素数6〜50のアリールチオ基、炭
素数1〜50のウレイド基、炭素数2〜50のヘテロ環
基(ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素またはイオ
ウ等を少なくとも1個以上含み、3ないし12員環の単
環、縮合環)、炭素数1〜50のアシル基、炭素数0〜
50のスルファモイルアミノ基、炭素数3〜50のシリ
ル基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子)が挙げられる。上記の置換基はさらに
置換基を有していてもよく、その置換基の例としてはこ
こで挙げた置換基が挙げられる。R7、R8、R9
10、R11およびR12は可能であればそれぞれ結合して
環を形成してもよい。
【0033】A1およびA2は放出された後に、Aより発
生する酸として例を示したものの酸残基が挙げられる。
13としてはアルキル基、アリール基、ヘテロ環基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基が好ましく、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基がより好ましく、アルキル
基、アリール基が最も好ましい。
【0034】次に本発明で用いられる求核性基を有する
重合性モノマーと酸発生性重合性モノマーの具体的な例
を示すが、本発明の範囲はこれら具体例に限定されるも
のではない。
【0035】
【化8】
【0036】
【化9】
【0037】
【化10】
【0038】
【化11】
【0039】
【化12】
【0040】求核性基を有する重合性モノマーと酸発生
性重合性モノマーの合成法について述べる。
【0041】求核性基を有するモノマーは一般的には次
の2つの代表的な合成法で合成することができる。1つ
は求核性基を有するアミン類またはアルコール類と重合
性基を有するカルボン酸の酸ハライドを反応させること
によって得る方法、もう1つはベイリス−ヒルマン反応
(Baylis−Hillman反応)として知られる
アクリル酸エステル類またはアクリル酸アミド類とアル
デヒド類を1,4−ジアザビシクロ〔2.2.2〕オク
タン(以下DABCOと省略)の存在下に反応させる方
法が挙げられる。ベイリス−ヒルマン反応についてはテ
トラヘドロン(Tetrahedron)、第52巻、
24号、8001頁〜8062頁に詳しく述べられてい
る。
【0042】以下、この2つの合成法に関して具体例を
述べる。 合成例1.化合物例N−01の合成 (1−1)2−ヘキシルデシルヒドロキシルアミンの合
成 ヒドロキシルアミン塩酸塩69g、2−ヘキシルデシル
ブロミド30.5g、EDTA0.5g、メタノール5
00mlを混合し、炭酸水素ナトリウム84gを加え
て、3時間、加熱環流した。反応混合物を濃縮し、酢酸
エチルと水を加えて分液抽出し、有機相を硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。乾燥後の有機相を濃縮しシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーを用い、副生するビス(2−ヘ
キシルデシル)ヒドロキシルアミンを除き生成を行っ
た。生成物は無色液体であった。収量10.5g、収率
40.9%
【0043】(1−2)N−ヘキシルデシル−N−ヒド
ロキシメタクリルアミド(N−01)の合成 水50ml、酢酸エチル100ml、2−ヘキシルデシ
ルヒドロキシルアミン10.3gの混合液に炭酸水素ナ
トリウム20gを加え、氷50gを加えて撹拌、冷却し
た。この混合物にメタクリル酸クロリド5gを2分間か
けて滴下し、滴下終了後、1時間そのまま撹拌した。分
液後、有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、乾燥後の有
機相に少量のp−メトキシフェノールを重合禁止剤とし
て添加し、減圧濃縮した。濃縮物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーを用いて生成を行った。目的物は無色
の液体であった。収量6.8g、収率52.1%
【0044】合成例2.化合物例N−06の合成 120gのドデシルアクリレート、50gのホルマリ
ン、200mlのTHFの混合液に氷冷下、DABCO
20gを加えた。30分後、加熱し、反応温度を40℃
とした。7日間反応を行い、水500ml、酢酸エチル
800mlを加えて分液抽出を行った。有機相を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで生成を行っ
た。目的物は無色液体であった。収量82.0g、収率
60.8%
【0045】酸発生性重合性モノマーの合成法に関して
は合成例3〜5により具体的に説明する。
【0046】合成例3.化合物例A−01の合成 (3−1)4−ホルミルフェニルメタクリレートの合成 61gの4−ヒドロキシベンツアルデヒドに400ml
のアセトニトリル、84mlのトリエチルアミンを加え
溶解した。氷−メタノールで0℃に冷却し、メタクリル
酸クロリド48.4mlをゆっくり滴下した。2時間
後、水、酢酸エチルで分液抽出し、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで生成した。得られた目的物はすぐに
次の反応に使用した。
【0047】(3−2)4−ヒドロキシメチルフェニル
メタクリレートの合成 (3−1)で得た化合物全量にTHF300ml、水1
00mlを加えて撹拌した。氷冷下、この溶液に水素化
ホウ素ナトリウムを少量ずつ添加した。添加ごとにTL
Cで原料の消失を確認した。原料の消失後、水と酢酸エ
チルを添加し、分液抽出を行った。有機相は硫酸マグネ
シウムで乾燥した後、濃縮しシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで生成を行った。目的物はやや褐色の油状物
として得られた。収量40.1g、収率41.7%(4
−ヒドロキシベンツアルデヒドから2工程)
【0048】(3−3)4−(p−トルエンスルホニル
オキシメチル)フェニルメタクリレート(A−01)の
合成 4−ヒドロキシメチルフェニルメタクリレート37gを
THF250mlに溶解し、トリエチルアミン32.4
mlを添加後、5℃に冷却し、撹拌した。この溶液にパ
ラトルエンスルホン酸無水物64gを10分割して添加
した。添加終了後、1時間5℃以下で反応させ、徐々に
室温とした。1晩放置後、水、酢酸エチルを加えて分液
抽出を行った。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、濃
縮後、カラムクロマトグラフィーで生成を行った。目的
物はやや黄色がかった油状物として得られた。収量1
7.7g、収率26.6%
【0049】合成例4.化合物例A−05の合成 N−ヒドロキシメチルマレイミド12.7g、2,5−
ジクロロベンゼンスルホニルクロリド27.1gにアセ
トニトリル150mlを加えて撹拌した。ついで、この
反応混合物にピリジン15ml、4−ジメチルアミノピ
リジン1gを添加した。1晩放置後、水、酢酸エチルを
加えて抽出し、短いシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで生成したのち、酢酸エチルを加えて結晶化させた。
目的物は無色固体であった。収量6g、収率17.8%
【0050】合成例5.化合物例A−10の合成 (5−1)エキソ−N−ヒドロキシ−7−オキサビシク
ロ〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボ
キシイミドの合成 ヒドロキシルアミン塩酸塩139gを650mlのメタ
ノールに溶解し、氷冷下、112gの水酸化カリウムを
280mlのメタノールに溶解した溶液をこれに滴下し
た。析出した無機塩をセライトを用いた吸引濾過によっ
て除いた。得られたヒドロキシルアミンのメタノール溶
液にエキソ−3,6−エポキシ−1,2,3,6−テト
ラヒドロフタル酸無水物332gを添加した。発熱した
後に結晶が析出した。2時間撹拌後、析出した結晶を濾
取した。メタノールで3回洗浄後、乾燥した。収量30
2g、83.3%
【0051】(5−2)エキソ−N−(2,4,6−ト
リイソプロピルベンゼンスルホニルオキシ)−7−オキ
サビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−
ジカルボキシイミドの合成 エキソ−N−ヒドロキシ−7−オキサビシクロ〔2.
2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミ
ド100gとアセトニトリル500mlを混合し、17
0.5gの2,4,6−トリイソプロピルベンゼンスル
ホニルクロリドを添加し、撹拌した。この反応混合物に
ピリジン60mlを滴下し、60℃に加温し、2時間反
応した。冷却後、得られた結晶を濾取し、メタノールよ
り再結晶した。収量191,7g、収率77,6%
【0052】(5−3)N−(2,4,6−トリイソプ
ロピルベンゼンスルホニルオキシ)マレイミド(化合物
例A−10)の合成 エキソ−N−(2,4,6−トリイソプロピルベンゼン
スルホニルオキシ)−7−オキサビシクロ〔2.2.
1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボキシイミド3
0gを200mlのキシレンに分散し、緩やかに窒素ガ
スを吹き込みながら、130℃に加熱した。反応を注意
深くTLCで追跡し、原料の消失を確認した。反応時間
約3時間後、冷却すると無色結晶が析出した。この結晶
を濾取し、乾燥した。収量15.2g、収率59.7%
【0053】本発明の求核性基を有する重合性モノマー
と酸発生性重合性モノマーは必要に応じて任意のモノマ
ーを選択することができる。これらの2種のモノマーの
混合比率は目的に応じて任意に選択することができる
が、通常、モル比で1:1000〜1000:1が好ま
しく、より好ましくは1:100〜100:1であり、
最も好ましくは1:10〜10:1である。
【0054】本発明では上記2つのモノマーは単に高温
に加熱することによって重合させることができるが、熱
重合開始剤と組み合わせることもできる。ビニル系単量
体の(熱)重合開始剤として用いられるものは、例え
ば、2,2′−アゾビスイソブチロニトリル、2,2′
−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、ジメ
チル−2,2′−アゾビス(2−メチルプロピオネー
ト)、ジメチル−2,2′−アゾビスイソブチレートな
どのアゾ系開始剤、ラウリルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーオキサイド、tert−ブチルパーオクトエートなど
の過酸化物系開始剤等が用いられる。アゾ系の開始剤に
おいては、熱以外に放射線、電子線などの開始系も利用
することもできる。開始剤の添加量は特に制限が無い
が、それぞれの重合法に適した範囲の添加量が有り、そ
の中で当業者が適宜選択できる。また開始剤の添加方法
についても制限が無く、一括添加や分割添加など適宜選
択できる。重合温度は使用する開始剤とモノマーの種類
により適当な温度を選択採用する事ができる。
【0055】本発明では熱重合開始剤、求核性基を有す
る重合性モノマー、酸発生性の重合性モノマー、および
酸との組み合わせで発色する物質を組み合わせて、感熱
材料を作成することができる。
【0056】本発明において、上記のように感熱材料を
作成し、画像を記録する場合、記録温度は80℃〜35
0℃が好ましいが、より好ましくは100℃〜300℃
であり、最も好ましいのは150℃〜250℃であり、
加熱時間は熱源や用途によって異なるが、0.1μ秒〜
60秒が好ましく、1μ秒〜10秒がより好ましく、通
常の記録材料として使用する場合には1μ秒〜100m
秒が最も好ましい。
【0057】さらに本発明では光重合開始剤を組み合わ
せることができる。光重合開始剤としては公知の多くの
化合物が使用できる。例えば、ベンゾインアルキルエー
テルのようなカルボニル基とそれに隣接する炭素原子間
の結合が解裂するNorrish I型反応によりラジ
カルを発生する化合物、オキシムエステル類、過酸化
物、有機イオウ化合物、ハロゲン化物、ホスフィンオキ
シド化合物のような直接光分解する化合物、ベンゾフェ
ノン等の水素引き抜き反応によるケチルラジカルを生成
する芳香族ケトン類、ケトンとアミンのようにドナーと
アクセプターがエキサイプレックスを形成し、電子移動
とプロトン移動が生じてラジカルが生成する組み合わ
せ、色素と弱い還元剤の複合系でラジカルが発生する光
レドックス系等がある。その他、Monroe他著「C
hemcal Review」第93巻(1993年)
435〜446頁記載の化合物も使用できる。
【0058】上記の光重合開始剤の中には、可視部に感
度を有するものがあり、それらは可視レーザー、LE
D、白色蛍光灯など多様な可視光源を用いることができ
る点で優れている。特許公報第2726258号には、
そのような可視部に感度を有するものとして、カチオン
性色素/アニオン性ホウ素化合物錯体よりなる光重合開
始剤が述べられており、本発明には特に好適に用いるこ
とができる。本発明では、さらに、酸との反応で発色す
る物質を用いることができる。その例としては、感圧紙
や感熱紙に使用されているラクトン、ラクタム、スピロ
ピラン等の部分構造を有するロイコ色素がある。
【0059】本発明では、以上の素材、すなわち光重合
開始剤、求核性基を有する重合性モノマー、酸発生性の
重合性モノマー、および酸との組み合わせで発色する物
質を組み合わせて、感光材料を作成することができる。
これらの組み合わせ方は任意である。
【0060】本発明において、感光材料を作成し、露光
後に加熱を行うことにより酸の発生速度及び色素形成速
度を促進することができる。加熱温度は40℃〜200
℃が好ましいが、より好ましくは70℃〜180℃であ
り、最も好ましいのは80℃〜160℃である。この際
の加熱方法は熱板、ヒートローラー、赤外線照射、熱ド
ラムなどによる加熱方法を使用することができる。加熱
時間は0.1〜100秒が好ましく、さらに好ましくは
0.5〜30秒が好ましく、1秒〜20秒が最も好まし
い。
【0061】本発明においては、本発明の組成物を安定
化する目的、あるいは酸発生量を調節する目的で重合禁
止剤を添加してもよい。重合禁止剤としてはフェノール
類、ニトロ化合物、キノン類など公知の重合禁止剤を適
宜選択して用いることができる。
【0062】本発明によって感光材料や感熱材料を作成
する場合には、すべての素材を一緒に支持体上に塗布し
てもよい。また、ポリスチレン、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルブチラール、ポリメチルメタクリレート
などの油溶性バインダーを用いても良い。また、これら
の素材を親水性バインダー中に点在する油滴にして用い
てもよい。この場合の親水性バインダーの例としては、
ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアル
コール、セルロース誘導体、ポリアクリルアミド等が挙
げられる。必要素材をマイクロカプセルに収容して使用
してもよい。
【0063】
【実施例】以下に、実施例を使って本発明を具体的に説
明するが、もちろん本発明はこれに限定されるものでは
ない。
【0064】実施例1 本発明の原理的な確認を行うため、以下の実験を行っ
た。0.15gの化合物(A)、0.17gの化合物N
−02、0.03gのイルガキュア651(チバガイギ
ー製の光重合開始剤)をシクロヘキサノン0.5gに溶
解し、オイル相とした。一方、PVA205(クラレ
製)の16%水溶液1gとドデシルベンゼンスルホン酸
ナトリウムの5%水溶液0.1gを混合し、水相とし
た。この水相を上記オイル相に添加した後、ミクロナイ
ザーで乳化分散した。この乳化液をゼラチンを下塗りし
たポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗布量1
7.5cc/m2 で塗布、乾燥し、感光シートとした。
【0065】一方、AEA2.5g、メチルエチルケト
ン7.5gを混合し、ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム上に塗布量21cc/m2 で塗布、乾燥し、受像シ
ートとした。
【0066】上記の感光シートを受像シートとお互いの
塗布面が接するように重ね合わせ、感光シートの裏側か
ら水銀灯で像様に露光した後、150℃で20秒間加熱
したところ、受像シートに黄色い着色像が得られた。こ
の着色物を塩化メチレンで抽出し、分析を行ったところ
p−ニトロフェノールであった。
【0067】この結果は本発明の原理と考えている反応
が起こっていることを示すものと考えられる。すなわ
ち、未露光の重合が起こらない部分においては黄色の像
が観察されず、露光部でのみ黄色の像(p−ニトロフェ
ノールの像)が得られたことから、重合した結果、求核
性モノマー由来の求核性基と酸発生性モノマー(化合物
8A))由来の親電子センターが反応し、酸のモニター
として使用したp−ニトロフェノールが生成したと考え
られる。さらに、露光加熱後の感光シートを赤外吸収ス
ペクトルで観察したところ、1740〜1750cm-1
付近に新たな吸収が生じていること(ラクトンの生成)
も、上記推測を支持している。
【0068】
【化13】
【0069】実施例2 化合物N−06を0.15g、化合物A−09を0.1
37g、カチオン色素として化合物(B)を0.005
g、ボレート化合物として化合物(C)を0.01g、
内部標準として化合物(D)を0.01g、および酢酸
エチル0.3gを混合溶解し、オイル相とした。一方P
VA205の16%水溶液0.86g、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウムの5%水溶液0.08g、およ
び水0.72gを混合し、水相とした。上記のオイル相
に水相を添加した後、ミクロナイザーで乳化分散した。
この乳化液に等量の水を加え、ゼラチンを下塗りしたポ
リエチレンテレフタレート上に塗布量35cc/m2
塗布、乾燥し、分析用のサンプルを得た。
【0070】このサンプルを、ハロゲンランプを用い、
10万ルクスで10秒間露光した後、塗布面をポリエチ
レンテレフタレートフィルムで覆った状態で裏面から1
10℃10秒〜150℃10秒間加熱した。また、未露
光で同様に加熱したサンプルも作成した。これを高速液
体クロマトグラフィーを用いて分析したところ、表1に
示す結果が得られた。尚、本実施例で酸と呼ぶのはA−
09より発生する2−オクチルオキシ−5−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)ベンゼンスルホン酸であ
る。
【0071】
【化14】
【0072】
【表1】
【0073】表1より、酸発生性モノマーは露光により
約40%重合し、重合した酸発生性モノマーからは加熱
により定量的に酸が発生していることが読みとれる。ま
た、未露光のものは加熱しても重合していない状態では
酸を発生しないことがわかり、この結果は本発明のねら
いどおり、重合によって酸が発生していることを示すも
のである。
【0074】実施例3 ロイコ色素(E)を0.013g、化合物N−06を
0.05g、化合物A−11を0.1g、化合物(B)
を0.0033g、化合物(F)を0.0067g、ポ
リスチレンの10%メチルエチルケトン溶液1.73
g、およびメチルエチルケトン0.1gを混合溶解し
た。これをポリエチレンテレフタレートフィルム上に塗
布量35cc/m2 で塗布、乾燥した。その上にPVA
205の16%水溶液10gと界面活性剤として化合物
(G)の5%水溶液1gを混合したものを塗布量21c
c/m2 で塗布、乾燥した。このサンプルをハロゲンラ
ンプを用い、10万ルクスで10秒間像様に露光した
後、裏面から120℃10秒間加熱したところ、マゼン
タのネガ型発色像が得られた。これは重合により、酸が
発生し、それによって発色像が得られることを示すもの
である。
【0075】
【化15】
【0076】
【発明の効果】本発明の酸発生組成物を用いることによ
って、光または熱を当てることによって効果的に酸を多
量に発生させることができ、酸との組み合わせで発色す
る物質と併用することで、画質の良好なカラー画像が効
果的に得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 俊一 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA00 AA01 AB20 AC01 AD01 BC12 BC14 BC31 BC34 BC83 BE00 CA00

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1種の求核性基を有する重合
    性モノマーと少なくとも1種の酸発生性重合性モノマー
    を含むことを特徴とする酸発生組成物。
  2. 【請求項2】 更に光重合開始剤を含むことを特徴とす
    る請求項1に記載の酸発生組成物。
  3. 【請求項3】 求核性基を有する重合性モノマーが下記
    一般式(1)で表されることを特徴とする請求項1記載
    の酸発生組成物。 【化1】 式(1)中、Xは2価の連結基を表し、Nuは求核性部
    位を有する基を表す。nは0または1を表す。R1
    2、R3はそれぞれ水素原子または置換基を表し、R1
    とR2、R1とR3、R2と−(X)n−NuおよびR3と−
    (X)n−Nuは互いに結合して環を形成してもよい。
  4. 【請求項4】 酸発生性重合性モノマーが下記一般式
    (2)で表されることを特徴とする請求項1記載の酸発
    生組成物。 【化2】 式(2)中、Xは2価の基の連結基を表し、Eは被求核
    性(親電子性)部位を有する基を表す。Aは求核性基を
    有する重合性モノマーと一般式(2)で表される酸発生
    性重合性モノマーが共重合し、求核性基を有する重合性
    モノマーに由来する求核性基が一般式(2)のEと反応
    した結果として酸を発生する基を表す。nは0または1
    を表す。R4、R5、R6はそれぞれ水素原子または置換
    基を表し、R4とR5、R4とR6、R5と−(X)n−E−
    AおよびR6と−(X)n−E−Aは互いに結合して環を
    形成してもよい。
JP9343499A 1999-03-31 1999-03-31 酸発生組成物 Expired - Lifetime JP4376347B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9343499A JP4376347B2 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 酸発生組成物
US09/541,082 US6432615B1 (en) 1999-03-31 2000-03-31 Acid-generating composition and recording material using the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9343499A JP4376347B2 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 酸発生組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000284473A true JP2000284473A (ja) 2000-10-13
JP4376347B2 JP4376347B2 (ja) 2009-12-02

Family

ID=14082213

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9343499A Expired - Lifetime JP4376347B2 (ja) 1999-03-31 1999-03-31 酸発生組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4376347B2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004088427A1 (ja) * 2003-03-28 2004-10-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2006117795A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線硬化型インクジェット用インク組成物及びこれを用いた平版印刷版
WO2019022089A1 (ja) * 2017-07-28 2019-01-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
WO2019021622A1 (ja) * 2017-07-28 2019-01-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
CN112204467A (zh) * 2018-05-22 2021-01-08 富士胶片株式会社 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004088427A1 (ja) * 2003-03-28 2004-10-14 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
JP2006117795A (ja) * 2004-10-21 2006-05-11 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線硬化型インクジェット用インク組成物及びこれを用いた平版印刷版
WO2019022089A1 (ja) * 2017-07-28 2019-01-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
WO2019021622A1 (ja) * 2017-07-28 2019-01-31 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
CN110998440A (zh) * 2017-07-28 2020-04-10 富士胶片株式会社 感光性树脂组合物、感光性转印材料、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法
JPWO2019021622A1 (ja) * 2017-07-28 2020-05-28 富士フイルム株式会社 感光性樹脂組成物、感光性転写材料、回路配線の製造方法、及び、タッチパネルの製造方法
CN112204467A (zh) * 2018-05-22 2021-01-08 富士胶片株式会社 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法
CN112204467B (zh) * 2018-05-22 2024-04-30 富士胶片株式会社 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、电路布线的制造方法及触摸面板的制造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4376347B2 (ja) 2009-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6329121B2 (en) Image recording medium, image recording method and heat coloring polymer compound
EP2003501B1 (en) Inkless reimageable printing paper and method
JPH0239783B2 (ja)
JPH0743536B2 (ja) 感光性組成物
JPS6187155A (ja) 写真要素
JPH11149154A (ja) 近赤外感光性である光画像形成性/光重合性組成物、媒体、および関連する方法
JP4376347B2 (ja) 酸発生組成物
JP2575178B2 (ja) 光重合可能の記録材料ならびにこの記録材料を主体とするフォトレジスト層及び平版印刷版体
JP4295856B2 (ja) 自己顕色型ロイコ色素を含有する画像記録媒体
JP2945477B2 (ja) 像記録材料
JPH03500395A (ja) サーマルイメージング方法
JP2000284475A (ja) 発色性組成物及びそれを用いた記録材料
US6432615B1 (en) Acid-generating composition and recording material using the same
JPS616645A (ja) 画像記録方法及びそれに用いる感光材料
JP2000144004A (ja) 新規ロイコ色素ならびに該ロイコ色素を含有する画像記録媒体
JP3414863B2 (ja) 感光性トリハロメチル−s−トリアジン化合物およびそれを含有する光重合性組成物
JPH02292278A (ja) 感光性ビス‐トリクロロメチル‐s‐トリアジン類、それらの製造方法およびそれらの化合物を含有する感光性組成物
JPH08262716A (ja) 窒素複素環式化合物から誘導されるペルオキシカルボン酸エステル光開始剤
JP2945478B2 (ja) 画像記録用材料
JPS5945140B2 (ja) カラ−写真感光材料
JP4137362B2 (ja) 画像形成材料
JP3222978B2 (ja) カラー拡散転写感光材料
JPH05107708A (ja) 拡散転写型ハロゲン化銀カラー写真感光材料
JP3333968B2 (ja) 光重合開始系増感剤
JP2722152B2 (ja) 拡散転写型ハロゲン化銀写真感光材料

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040810

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20060324

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20061124

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071108

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071115

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20071122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080220

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080326

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090204

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090402

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090507

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090630

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090819

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090909

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918

Year of fee payment: 3