JP2000304568A - 磁気式移動体検出センサー - Google Patents
磁気式移動体検出センサーInfo
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Landscapes
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- Hall/Mr Elements (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【課題】 磁石を小型化し、外部への漏洩磁界を最小限
にすることができ、磁界の変化、出力及びS/N比が大
きく、出力波形の歪みが少ない磁気抵抗素子センサーを
提供する。 【解決手段】 第1の磁路部材12と第2の磁路部材1
3の間に磁石2を挿入した磁界印加装置14と、少なく
とも1つ以上の凹凸を持つ磁性移動体3の凸部と第2の
磁路部材の間に巨大磁気抵抗素子センサー11を配置す
る。
にすることができ、磁界の変化、出力及びS/N比が大
きく、出力波形の歪みが少ない磁気抵抗素子センサーを
提供する。 【解決手段】 第1の磁路部材12と第2の磁路部材1
3の間に磁石2を挿入した磁界印加装置14と、少なく
とも1つ以上の凹凸を持つ磁性移動体3の凸部と第2の
磁路部材の間に巨大磁気抵抗素子センサー11を配置す
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも1つ以
上の凹凸を持つ磁性移動体の移動による磁界の変化を検
出する磁気式移動体検出センサーに関し、特に回転機
械、回転電気機械の回転角度や回転速度を検出するもの
に関するものである。
上の凹凸を持つ磁性移動体の移動による磁界の変化を検
出する磁気式移動体検出センサーに関し、特に回転機
械、回転電気機械の回転角度や回転速度を検出するもの
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】磁気抵抗効果とは、強磁性体(例えばN
i−Fe)薄膜の磁化方向と電流方向のなす角度によっ
て、強磁性体の電気抵抗が変化するものである。磁界に
よって変化する電気抵抗を磁気抵抗変化率と言い、例え
ばNi−Feで2〜3%である。磁気抵抗効果を利用し
た磁気センサーにおいては、磁気抵抗変化率を大きくす
る事により出力信号を大きくできたり、歪みの少ない出
力が得られることから5〜20%の変化率を持つ素子の
開発が行われている。これらは従来より抵抗変化率が大
きいため従来品と区別する意味で、巨大磁気抵抗効果と
呼ばれている。
i−Fe)薄膜の磁化方向と電流方向のなす角度によっ
て、強磁性体の電気抵抗が変化するものである。磁界に
よって変化する電気抵抗を磁気抵抗変化率と言い、例え
ばNi−Feで2〜3%である。磁気抵抗効果を利用し
た磁気センサーにおいては、磁気抵抗変化率を大きくす
る事により出力信号を大きくできたり、歪みの少ない出
力が得られることから5〜20%の変化率を持つ素子の
開発が行われている。これらは従来より抵抗変化率が大
きいため従来品と区別する意味で、巨大磁気抵抗効果と
呼ばれている。
【0003】巨大磁気抵抗変化が得られるものとして
は、非常に薄い強磁性層と非磁性層を交互に多数積層し
た多層型、磁気ヘッドで用いられているスピンバルブ
型、トンネル効果型等がある。
は、非常に薄い強磁性層と非磁性層を交互に多数積層し
た多層型、磁気ヘッドで用いられているスピンバルブ
型、トンネル効果型等がある。
【0004】図7は、従来の巨大磁気抵抗効果を用いた
検出装置を示す構成図である。巨大磁気抵抗効果素子1
と磁界を発生させる磁石2、磁界を変化させる磁性移動
体3からなっている。図7b)には、磁性移動体3の凸
部が巨大磁気抵抗効果素子と対向した状態での磁界を模
式している。同様に図7c)には、磁性移動体の凹部が
巨大磁気抵抗効果素子と対向した状態を示している。磁
性移動体の凹凸部が巨大磁気抵抗効果素子と対向するこ
とにより、巨大磁気抵抗効果素子に加わる磁界が変化
し、その抵抗変化を出力として取ることにより、巨大磁
気抵抗効果素子と対向した磁性移動体の凸部および凹部
の数を数える事により、回転角度や回転速度を検出して
いた。
検出装置を示す構成図である。巨大磁気抵抗効果素子1
と磁界を発生させる磁石2、磁界を変化させる磁性移動
体3からなっている。図7b)には、磁性移動体3の凸
部が巨大磁気抵抗効果素子と対向した状態での磁界を模
式している。同様に図7c)には、磁性移動体の凹部が
巨大磁気抵抗効果素子と対向した状態を示している。磁
性移動体の凹凸部が巨大磁気抵抗効果素子と対向するこ
とにより、巨大磁気抵抗効果素子に加わる磁界が変化
し、その抵抗変化を出力として取ることにより、巨大磁
気抵抗効果素子と対向した磁性移動体の凸部および凹部
の数を数える事により、回転角度や回転速度を検出して
いた。
【0005】
【本発明が解決しようとする課題】しかしながら、図1
で示したような構造を用いると磁石から出る磁界を有効
に利用できず磁石も大きくならざるを得なかった。ま
た、巨大磁気抵抗効果素子1と磁石2からなるセンサー
の外部に、磁石から漏洩する磁界が無視できずセンサー
自体を磁気シールドする必要があり、小型化が難しかっ
た。さらに、磁性移動体の凹部が巨大磁気抵抗効果素子
1と対向したときと、凸部に対向したときでの磁界変化
が小さいため出力を大きくすることが難しく、増幅器の
回路を付加する必要があった。さらには、出力のノイズ
を抑制し、S/N比を改善して出力を確保するために電
波障害用の各種回路を回転センサ内に内蔵させたり、同
センサを電磁シールドするなどの対策が必要である。
で示したような構造を用いると磁石から出る磁界を有効
に利用できず磁石も大きくならざるを得なかった。ま
た、巨大磁気抵抗効果素子1と磁石2からなるセンサー
の外部に、磁石から漏洩する磁界が無視できずセンサー
自体を磁気シールドする必要があり、小型化が難しかっ
た。さらに、磁性移動体の凹部が巨大磁気抵抗効果素子
1と対向したときと、凸部に対向したときでの磁界変化
が小さいため出力を大きくすることが難しく、増幅器の
回路を付加する必要があった。さらには、出力のノイズ
を抑制し、S/N比を改善して出力を確保するために電
波障害用の各種回路を回転センサ内に内蔵させたり、同
センサを電磁シールドするなどの対策が必要である。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題に対
処するため少なくとも1つ以上の凹凸を持つ磁性移動体
と磁性移動体の近傍に配置され磁束変化を検出する巨大
磁気抵抗効果素子を備えたセンサにおいて、前記センサ
は前記磁性移動体に向かって2つの対向部を形成してな
る第1の磁路部材と、第1の磁路部材の2つの対向部の
間に磁石と第2の磁路部材とを備え、第2の磁路部材と
磁性移動体との間に巨大磁気抵抗素子を備えた事を特徴
とする。
処するため少なくとも1つ以上の凹凸を持つ磁性移動体
と磁性移動体の近傍に配置され磁束変化を検出する巨大
磁気抵抗効果素子を備えたセンサにおいて、前記センサ
は前記磁性移動体に向かって2つの対向部を形成してな
る第1の磁路部材と、第1の磁路部材の2つの対向部の
間に磁石と第2の磁路部材とを備え、第2の磁路部材と
磁性移動体との間に巨大磁気抵抗素子を備えた事を特徴
とする。
【0007】第1の磁路部材は略コの字型をしており、
磁石と第2の磁路部材は略コの字型の中央部に永久磁石
と第2の磁路部材が略Eの字に配置されている。
磁石と第2の磁路部材は略コの字型の中央部に永久磁石
と第2の磁路部材が略Eの字に配置されている。
【0008】永久磁石は第1の磁路部材の略コの字の縦
棒部と第2の磁路部材方向に着磁されており、永久磁石
の材質は、フェライト系磁石もしくは希土類系磁石を用
いることができる。磁石の特性は残留磁束密度3(K
G)、保磁力2(KOe)以上ある磁石を使用すること
ができる。磁石を小型化することが出来るエネルギー積
の高い希土類系磁石を用いる事がより好ましいものであ
る。
棒部と第2の磁路部材方向に着磁されており、永久磁石
の材質は、フェライト系磁石もしくは希土類系磁石を用
いることができる。磁石の特性は残留磁束密度3(K
G)、保磁力2(KOe)以上ある磁石を使用すること
ができる。磁石を小型化することが出来るエネルギー積
の高い希土類系磁石を用いる事がより好ましいものであ
る。
【0009】第1および第2の磁路部材は、軟磁気特性
を示す材料で磁気回路を小型化するためには飽和磁束密
度が大きいことが要求される。材料としては、ソフトフ
ェライト材もしくは金属材があるが、飽和磁束密度が大
きい鉄系の合金例えばパーマロイを使用することが、磁
気回路を小型化する上で好ましいものである。
を示す材料で磁気回路を小型化するためには飽和磁束密
度が大きいことが要求される。材料としては、ソフトフ
ェライト材もしくは金属材があるが、飽和磁束密度が大
きい鉄系の合金例えばパーマロイを使用することが、磁
気回路を小型化する上で好ましいものである。
【0010】磁性移動体と対向する第1の磁路部材の端
面より、第2の磁路部材の端面が凹となっており、第1
の磁路部材の端面と第2の磁路部材の略中間部で、略コ
の字型の第1磁路部材の平行する横棒の略中間部に磁気
抵抗効果素子が配置されている。この様に配置すること
で出力波形の対称性が良くなる効果がある。
面より、第2の磁路部材の端面が凹となっており、第1
の磁路部材の端面と第2の磁路部材の略中間部で、略コ
の字型の第1磁路部材の平行する横棒の略中間部に磁気
抵抗効果素子が配置されている。この様に配置すること
で出力波形の対称性が良くなる効果がある。
【0011】磁気抵抗効果素子は第1および第2の磁路
部材とは非磁性材で隔てられており、直接接触させるこ
とはノイズの発生や波形の歪みの点から避ける必要があ
る。
部材とは非磁性材で隔てられており、直接接触させるこ
とはノイズの発生や波形の歪みの点から避ける必要があ
る。
【0012】磁性移動体の凹凸のピッチPと第1の磁路
部材と第2の磁路部材の磁路中心部との間隔wが同一で
あることを特徴とするものである。
部材と第2の磁路部材の磁路中心部との間隔wが同一で
あることを特徴とするものである。
【0013】磁性移動体の磁路構成部に向かって2つの
対向部を形成してなる第1の磁路部材と、第1の磁路部
材の2つの対向部の間に磁石と第2の磁路部材とを備
え、第1の磁路部材と第2の磁路部材との間に磁気セン
サを備えた事を特徴とする。
対向部を形成してなる第1の磁路部材と、第1の磁路部
材の2つの対向部の間に磁石と第2の磁路部材とを備
え、第1の磁路部材と第2の磁路部材との間に磁気セン
サを備えた事を特徴とする。
【0014】磁性移動体と対向する第1の磁路部材の端
面と、第2の磁路部材の端面が略同一となっており、前
記第1の磁路部材と前記第2の磁路部材との間に生じる
磁束の変化を検出する2つの磁気センサを備え、磁性移
動体の凹凸のピッチpと第1の磁路部材の磁路中心部の
間隔dが、d=(2n+0.5)pであることを特徴と
する。
面と、第2の磁路部材の端面が略同一となっており、前
記第1の磁路部材と前記第2の磁路部材との間に生じる
磁束の変化を検出する2つの磁気センサを備え、磁性移
動体の凹凸のピッチpと第1の磁路部材の磁路中心部の
間隔dが、d=(2n+0.5)pであることを特徴と
する。
【0015】巨大磁気抵抗素子が、磁束の変化を検出す
る強磁性体と非磁性体を交互に積層させた人工格子膜、
もしくはスピンバルブ膜、トンネル効果膜であることを
特徴とする。
る強磁性体と非磁性体を交互に積層させた人工格子膜、
もしくはスピンバルブ膜、トンネル効果膜であることを
特徴とする。
【0016】本発明では、同一軌道上を移動する多数の
磁路構成部を形成してなる磁性移動体として有限半径の
例で説明しているが、無限半径を持った磁性移動体つま
り直線的なラック歯車にも適用できるものである。
磁路構成部を形成してなる磁性移動体として有限半径の
例で説明しているが、無限半径を持った磁性移動体つま
り直線的なラック歯車にも適用できるものである。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
をもちいて詳細に説明する。図1に本発明の回転検出装
置の第1の実施例を示す。分かり易くするため符号は、
できうる限り同一構成部材は同じものを用いた。図1
a)に示すように、少なくとも1つ以上の凹凸を持つ磁
性移動体3と対向して、磁性移動体の移動に伴う磁界変
化を検出する巨大磁気抵抗効果センサー11と磁界を与
える磁石2と、磁性移動体の磁路構成部に向かって2つ
の対向部を形成してなる略コの字形した第1の磁路部材
12と、第1の磁路部材12の2つの対向部の間に磁石
2と第2の磁路部材13が配され磁界印加部材14を構
成する。第2の磁路部材13と磁性移動体3の凸部との
ほぼ中間に巨大磁気抵抗素子センサーが配置される。
をもちいて詳細に説明する。図1に本発明の回転検出装
置の第1の実施例を示す。分かり易くするため符号は、
できうる限り同一構成部材は同じものを用いた。図1
a)に示すように、少なくとも1つ以上の凹凸を持つ磁
性移動体3と対向して、磁性移動体の移動に伴う磁界変
化を検出する巨大磁気抵抗効果センサー11と磁界を与
える磁石2と、磁性移動体の磁路構成部に向かって2つ
の対向部を形成してなる略コの字形した第1の磁路部材
12と、第1の磁路部材12の2つの対向部の間に磁石
2と第2の磁路部材13が配され磁界印加部材14を構
成する。第2の磁路部材13と磁性移動体3の凸部との
ほぼ中間に巨大磁気抵抗素子センサーが配置される。
【0018】図1b),c)に示す様に、磁性移動体3
と対向する第1の磁路部材12の端面より、第2の磁路
部材13の端面が凹となっており、磁界印加部材14と
磁性移動体3との間隔を狭くすることと、磁性移動体3
の凹凸部での出力差を大きくする働きをするものであ
る。
と対向する第1の磁路部材12の端面より、第2の磁路
部材13の端面が凹となっており、磁界印加部材14と
磁性移動体3との間隔を狭くすることと、磁性移動体3
の凹凸部での出力差を大きくする働きをするものであ
る。
【0019】磁性移動体の凹凸のピッチPと第1の磁路
部材と第2の磁路部材の磁路中心部との間隔wはほぼ同
一になる様に設計されている。また、第1の磁路部材1
2の幅t1および第2の磁路部材13の幅t2と磁性移
動体3の凸部の幅gは、ほぼ同一の値を用いることによ
り出力波形の歪みが少なくなるためである。
部材と第2の磁路部材の磁路中心部との間隔wはほぼ同
一になる様に設計されている。また、第1の磁路部材1
2の幅t1および第2の磁路部材13の幅t2と磁性移
動体3の凸部の幅gは、ほぼ同一の値を用いることによ
り出力波形の歪みが少なくなるためである。
【0020】図1b),c)において、破線の矢印で磁
界の分布を示した。図1b)の様に磁性移動体3の凸部
が第1の磁路部材12および巨大磁気抵抗効果素子セン
サーと合致した状態においては、磁束(磁界)は、磁石
1から第2の磁路部材13、巨大磁気抵抗素子センサー
11、磁性移動体3、第1の磁路部材12を通り磁石1
に戻る経路を取る。第2の磁路部材13から第1の磁路
部材12に直接行く磁束も僅かあるが、ほとんどは前述
した経路を通る。
界の分布を示した。図1b)の様に磁性移動体3の凸部
が第1の磁路部材12および巨大磁気抵抗効果素子セン
サーと合致した状態においては、磁束(磁界)は、磁石
1から第2の磁路部材13、巨大磁気抵抗素子センサー
11、磁性移動体3、第1の磁路部材12を通り磁石1
に戻る経路を取る。第2の磁路部材13から第1の磁路
部材12に直接行く磁束も僅かあるが、ほとんどは前述
した経路を通る。
【0021】次に、磁性移動体3の凹凸のピッチの半分
p/2だけ移動した状態を図1c)に示す。巨大磁気抵
抗素子センサーと磁性移動体の距離が離れるため、大多
数の磁束は磁石2、第2の磁路部材13、第1の磁路部
材12を通り磁石2に戻る経路をとる。
p/2だけ移動した状態を図1c)に示す。巨大磁気抵
抗素子センサーと磁性移動体の距離が離れるため、大多
数の磁束は磁石2、第2の磁路部材13、第1の磁路部
材12を通り磁石2に戻る経路をとる。
【0022】この様に、磁性移動体3の凹凸部と巨大磁
気抵抗素子センサー11との位置関係により、磁石2か
ら出る主となる磁束の経路を変えることにより、図7に
示した従来例の様に、常に磁石2の磁界に曝され磁束の
方向(角度)を変えるだけのものに較べ、巨大磁気抵抗
素子センサの出力は大きく取れるという効果がある。
気抵抗素子センサー11との位置関係により、磁石2か
ら出る主となる磁束の経路を変えることにより、図7に
示した従来例の様に、常に磁石2の磁界に曝され磁束の
方向(角度)を変えるだけのものに較べ、巨大磁気抵抗
素子センサの出力は大きく取れるという効果がある。
【0023】次に巨大磁気抵抗効果素子について説明す
る。巨大磁気抵抗効果素子は、鏡面仕上げしたシリコン
基板4上に絶縁層としてシリコン酸化膜5を形成し、パ
ーマロイ等の磁性体を5〜10nmの厚みに製膜しバッ
ファ層6とした。バッファ層6の上にコバルトもしくは
ニッケル、鉄の単体膜もしくはそれらの合金の強磁性層
7と銅の非磁性層8を交互に積層した。強磁性層7の厚
みは1〜2nm、非磁性層8の厚みは1.5〜2.5n
mとした。フォトリソグラフィーとイオンミリングの技
術を用い、図2に示すように略I状に巨大磁気抵抗効果
素子パターンを形成した。アルミニウム、銅等からなる
非磁性導電性の材料で端子9、アルミナもしくはシリコ
ン酸化物で巨大磁気抵抗効果素子を覆う様に保護膜10
を作製し、巨大磁気抵抗効果素子センサ11が得られ
る。
る。巨大磁気抵抗効果素子は、鏡面仕上げしたシリコン
基板4上に絶縁層としてシリコン酸化膜5を形成し、パ
ーマロイ等の磁性体を5〜10nmの厚みに製膜しバッ
ファ層6とした。バッファ層6の上にコバルトもしくは
ニッケル、鉄の単体膜もしくはそれらの合金の強磁性層
7と銅の非磁性層8を交互に積層した。強磁性層7の厚
みは1〜2nm、非磁性層8の厚みは1.5〜2.5n
mとした。フォトリソグラフィーとイオンミリングの技
術を用い、図2に示すように略I状に巨大磁気抵抗効果
素子パターンを形成した。アルミニウム、銅等からなる
非磁性導電性の材料で端子9、アルミナもしくはシリコ
ン酸化物で巨大磁気抵抗効果素子を覆う様に保護膜10
を作製し、巨大磁気抵抗効果素子センサ11が得られ
る。
【0024】この様に強磁性層と非磁性層を交互に積層
した巨大磁気抵抗効果素子は、膜面に対して垂直方向の
磁界に対してはほとんどその抵抗が変化することは無い
が、平行な磁界に対しては、その磁界の角度によらず、
その磁界の強さに応じて大きく変化する。抵抗値変化に
応じた信号を出力させるには、端子9より巨大磁気抵抗
効果素子に一定電流を供給し、端子9の電圧を検出する
ことで、磁界変化に応じた出力を得ることができる。
した巨大磁気抵抗効果素子は、膜面に対して垂直方向の
磁界に対してはほとんどその抵抗が変化することは無い
が、平行な磁界に対しては、その磁界の角度によらず、
その磁界の強さに応じて大きく変化する。抵抗値変化に
応じた信号を出力させるには、端子9より巨大磁気抵抗
効果素子に一定電流を供給し、端子9の電圧を検出する
ことで、磁界変化に応じた出力を得ることができる。
【0025】膜面に平行な磁界の強さがほぼ零の時に巨
大磁気抵抗効果素子は最大の抵抗を示し、水平方向の磁
界の強さが磁界の角度によらず100〜500(Oe)
の強さでその抵抗は最小となる。(最大抵抗値−最小抵
抗値)/(最大抵抗値)x100(%)で定義される磁
気抵抗変化率は、10〜20%のもの大きな値が得られ
ている。
大磁気抵抗効果素子は最大の抵抗を示し、水平方向の磁
界の強さが磁界の角度によらず100〜500(Oe)
の強さでその抵抗は最小となる。(最大抵抗値−最小抵
抗値)/(最大抵抗値)x100(%)で定義される磁
気抵抗変化率は、10〜20%のもの大きな値が得られ
ている。
【0026】図3に巨大磁気抵抗素子センサーに印加さ
れる磁界の変化と抵抗値の変化を磁性移動体3の凹凸部
と重ねて示す。巨大磁気抵抗素子センサー11の位置
に、磁性移動体3の凸部が一致した時、磁界の変化は最
大となり抵抗値は最小となる。磁性移動体が移動するこ
とにより磁界の変化は減少し抵抗も上がってくる。さら
に磁性移動体がp/2移動し凹部に来たとき磁界の変化
は最小になり抵抗値は最大となる。
れる磁界の変化と抵抗値の変化を磁性移動体3の凹凸部
と重ねて示す。巨大磁気抵抗素子センサー11の位置
に、磁性移動体3の凸部が一致した時、磁界の変化は最
大となり抵抗値は最小となる。磁性移動体が移動するこ
とにより磁界の変化は減少し抵抗も上がってくる。さら
に磁性移動体がp/2移動し凹部に来たとき磁界の変化
は最小になり抵抗値は最大となる。
【0027】この様に磁性移動体の凹凸により、巨大磁
気抵抗素子センサーの抵抗値が変化するので、移動速度
や回転角度の測定ができるものである。
気抵抗素子センサーの抵抗値が変化するので、移動速度
や回転角度の測定ができるものである。
【0028】図4に第2の実施例を示す。巨大磁気抵抗
素子センサを2個使用しその差動出力を取ることにより
出力を、実質的に2倍にしたものである。構成部材は第
1の実施例より巨大磁気抵抗素子センサーが1個増えて
いる。
素子センサを2個使用しその差動出力を取ることにより
出力を、実質的に2倍にしたものである。構成部材は第
1の実施例より巨大磁気抵抗素子センサーが1個増えて
いる。
【0029】図4a)に示すように、少なくとも1つ以
上の凹凸を持つ磁性移動体3と対向して、磁性移動体の
移動に伴う磁界変化を検出する第1と第2の巨大磁気抵
抗効果センサー15、16と磁界を与える磁石2と、磁
性移動体の磁路構成部に向かって2つの対向部を形成し
てなる略コの字形した第1の磁路部材17と、第1の磁
路部材17の2つの対向部の間に磁石2と第2の磁路部
材18が配され磁界印加部材19を構成する。
上の凹凸を持つ磁性移動体3と対向して、磁性移動体の
移動に伴う磁界変化を検出する第1と第2の巨大磁気抵
抗効果センサー15、16と磁界を与える磁石2と、磁
性移動体の磁路構成部に向かって2つの対向部を形成し
てなる略コの字形した第1の磁路部材17と、第1の磁
路部材17の2つの対向部の間に磁石2と第2の磁路部
材18が配され磁界印加部材19を構成する。
【0030】磁性移動体3と対向する第1の磁路部材1
7の端面と、第2の磁路部材18の端面は、略同一面と
なっており、第1の磁路部材17と第2の磁路部材18
との略中間位置に第1と第2の巨大磁気抵抗素子センサ
ー15、16が配置される。
7の端面と、第2の磁路部材18の端面は、略同一面と
なっており、第1の磁路部材17と第2の磁路部材18
との略中間位置に第1と第2の巨大磁気抵抗素子センサ
ー15、16が配置される。
【0031】磁性移動体の凹凸のピッチpと第1の磁路
部材の磁路中心部間隔dの間には、d=(2n+0.
5)pの関係がある。図4の第2の実施例はn=1を示
している。これは第1の磁路部材の片方が磁性移動体3
の凸部、もう一方が凹部になるようにするためである。
また、第1の磁路部材17の幅t1と磁性移動体3の凸
上部の幅gはほぼ同一とした。ほぼ同一の値を用いるこ
とにより出力波形の歪みが少なくなるためである。
部材の磁路中心部間隔dの間には、d=(2n+0.
5)pの関係がある。図4の第2の実施例はn=1を示
している。これは第1の磁路部材の片方が磁性移動体3
の凸部、もう一方が凹部になるようにするためである。
また、第1の磁路部材17の幅t1と磁性移動体3の凸
上部の幅gはほぼ同一とした。ほぼ同一の値を用いるこ
とにより出力波形の歪みが少なくなるためである。
【0032】第2の磁路部材18の幅t2と磁性移動体
3の凸上部の幅gの間には、t2>2gの関係がある。
これは、図4b),c)で容易に理解できるものであ
る。つまり、磁石から出た磁束を第2の磁路部材18、
磁性移動体3、第1の磁路部材17を通り磁石に戻る磁
気回路と、磁石から出た磁束を第2の磁路部材18、巨
大磁気抵抗素子センサー、第1の磁路部材17を通り磁
石に戻る磁気回路とを構成させるためである。
3の凸上部の幅gの間には、t2>2gの関係がある。
これは、図4b),c)で容易に理解できるものであ
る。つまり、磁石から出た磁束を第2の磁路部材18、
磁性移動体3、第1の磁路部材17を通り磁石に戻る磁
気回路と、磁石から出た磁束を第2の磁路部材18、巨
大磁気抵抗素子センサー、第1の磁路部材17を通り磁
石に戻る磁気回路とを構成させるためである。
【0033】図4では、第2の磁路部材18を1つで構
成しているが、前述したふたつの磁気回路に分ける事も
可能であるが、部品点数、組立工数の面からはあまり好
ましいものではない。
成しているが、前述したふたつの磁気回路に分ける事も
可能であるが、部品点数、組立工数の面からはあまり好
ましいものではない。
【0034】図4b),c)において、破線の矢印で磁
界の分布を示した。図4b)では、第1の巨大磁気抵抗
素子センサー15は、磁性移動体3の凹部と対向するた
め抵抗値は最大となり、第2の巨大磁気抵抗素子センサ
ー16は磁性移動体3の凸部と対向するため抵抗値は最
小となる。図4c)では磁性移動体3がp/2移動した
状態で、第1の巨大磁気抵抗素子センサー15の抵抗値
は最小となり、第2の巨大磁気抵抗素子センサー16は
最大の抵抗値となる。
界の分布を示した。図4b)では、第1の巨大磁気抵抗
素子センサー15は、磁性移動体3の凹部と対向するた
め抵抗値は最大となり、第2の巨大磁気抵抗素子センサ
ー16は磁性移動体3の凸部と対向するため抵抗値は最
小となる。図4c)では磁性移動体3がp/2移動した
状態で、第1の巨大磁気抵抗素子センサー15の抵抗値
は最小となり、第2の巨大磁気抵抗素子センサー16は
最大の抵抗値となる。
【0035】図5に第1と第2の巨大磁気抵抗素子セン
サーに印加される磁界の変化と抵抗値の変化を磁性移動
体3の凹凸部と重ねて示す。 第1と第2の巨大磁気抵
抗素子センサーの抵抗変化はちょうど180度ずれたも
のとなる。第1と第2の抵抗変化の差動を取ることによ
り、実質的に出力を2倍にすることが可能となる。
サーに印加される磁界の変化と抵抗値の変化を磁性移動
体3の凹凸部と重ねて示す。 第1と第2の巨大磁気抵
抗素子センサーの抵抗変化はちょうど180度ずれたも
のとなる。第1と第2の抵抗変化の差動を取ることによ
り、実質的に出力を2倍にすることが可能となる。
【0036】図6に第3の実施例を示す。磁性移動体の
凹凸のピッチpと第1の磁路部材の磁路中心部間隔dの
間には、d=(2n+0.5)pの関係がある。本第3
の実施例はn=2の場合である。動作原理等は、第2の
実施例と同一であるので、詳細説明は省略する。
凹凸のピッチpと第1の磁路部材の磁路中心部間隔dの
間には、d=(2n+0.5)pの関係がある。本第3
の実施例はn=2の場合である。動作原理等は、第2の
実施例と同一であるので、詳細説明は省略する。
【0037】nを2以上の大きな値にすると、磁性移動
体3が円形の場合その半径の影響で、磁性移動体3の凸
部と第1の磁路部材の距離と、磁性移動体3の凸部と第
2の磁路部材の距離が変わってくるため、出力波形の歪
みを起こすことになる。半径の影響を無視できる大口径
か、もしくは無限大の半径を持つつまり直線形状を持つ
磁性移動体には応用ができるだけでなく、凹凸のピッチ
の誤差が平均化されると言う利点がある。本実施例の出
力は図5に示したものと同一である。
体3が円形の場合その半径の影響で、磁性移動体3の凸
部と第1の磁路部材の距離と、磁性移動体3の凸部と第
2の磁路部材の距離が変わってくるため、出力波形の歪
みを起こすことになる。半径の影響を無視できる大口径
か、もしくは無限大の半径を持つつまり直線形状を持つ
磁性移動体には応用ができるだけでなく、凹凸のピッチ
の誤差が平均化されると言う利点がある。本実施例の出
力は図5に示したものと同一である。
【0038】
【発明の効果】本発明のように、第1、第2の磁路部材
と磁石を組み合わせて磁界印加部材を構成することによ
り磁石を小型化でき、磁路部材を用いることで外部への
漏洩磁界を最小限にすることが出来る。また巨大磁気抵
抗素子センサーへの磁界の変化を大きくし、出力および
S/N比が大きく、出力波形の歪みが少ない磁気センサ
ーが得られる。
と磁石を組み合わせて磁界印加部材を構成することによ
り磁石を小型化でき、磁路部材を用いることで外部への
漏洩磁界を最小限にすることが出来る。また巨大磁気抵
抗素子センサーへの磁界の変化を大きくし、出力および
S/N比が大きく、出力波形の歪みが少ない磁気センサ
ーが得られる。
【図1】本発明の第1の実施例である磁気センサーの斜
視図と動作を説明する図
視図と動作を説明する図
【図2】本発明の巨大磁気抵抗素子センサーの斜視図。
【図3】本発明の第1の実施例の磁性移動体と磁界変化
および抵抗値変化を説明する図
および抵抗値変化を説明する図
【図4】本発明の第2の実施例である磁気センサーの斜
視図と動作を説明する図
視図と動作を説明する図
【図5】本発明の第2の実施例の磁性移動体と磁界変化
および抵抗値変化を説明する図
および抵抗値変化を説明する図
【図6】本発明の第3の実施例である磁気センサーの斜
視図と動作を説明する図
視図と動作を説明する図
【図7】従来例を説明する図
1 巨大磁気抵抗素子、2 磁石、3 磁性移動体、4
シリコン基板、5 シリコン酸化膜、6 バッファー
層、7 強磁性体層、8 非磁性層、9 端子、10
保護膜、11 巨大磁気抵抗素子センサー、12 第1
の磁路部材、13 第2の磁路部材、14磁界印加部材 15 第1の巨大磁気抵抗素子センサー、16 第2の
巨大磁気抵抗素子センサー、17 第1の磁路部材、1
8 第2の磁路部材、19 磁界印加部材
シリコン基板、5 シリコン酸化膜、6 バッファー
層、7 強磁性体層、8 非磁性層、9 端子、10
保護膜、11 巨大磁気抵抗素子センサー、12 第1
の磁路部材、13 第2の磁路部材、14磁界印加部材 15 第1の巨大磁気抵抗素子センサー、16 第2の
巨大磁気抵抗素子センサー、17 第1の磁路部材、1
8 第2の磁路部材、19 磁界印加部材
Claims (7)
- 【請求項1】 少なくとも1つ以上の凹凸を持つ磁性移
動体と磁性移動体の移動に伴う磁界変化を検出する検出
器とを備えた回転検出センサーにおいて、検出器は、磁
性移動体の磁路構成部に向かって2つの対向部を形成し
てなる第1の磁路部材と、第1の磁路部材の2つの対向
部の間に磁石と第2の磁路部材が配され、第2の磁路部
材と磁性移動体との間に巨大磁気抵抗素子を備えた事を
特徴とする磁気式移動体検出センサー。 - 【請求項2】 磁性移動体と対向する第1の磁路部材の
端面より、第2の磁路部材の端面が凹となっている事を
特徴とする請求項1の磁気式移動体検出センサー。 - 【請求項3】 磁性移動体の凹凸のピッチPと第1の磁
路部材と第2の磁路部材の磁路中心部との間隔wが同一
であることを特徴とする請求項1および2の磁気式移動
体検出センサー。 - 【請求項4】 磁性移動体に向かって2つの対向部を形
成してなる第1の磁路部材と、第1の磁路部材の2つの
対向部の間に磁石と第2の磁路部材とを備え、第1の磁
路部材と第2の磁路部材との間に巨大磁気抵抗素子を備
えた事を特徴とする磁気式移動体検出センサー。 - 【請求項5】 磁性移動体と対向する第1の磁路部材の
端面と、第2の磁路部材の端面が略同一となっている事
を特徴とする請求項4の磁気式移動体検出センサー。 - 【請求項6】 磁性移動体の凹凸のピッチpと第1の磁
路部材の磁路中心部の間隔dが、d=(2n+0.5)
pであることを特徴とする請求項4および5の磁気式移
動体検出センサー。 - 【請求項7】 巨大磁気抵抗素子が、磁束の変化を検出
する強磁性体と非磁性体を交互に積層させた人工格子
膜、もしくはスピンバルブ膜、トンネル効果膜であるこ
とを特徴とする請求項1および4の磁気式移動体検出セ
ンサー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11115726A JP2000304568A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 磁気式移動体検出センサー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11115726A JP2000304568A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 磁気式移動体検出センサー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000304568A true JP2000304568A (ja) | 2000-11-02 |
Family
ID=14669598
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11115726A Pending JP2000304568A (ja) | 1999-04-23 | 1999-04-23 | 磁気式移動体検出センサー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000304568A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6661225B2 (en) | 2002-01-23 | 2003-12-09 | Denso Corporation | Revolution detecting device |
| JP2005300246A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Tdk Corp | 移動体検出装置 |
| KR100829569B1 (ko) | 2006-10-18 | 2008-05-14 | 삼성전자주식회사 | 자구벽 이동을 이용한 반도체 장치 및 그의 제조방법 |
| JP2016217932A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 株式会社デンソー | 回転検出装置 |
-
1999
- 1999-04-23 JP JP11115726A patent/JP2000304568A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6661225B2 (en) | 2002-01-23 | 2003-12-09 | Denso Corporation | Revolution detecting device |
| JP2005300246A (ja) * | 2004-04-08 | 2005-10-27 | Tdk Corp | 移動体検出装置 |
| KR100829569B1 (ko) | 2006-10-18 | 2008-05-14 | 삼성전자주식회사 | 자구벽 이동을 이용한 반도체 장치 및 그의 제조방법 |
| JP2016217932A (ja) * | 2015-05-22 | 2016-12-22 | 株式会社デンソー | 回転検出装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051129 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080314 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080321 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080725 |