JP2000296337A - 有機高分子シロキサン触媒の充填方法 - Google Patents

有機高分子シロキサン触媒の充填方法

Info

Publication number
JP2000296337A
JP2000296337A JP11104044A JP10404499A JP2000296337A JP 2000296337 A JP2000296337 A JP 2000296337A JP 11104044 A JP11104044 A JP 11104044A JP 10404499 A JP10404499 A JP 10404499A JP 2000296337 A JP2000296337 A JP 2000296337A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
catalyst
reactor
hydrocarbon group
containing hydrocarbon
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11104044A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3891726B2 (ja
Inventor
Toshihiro Takai
敏浩 高井
Hidekazu Ookubo
英主 大久保
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP10404499A priority Critical patent/JP3891726B2/ja
Publication of JP2000296337A publication Critical patent/JP2000296337A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3891726B2 publication Critical patent/JP3891726B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含
有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン触媒を反応
器に充填するに際し、触媒による反応器出口部分での流
路の閉塞等の問題が軽減・解消された充填方法を提供す
る。 【解決手段】スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト
基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触
媒を分割して袋に充填し、これを反応器に充填する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はスルホン酸基含有炭
化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を有する有機高
分子シロキサン触媒を反応器に充填する方法に関し、さ
らに詳しくは、前記触媒の存在下、アセトンとフェノー
ルとの脱水縮合によりビスフェノールAを製造するに際
し、反応器に触媒を充填する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ビスフェノールAは通常、固体触媒にア
セトンとモル比にして8〜15倍の過剰のフェノールを
通液するいわゆる固定床流通反応の形態で連続的に製造
されている。これらの固体触媒としては、陽イオン交換
樹脂もしくはメルカプトアルキルアミンを部分的に中和
し、メルカプト基を固定化したメルカプト変性陽イオン
交換樹脂等が用いられる。また、イオン交換樹脂触媒以
外の固体触媒として、特開平8−208545号、特開
平9−110767号、特開平9−110989号、特
開平10−225638号にスルホン酸基含有炭化水素
基とメルカプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シ
ロキサン触媒が記載されている。有機高分子シロキサン
触媒はイオン交換樹脂触媒と比較して触媒活性及び選択
性が非常に高い触媒であることが知られている。
【0003】上記公報には有機高分子シロキサン触媒に
メルカプト基を導入する方法として、メルカプト基を有
するアルコキシシランを加水分解、重縮合によりシリカ
マトリックス中に固定化する方法が記載されているが、
得られる有機高分子シロキサンは通常粉末である。ま
た、固体化する際に成型する方法も特開平9−1109
89号に開示されているが、得られた有機高分子シロキ
サン触媒はもろく壊れやすいため実際の使用に耐える強
度はない。そのような触媒をそのまま固定床に充填する
と、反応器出口部分での流路の閉塞等の問題が生じるた
め、触媒を少なくとも数ミリ単位に成型しなければなら
ないが、メルカプト基の耐熱性が低いため、高温処理が
必要なバインダー等を用いた従来の成型法を用いること
ができず、有効な触媒充填方法がなかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の問題
点が軽減・解消された、スルホン酸基含有炭化水素基と
メルカプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキ
サン触媒を反応器に充填する方法を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、スルホン
酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共
に有する有機高分子シロキサン触媒の存在下、アセトン
とフェノールの脱水縮合によりビスフェノールAを製造
するに際し、粉末状の有機高分子シロキサン触媒を反応
器に充填する方法を鋭意検討した結果、触媒を分割して
袋詰めし、反応器内に積載することにより、成型するこ
となく触媒を反応器に充填する方法を見出し、本発明を
完成するに至った。
【0006】すなわち、本発明は、スルホン酸基含有炭
化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を共に有する有
機高分子シロキサン触媒を反応器に充填するに際し、該
触媒を分割して袋に充填することを特徴とするビスフェ
ノールA製造用有機高分子シロキサン触媒の充填方法で
ある。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明で用いるスルホン酸基含有
炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基を有する有機
高分子シロキサン触媒とは、特開平8−208545
号、特開平9−110989号、特開平10−2256
38号に記載されている、シロキサン結合からなるシリ
カマトリックス中に部分的に、スルホン酸基を有する炭
化水素基とメルカプト基含有炭化水素基が直接シリカマ
トリックス中のケイ素原子と炭素−ケイ素結合により結
合した構造を有する有機高分子シロキサンである。
【0008】このような有機高分子シロキサン触媒の調
製方法としては例えば以下の方法で調製することが可能
である。しかしながら、本発明で用いる有機高分子シロ
キサン触媒はこれら調製法のみに限定されることはな
い。実施しやすい調製方法としては、例えば、(1)ス
ルホン酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシラン、
メルカプト基含有炭化水素基を有するアルコキシシラン
及びテトラアルコキシシランを任意の割合で混合し、加
水分解し、共縮合する調製法、(2)水溶性のスルホン
酸基含有炭化水素基を有するアルコキシシランの加水分
解物、メルカプトメチル基を有するアルコキシシラン及
びテトラアルコキシシランを任意の割合で混合し、加水
分解させて共縮合する調製法といった、いわゆるアルコ
キシシランのゾル−ゲル法による調製法(1)及び
(2)と、(3)スルホン酸基含有炭化水素基を有する
有機高分子シロキサンに存在するシラノール基に、メル
カプト基を有するアルコキシシランをシリル化し、メル
カプト基を固定化する、いわゆるシリル化による調製法
(3)が知られている。
【0009】本発明はこれらの調整法によって得られた
スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水
素基を有する有機高分子シロキサン触媒を固定床流通装
置を用いてビスフェノールA合成反応に使用する際に、
粉末状の有機高分子シロキサン触媒を多孔質の容器、例
えば布、スクリーンワイヤーまたは重合体メッシュ内に
充填し、反応器内に積載して触媒層として用いるもので
ある。容器を作る材質は、反応器内の化学物質及び反応
条件に対して不活性でなければならない。布はこのよう
な条件を満たせばどのような物質でもよく、このような
物質としては、綿、リンネル、ファイバーグラス、ポリ
エステル、ナイロン等が例示される。スクリーンワイヤ
ーとしては鋼、ステンレス鋼などである。重合体メッシ
ュとしては、ナイロン、テフロン等である。
【0010】容器を作るのに使う材料インチあたりのメ
ッシュまたは糸は、触媒がその中に保持され、かつその
材料の目を通過しないようなものである。約0.1mmの大
きさの粒子または粉末を用いることができる。また、触
媒粒子の保持に用いる容器はどのような形態、例えば単
一の円筒状、球、ドーナツ、立方体、管状のものでもよ
い。
【0011】さらに、触媒粒子の保持に用いる容器の大
きさや容器と容器の間隔は、反応器内を通過する反応原
料混合物の線速度と触媒充填層内の滞留時間から最適な
パラメーターが定められるため、反応器の大きさ、形状
によってその最適値は、個々に設定されるべきものであ
る。実際の反応において、その滞留時間は特に限定され
ないが、通常は1分〜15時間、好ましくは10分〜5
時間である。また原料であるフェノールとアセトンとの
使用量比は特に限定されないが、好ましくはアセトンに
対してフェノールがモル比で2〜50の範囲であり、さ
らに好ましくは4〜25の範囲で実施することが推奨さ
れる。あまりにフェノールの量が少なければ、原料アセ
トンの高い転化率を達成することは困難であり、またあ
まりにフェノールの量が多ければ高いアセトン転化率を
達成することはできるが、必要以上にフェノールを用い
るため反応器が過大となり、更にフェノールの大量循環
が必要となり経済的ではない。
【0012】反応温度についても本発明では特に限定さ
れることはないが、好ましくは40〜200℃、更に好
ましくは50〜120℃の範囲である。反応温度が極端
に低すぎる場合は原料の高い転化率を達成するためには
極端に長い反応時間を必要とし、生産性が低下する。一
方、反応温度が極端に高すぎると好ましからざる副反応
等が進行し、反応選択率の低下をもたらし経済的ではな
い。
【0013】
【実施例】以下、本発明を実施例により、具体的に説明
する。しかしながら、本発明はこれら実施例のみに限定
されるものではない。
【0014】(a)スルホン酸基含有アルコキシシラン
の合成 滴下ロートを取り付けた2口の500mlの丸底フラス
コに塩化メチレンを200ml入れ、これにフェニルト
リクロロシラン124.02g(0.585mol)を
加え、氷冷した。これに無水硫酸46.80g(0.5
85mol)を塩化メチレン100mlに溶解させた溶
液を窒素気流下30分かけて滴下した後、氷浴を取り外
し室温で5時間攪拌し、スルホン化を行った。滴下ロー
トを取り外し、窒素気流下、油浴を用いて100℃に加
熱し、塩化メチレン、及び未反応の無水硫酸を留去し
た。放冷後、室温でエタノール161.50gを3時間
かけて滴下し、次いで窒素でバブリングしながら2時間
還流して発生する塩化水素を取り除きながらエトキシ化
反応を行った。得られた、不純物を含むフェニルスルホ
ン酸基含有エトキシシランのエタノール溶液238.6
0gを、以下のスルホン酸基含有炭化水素基とメルカプ
ト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン触媒
のゾルゲル調製におけるスルホン酸成分の原料として用
いた。
【0015】(b)スルホン酸基含有炭化水素基とメル
カプト基含有炭化水素基を有する有機高分子シロキサン
の調製 (1)触媒 攪拌棒を取り付けた2口の500mlの丸底フラスコ
に、上記したスルホン酸基含有エトキシシランのエタノ
ール溶液26.00g、テトラエトキシシラン35.5
0g(170.67mmol)、メルカプトプロピルト
リメトキシシラン6.72g(34.28mmol)及
びエタノール30mlを入れて混合した。これに水7.
53g(0.418mol)を30分かけて滴下した。
ついでこれを加熱し、65℃で4時間攪拌した。放冷
後、28%アンモニア水15mlと水75mlを混合し
た水溶液を滴下し、室温で4時間攪拌した。さらに65
℃で3日間攪拌し、熟成させた。これをエバポレーター
で減圧留去し、白色の固体を得た。ついで2Nの塩酸2
00mlを加え、室温で30分間攪拌し、プロトン型に
戻した。濾別後、イオン交換水500mlで洗浄する操
作を10回繰り返して塩酸を取り除いた。最後に減圧
下、100℃で6時間乾燥した。以上の操作によりスル
ホン酸基含有炭化水素基とメルカプト基含有炭化水素基
を有する有機高分子シロキサン30.00gを得た。本
触媒の固体酸量を測定したところ、1.01meq/g
であった。
【0016】実施例1 上記した触媒、9.00g(18cc)をテフロン網製
の袋(メッシュ200、20cc)に充填し、この袋を
円筒形反応器(直径1.50cm、長さ15cm)に充
填した。この反応器の下側からモル比が5:1のフェノ
ール/アセトン混合物を20.00g/hrの速度で触
媒中を通過させた。反応温度は100℃とし、5時間後
に得られた反応生成物を液体クロマトグラフィーで分析
した結果、アセトンの転化率は95.0%であり、ビス
フェノールAの選択率は96.0%であった。
【0017】
【発明の効果】本発明によれば、工業上重要であるビス
フェノールAを安全上、プロセス上および経済上著しく
優位に生産することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 4G069 AA15 BA22A BA22B BB09A BB09B BB10A BB10B BD05A BD05B BE21A BE21B BE22A BE22B BE32A BE32B CB25 DA06 EA01Y 4H006 AA02 AC25 BA53 BD21 FC52 FE13 4H039 CA41 CD40

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】スルホン酸基含有炭化水素基とメルカプト
    基含有炭化水素基を共に有する有機高分子シロキサン触
    媒を反応器に充填するに際し、該触媒を分割して袋に充
    填することを特徴とする有機高分子シロキサン触媒の充
    填方法。
  2. 【請求項2】有機高分子シロキサン触媒がビスフェノー
    ルA製造用触媒である請求項1記載の方法。
JP10404499A 1999-04-12 1999-04-12 有機高分子シロキサン触媒の充填方法 Expired - Fee Related JP3891726B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10404499A JP3891726B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 有機高分子シロキサン触媒の充填方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10404499A JP3891726B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 有機高分子シロキサン触媒の充填方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000296337A true JP2000296337A (ja) 2000-10-24
JP3891726B2 JP3891726B2 (ja) 2007-03-14

Family

ID=14370231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10404499A Expired - Fee Related JP3891726B2 (ja) 1999-04-12 1999-04-12 有機高分子シロキサン触媒の充填方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3891726B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004190021A (ja) * 2002-11-27 2004-07-08 Mitsui Chemicals Inc 有機高分子シロキサン及びその用途
JP2004298811A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Nagasaki Prefecture 耐熱・撥水性燃焼触媒容器
JP4768726B2 (ja) * 2004-05-07 2011-09-07 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 接触管束の接触管を構造的に充填する方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004190021A (ja) * 2002-11-27 2004-07-08 Mitsui Chemicals Inc 有機高分子シロキサン及びその用途
JP2004298811A (ja) * 2003-03-31 2004-10-28 Nagasaki Prefecture 耐熱・撥水性燃焼触媒容器
JP4768726B2 (ja) * 2004-05-07 2011-09-07 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア 接触管束の接触管を構造的に充填する方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP3891726B2 (ja) 2007-03-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA1165768A (en) Siloxane bond rearrangement effected by solid perfluorinated polymers containing pendant sulfonic acid groups
CN110191911A (zh) 有机聚合官能团改性硅胶及其生产工艺与使用
JPH05178996A (ja) 高粘度シロキサンの分散体を製造する方法
CN105439802A (zh) 加氢烷基化制备环己基苯的方法
US6229037B1 (en) Polyorganosiloxane catalyst
JP3891726B2 (ja) 有機高分子シロキサン触媒の充填方法
JP2000319216A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2000281608A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2001233812A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2000281607A (ja) ビスフェノールaの製造方法
US3472787A (en) Preparation of dried gel
RU2167878C2 (ru) Способ расщепления побочных продуктов прямого синтеза алкилхлорсиланов
CN105367371A (zh) 液相烷基化制环己基苯的方法
CN101589050A (zh) 新型硅倍半氧烷填料的制备方法
JPH03181334A (ja) 核酸合成用担体の製法
JPH1059707A (ja) モノシランの製造方法
JP3644703B2 (ja) 環状ジメチルポリシロキサンの製造方法
JPH0730179B2 (ja) フエニレン基含有オルガノポリシロキサンおよびその製造法
JP2000290208A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP2000297056A (ja) ビスフェノールaの製造方法
JP3761342B2 (ja) ビスフェノールa製造用触媒の再生方法
JP4118434B2 (ja) シラン化合物の不均化反応用触媒
JP4571393B2 (ja) 有機高分子シロキサン及びその用途
CN101423527A (zh) 三(三烷基硅氧基)甲基烷烃的制造方法
JPS6218483B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20040528

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20061127

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061205

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061205

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091215

Year of fee payment: 3

R154 Certificate of patent or utility model (reissue)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101215

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111215

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121215

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121215

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131215

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees