JP2000354734A - フッ素含有化合物ガスの処理方法 - Google Patents
フッ素含有化合物ガスの処理方法Info
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 除害処理困難なフッ素含有化合物ガスを除害
処理する。 【解決手段】 フッ素含有化合物ガスを含む排ガスと処
理剤とを接触させて当該排ガスからフッ素含有化合物ガ
スを除去する排ガスの処理方法において、前段で処理剤
として触媒を含有した固体金属を用い、酸化物ガスを導
入して、金属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその
金属ハロゲン化物ガスを処理する。
処理する。 【解決手段】 フッ素含有化合物ガスを含む排ガスと処
理剤とを接触させて当該排ガスからフッ素含有化合物ガ
スを除去する排ガスの処理方法において、前段で処理剤
として触媒を含有した固体金属を用い、酸化物ガスを導
入して、金属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその
金属ハロゲン化物ガスを処理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩのドライエ
ッチング剤あるいはフッ素化剤として注目されているフ
ッ素含有化合物ガスの除害処理方法に関するものであ
る。
ッチング剤あるいはフッ素化剤として注目されているフ
ッ素含有化合物ガスの除害処理方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする問題点】近
年、ＬＳＩのドライエッチング剤あるいはフッ素化剤と
して注目されているフッ素含有化合物ガスは、その需要
も年々増加している。これらフッ素含有化合物ガスを使
用する場合には、その残ガス等の排気の際にその除害が
常に必要となる。特に、クロロフルオロカーボン、パー
フルオロカーボン、パーフルオロコンパウンズ等のフッ
素含有化合物ガスの中には、オゾン破壊係数（ＯＤＰ）
や地球温暖化係数（ＧＷＰ）の高いものが数多く存在
し、近年国際的に大きな問題となっている。このためＯ
ＤＰやＧＷＰの低い代替ガスも開発されてきているが、
これらの中には可燃性または毒性のあるガスも多く含ま
れている。特に毒性については、空気中にその濃度が数
ｐｐｍあった場合においても強いものが見いだされつつ
ある。
年、ＬＳＩのドライエッチング剤あるいはフッ素化剤と
して注目されているフッ素含有化合物ガスは、その需要
も年々増加している。これらフッ素含有化合物ガスを使
用する場合には、その残ガス等の排気の際にその除害が
常に必要となる。特に、クロロフルオロカーボン、パー
フルオロカーボン、パーフルオロコンパウンズ等のフッ
素含有化合物ガスの中には、オゾン破壊係数（ＯＤＰ）
や地球温暖化係数（ＧＷＰ）の高いものが数多く存在
し、近年国際的に大きな問題となっている。このためＯ
ＤＰやＧＷＰの低い代替ガスも開発されてきているが、
これらの中には可燃性または毒性のあるガスも多く含ま
れている。特に毒性については、空気中にその濃度が数
ｐｐｍあった場合においても強いものが見いだされつつ
ある。
【０００３】これらフッ素含有化合物ガスの中には、大
気中で極めて安定なものが多く、水にもわずかしか溶解
しないものが多いため、アルカリ薬剤を用いた除害装置
や湿式スクラバーといった従来の除害技術では処理がで
きない。また、燃焼ガスや熱を利用した分解による除害
技術においては、フッ素含有化合物ガスが分解するもの
の未分解成分が残留したり、さらに除害困難なフッ素含
有化合物ガスや有害な窒素酸化物が生成したりする。
気中で極めて安定なものが多く、水にもわずかしか溶解
しないものが多いため、アルカリ薬剤を用いた除害装置
や湿式スクラバーといった従来の除害技術では処理がで
きない。また、燃焼ガスや熱を利用した分解による除害
技術においては、フッ素含有化合物ガスが分解するもの
の未分解成分が残留したり、さらに除害困難なフッ素含
有化合物ガスや有害な窒素酸化物が生成したりする。
【０００４】本出願人は、ＮＦ3の処理方法として、Ｓ
ｉを始めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化
合物とＮＦ3を２００℃〜８００℃で反応させ、得られ
るフッ化物ガスを補集する方法を提案した（特公昭６３
−４８５７０号公報）。しかしながらこの反応処理方法
は、ＮＦ3以外の多くのフッ素含有化合物ガスにおいて
は、必要な処理速度を得ようとするためには反応温度を
高くしなければならず処理に余分の熱エネルギーを要
し、反応器に要求される材質も高級品質なものになると
いう問題があった。また、フッ素含有化合物ガスをアル
ミナ（Ａｌ2Ｏ3）の存在下で分子状の酸素や水蒸気を接
触させて分解処理をすること（例えば、特開平１０−１
９２６５３号公報、特開平１０−２８６４３４号公報な
ど）が、開示されているが完全ではない。
ｉを始めとする各種金属、およびこれらの非酸化物系化
合物とＮＦ3を２００℃〜８００℃で反応させ、得られ
るフッ化物ガスを補集する方法を提案した（特公昭６３
−４８５７０号公報）。しかしながらこの反応処理方法
は、ＮＦ3以外の多くのフッ素含有化合物ガスにおいて
は、必要な処理速度を得ようとするためには反応温度を
高くしなければならず処理に余分の熱エネルギーを要
し、反応器に要求される材質も高級品質なものになると
いう問題があった。また、フッ素含有化合物ガスをアル
ミナ（Ａｌ2Ｏ3）の存在下で分子状の酸素や水蒸気を接
触させて分解処理をすること（例えば、特開平１０−１
９２６５３号公報、特開平１０−２８６４３４号公報な
ど）が、開示されているが完全ではない。
【０００５】本発明は、この様な点に着目してなされた
もので、処理速度の低下がないフッ素含有化合物ガスの
除害方法を提供することを目的とする。
もので、処理速度の低下がないフッ素含有化合物ガスの
除害方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【問題点を解決するための具体的手段】本発明者らは、
かかる問題点に鑑み鋭意検討の結果、常温では反応性の
低く除害処理が困難なフッ素含有化合物ガスを、触媒を
含有した固体金属等を用い、酸化物ガスを導入して、金
属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロゲ
ン化物ガスを処理することで、容易にフッ素含有化合物
ガスを除害処理できることを見いだし、本発明に到達し
たものである。
かかる問題点に鑑み鋭意検討の結果、常温では反応性の
低く除害処理が困難なフッ素含有化合物ガスを、触媒を
含有した固体金属等を用い、酸化物ガスを導入して、金
属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロゲ
ン化物ガスを処理することで、容易にフッ素含有化合物
ガスを除害処理できることを見いだし、本発明に到達し
たものである。
【０００７】すなわち本発明は、フッ素含有化合物ガス
を含む排ガスと処理剤とを接触させて当該排ガスからフ
ッ素含有化合物ガスを除去する排ガスの処理方法におい
て、前段で処理剤として触媒を含有したＳｉ，Ｂ，Ｗ，
Ｍｏ，Ｖ，またはＧｅを用い、酸化物ガスを導入して、
金属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロ
ゲン化物ガスを処理することを特徴とするフッ素含有化
合物ガスの処理方法を提供するものである。
を含む排ガスと処理剤とを接触させて当該排ガスからフ
ッ素含有化合物ガスを除去する排ガスの処理方法におい
て、前段で処理剤として触媒を含有したＳｉ，Ｂ，Ｗ，
Ｍｏ，Ｖ，またはＧｅを用い、酸化物ガスを導入して、
金属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロ
ゲン化物ガスを処理することを特徴とするフッ素含有化
合物ガスの処理方法を提供するものである。
【０００８】以下、本発明の内容を詳細に述べる。
【０００９】本発明において、除害処理を対象とするフ
ッ素含有化合物ガスとは、クロロフルオロカーボン、パ
ーフルオロカーボン、ハイドロフロロカーボン、ハイド
ロクロロフルオロカーボン、パーフルオロコンパウンズ
等であり、特に、Ｃ5Ｆ8，Ｃ 4Ｆ8，Ｃ2Ｆ6，ＣＦ4，Ｃ3
Ｆ8，ＣＨ2Ｆ2，ＣＨＦ3，ＣＣｌ3Ｆ，ＣＣｌ2Ｆ2，Ｃ
ＣｌＦ3，ＣＣｌ4，ＣＨＣｌＦ2，ＣＨ3Ｃｌ，ＣＨ3Ｂ
ｒ，ＣＨＣｌ3，ＣＢｒ 2Ｆ2，ＣＢｒＦ3，ＣＨ2Ｂｒ2，
ＣＨ2ＢｒＣｌ，ＣＢｒ3Ｆ，ＣＨＢｒ2Ｆ，ＣＨＢｒ
Ｆ2，ＣＢｒＣｌＦ2，Ｃ2Ｈ3Ｃｌ，Ｃ2ＢｒＦ5，Ｃ2Ｃ
ｌＦ5，Ｃ2Ｃｌ2Ｆ4，Ｃ2Ｃｌ3Ｆ3，Ｃ2ＢｒＦ4，Ｃ2Ｂ
ｒ2Ｆ4，Ｃ2Ｈ2Ｂｒ2Ｆ4，Ｃ2Ｂｒ2ＣｌＦ3，ＳＦ6であ
る。
ッ素含有化合物ガスとは、クロロフルオロカーボン、パ
ーフルオロカーボン、ハイドロフロロカーボン、ハイド
ロクロロフルオロカーボン、パーフルオロコンパウンズ
等であり、特に、Ｃ5Ｆ8，Ｃ 4Ｆ8，Ｃ2Ｆ6，ＣＦ4，Ｃ3
Ｆ8，ＣＨ2Ｆ2，ＣＨＦ3，ＣＣｌ3Ｆ，ＣＣｌ2Ｆ2，Ｃ
ＣｌＦ3，ＣＣｌ4，ＣＨＣｌＦ2，ＣＨ3Ｃｌ，ＣＨ3Ｂ
ｒ，ＣＨＣｌ3，ＣＢｒ 2Ｆ2，ＣＢｒＦ3，ＣＨ2Ｂｒ2，
ＣＨ2ＢｒＣｌ，ＣＢｒ3Ｆ，ＣＨＢｒ2Ｆ，ＣＨＢｒ
Ｆ2，ＣＢｒＣｌＦ2，Ｃ2Ｈ3Ｃｌ，Ｃ2ＢｒＦ5，Ｃ2Ｃ
ｌＦ5，Ｃ2Ｃｌ2Ｆ4，Ｃ2Ｃｌ3Ｆ3，Ｃ2ＢｒＦ4，Ｃ2Ｂ
ｒ2Ｆ4，Ｃ2Ｈ2Ｂｒ2Ｆ4，Ｃ2Ｂｒ2ＣｌＦ3，ＳＦ6であ
る。
【００１０】本発明に用いる固体金属等は、Ｓｉ，Ｂ，
Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，またはＧｅであり、これらの固体金属等
により、例えばＳｉＦ4，ＳｉＣｌ4，ＢＦ3，ＢＣｌ3，
ＷＦ 6，ＭｏＦ6，ＶＦ5，ＧｅＦ4等の金属ハロゲン化物
ガスを生成させる。
Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，またはＧｅであり、これらの固体金属等
により、例えばＳｉＦ4，ＳｉＣｌ4，ＢＦ3，ＢＣｌ3，
ＷＦ 6，ＭｏＦ6，ＶＦ5，ＧｅＦ4等の金属ハロゲン化物
ガスを生成させる。
【００１１】また、固体金属等に含有させる触媒は、Ｆ
ｅ、Ｎｉ、Ａｌ、またはこれらの酸化物またはフッ化物
である。例えば、酸化物またはフッ化物として、Ｆｅ2
Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＦ3、ＮｉＦ2、ＡｌＦ3等が挙げら
れる。これら触媒は、単独で含有させることもできる
し、２種以上の混合物として含有させることもできる。
また、触媒の量は、固体金属等に対して、１〜５０重量
％の範囲が好ましい。１重量％未満だと触媒の効果が小
さく好ましくなく、５０重量％を超えると固体金属等と
ガスとの接触が少なく金属ハロゲン化ガスを生成できな
いため好ましくない。
ｅ、Ｎｉ、Ａｌ、またはこれらの酸化物またはフッ化物
である。例えば、酸化物またはフッ化物として、Ｆｅ2
Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＦ3、ＮｉＦ2、ＡｌＦ3等が挙げら
れる。これら触媒は、単独で含有させることもできる
し、２種以上の混合物として含有させることもできる。
また、触媒の量は、固体金属等に対して、１〜５０重量
％の範囲が好ましい。１重量％未満だと触媒の効果が小
さく好ましくなく、５０重量％を超えると固体金属等と
ガスとの接触が少なく金属ハロゲン化ガスを生成できな
いため好ましくない。
【００１２】次に、本発明で用いる酸化物ガスは、
Ｏ2、Ｏ3、Ｎ2Ｏ等である。これらの酸化物ガスを導入
し、上記フッ素含有化合物ガスと処理剤と反応すること
により金属ハロゲン化物ガスおよび炭酸ガス、硫黄酸化
物等に変換できる。これらの反応生成物を後段で処理す
る。また、酸化物ガスとして、空気（大気）を使用して
も良い。酸化物ガスの濃度は、炭素原子１に対して、酸
素原子２〜５０の範囲が好ましく、さらには酸素原子４
〜５０の範囲がより好ましい。炭素原子１に対して、酸
素原子２未満だと炭素が固体金属表面に析出してしま
い、長時間安定した反応が進行せず好ましくなく、酸素
原子５０を超えると流量の増加による余分な加熱を伴う
ため好ましくない。
Ｏ2、Ｏ3、Ｎ2Ｏ等である。これらの酸化物ガスを導入
し、上記フッ素含有化合物ガスと処理剤と反応すること
により金属ハロゲン化物ガスおよび炭酸ガス、硫黄酸化
物等に変換できる。これらの反応生成物を後段で処理す
る。また、酸化物ガスとして、空気（大気）を使用して
も良い。酸化物ガスの濃度は、炭素原子１に対して、酸
素原子２〜５０の範囲が好ましく、さらには酸素原子４
〜５０の範囲がより好ましい。炭素原子１に対して、酸
素原子２未満だと炭素が固体金属表面に析出してしま
い、長時間安定した反応が進行せず好ましくなく、酸素
原子５０を超えると流量の増加による余分な加熱を伴う
ため好ましくない。
【００１３】また、処理剤の加熱温度は、１００〜１０
００℃の範囲が好ましい。１００℃未満だと反応速度が
低く十分な反応効率が得られず、１０００℃を超えると
固体金属または含有する触媒が軟化し、もしくは溶融
し、ガスとの接触が充分なされなくなるため好ましくな
い。
００℃の範囲が好ましい。１００℃未満だと反応速度が
低く十分な反応効率が得られず、１０００℃を超えると
固体金属または含有する触媒が軟化し、もしくは溶融
し、ガスとの接触が充分なされなくなるため好ましくな
い。
【００１４】最後に、生成された金属ハロゲン化物ガス
は、後段で酸化カルシウム等のアルカリ薬剤を用いた除
害装置や湿式スクラバー等の従来の除害技術で処理す
る。
は、後段で酸化カルシウム等のアルカリ薬剤を用いた除
害装置や湿式スクラバー等の従来の除害技術で処理す
る。
【００１５】
【実施例】以下、実施例により具体的に説明するが、か
かる実施例に限定されるものではない。
かる実施例に限定されるものではない。
【００１６】実施例１〜１４ 図１に本発明方法によるフッ素含有化合物ガスの処理確
認のための実験フローの概略図を示す。処理対象となる
排ガスをを含んだサンプルガス１を触媒を含有した固体
金属を充填した充填筒２に導入し接触させる。また、酸
化物ガス３を、サンプルガス１と同時に導入した。触媒
を含有した固体金属充填筒２は、加熱ヒータ４により加
熱し、充填筒２内部の固体金属を加熱する。触媒を含有
した固体金属充填筒出口には、切替弁ａ５があり、出口
ガスを後段のアルカリ薬剤充填筒６、または湿式スクラ
バー７に切り替えて処理する。これらでは、前段で生成
した金属ハロゲン化ガスを処理することが可能となる。
さらにそれらの下流は、前段のみを通過したガスと後段
を通過したガスとを切り替えるため切替弁ｂ８があり、
それぞれのガスをフーリエ変換式赤外線吸光分析装置
（ＦＴ−ＩＲ）９および／またはガスクロマトグラフ１
０を接続し、処理状態を確認できる。
認のための実験フローの概略図を示す。処理対象となる
排ガスをを含んだサンプルガス１を触媒を含有した固体
金属を充填した充填筒２に導入し接触させる。また、酸
化物ガス３を、サンプルガス１と同時に導入した。触媒
を含有した固体金属充填筒２は、加熱ヒータ４により加
熱し、充填筒２内部の固体金属を加熱する。触媒を含有
した固体金属充填筒出口には、切替弁ａ５があり、出口
ガスを後段のアルカリ薬剤充填筒６、または湿式スクラ
バー７に切り替えて処理する。これらでは、前段で生成
した金属ハロゲン化ガスを処理することが可能となる。
さらにそれらの下流は、前段のみを通過したガスと後段
を通過したガスとを切り替えるため切替弁ｂ８があり、
それぞれのガスをフーリエ変換式赤外線吸光分析装置
（ＦＴ−ＩＲ）９および／またはガスクロマトグラフ１
０を接続し、処理状態を確認できる。
【００１７】実施例１においては、処理対象ガスとして
Ｃ5Ｆ8＝１０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、処理
剤として触媒のＦｅＦ3を１０重量％を含有した固体金
属のＳｉを用いた。この充填筒加熱温度は６００℃とし
た。この処理対象ガスを毎分５００ｃｍ3程度導入し接
触させた。酸化物ガスとして酸素を用い、処理対象ガス
と同時に毎分５０ｃｍ3を導入した。反応で生成した金
属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤充填装置（アルカリ薬
剤は、酸化カルシウムを使用）で処理した後、フーリエ
変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで
確認した結果、いずれの分析方法においても、Ｃ5Ｆ8の
検出下限の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されている
ことが確認できた。また、反応で生成した金属ハロゲン
化ガスを湿式スクラバーで処理した後においても、同様
に良好に処理されていることが確認できた。前段での反
応生成物をフーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガ
スクロマトグラフで定量分析した結果、式（１）で示さ
れるような化学反応式により、金属フッ化物であるＳｉ
Ｆ4が生成したと考えられる。 Ｃ5Ｆ8 ＋２Ｓｉ＋５Ｏ2 →２ＳｉＦ4 ＋５ＣＯ2 ・・・（１） 実施例１と同様な方法で、処理対象ガスとして、Ｃ5Ｆ8
＝１０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、触媒にＮｉ
Ｆ2、ＡｌＦ3、Ｆｅ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ
の単一物質またはＦｅＦ3とＮｉＦ2の混合物を用い、固
体金属にＳｉ、Ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、またはＧｅを用い
た。触媒の濃度はいずれも１０重量％とした。この充填
筒の加熱温度は、５００〜７００℃とした。反応で生成
したフッ化金属ガスをアルカリ薬剤充填装置および湿式
スクラバーで処理した後、フーリエ変換式赤外線吸光分
析装置およびガスクロマトグラフで確認した結果、いず
れの分析方法においても、Ｃ5Ｆ8の検出下限の５ｐｐｍ
以下であり、良好に処理されていることが確認できた。
これらの条件及び結果を表１に示した。また、酸化物ガ
スをＯ3、Ｎ2Ｏに代えても良好に処理されていることが
確認できた。
Ｃ5Ｆ8＝１０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、処理
剤として触媒のＦｅＦ3を１０重量％を含有した固体金
属のＳｉを用いた。この充填筒加熱温度は６００℃とし
た。この処理対象ガスを毎分５００ｃｍ3程度導入し接
触させた。酸化物ガスとして酸素を用い、処理対象ガス
と同時に毎分５０ｃｍ3を導入した。反応で生成した金
属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤充填装置（アルカリ薬
剤は、酸化カルシウムを使用）で処理した後、フーリエ
変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで
確認した結果、いずれの分析方法においても、Ｃ5Ｆ8の
検出下限の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されている
ことが確認できた。また、反応で生成した金属ハロゲン
化ガスを湿式スクラバーで処理した後においても、同様
に良好に処理されていることが確認できた。前段での反
応生成物をフーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガ
スクロマトグラフで定量分析した結果、式（１）で示さ
れるような化学反応式により、金属フッ化物であるＳｉ
Ｆ4が生成したと考えられる。 Ｃ5Ｆ8 ＋２Ｓｉ＋５Ｏ2 →２ＳｉＦ4 ＋５ＣＯ2 ・・・（１） 実施例１と同様な方法で、処理対象ガスとして、Ｃ5Ｆ8
＝１０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、触媒にＮｉ
Ｆ2、ＡｌＦ3、Ｆｅ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ
の単一物質またはＦｅＦ3とＮｉＦ2の混合物を用い、固
体金属にＳｉ、Ｂ、Ｗ、Ｍｏ、Ｖ、またはＧｅを用い
た。触媒の濃度はいずれも１０重量％とした。この充填
筒の加熱温度は、５００〜７００℃とした。反応で生成
したフッ化金属ガスをアルカリ薬剤充填装置および湿式
スクラバーで処理した後、フーリエ変換式赤外線吸光分
析装置およびガスクロマトグラフで確認した結果、いず
れの分析方法においても、Ｃ5Ｆ8の検出下限の５ｐｐｍ
以下であり、良好に処理されていることが確認できた。
これらの条件及び結果を表１に示した。また、酸化物ガ
スをＯ3、Ｎ2Ｏに代えても良好に処理されていることが
確認できた。
【００１８】
【表１】
【００１９】実施例１５〜４６ 実施例１５においては、処理対象ガスとしてＣ4Ｆ8＝１
０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、触媒としてＦｅ
Ｆ3を１０重量％含有した固体金属であるＳｉを用い
た。充填筒加熱温度は８００℃とした。酸化物ガスとし
て酸素を用いた。反応で生成した金属ハロゲン化ガスを
アルカリ薬剤充填装置および湿式スクラバーで処理した
後、フーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロ
マトグラフで確認した結果、いずれの分析方法において
も、検出下限の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されて
いることが確認できた。
０００ｐｐｍの窒素ベースガスを用い、触媒としてＦｅ
Ｆ3を１０重量％含有した固体金属であるＳｉを用い
た。充填筒加熱温度は８００℃とした。酸化物ガスとし
て酸素を用いた。反応で生成した金属ハロゲン化ガスを
アルカリ薬剤充填装置および湿式スクラバーで処理した
後、フーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロ
マトグラフで確認した結果、いずれの分析方法において
も、検出下限の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されて
いることが確認できた。
【００２０】また、実施例１５と同様な方法で、検出対
象ガスを種々代えて、表２に示した加熱条件で実施し
た。反応で生成した金属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤
充填装置および湿式スクラバーで処理した後、フーリエ
変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで
確認した結果、いずれの分析方法においても、検出下限
の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されていることが確
認できた。これらの条件及び結果を表２に示した。ま
た、酸化物ガスをＯ3、Ｎ2Ｏに代えても良好に処理され
ていることが確認できた。
象ガスを種々代えて、表２に示した加熱条件で実施し
た。反応で生成した金属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤
充填装置および湿式スクラバーで処理した後、フーリエ
変換式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで
確認した結果、いずれの分析方法においても、検出下限
の５ｐｐｍ以下であり、良好に処理されていることが確
認できた。これらの条件及び結果を表２に示した。ま
た、酸化物ガスをＯ3、Ｎ2Ｏに代えても良好に処理され
ていることが確認できた。
【００２１】
【表２】
【００２２】比較例１ 処理対象ガスとしてＣ5Ｆ8＝１０００ｐｐｍの窒素ベー
スガスを用い、触媒を含有しない固体金属であるＳｉを
用いた。充填筒加熱温度は７００℃とした。酸化物ガス
として酸素を用いた。反応で生成した金属ハロゲン化ガ
スをアルカリ薬剤充填装置および湿式スクラバーで処理
した後、フーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガス
クロマトグラフで確認した結果、いずれの分析方法にお
いても、Ｃ5Ｆ8＝５００ｐｐｍ程度検出され、処理が不
十分であった。
スガスを用い、触媒を含有しない固体金属であるＳｉを
用いた。充填筒加熱温度は７００℃とした。酸化物ガス
として酸素を用いた。反応で生成した金属ハロゲン化ガ
スをアルカリ薬剤充填装置および湿式スクラバーで処理
した後、フーリエ変換式赤外線吸光分析装置およびガス
クロマトグラフで確認した結果、いずれの分析方法にお
いても、Ｃ5Ｆ8＝５００ｐｐｍ程度検出され、処理が不
十分であった。
【００２３】比較例２ 処理対象ガスとしてＣ5Ｆ8＝１０００ｐｐｍの窒素ベー
スガスを用い、触媒としてＦｅＦ3を１０重量％含有し
た固体金属であるＳｉを用いた。充填筒加熱温度は６０
０℃とした。酸化物ガスは供給せずに処理を実施した。
反応で生成した金属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤充填
装置および湿式スクラバーで処理した後、フーリエ変換
式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで確認
した結果、いずれの分析方法においても、処理開始初期
はＣ5Ｆ8の検出下限の５ｐｐｍ以下であったが、３０分
後においてＣ5Ｆ8＝２００ｐｐｍ程度が検出され、処理
が不十分になっていった。
スガスを用い、触媒としてＦｅＦ3を１０重量％含有し
た固体金属であるＳｉを用いた。充填筒加熱温度は６０
０℃とした。酸化物ガスは供給せずに処理を実施した。
反応で生成した金属ハロゲン化ガスをアルカリ薬剤充填
装置および湿式スクラバーで処理した後、フーリエ変換
式赤外線吸光分析装置およびガスクロマトグラフで確認
した結果、いずれの分析方法においても、処理開始初期
はＣ5Ｆ8の検出下限の５ｐｐｍ以下であったが、３０分
後においてＣ5Ｆ8＝２００ｐｐｍ程度が検出され、処理
が不十分になっていった。
【００２４】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明の方法によ
ればフッ素含有化合物ガスを含む排ガスと処理剤とを接
触させて当該排ガスからフッ素含有化合物ガスを除去す
る排ガスの処理方法において、前段で処理剤として触媒
を含有した固体金属を用い、酸化物ガスを導入して、金
属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロゲ
ン化物ガスを処理することにより、フッ素含有化合物ガ
スを処理することができる。
ればフッ素含有化合物ガスを含む排ガスと処理剤とを接
触させて当該排ガスからフッ素含有化合物ガスを除去す
る排ガスの処理方法において、前段で処理剤として触媒
を含有した固体金属を用い、酸化物ガスを導入して、金
属ハロゲン化物ガスを生成させ、後段でその金属ハロゲ
ン化物ガスを処理することにより、フッ素含有化合物ガ
スを処理することができる。
【図１】フッ素含有化合物ガス除害処理の実験フローの
概略図である。
概略図である。
１・・・サンプルガス（フッ素含有化合物＋窒素） ２・・・触媒を含有した固体金属の充填筒 ３・・・酸化物ガス ４・・・充填筒加熱ヒータ ５・・・切り替え弁ａ ６・・・アルカリ薬剤充填装置 ７・・・湿式スクラバー ８・・・切り替え弁ｂ ９・・・フーリエ変換式赤外線吸光分析計 １０・・・ガスクロマトグラフ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 23/755 Ｂ０１Ｊ 23/74 ３０１Ｍ 27/125 ３２１Ｍ (72)発明者 市丸 広志 山口県宇部市大字沖宇部5272番地 セント ラルエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 中野 久治 山口県宇部市大字沖宇部5272番地 セント ラルエンジニアリング株式会社内 (72)発明者 田井中 正弘 山口県宇部市大字沖宇部5272番地 セント ラルエンジニアリング株式会社内 Ｆターム(参考） 4D002 AA22 BA02 BA03 BA12 CA07 DA05 DA11 DA17 DA21 DA22 DA46 DA51 DA70 GA02 GB01 GB02 GB03 GB08 GB11 4D048 AA11 AB01 AC03 AC06 AC07 BA03X BA04X BA06X BA20X BA23X BA26X BA27X BA36X BA38X BA39X BA41X BA43X CA01 CC52 CD01 CD03 CD08 DA03 DA13 4G069 AA02 BA01A BA01B BB01A BB01B BB02A BB04A BB04B BB06A BB08A BB08B BC16A BC16B BC23A BC23B BC54A BC59A BC59B BC60A BC60B BC66A BC66B BC68A BC68B BD03A BD03B BD05A BD05B BD15A BD15B CA02 CA07 CA19 DA05
Claims (4)
- 【請求項１】 フッ素含有化合物ガスを含む排ガスと処
理剤とを接触させて当該排ガスからフッ素含有化合物ガ
スを除去する排ガスの処理方法において、前段で処理剤
として触媒を含有したＳｉ，Ｂ，Ｗ，Ｍｏ，Ｖ，または
Ｇｅを用い、酸化物ガスを導入して、金属ハロゲン化物
ガスを生成させ、後段でその金属ハロゲン化物ガスを処
理することを特徴とするフッ素含有化合物ガスの処理方
法。 - 【請求項２】 触媒が、Ｆｅ、Ｎｉ、Ａｌ、およびこれ
らの酸化物またはフッ化物からなる一種または二種以上
の混合物であることを特徴とする請求項１に記載のフッ
素含有化合物ガスの処理方法。 - 【請求項３】 導入する酸化物ガスが、Ｏ2、Ｏ3、Ｎ2
Ｏであることを特徴とする請求項１または請求項２に記
載のフッ素含有化合物ガスの処理方法。 - 【請求項４】 前段の処理剤を１００〜１０００℃に加
熱することを特徴とする請求項１〜請求項３の何れかに
記載のフッ素含有化合物ガスの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16705599A JP3565742B2 (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | フッ素含有化合物ガスの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16705599A JP3565742B2 (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | フッ素含有化合物ガスの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000354734A true JP2000354734A (ja) | 2000-12-26 |
| JP3565742B2 JP3565742B2 (ja) | 2004-09-15 |
Family
ID=15842573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16705599A Expired - Fee Related JP3565742B2 (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | フッ素含有化合物ガスの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3565742B2 (ja) |
-
1999
- 1999-06-14 JP JP16705599A patent/JP3565742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3565742B2 (ja) | 2004-09-15 |
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