JP2000323300A - アブソーバ配置構造 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空チェンバを取り囲む機器が密集していて
いる箇所でも容易にフォトンアブソーバを配置し得て周
辺機器の配置にも制約を及ぼさない新規なアブソーバ配
置構造を提供する。 【解決手段】 真空チェンバ１４の継手用フランジ１５
に、その外周面の適宜位置から半径方向内側に延びて前
記真空チェンバ１４の内外を連通する貫通孔１８を穿設
すると共に、筒形のアブソーバ取付用ポート１６を自身
の内部通路１７が前記貫通孔１８と連続するように溶接
により接合し、前記アブソーバ取付用ポート１６に対し
前記内部通路１７及び貫通孔１８を通して前記真空チェ
ンバ１４内に張り出すようにフォトンアブソーバ１３を
装着する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、荷電粒子加速器の
真空チェンバ内で放射光を遮蔽するフォトンアブソーバ
の配置構造に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光とよばれる電磁波（光）を放出する。

【０００３】図３は放射光を発生させる為に使用されて
いる荷電粒子加速器の一例を示す平面図で、図中１は線
形加速装置であり、この線形加速装置１は、電子（荷電
粒子）ｅを射出する電子発生装置２と、一端が電子発生
装置２に接続された直管状の加速ダクト３と、該加速ダ
クト３の内部を移動する電子ｅに高周波を付与して該電
子ｅを加速する高周波加速装置４とを有している。

【０００４】前記加速ダクト３の他端には、湾曲管状の
偏向ダクト５の一端が接続されており、偏向ダクト５に
は、その内部を移動する電子ｅの軌道を曲げるための偏
向電磁石６が設けられている。

【０００５】７はシンクロトロンであって、該シンクロ
トロン７は、前記電子ｅに周回軌道を形成させるための
無端状ダクト８を有しており、該無端状ダクト８の所要
箇所には、前記偏向ダクト５の他端が接続されるように
なっている。

【０００６】そして、前記無端状ダクト８の湾曲部分に
は、その内部を移動する電子ｅの軌道を曲げるための偏
向電磁石９が設けられ、また、無端状ダクト８の所要箇
所には、該無端状ダクト８の内部を移動する電子ｅに高
周波を付与して該電子ｅを加速する高周波加速装置１０
が設けられている。

【０００７】更に、無端状ダクト８の所要箇所の湾曲部
には、該湾曲部において光速に近い速度で移動する電子
ｅの進行方向が曲げられることにより放出される放射光
Ｓを無端状ダクト８の外部へ導くための直管状のビーム
チャンネル１１の一端が接続され、また、該ビームチャ
ンネル１１の他端には、前記放射光Ｓを利用する実験を
行うための実験装置１２が設けられている。

【０００８】而して、加速ダクト３、偏向ダクト５、無
端状ダクト８、ビームチャンネル１１及び実験装置１２
の内部を超高真空状態に減圧して、電子ｅが光速に近い
速度で移動できる状態とした後、電子発生装置２から電
子ｅを射出させると、この電子発生装置２より射出され
た電子ｅは、高周波加速装置４によって加速され、更に
偏向電磁石６により軌道を曲げられることにより無端状
ダクト８に入射し、偏向電磁石９により各湾曲部におい
て軌道を曲げられるとともに、高周波加速装置１０によ
って加速され、これにより電子ｅから放射光Ｓが放出さ
れる。

【０００９】そして、無端状ダクト８の所定箇所の湾曲
部において放出される放射光Ｓは、ビームチャンネル１
１を経て実験装置１２に入射され、各種の実験に用いら
れることになる。

【００１０】また、前記ビームチャンネル１１が接続さ
れていない無端状ダクト８の湾曲部においても、電子ｅ
が磁場によりその進行方向を曲げられる際に放射光Ｓが
生じるが、この放射光Ｓが無端状ダクト８の内壁に入射
してしまうと、該内壁が放射光Ｓの熱エネルギーにより
過熱してダクト材質の金属粒子間に介在している気体が
あぶり出されて真空度が悪化したり、熱変形が生じたり
する虞れがあるため、図４に示す如く、無端状ダクト８
の放射光Ｓが入射する部分（図４中のクロスハッチ部分
が放射光Ｓの放射領域を示し、一点鎖線が電子ｅの軌道
を示している）にフォトンアブソーバ１３を配設し、該
フォトンアブソーバ１３により放射光Ｓを遮蔽して熱エ
ネルギーを吸収するようにしている。

【００１１】即ち、前記無端状ダクト８は、複数本の真
空チェンバ１４を相互連結することで構成されているの
で、その湾曲部で放射光Ｓの入射が起こり得る真空チェ
ンバ１４に対し、その長手方向の適宜位置にアブソーバ
取付用ポート１６を突設し、該アブソーバ取付用ポート
１６の内部通路１７と前記真空チェンバ１４に穿設した
貫通孔１８とを通して前記真空チェンバ１４内に張り出
すようにフォトンアブソーバ１３を配置し且つ該フォト
ンアブソーバ１３を前記アブソーバ取付用ポート１６に
装着している。

【００１２】尚、図中１５は真空チェンバ１４の端部に
形成した継手用フランジを示す。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、斯かる
従来構造においては、フォトンアブソーバ１３が真空チ
ェンバ１４の長手方向中途部に配置されることになる
が、電磁石などの真空チェンバを取り囲む機器が密集し
ていている箇所でフォトンアブソーバ１３を配置しなけ
ればならない場合には、該フォトンアブソーバ１３及び
アブソーバ取付用ポート１６の設置空間の確保が困難と
なり、しかも、その設置空間を確保する関係で周辺機器
の配置に制約が生じてしまうという不具合があった。

【００１４】本発明は、真空チェンバを取り囲む機器が
密集していている箇所でも容易にフォトンアブソーバを
配置し得て周辺機器の配置にも制約を及ぼさない新規な
アブソーバ配置構造を提供することを目的としている。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は、真空チェンバ
の継手用フランジに、その外周面の適宜位置から半径方
向内側に延びて前記真空チェンバの内外を連通する貫通
孔を穿設すると共に、筒形のアブソーバ取付用ポートを
自身の内部通路が前記貫通孔と連続するように接合し、
前記アブソーバ取付用ポートに対し前記内部通路及び貫
通孔を通して前記真空チェンバ内に張り出すようにフォ
トンアブソーバを装着したことを特徴とするアブソーバ
配置構造、に係るものである。

【００１６】而して、このようにすれば、フォトンアブ
ソーバが真空チェンバの継手用フランジに配置されるこ
とになるが、この継手用フランジ周辺は、真空チェンバ
同士のボルト締結による連結作業を支障なく行い得るよ
う機器などを配置しない空きスペースとして確保されて
いるので、フォトンアブソーバを新たな設置空間を確保
せずに容易に配置することが可能となる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面を
参照しつつ説明する。

【００１８】図１及び図２は本発明を実施する形態の一
例を示すもので、図４と同一の符号を付した部分は同一
物を表わしている。

【００１９】図１に示す如く、本形態例においては、真
空チェンバ１４の継手用フランジ１５に、その外周面の
適宜位置から半径方向内側に延びて前記真空チェンバ１
４の内外を連通する貫通孔１８を穿設すると共に、筒形
のアブソーバ取付用ポート１６を自身の内部通路１７が
前記貫通孔１８と連続するように溶接により接合し、前
記アブソーバ取付用ポート１６に対し前記内部通路１７
及び貫通孔１８を通して前記真空チェンバ１４内に張り
出すようにフォトンアブソーバ１３を装着している。

【００２０】ここで、前記フォトンアブソーバ１３は、
図２に拡大して示す如く、先端閉塞の中空ロッド構造と
して形成したアブソーバ本体１９と、該アブソーバ本体
１９内に基端側から挿入されて先端付近で開口するよう
にした冷却媒体導入管２０と、該冷却媒体導入管２０を
気密に貫通せしめてアブソーバ本体１９の基端側を気密
に閉塞するプラグ２１と、アブソーバ本体１９の基端側
に接続された冷却媒体排出管２２とを備え、冷却媒体導
入管２０を通して冷却媒体２３をアブソーバ本体１９内
に導入し、その導入した冷却媒体２３をアブソーバ本体
１９の先端で基端側に折り返して冷却媒体導入管２０と
アブソーバ本体１９との間の隙間を流し、該アブソーバ
本体１９の基端側で冷却媒体排出管２２へと抜き出して
アブソーバ本体１９を常に冷却し得るように構成してあ
る。

【００２１】そして、斯かる構成としたフォトンアブソ
ーバ１３をアブソーバ本体１９に装着するに際しては、
アブソーバ本体１９の長手方向中間部に外嵌装着した取
付用フランジ２４を、アブソーバ取付用ポート１６頂部
の取付用フランジ２５と重ね合わせて気密にボルト締結
するようにしている。

【００２２】而して、このようにすれば、フォトンアブ
ソーバ１３が真空チェンバ１４の継手用フランジ１５に
配置されることになるが、この継手用フランジ１５周辺
は、真空チェンバ１４同士のボルト締結による連結作業
を支障なく行い得るよう機器などを配置しない空きスペ
ースとして確保されているので、フォトンアブソーバ１
３を新たな設置空間を確保せずに容易に配置することが
可能となる。

【００２３】従って、上記形態例によれば、真空チェン
バ１４を取り囲む機器が密集していている箇所でもフォ
トンアブソーバ１３を容易に配置することができ、しか
も、フォトンアブソーバ１３及びアブソーバ取付用ポー
ト１６の設置空間を新たに確保しなくて済むことによ
り、周辺機器を適正なレイアウトで制約なく配置するこ
とができる。

【００２４】尚、本発明のアブソーバ配置構造は、上述
の形態例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは
勿論である。

【００２５】

【発明の効果】上記した本発明のアブソーバ配置構造に
よれば、真空チェンバを取り囲む機器が密集していてい
る箇所でもフォトンアブソーバを容易に配置することが
でき、しかも、フォトンアブソーバ及びアブソーバ取付
用ポートの設置空間を新たに確保しなくて済むことによ
り、周辺機器を適正なレイアウトで制約なく配置するこ
とができるという優れた効果を奏し得る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を実施する形態の一例を示す断面図であ
る。

【図２】図１のフォトンアブソーバの詳細を示す断面図
である。

【図３】荷電粒子加速器の一例を示す平面図である。

【図４】従来例を示す断面図である。

【符号の説明】

１３ フォトンアブソーバ １４ 真空チェンバ １５ 継手用フランジ １６ アブソーバ取付用ポート １７ 内部通路 １８ 貫通孔

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空チェンバの継手用フランジに、その
   外周面の適宜位置から半径方向内側に延びて前記真空チ
   ェンバの内外を連通する貫通孔を穿設すると共に、筒形
   のアブソーバ取付用ポートを自身の内部通路が前記貫通
   孔と連続するように接合し、前記アブソーバ取付用ポー
   トに対し前記内部通路及び貫通孔を通して前記真空チェ
   ンバ内に張り出すようにフォトンアブソーバを装着した
   ことを特徴とするアブソーバ配置構造。