JP2000341005A - ハイパスフィルタおよび回路基板 - Google Patents
ハイパスフィルタおよび回路基板Info
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- JP2000341005A JP2000341005A JP11150974A JP15097499A JP2000341005A JP 2000341005 A JP2000341005 A JP 2000341005A JP 11150974 A JP11150974 A JP 11150974A JP 15097499 A JP15097499 A JP 15097499A JP 2000341005 A JP2000341005 A JP 2000341005A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】小型化でき、回路基板に一体的に内蔵可能なハ
イパスフィルタおよび回路基板を提供する。 【解決手段】誘電体層10a〜dを複数積層してなる積
層体と、該積層体内の異なる誘電体層10a〜d間に形
成された一対の第1ストリップライン22a、22b
と、誘電体層10a〜dを挟み対向する位置に設けられ
た一対の容量形成電極21a、21bとを具備したハイ
パスフィルタであって、異なる誘電体層10a〜d間に
それぞれ形成された第1ストリップライン22a、22
bを、誘電体層10a〜dの積層方向から見て、一部が
重なるように形成し、一対の第1ストリップライン22
a、22bの端部をビアホール導体33、34を介して
アース電極11、12にそれぞれ接続した。
イパスフィルタおよび回路基板を提供する。 【解決手段】誘電体層10a〜dを複数積層してなる積
層体と、該積層体内の異なる誘電体層10a〜d間に形
成された一対の第1ストリップライン22a、22b
と、誘電体層10a〜dを挟み対向する位置に設けられ
た一対の容量形成電極21a、21bとを具備したハイ
パスフィルタであって、異なる誘電体層10a〜d間に
それぞれ形成された第1ストリップライン22a、22
bを、誘電体層10a〜dの積層方向から見て、一部が
重なるように形成し、一対の第1ストリップライン22
a、22bの端部をビアホール導体33、34を介して
アース電極11、12にそれぞれ接続した。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハイパスフィルタ
および回路基板に関し、特にRFモジュール用回路基板
に内蔵され、携帯通信用電話機等の高周波回路無線部に
組み込まれるフィルタやデュプレクサ等に利用される高
周波用に適した積層型のハイパスフィルタおよび回路基
板に関する。
および回路基板に関し、特にRFモジュール用回路基板
に内蔵され、携帯通信用電話機等の高周波回路無線部に
組み込まれるフィルタやデュプレクサ等に利用される高
周波用に適した積層型のハイパスフィルタおよび回路基
板に関する。
【0002】
【従来技術】従来、種々の積層型高周波フィルタとし
て、ローパスフィルタやバンドパスフィルタが開発され
ているが、携帯電話に組み込まれるフィルタとしては増
幅器等のスプリアスを除去する目的からローパスフィル
タが用いられ、また、帯域外の信号を除去する目的から
バンドパスフィルタが主として用いられている。
て、ローパスフィルタやバンドパスフィルタが開発され
ているが、携帯電話に組み込まれるフィルタとしては増
幅器等のスプリアスを除去する目的からローパスフィル
タが用いられ、また、帯域外の信号を除去する目的から
バンドパスフィルタが主として用いられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年で
は携帯電話のデュアル化(例えば、900MHz帯と1
800MHz帯の両方を送受信可能)が促進され、これ
に伴い、受信側において、900MHz帯の信号を除去
するためのハイパスフィルタが必要になってきている。
は携帯電話のデュアル化(例えば、900MHz帯と1
800MHz帯の両方を送受信可能)が促進され、これ
に伴い、受信側において、900MHz帯の信号を除去
するためのハイパスフィルタが必要になってきている。
【0004】また、携帯電話の小型化に伴い、電子部品
の小型化の要求は強く、電子部品のモジュール化が進
み、ローパスフィルタ、バンドパスフィルタ、ハイパス
フィルタ等のフィルタや、インピーダンスマッチング用
のマッチング回路などの受動回路を、回路基板に内蔵す
ることが要求され、別付けタイプの従来のフィルタでは
対応することが困難になってきている。しかしながら、
これまで小型化、低背化を実現し、RFモジュール用回
路基板に一体的に内蔵可能なハイパスフィルタについて
は、ほとんど皆無であった。
の小型化の要求は強く、電子部品のモジュール化が進
み、ローパスフィルタ、バンドパスフィルタ、ハイパス
フィルタ等のフィルタや、インピーダンスマッチング用
のマッチング回路などの受動回路を、回路基板に内蔵す
ることが要求され、別付けタイプの従来のフィルタでは
対応することが困難になってきている。しかしながら、
これまで小型化、低背化を実現し、RFモジュール用回
路基板に一体的に内蔵可能なハイパスフィルタについて
は、ほとんど皆無であった。
【0005】また、携帯電話のデュアル化に伴い、単純
には受信用フィルタが2つ、送信用フィルタが2つ必要
になり、今後、トリプル化、多システム化が進むにつ
れ、フィルタの数は増加していく傾向にある。しかし、
携帯電話のサイズの大型化は許されず、更なる小型化、
つまり実装面積の低減が要求されている。
には受信用フィルタが2つ、送信用フィルタが2つ必要
になり、今後、トリプル化、多システム化が進むにつ
れ、フィルタの数は増加していく傾向にある。しかし、
携帯電話のサイズの大型化は許されず、更なる小型化、
つまり実装面積の低減が要求されている。
【0006】本発明は上記事情に鑑みて案出されたもの
であり、その目的は、小型化でき、回路基板に一体的に
内蔵可能なハイパスフィルタおよび回路基板を提供する
ことにある。
であり、その目的は、小型化でき、回路基板に一体的に
内蔵可能なハイパスフィルタおよび回路基板を提供する
ことにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明のハイパスフィル
タは、誘電体層を複数積層してなる積層体と、該積層体
内の異なる前記誘電体層間に形成された一対の第1スト
リップラインと、前記誘電体層を挟み対向する位置に設
けられた一対の容量形成電極とを具備したハイパスフィ
ルタであって、前記一対の第1ストリップラインを、前
記誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形成
し、前記一対の第1ストリップラインの端部をビアホー
ル導体を介してアース電極に接続したものである。
タは、誘電体層を複数積層してなる積層体と、該積層体
内の異なる前記誘電体層間に形成された一対の第1スト
リップラインと、前記誘電体層を挟み対向する位置に設
けられた一対の容量形成電極とを具備したハイパスフィ
ルタであって、前記一対の第1ストリップラインを、前
記誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形成
し、前記一対の第1ストリップラインの端部をビアホー
ル導体を介してアース電極に接続したものである。
【0008】ここで、第1ストリップラインと容量形成
電極とが同一誘電体層間に形成され、前記第1ストリッ
プラインと前記容量形成電極とが入出力ランドを介して
接続されており、前記第1ストリップライン、前記容量
形成電極および前記入出力ランドが、誘電体層の積層方
向に所定間隔をおいて形成された一対のアース電極間に
存在し、積層体表面に形成された表面電極と、前記入出
力ランドとが、前記アース電極の開口部を挿通するビア
ホール導体により接続されていることが望ましい。
電極とが同一誘電体層間に形成され、前記第1ストリッ
プラインと前記容量形成電極とが入出力ランドを介して
接続されており、前記第1ストリップライン、前記容量
形成電極および前記入出力ランドが、誘電体層の積層方
向に所定間隔をおいて形成された一対のアース電極間に
存在し、積層体表面に形成された表面電極と、前記入出
力ランドとが、前記アース電極の開口部を挿通するビア
ホール導体により接続されていることが望ましい。
【0009】また、一対の第1ストリップライン同士を
ビアホール導体で接続するとともに、一方の前記第1ス
トリップラインが、該一方の第1ストリップラインとア
ース電極との間の誘電体層間に形成された第2ストリッ
プラインの一端部と接続され、該第2ストリップライン
の他端部が前記アース電極に接続されていることが望ま
しい。
ビアホール導体で接続するとともに、一方の前記第1ス
トリップラインが、該一方の第1ストリップラインとア
ース電極との間の誘電体層間に形成された第2ストリッ
プラインの一端部と接続され、該第2ストリップライン
の他端部が前記アース電極に接続されていることが望ま
しい。
【0010】さらに、本発明の回路基板は、上記ハイパ
スフィルタを含む複数のフィルタを内蔵することを特徴
とする。
スフィルタを含む複数のフィルタを内蔵することを特徴
とする。
【0011】
【作用】本発明のハイパスフィルタでは、異なる誘電体
層間にそれぞれ形成された一対の第1ストリップライン
が、誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形
成したので、第1ストリップラインの専有面積が減少
し、ハイパスフィルタの幅を小さくすることができ、実
装面積を低減し、小型化が可能となる。
層間にそれぞれ形成された一対の第1ストリップライン
が、誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形
成したので、第1ストリップラインの専有面積が減少
し、ハイパスフィルタの幅を小さくすることができ、実
装面積を低減し、小型化が可能となる。
【0012】また、第1ストリップライン間の重畳部に
おいて容量が発生し、その補正のため、容量形成電極の
面積を減少させることができ、その結果、さらに小型
化、低幅化が可能となる。
おいて容量が発生し、その補正のため、容量形成電極の
面積を減少させることができ、その結果、さらに小型
化、低幅化が可能となる。
【0013】また、第1ストリップラインの重畳部にお
ける容量により小型化が促進されるため、一対の第1ス
トリップラインの誘電体層として高い比誘電率をもつ誘
電体層を用いることにより、容量形成電極の面積をさら
に減少させることができ、その結果、さらに小型化、低
幅化が可能となり、特に共振器を用いたバンドパスフィ
ルタが内蔵容易な小型の回路基板を得ることが可能とな
る。
ける容量により小型化が促進されるため、一対の第1ス
トリップラインの誘電体層として高い比誘電率をもつ誘
電体層を用いることにより、容量形成電極の面積をさら
に減少させることができ、その結果、さらに小型化、低
幅化が可能となり、特に共振器を用いたバンドパスフィ
ルタが内蔵容易な小型の回路基板を得ることが可能とな
る。
【0014】さらに、第1ストリップラインと容量形成
電極とを同一誘電体層間に形成し、第1ストリップライ
ンと容量形成電極とを入出力ランドを介して接続し、第
1ストリップライン、容量形成電極および入出力ランド
を、誘電体層の積層方向に所定間隔をおいて形成された
一対のアース電極間に存在せしめ、積層体表面に形成さ
れた表面電極と、入出力ランドとを、アース電極の開口
部を挿通するビアホール導体により接続することによ
り、第1ストリップラインと表面電極とを容易に接続す
ることが可能となる。
電極とを同一誘電体層間に形成し、第1ストリップライ
ンと容量形成電極とを入出力ランドを介して接続し、第
1ストリップライン、容量形成電極および入出力ランド
を、誘電体層の積層方向に所定間隔をおいて形成された
一対のアース電極間に存在せしめ、積層体表面に形成さ
れた表面電極と、入出力ランドとを、アース電極の開口
部を挿通するビアホール導体により接続することによ
り、第1ストリップラインと表面電極とを容易に接続す
ることが可能となる。
【0015】また、本発明のハイパスフィルタでは、一
対の第1ストリップライン同士をビアホール導体で接続
するとともに、一方の第1ストリップラインを、該一方
の第1ストリップラインとアース電極との間の誘電体層
間に形成された第2ストリップラインの一端部と接続
し、該第2ストリップラインの他端部をアース電極に接
続したので、第2ストリップラインの長さを長く、幅を
狭くすることにより、一対の第1ストリップラインに接
続されるビアホール導体の小径化を図った場合と同様
に、インダクタを大きくすることができ、ハイパスフィ
ルタの低周波側に存在する減衰極を高周波側に移動する
ことが可能となり、減衰極の制御を行うことが可能とな
る。
対の第1ストリップライン同士をビアホール導体で接続
するとともに、一方の第1ストリップラインを、該一方
の第1ストリップラインとアース電極との間の誘電体層
間に形成された第2ストリップラインの一端部と接続
し、該第2ストリップラインの他端部をアース電極に接
続したので、第2ストリップラインの長さを長く、幅を
狭くすることにより、一対の第1ストリップラインに接
続されるビアホール導体の小径化を図った場合と同様
に、インダクタを大きくすることができ、ハイパスフィ
ルタの低周波側に存在する減衰極を高周波側に移動する
ことが可能となり、減衰極の制御を行うことが可能とな
る。
【0016】
【発明の実施の形態】図1は本発明のハイパスフィルタ
を内蔵した回路基板の外観斜視図、図2は本発明のハイ
パスフィルタの電極パターンを示す透視斜視図、図3は
図2のストリップライン等を誘電体層の積層方向から見
た透視図、図4は本発明のハイパスフィルタの等価回路
図である。
を内蔵した回路基板の外観斜視図、図2は本発明のハイ
パスフィルタの電極パターンを示す透視斜視図、図3は
図2のストリップライン等を誘電体層の積層方向から見
た透視図、図4は本発明のハイパスフィルタの等価回路
図である。
【0017】図1において、符号1は絶縁基体であり、
誘電体でもある。絶縁基体1の表面には表面電極2が形
成されている。表面電極2にはコンデンサ、インダク
タ、ダイオード等の各種チップ品(図示せず)が実装さ
れる。また、表面電極2は、絶縁基体1に内蔵されたフ
ィルタ等の素子の入出力電極の役割も果たす。
誘電体でもある。絶縁基体1の表面には表面電極2が形
成されている。表面電極2にはコンデンサ、インダク
タ、ダイオード等の各種チップ品(図示せず)が実装さ
れる。また、表面電極2は、絶縁基体1に内蔵されたフ
ィルタ等の素子の入出力電極の役割も果たす。
【0018】絶縁基体1の側面には端面電極が形成さ
れ、例えば、端面アース電極3と端面入出力電極4の2
種類がある。端面アース電極3は絶縁基体1に内蔵もし
くは裏面に形成されたアース電極と接続されている。
れ、例えば、端面アース電極3と端面入出力電極4の2
種類がある。端面アース電極3は絶縁基体1に内蔵もし
くは裏面に形成されたアース電極と接続されている。
【0019】また、端面入出力電極4は絶縁基体1に内
蔵もしくは裏面に形成された入出力電極と接続されてお
り、アンテナ、送信、受信または電源等の入出力として
の役割を果たす。絶縁基体1内の破線部Fは内蔵された
ハイパスフィルタを表し、その電極パターンを図2に基
づいて説明する。
蔵もしくは裏面に形成された入出力電極と接続されてお
り、アンテナ、送信、受信または電源等の入出力として
の役割を果たす。絶縁基体1内の破線部Fは内蔵された
ハイパスフィルタを表し、その電極パターンを図2に基
づいて説明する。
【0020】絶縁基体1は、図2によれば、4層の誘電
体層10a〜10dから構成されており、誘電体層10
aの下面および誘電体層10cの上面にはアース電極1
1、12が形成され、回路基板のアース電極と共有され
ている。
体層10a〜10dから構成されており、誘電体層10
aの下面および誘電体層10cの上面にはアース電極1
1、12が形成され、回路基板のアース電極と共有され
ている。
【0021】誘電体層10aおよび10bの上面には容
量形成電極21a、21bが形成されており、これらの
容量形成電極21a、21bと、その間に挟まれた誘電
体層10bによって入出力間容量を形成している。
量形成電極21a、21bが形成されており、これらの
容量形成電極21a、21bと、その間に挟まれた誘電
体層10bによって入出力間容量を形成している。
【0022】また、誘電体層10aおよび10bの上面
には第1ストリップライン22a、22bが形成され、
これらの第1ストリップライン22a、22bにより必
要なインダクタが形成される。
には第1ストリップライン22a、22bが形成され、
これらの第1ストリップライン22a、22bにより必
要なインダクタが形成される。
【0023】このストリップライン22a、22bの一
端には、ランド23a、23bがそれぞれ形成されてお
り、他端には入出力ランド30a、30bがそれぞれ形
成されている。
端には、ランド23a、23bがそれぞれ形成されてお
り、他端には入出力ランド30a、30bがそれぞれ形
成されている。
【0024】これらの入出力ランド30a、30bは、
誘電体層10dの上面に形成された表面電極2と信号入
出力用ビアホール導体31、32によって接続されてい
る。尚、信号入出力用ビアホール導体31、32と誘電
体層10cの上面に形成されたアース電極12が接続し
ないように、アース電極12の信号入出力用ビアホール
導体31、32の位置は電極が抜かれた状態になってお
り、この開口部35をビアホール導体31、32が挿通
している。また、ランド23a、23bはビアホール導
体33、34により、アース電極11、12に接続され
ている。
誘電体層10dの上面に形成された表面電極2と信号入
出力用ビアホール導体31、32によって接続されてい
る。尚、信号入出力用ビアホール導体31、32と誘電
体層10cの上面に形成されたアース電極12が接続し
ないように、アース電極12の信号入出力用ビアホール
導体31、32の位置は電極が抜かれた状態になってお
り、この開口部35をビアホール導体31、32が挿通
している。また、ランド23a、23bはビアホール導
体33、34により、アース電極11、12に接続され
ている。
【0025】そして、本発明のハイパスフィルタでは、
図3に示すように、ストリップライン22a(破線にて
図示)、22b(実線にて図示)の一部が重なって形成
されている。図3において、符号41は入出力間容量を
形成するところ(つまり、容量形成電極21a、21b
が重なる部分)であり、符号42はストリップライン2
2a、22bが重なった部分を示す。
図3に示すように、ストリップライン22a(破線にて
図示)、22b(実線にて図示)の一部が重なって形成
されている。図3において、符号41は入出力間容量を
形成するところ(つまり、容量形成電極21a、21b
が重なる部分)であり、符号42はストリップライン2
2a、22bが重なった部分を示す。
【0026】このように、第1ストリップライン22
a、22bの一部が重なるように形成されるため、重な
らない場合と比較して、ラインの専有面積(幅)は減少
する。さらに、第1ストリップライン22a、22bの
重なり部42においてライン間容量が発生し、その補正
のために容量形成電極21a、21bの面積を減少させ
なければならない。結果として、小型化が可能となる。
a、22bの一部が重なるように形成されるため、重な
らない場合と比較して、ラインの専有面積(幅)は減少
する。さらに、第1ストリップライン22a、22bの
重なり部42においてライン間容量が発生し、その補正
のために容量形成電極21a、21bの面積を減少させ
なければならない。結果として、小型化が可能となる。
【0027】上記の構成からなる本発明のハイパスフィ
ルタによる等価回路を図4に示す。図中の符号51は入
出力間容量を表し、容量形成電極21a、21bによっ
て形成される容量を意味している。符号52、53はス
トリップライン(主にインダクタとして機能)を表し、
それぞれストリップライン22a、22bによって形成
されている。上記の入出力間容量51とストリップライ
ン52、53により、通過周波数帯域、減衰極位置を任
意に制御することができる。
ルタによる等価回路を図4に示す。図中の符号51は入
出力間容量を表し、容量形成電極21a、21bによっ
て形成される容量を意味している。符号52、53はス
トリップライン(主にインダクタとして機能)を表し、
それぞれストリップライン22a、22bによって形成
されている。上記の入出力間容量51とストリップライ
ン52、53により、通過周波数帯域、減衰極位置を任
意に制御することができる。
【0028】また、符号54はストリップライン52、
53間の容量を表し、ストリップライン22a、22b
の重なり部分42によって形成される容量を意味してい
る。このライン間容量54が増加するに従い、入出力間
容量51を小さくして、フィルタ特性の補正を行わなけ
ればならない。
53間の容量を表し、ストリップライン22a、22b
の重なり部分42によって形成される容量を意味してい
る。このライン間容量54が増加するに従い、入出力間
容量51を小さくして、フィルタ特性の補正を行わなけ
ればならない。
【0029】符号55はインダクタを表し、主にビアホ
ール導体33、34で形成されている。本発明のハイパ
スフィルタの低周波側に存在する減衰用の極は、符号5
5のインダクタを大きくするほど高周波側にシフトし、
逆に小さくするほど低周波側にシフトする。そのため、
ビアホール導体33、34の径を変化させることで、イ
ンダクタが変化し、極位置の制御を行うことができる。
ール導体33、34で形成されている。本発明のハイパ
スフィルタの低周波側に存在する減衰用の極は、符号5
5のインダクタを大きくするほど高周波側にシフトし、
逆に小さくするほど低周波側にシフトする。そのため、
ビアホール導体33、34の径を変化させることで、イ
ンダクタが変化し、極位置の制御を行うことができる。
【0030】尚、ビアホール導体33、34を大径化す
る代わりに、ビアホール導体33、34の数を増やすこ
とで対応しても良い。また、ビアホール導体33、34
を小径化する代わりに、ハイパスフィルタのパターン構
成を図5に示すように変更することで対応しても良い。
る代わりに、ビアホール導体33、34の数を増やすこ
とで対応しても良い。また、ビアホール導体33、34
を小径化する代わりに、ハイパスフィルタのパターン構
成を図5に示すように変更することで対応しても良い。
【0031】即ち、誘電体層10aを2層に分割し、そ
れぞれ誘電体層10a1、10a2とし、誘電体層10
a1の上面には第2ストリップライン65が形成され、
その一端にはランド67、他端にはランド69が接続さ
れる。ランド23aとランド23bをビアホール導体7
1により接続し、ランド23aとランド67をビアホー
ル導体73で、ランド69とアース電極11をビアホー
ル導体75で接続する。その結果、第2ストリップライ
ン65とビアホール導体73、75により、図4におけ
る符号55のインダクタを形成する。この場合、ストリ
ップライン65のライン長を長く、または、ライン幅を
狭くすることで、インダクタの増加を図ることができ
る。
れぞれ誘電体層10a1、10a2とし、誘電体層10
a1の上面には第2ストリップライン65が形成され、
その一端にはランド67、他端にはランド69が接続さ
れる。ランド23aとランド23bをビアホール導体7
1により接続し、ランド23aとランド67をビアホー
ル導体73で、ランド69とアース電極11をビアホー
ル導体75で接続する。その結果、第2ストリップライ
ン65とビアホール導体73、75により、図4におけ
る符号55のインダクタを形成する。この場合、ストリ
ップライン65のライン長を長く、または、ライン幅を
狭くすることで、インダクタの増加を図ることができ
る。
【0032】また、図4において、符号56、57は各
内層電極とアース電極11、12との間の浮遊容量であ
る。この等価回路図において、浮遊容量56、57の差
がハイパスフィルタの通過特性に影響を及ぼす。ハイパ
スフィルタ単体としては、浮遊容量56と57の差が小
さいほど良いと考えられる。しかし、本発明のハイパス
フィルタの場合、RFモジュール基板に内蔵されるの
で、表面電極2に各種チップ部品が実装された際に、最
適な特性が実現されねばならない。そのため、必ずしも
浮遊容量56と57の差が小さい場合が良いとは限らな
い。
内層電極とアース電極11、12との間の浮遊容量であ
る。この等価回路図において、浮遊容量56、57の差
がハイパスフィルタの通過特性に影響を及ぼす。ハイパ
スフィルタ単体としては、浮遊容量56と57の差が小
さいほど良いと考えられる。しかし、本発明のハイパス
フィルタの場合、RFモジュール基板に内蔵されるの
で、表面電極2に各種チップ部品が実装された際に、最
適な特性が実現されねばならない。そのため、必ずしも
浮遊容量56と57の差が小さい場合が良いとは限らな
い。
【0033】浮遊容量56と57を制御するためには、
図6〜図8に示すようなパターン構成にすることが望ま
しい。即ち、図6、図7は容量形成電極21aと21b
のサイズ、あるいは形状を変えることで、浮遊容量5
6、57を制御を行なっている。また、図8は誘電体層
10a1の上面に新たに容量形成電極81、83を形成
したもので、アース電極11との間に容量を形成するこ
とができ、容量形成電極81、83のサイズを変更する
ことで、浮遊容量56、57を制御することができる。
図6〜図8に示すようなパターン構成にすることが望ま
しい。即ち、図6、図7は容量形成電極21aと21b
のサイズ、あるいは形状を変えることで、浮遊容量5
6、57を制御を行なっている。また、図8は誘電体層
10a1の上面に新たに容量形成電極81、83を形成
したもので、アース電極11との間に容量を形成するこ
とができ、容量形成電極81、83のサイズを変更する
ことで、浮遊容量56、57を制御することができる。
【0034】本発明のハイパスフィルタは、例えば、複
数の未焼成のセラミックグリーンシートにビアホールを
形成し、そのビアホール中に導電性ペーストを充填し
て、ビアホール導体31〜34を形成する。上記ビアホ
ール導体を形成したグリーンシートの表面に、導電性ペ
ーストを容量形成電極21a、21bやストリップライ
ン22a、22bやアース電極11、12のパターン状
に塗布する。そして、導電性ペーストが塗布されたグリ
ーンシートを積層し、焼結一体化することによって作製
される。
数の未焼成のセラミックグリーンシートにビアホールを
形成し、そのビアホール中に導電性ペーストを充填し
て、ビアホール導体31〜34を形成する。上記ビアホ
ール導体を形成したグリーンシートの表面に、導電性ペ
ーストを容量形成電極21a、21bやストリップライ
ン22a、22bやアース電極11、12のパターン状
に塗布する。そして、導電性ペーストが塗布されたグリ
ーンシートを積層し、焼結一体化することによって作製
される。
【0035】なお、図2に示した構造において、誘電体
層10a〜10dはそれぞれ1枚のグリーンシートから
でも、複数のグリーンシートを積層して作製しても良
い。
層10a〜10dはそれぞれ1枚のグリーンシートから
でも、複数のグリーンシートを積層して作製しても良
い。
【0036】例えば、本発明のハイパスフィルタととも
に、絶縁基体1に内蔵される他のフィルタ(バンドパス
フィルタ、ローパスフィルタ)、あるいはマッチング回
路やスイッチ回路の一部であるライン等(図1におい
て、破線部以外のところに内蔵されているが、記載を省
略した)の層構成が、本発明のハイパスフィルタとは異
なる場合には、各誘電体層毎に複数のグリーンシートを
使用し、必要な層構成を得なければならない。
に、絶縁基体1に内蔵される他のフィルタ(バンドパス
フィルタ、ローパスフィルタ)、あるいはマッチング回
路やスイッチ回路の一部であるライン等(図1におい
て、破線部以外のところに内蔵されているが、記載を省
略した)の層構成が、本発明のハイパスフィルタとは異
なる場合には、各誘電体層毎に複数のグリーンシートを
使用し、必要な層構成を得なければならない。
【0037】本発明のハイパスフィルタにおいて、絶縁
基体1を構成する誘電体材料としては、内蔵されるスト
リップラインのインピーダンスが50Ω近くを実現で
き、小型で高性能な共振器を用いたバンドパスフィルタ
を内蔵可能であるために、比誘電率が20±5のもの
で、Q値が高く、τfが0に近いものが望ましい。
基体1を構成する誘電体材料としては、内蔵されるスト
リップラインのインピーダンスが50Ω近くを実現で
き、小型で高性能な共振器を用いたバンドパスフィルタ
を内蔵可能であるために、比誘電率が20±5のもの
で、Q値が高く、τfが0に近いものが望ましい。
【0038】例えば、aMgO・bCaO・cTiO2
(25≦a≦35、0.3≦b≦7、60≦c≦70、
a+b+c=100)100重量部に対して、ホウ素含
有化合物をB2 O3 換算で3〜20重量部、リチウム含
有化合物をLi2 O3 換算で1〜10重量部添加したも
のなどが好適である。
(25≦a≦35、0.3≦b≦7、60≦c≦70、
a+b+c=100)100重量部に対して、ホウ素含
有化合物をB2 O3 換算で3〜20重量部、リチウム含
有化合物をLi2 O3 換算で1〜10重量部添加したも
のなどが好適である。
【0039】また、ストリップライン、容量形成電極、
ビアホール導体等を形成する導体成分としては、内蔵さ
れるフィルタ、ラインの損失を悪化させないために、
銅、銀、金などの低抵抗の導体を用いて形成することが
望ましい。そのために、絶縁基体は900〜1000℃
程度で焼成可能な低温焼成材料を用い、前記低抵抗導体
と同時焼成によって形成できることが望ましい。
ビアホール導体等を形成する導体成分としては、内蔵さ
れるフィルタ、ラインの損失を悪化させないために、
銅、銀、金などの低抵抗の導体を用いて形成することが
望ましい。そのために、絶縁基体は900〜1000℃
程度で焼成可能な低温焼成材料を用い、前記低抵抗導体
と同時焼成によって形成できることが望ましい。
【0040】
【実施例】図2乃至4に示す本発明のハイパスフィルタ
を内蔵した回路基板を作製した。回路基板の大きさは7
mm×7mm×0.8mm、比誘電率20の誘電体材料
を用い、ストリップライン22a、22bの全長および
ライン幅を、それぞれ2.8mm、0.1mmとし、容
量形成電極21a、21bの大きさを0.7×0.8m
mとしたとき、ハイパスフィルタの占有面積は1.5m
m×1.8mm×1.8mmという非常に小さいサイズ
で形成でき、この時の1800MHz帯での挿入損失は
0.45dBであった。
を内蔵した回路基板を作製した。回路基板の大きさは7
mm×7mm×0.8mm、比誘電率20の誘電体材料
を用い、ストリップライン22a、22bの全長および
ライン幅を、それぞれ2.8mm、0.1mmとし、容
量形成電極21a、21bの大きさを0.7×0.8m
mとしたとき、ハイパスフィルタの占有面積は1.5m
m×1.8mm×1.8mmという非常に小さいサイズ
で形成でき、この時の1800MHz帯での挿入損失は
0.45dBであった。
【0041】
【発明の効果】本発明のハイパスフィルタは、異なる誘
電体層間にそれぞれ形成された第1ストリップライン
が、誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形
成したので、第1ストリップラインの専有面積が減少
し、幅を小さくすることができ、小型化できるととも
に、第1ストリップラインの交差部においてライン間の
容量が発生し、その補正のために容量形成電極の面積を
減少させるため、さらに、第1ストリップラインの専有
面積が減少し、幅を小さくすることができ、小型化が達
成できる。
電体層間にそれぞれ形成された第1ストリップライン
が、誘電体層の積層方向から見て一部が重なるように形
成したので、第1ストリップラインの専有面積が減少
し、幅を小さくすることができ、小型化できるととも
に、第1ストリップラインの交差部においてライン間の
容量が発生し、その補正のために容量形成電極の面積を
減少させるため、さらに、第1ストリップラインの専有
面積が減少し、幅を小さくすることができ、小型化が達
成できる。
【図1】本発明のハイパスフィルタを内蔵した回路基板
の外観斜視図である。
の外観斜視図である。
【図2】本発明のハイパスフィルタの電極パターンを示
す透視斜視図である。
す透視斜視図である。
【図3】本発明のハイパスフィルタの電極パターンを示
す透視図である。
す透視図である。
【図4】本発明のハイパスフィルタの等価回路図であ
る。
る。
【図5】本発明の他のハイパスフィルタの電極パターン
を示す透視斜視図である。
を示す透視斜視図である。
【図6】本発明の浮遊容量を制御する電極パターンを示
す透視図である。
す透視図である。
【図7】本発明の浮遊容量を制御する電極パターンを示
す透視図である。
す透視図である。
【図8】本発明の他のハイパスフィルタの電極パターン
を示す透視斜視図である。
を示す透視斜視図である。
2・・・表面電極 10a〜10d・・・誘電体層 11、12・・・アース電極 21a、21b、81、83・・・容量形成電極 22a、22b・・・第1ストリップライン 31〜34、71、73、75・・・ビアホール導体 30a、30b・・・入出力ランド 65・・・第2ストリップライン F・・・フィルタ
Claims (4)
- 【請求項1】誘電体層を複数積層してなる積層体と、該
積層体内の異なる前記誘電体層間に形成された一対の第
1ストリップラインと、前記誘電体層を挟み対向する位
置に設けられた一対の容量形成電極とを具備したハイパ
スフィルタであって、前記一対の第1ストリップライン
を、前記誘電体層の積層方向から見て一部が重なるよう
に形成し、前記一対の第1ストリップラインの端部をビ
アホール導体を介してアース電極に接続したことを特徴
とするハイパスフィルタ。 - 【請求項2】第1ストリップラインと容量形成電極とが
同一誘電体層間に形成され、前記第1ストリップライン
と前記容量形成電極とが入出力ランドを介して接続され
ており、前記第1ストリップライン、前記容量形成電極
および前記入出力ランドが、誘電体層の積層方向に所定
間隔をおいて形成された一対のアース電極間に存在し、
積層体表面に形成された表面電極と、前記入出力ランド
とが、前記アース電極の開口部を挿通するビアホール導
体により接続されていることを特徴とする請求項1記載
のハイパスフィルタ。 - 【請求項3】一対の第1ストリップライン同士をビアホ
ール導体で接続するとともに、一方の前記第1ストリッ
プラインが、該一方の第1ストリップラインとアース電
極との間の誘電体層間に形成された第2ストリップライ
ンの一端部と接続され、該第2ストリップラインの他端
部が前記アース電極に接続されていることを特徴とする
請求項1または2記載のハイパスフィルタ。 - 【請求項4】請求項1乃至3のうち何れかに記載のハイ
パスフィルタを含む複数のフィルタを内蔵することを特
徴とする回路基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11150974A JP2000341005A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ハイパスフィルタおよび回路基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11150974A JP2000341005A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ハイパスフィルタおよび回路基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000341005A true JP2000341005A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15508526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11150974A Pending JP2000341005A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | ハイパスフィルタおよび回路基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000341005A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066980A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Soshin Electric Co Ltd | 受動部品 |
| JP2011071921A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層帯域通過フィルタ |
| KR101114091B1 (ko) * | 2008-07-07 | 2012-02-21 | 전남대학교산학협력단 | 적층 여파기 |
| JP2017184112A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社村田製作所 | ハイパスフィルタ |
| JP2020058044A (ja) * | 2019-11-28 | 2020-04-09 | 株式会社村田製作所 | ハイパスフィルタ |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP11150974A patent/JP2000341005A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006066980A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-09 | Soshin Electric Co Ltd | 受動部品 |
| KR101114091B1 (ko) * | 2008-07-07 | 2012-02-21 | 전남대학교산학협력단 | 적층 여파기 |
| JP2011071921A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Murata Mfg Co Ltd | 積層帯域通過フィルタ |
| JP2017184112A (ja) * | 2016-03-31 | 2017-10-05 | 株式会社村田製作所 | ハイパスフィルタ |
| JP2020058044A (ja) * | 2019-11-28 | 2020-04-09 | 株式会社村田製作所 | ハイパスフィルタ |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040818 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040824 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041025 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050419 |