JP2003100844A - 四辺形基板反転装置及び四辺形基板洗浄ユニット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 四辺形基板のロール洗浄工程を短縮すること
ができる四辺形基板の反転装置を提供する。 【解決手段】 四辺形の基板を表裏反転する四辺形基板
反転装置２０１において、基板Ｗを第１の軸線Ｌ１に沿
って搬送された基板Ｗを保持し、第２の軸線Ｌ２回りに
１８０度回転させる基板保持部材２０２を備え、第１の
軸線Ｌ１と第２の軸線Ｌ２とは、４５度の角度をなして
いる。よって、第２の軸線Ｌ２回りに１８０度回転によ
り、表裏反転と、垂直中心軸回りの９０度回転を同時に
行うことができる。したがって、基板のロール洗浄工程
を短縮することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、四辺形基板を反転
する反転装置、当該反転装置を備えた四辺形基板の洗浄
ユニットに関し、特に研磨装置によって研磨される四辺
形基板を反転する反転装置、当該反転装置を備えた四辺
形基板の洗浄ユニットに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】四辺形薄板形状の基板を研磨する場合
は、外周が円形のホルダーに四辺形の穴を加工し、この
穴に四辺形基板を嵌め込んだ状態で、一枚の円盤状の基
板として研磨、洗浄を行っていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】以上のような四辺形基
板の研磨において、ホルダーに四辺形基板を嵌め込んだ
状態で、研磨装置で研磨するとホルダーの穴と四辺形基
板との間の隙間にスラリーが入り込み四辺形基板にスラ
リーが付着した。したがって、そのまま洗浄を行っても
基板の側面、裏面に付着しているスラリーをきれいに除
去することができなかった。そのため、研磨装置による
処理の後に、ホルダーから基板を外して基板を洗浄する
洗浄工程が必ず必要となっていた。すなわち、いわゆる
後洗浄を行なっており、このため処理コストや処理時間
が増大する原因にもなっていた。また、基板がホルダー
の穴に側面を接触させて嵌め込まれるため、基板の側面
へのキズが発生することもあり品質改良が望まれてい
た。

【０００４】よってスラリーの付着を避けるため、四辺
形基板を、ホルダーを使用せずに研磨することが考えら
れる。この場合は研磨後に、四辺形基板を洗浄するとす
ればまず表面及び裏面の一方を洗浄し、二つの対向する
側面を洗浄する。そして四辺形基板を従来の反転装置に
よってまず表裏反転し、次に基板の表面に垂直な中心軸
の回りに９０度回転を行う。そして表面及び裏面のうち
残りの面を洗浄し、残りの対向する二つの側面を洗浄す
る。したがって、従来の反転装置によって前述のように
四辺形基板の反転を行うと洗浄工程に多くの時間を要す
る。

【０００５】そこで本発明は、四辺形基板のロール洗浄
工程を短縮することができる四辺形基板の反転装置、当
該反転装置を備えた洗浄ユニットを提供することを目的
としている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に係る発明による四辺形基板反転装置は、
例えば図１に示すように、四辺形の基板を表裏反転する
四辺形基板反転装置２０１において；第１の軸線Ｌ１に
沿って搬送された基板Ｗを保持し、第２の軸線Ｌ２回り
に１８０度回転させる基板保持部材２０２を備え；第１
の軸線Ｌ１と第２の軸線Ｌ２とは、４５度の角度をなし
ている。

【０００７】このように構成すると、基板Ｗを第２の軸
線Ｌ２回りに１８０度回転させる基板保持部材２０２を
備え、第１の軸線Ｌ１と第２の軸線Ｌ２とは、４５度の
角度をなしているので、基板Ｗの第２の軸線Ｌ２回りの
１８０度回転により、基板Ｗの表裏反転と、垂直中心軸
回りの９０度回転を同時に行うことができる。

【０００８】請求項２に係る発明による四辺形基板反転
装置は、例えば図２に示すように、請求項１に記載の四
辺形基板反転装置２０１において、基板保持部材２０２
は、保持される基板Ｗを挟持するブイ字溝２０６の形成
された４個の保持部品２０４を有する。

【０００９】基板保持部材２０２は、基板Ｗを挟持する
ブイ字溝２０６の形成された４個の保持部品２０４を有
するので、保持部品２０４の基板Ｗへの接触面積を最小
にして基板Ｗをしっかりと保持することができ、基板Ｗ
にキズが付く可能性を減少させることができる。

【００１０】請求項３に係る発明による四辺形基板反転
装置は、例えば図１に示すように、請求項２に記載の四
辺形基板反転装置２０１において、基板保持部材２０２
は、対称軸に対称に配置され、前記対称軸に対称に開閉
動作をし、閉動作により基板Ｗを挟持する一対の部材２
４１を含んで構成され；一対の部材２４１がそれぞれ２
個の保持部品２０４を有している。典型的には、部材２
４１の対称軸に基板Ｗの対角軸が一致するように基板Ｗ
を保持するとよい。

【００１１】基板保持部材２０２は、対称軸に対称に配
置され、対称軸に対称に開閉動作をし、閉動作により基
板Ｗを挟持する一対の部材２４１を含み、この一対の部
材２４１がそれぞれ２個の保持部品２０４を有するの
で、基板Ｗをスムーズしっかりとに挟持することができ
る。

【００１２】上記目的を達成するために、請求項４に係
る発明による四辺形基板の洗浄ユニット１００２は、請
求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の四辺形基板
反転装置２０１と；四辺形の基板Ｗの表面または裏面の
いずれか一方、及び対向する二つの側面を洗浄する洗浄
装置４０１と；四辺形の基板Ｗを、四辺形基板反転装置
２０１及び洗浄装置４０１間で搬送する搬送装置５０１
とを備える。

【００１３】このように構成すると、請求項１乃至請求
項３のいずれか１項に記載の四辺形基板反転装置２０１
を備えるので、洗浄装置４０１によって四辺形の基板Ｗ
の表面または裏面のいずれか一方、及び対向する二つの
側面を洗浄した後、基板Ｗを運搬装置５０１で四辺形基
板反転装置２０１に搬送し、基板Ｗを第２の軸線Ｌ２回
りに１８０度回転することにより、基板Ｗの表裏反転
と、垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行うことがで
きる。次に、基板Ｗを運搬装置５０１で洗浄装置４０１
に搬送し、洗浄装置４０１によって、表面または裏面の
残りの一方、及び残りの対向する二つの側面を洗浄する
ことができる。よって、洗浄ユニット１００２による洗
浄時間を短縮することができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。なお、各図において互い
に同一あるいは相当する部材には同一符号または類似符
号を付し、重複した説明は省略する。

【００１５】図１は、本発明による第１の実施の形態の
四辺形基板反転装置の模式的断面平面図である。図２
は、図１のＡ−Ａ断面図であり、四辺形基板反転装置の
模式的部分断面正面図である。図１、図２を参照し、四
辺形基板反転装置２０１の構成を説明する。

【００１６】四辺形基板反転装置２０１は、フォトマス
ク基板Ｗを保持する基板保持部材２０２と、基板保持部
材２０２が接続された装置本体２０３とを備える。基板
保持部材２０２は、部材としての一対のアーム２４１
と、保持部品としての合計４個のコマ２０４とを含んで
構成される。アーム２４１は、略細長い板状の形状であ
り対称軸線を有し、この対称軸線は四辺形基板反転装置
２０１の長手方向の、第２の軸線としての第２の中心軸
線Ｌ２に平面図上で一致する。各アーム２４１の先端付
近には、二つの保持部品としてのコマ２０４が所定の間
隔を置いて、コマ載置座２４２上に配置されている。コ
マ２０４の中心軸線は、載置座２４２の中心軸線に一致
する。

【００１７】所定の間隔とは図に示すようにフォトマス
ク基板Ｗが、角部をコマ２０４とコマ２０４との間にく
い込ませてコマ２０４によって挟持されうる間隔であ
る。コマ２０４は一対の断頭円錐２０５を含んで形成さ
れている。一対の断頭円錐２０５は断頭部同士が対向す
るように配置されブイ字溝２０６を形成している。この
ブイ字溝２０６に側面がくい込んでフォトマスク基板Ｗ
がコマ２０４に挟持される。断頭円錐２０５の材質は、
典型的には樹脂製である。フォトマスク基板Ｗがコマ２
０４に挟持されている状態の部分拡大図を図３に示す。
基板保持部材２０２は、フォトマスク基板Ｗを挟持する
ブイ字溝２０６の形成された、４個のコマ２０４を有す
るので、コマ２０４のフォトマスク基板Ｗへの接触面積
を最小にしてフォトマスク基板Ｗをしっかりと保持する
ことができ、フォトマスク基板Ｗにキズが付く可能性を
減少させることができる。なお、コマ２０４に挟持され
たフォトマスク基板Ｗの中心を通る対角線は第２の中心
軸線Ｌ２に略一致する。

【００１８】コマ載置座２４２は、アーム２４１上に垂
直に設置され、各コマ載置座２４２は互いに平行であ
る。コマ２０４に挟持されたフォトマスク基板Ｗの対角
軸線は、平面図上で第２の中心軸線Ｌ２に一致し、アー
ム２４１に平行である。一方のアーム２４１上の各コマ
載置座２４２は、他方のアーム２４１上の各コマ載置座
２４２と第２の中心軸線Ｌ２に関し対称に配置されてい
る。

【００１９】なお、フォトマスク基板は、シリコン基板
であってもよく、液晶基板であってもよい。フォトマス
ク基板の四辺形は、典型的には正方形であるが、その他
長方形であってもよい。主として四角形であればよく、
角部を直線で落としたり（形式的には８角形と見ること
もできる）丸みを付けてもよい。

【００２０】装置本体２０３は、アーム駆動機構２０７
を収納する第１収納ケース２０８と、アーム駆動部２０
９とアーム回転駆動部２１０を収納する第２収納ケース
２１１とを含んで構成される。以下、第２収納ケース２
１１関連から説明を始める。

【００２１】アーム駆動部２０９は、第２収納ケース２
１１の側面壁２１２の内側に取り付けられたシリンダ２
１３と、シリンダ２１３にシリンダ軸２１４側において
固定されたスリーブ２１５と、スリーブ２１５に部分的
に挿入されたシャフトケース２１６と、シャフトケース
２１６とスリーブ２１５の間に配置されたベアリング２
１７と、シャフトケース２１６を貫通するシャフト２１
８とを含んで構成される。ベアリング２１７により、シ
ャフトケース２１６はスリーブ２１５に対し回転可能で
ある。

【００２２】シリンダ２１３は不図示のエア供給口を有
し、シリンダ軸２１４が図に示す最も引っ込んだ状態
で、シャフト２１８の端部２１８Ａとの間に隙間（距離
Ｙ）が存在する。スリーブ２１５は、貫通口２６１の加
工された一つの底部２６２を有し、他方は開放されてい
る。スリーブ２１５のシリンダ２１３への取り付けをよ
り詳しく説明すると、スリーブ２１５の底部２６２がシ
リンダ２１３に取り付けられ、シリンダ軸２１４は、最
も引っ込んだ状態でも貫通口２６１を貫通して突出して
いる。なお、シャフトケース２１６はスリーブ２１５の
開放端からスリーブ２１５に部分的に挿入されている。

【００２３】シャフトケース２１６には、第１収容室２
１９と、第２収納室２２０と、第１収納室２１９と第２
収納室２２０とを繋ぐ貫通孔２２１が形成され、それぞ
れをシャフト２１８が貫通する。第１収納室２１９に
は、バネ２２２がシャフト２１８に貫通されて収納され
ている。シャフト２１８には、第１鍔２２３と第２鍔２
２４とが形成されている。

【００２４】第１鍔２２３は第１収納室２１９内に配置
され、シャフト２１８が図中Ｘ方向に移動するときにバ
ネ２２２を圧縮する。第２鍔２２４は、第２収納部２２
０に配置され、シャフト２１８がＸ方向に移動すると、
第２収納部２２０の側壁２２０Ａに当接し、シャフト２
１８のＸ方向の移動を規制する。第２収納部２２０の図
中右端にはブロック２２５が取り付けられ、シャフト２
１８が反Ｘ方向に移動すると第２鍔２２４がブロック２
２５に当接し、シャフト２１８の反Ｘ方向の移動が規制
される。シャフトケース２１６の図１中、左端外周部に
は従動プーリ２２６が加工されている。

【００２５】アーム回転駆動部２１０は、図２中、アー
ム駆動部２０９の真下に第２収納部２２０の底壁２２７
上に配置され、ステッピングモータ２２８と、ステッピ
ングモータ２２８のモータ軸に取り付けられた原動プー
リ２２９とを含んで構成される。原動プーリ２２９と従
動プーリ２２６とはベルト２３０を介して接続される。

【００２６】シャフトケース２１６は、第２収納ケース
２１１より一部突出して第１収納ケース２０８に固定さ
れ、大部分が第２収納ケース２１１内に収納され、第２
収納ケース２１１に対して回転可能なように配置されて
いる。すなわち、シャフトケース２１６は、ステッピン
グモータ２２８の回転によりベルト２３０を介して１８
０度回転し、シャフトケース２１６が１８０度回転する
ことにより第１収納ケース２０８は第２収納ケース２１
１に対して１８０度回転する。第１収納ケース２０８が
１８０度回転することにより、アーム２４１も第２の中
心軸線Ｌ２回りに第２収納ケース２１１に対して１８０
度回転する。

【００２７】次にアーム駆動機構２０７の構成を説明す
る。アーム駆動機構２０７は、第１収納ケース２０８内
部へ突出するシャフト２１８に接続されたバー２３１
と、バー２３１のそれぞれの端部にピン２３２にて接合
されたエレメント２３３と、エレメント２３３とアーム
２４１とを接続するピン２３４と、ピン２３４を回転可
能に支持する支持部品２３５とを含んで構成される。シ
ャフト２１８の移動がエレメント２３３を回動させ、エ
レメント２３３の回動がピン２３４を回転させる。ピン
２３４は、アーム２４１に接続され、ピン２３４の回転
がアーム２４１に伝達され、アーム２４１はピン２３４
を中心に回動する。アーム２４１の回動は第２の中心軸
線Ｌ２に関して対称である。

【００２８】次に、図４を参照して、本発明による第２
の実施の形態の洗浄ユニット１００２の構成を説明す
る。洗浄ユニット１００２は、洗浄装置４０１と、第１
の実施の形態の四辺形基板反転装置２０１と、搬送装置
としての搬送ロボット５０１とを含んで構成される。洗
浄装置４０１は、フォトマスク基板Ｗを載置する不図示
の載置台上と、フォトマスク基板Ｗの表面または裏面を
洗浄する水平に配置された上面洗浄ロール４０２（図中
破線にて表示）と、フォトマスク基板Ｗの対向する側面
を洗浄する二本の鉛直に配置された側面洗浄ロール４０
３（図中一部破線にて表示）とを備える。不図示の載置
台はフォトマスク基板Ｗを載置して図中Ｌ３で示す方向
に往復動し、その往復動の間にフォトマスク基板Ｗが、
表面または裏面、対向する二つの側面を洗浄される。フ
ォトマスク基板Ｗ、上面洗浄ロール４０２、側面洗浄ロ
ール４０３の位置関係を図５に示す。

【００２９】搬送ロボット５０１は、搬送のため四辺形
のフォトマスク基板Ｗを載置する搬送ハンド５０２と、
搬送ハンド５０２が最も引っ込んだ位置にきた場合、フ
ォトマスク基板Ｗをガイドする枠５０３とを備える。搬
送ロボット５０１は、洗浄ユニット１００２に設けられ
た搬送通路１００３を通って洗浄装置４０１と、四辺形
基板反転装置２０１との間を移動し、フォトマスク基板
Ｗの受け渡しを行う。

【００３０】搬送ロボット５０１は、フォトマスク基板
Ｗの受け渡しを行うに際し、搬送ハンド５０２を図中下
側に延ばして、洗浄装置４０１と、四辺形基板反転装置
２０１とにアクセスする。図中、洗浄装置４０１にある
二点鎖線にて示したフォトマスク基板Ｗの受け渡しを行
うように延ばされた、搬送ハンド５０２を二点鎖線にて
表す。

【００３１】搬送ロボット５０１は、四辺形基板反転装
置２０１のアーム２４１に挟持されるフォトマスク基板
Ｗの受け渡しを行うため、第１の中心軸線Ｌ１方向から
フォトマスク基板Ｗに向けて搬送ハンド５０２を延ばす
よう構成されている。

【００３２】次に、図１、図２を参照して四辺形基板反
転装置２０１の作用を説明する。

【００３３】シリンダ軸２１４は、図に示すごとく始め
は最も引っ込んだ位置にある。シリンダ２１３の不図示
のエア供給口にエアが供給され、シリンダ軸２１４はシ
リンダ２１３から突出し図中Ｘ方向に移動し、距離Ｙだ
け移動するとシャフト２１８の端部２１８Ａに当接す
る。さらに、エアの供給を続けると、シリンダ軸２１４
のＸ方向への移動が継続され、シャフト２１８が押され
てＸ方向へ移動し、シャフト２１８の第１鍔２２３は、
バネ２２２を圧縮する。このとき、バー２３１がピン２
３２をＸ方向に押すので、エレメント２３３がそれぞ
れ、図１中Ｐ１／Ｐ２方向に回動し、ピン２３４をＰ１
／Ｐ２方向に回転させるので、アーム２４１が図１中Ｑ
１／Ｑ２方向に回動し（開動作をし）、図１に示す閉じ
た状態から開いた状態に移行する。

【００３４】次に、搬送ロボット５０１の、基板載置部
としての搬送ハンド５０２上に正四辺形のフォトマスク
基板Ｗが載置され、図１中、Ｊ方向に第１の軸線として
の第１の中心軸線Ｌ１に沿って搬送ハンド５０２が伸び
てフォトマスク基板Ｗが搬送され、図１に示す位置に静
止する。この位置で第１の中心軸線Ｌ１は、搬送ハンド
５０２の中心軸線であり、搬送ハンド５０２がフォトマ
スク基板Ｗを搬送する搬送方向（Ｊ方向、反Ｊ方向）に
重なる。

【００３５】シリンダ２１３へのエアの供給を終了さ
せ、シリンダ２１３内のエアを抜くと、シリンダ２１３
のシリンダ軸２１４が、最も引っ込んだ位置に移動す
る。シャフト２１８は、バネ２２２の復元力が第１鍔２
２３に作用するので図１中、反Ｘ方向に移動し、第２鍔
２２４がブロック２２５に当接することによりシャフト
２１８の移動は終了する。

【００３６】シャフト２１８が、反Ｘ方向に移動する
と、シャフト２１８が、Ｘ方向への移動の場合と逆の動
作が行われる。よって、アーム２４１が図１中反Ｑ１／
反Ｑ２方向に回動し（閉動作をし）、開いた状態から閉
じた状態に移行し、フォトマスク基板Ｗが、アーム２４
１のコマ２０４に挟持される。そして、搬送ロボット５
０１（図４参照）の搬送ハンド５０２が反Ｊ方向に後退
する。

【００３７】次に、ステッピングモータ２２８を回転さ
せ、ステッピングモータ２２８の回転は、原動プーリ２
２９、ベルト２３０、従動プーリ２２６を介して伝達さ
れ、シャフトケース２１６が１８０度回転する。シャフ
トケース２１６は、第１収納ケース２０８に固定されて
いるので、シャフトケース２１６が１８０度回転すれば
第１収納ケース２０８が１８０度回転し、アーム２４１
が第２の中心軸線Ｌ２の回りに１８０度回転する。第２
の中心軸線Ｌ２は第１の中心軸線Ｌ１に対して４５度の
角度をなすので、アーム２４１のこの回転により、フォ
トマスク基板Ｗは、表裏反転と、フォトマスク基板Ｗの
垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行う。垂直中心軸
とは、フォトマスク基板Ｗの表面に垂直で、フォトマス
ク基板Ｗの中心を通る軸をいう。

【００３８】そして、搬送ロボット５０１（図４参照）
の搬送ハンド５０２がＪ方向から前進し、所定の受け渡
し位置に静止する。前述のようにシリンダ２１３にエア
が供給され、アーム２４１の開動作が行われ、フォトマ
スク基板Ｗはアーム２４１から搬送ハンド５０２に受け
渡される。

【００３９】よって正四辺形のフォトマスク基板Ｗを、
ロール洗浄により表面、裏面、側面の洗浄を行う場合、
例えば表面、互いに対向する二つ側面の洗浄後、フォト
マスク基板Ｗの前述の反転を１回行い、裏面、残りの二
つの側面の洗浄を行うことができ、ロール洗浄工程の短
縮を行うことができる。

【００４０】次に、図４を参照して洗浄ユニット１００
２の作用を説明する。

【００４１】搬送ロボット５０１の、基板載置部として
の搬送ハンド５０２上に正四辺形のフォトマスク基板Ｗ
が載置されている状態から説明を始める。搬送ロボット
５０１は、洗浄装置４０１へフォトマスク基板Ｗを受け
渡す位置まで搬送通路１００３上を移動し、洗浄装置４
０１に向かって搬送ハンド５０２を延ばす。搬送ロボッ
ト５０１は、洗浄装置４０１の不図示の載置台上にフォ
トマスク基板Ｗを受け渡たした後、搬送ハンド５０２を
最も引っ込んだ位置に戻す。

【００４２】洗浄装置４０１の上面洗浄ロール４０２、
側面洗浄ロール４０３が回転を始め、フォトマスク基板
Ｗを載置した不図示の載置台が往復動を始め、フォトマ
スク基板Ｗの表面または裏面のうちの一方、対向する二
つの側面の洗浄が洗浄液の供給とともに行われる。洗浄
の終了後、載置台は元の受け渡し位置に移動する。

【００４３】搬送ロボット５０１は、搬送ハンド５０２
を載置台上のフォトマスク基板Ｗに向かって延ばし、フ
ォトマスク基板Ｗを受け取り搬送ハンド５０２上に載置
した後、搬送ハンド５０２を最も引っ込んだ位置まで引
っ込める。

【００４４】フォトマスク基板Ｗを受け取った搬送ロボ
ット５０１は、四辺形基板反転装置２０１へフォトマス
ク基板Ｗを受け渡す位置まで搬送通路１００３上を移動
し静止する。四辺形基板反転装置２０１は、シリンダ２
１３のエア供給口へのエアの供給を行い、これによりア
ーム２４１を開の状態とする。搬送ロボット５０１は、
フォトマスク基板Ｗを載置した搬送ハンド５０２をアー
ム２４１に向かって延ばし、フォトマスク基板Ｗを第１
の中心軸線Ｌ１に沿ってフォトマスク基板Ｗの受け渡し
位置まで移動させる。次に、四辺形基板反転装置２０１
が、シリンダ２１３のエア供給口へのエアの供給を終了
させシリンダ２１３のエアを抜き、これによりアーム２
４１を閉とすると、フォトマスク基板Ｗがアーム２４１
に挟持される。

【００４５】次に、ステッピングモータ２２８をオンに
して、アーム２４１を第２の中心軸線Ｌ２の回りに１８
０度回転させ、アーム２４１に挟持されたフォトマスク
基板Ｗを、第２の中心軸線Ｌ２の回りに１８０度回転さ
る。フォトマスク基板Ｗは、この回転により、表裏反転
と、垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行う。

【００４６】次に、搬送ロボット５０１は、搬送ハンド
５０２を第１の中心軸線Ｌ１に沿ってアーム２４１に向
かって延ばし、フォトマスク基板Ｗの真下である受け渡
し位置まで移動させる。四辺形基板反転装置２０１は、
シリンダ２１３のエア供給口へのエアの供給を行い、こ
れによりアーム２４１を開の状態とする。よって、フォ
トマスク基板Ｗは、アーム２４１の挟持から開放され、
搬送ハンド５０２に受け渡される。

【００４７】フォトマスク基板Ｗを受け取った搬送ハン
ド５０２は、最も引っ込んだ位置まで戻り、その後、搬
送通路１００３上を、洗浄装置４０１と受け渡しを行う
位置まで移動する。以後、同様の動作を繰り返し、フォ
トマスク基板Ｗの表面または裏面のうちの他方、残りの
対向する二つの側面の洗浄が行われる。

【００４８】洗浄装置４０１によってフォトマスク基板
Ｗの表面または裏面のいずれか一方、及び対向する二つ
の側面を洗浄した後、フォトマスク基板Ｗを運搬装置５
０１で四辺形基板反転装置２０１に搬送する。そして、
フォトマスク基板Ｗを第２の軸線Ｌ２回りに１８０度回
転することにより、フォトマスク基板Ｗの表裏反転と、
垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行い、フォトマス
ク基板Ｗを運搬装置５０１で洗浄装置４０１に搬送し、
洗浄装置４０１によって、フォトマスク基板Ｗの表面ま
たは裏面の残りの一方、及び残りの対向する二つの側面
を洗浄することができる。よって、四辺形基板反転装置
２０１による１回の反転に要する時間を短縮でき、洗浄
ユニット１００２による洗浄時間を短縮することができ
る。

【００４９】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、基板を第
１の軸線に沿って搬送する搬送装置によって搬送される
基板を保持し、第２の軸線回りに１８０度回転させる基
板保持部材を備え、第１の軸線と第２の軸線とは、４５
度の角度をなしているので、基板保持部材により基板を
第２の軸線回りに１８０度回転することにより、基板の
表裏反転と、垂直中心軸回りの９０度回転を同時に行う
ことができる。よって、例えば基板の側面にロール洗浄
を行う場合には、洗浄工程を短縮することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による第１の実施の形態の四辺形基板反
転装置の模式的断面平面図である。

【図２】図１の四辺形基板反転装置の模式的部分断面正
面図であり、図１のＡ−Ａ断面図である。

【図３】コマの部分拡大図である。

【図４】本発明による第２の実施の形態の洗浄ユニット
の模式的平面図である。

【図５】洗浄中のフォトマスク基板、上面洗浄ロール、
側面洗浄ロールの位置関係を説明する模式図である。

【符号の説明】

２０１ 四辺形基板反転装置 ２０２ 基板保持部材 ２０３ 装置本体 ２０４ コマ ２０５ 断頭円錐 ２０６ ブイ字溝 ２０７ アーム駆動機構 ２０８ 第１収納ケース ２０９ アーム駆動部 ２１０ アーム回転駆動部 ２１１ 第２収納ケース ２４１ アーム ４０１ 洗浄装置 ５０１ 搬送装置 １００２ 洗浄ユニット Ｌ１ 第１の中心軸線 Ｌ２ 第２の中心軸線 Ｗ フォトマスク基板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４８Ａ (72)発明者 小島 浩 東京都大田区羽田旭町11−１ 株式会社荏 原製作所内 (72)発明者 八木 裕治 東京都大田区羽田旭町11−１ 株式会社荏 原製作所内 Ｆターム(参考） 3B116 AA02 AB02 AB34 BA01 BA12 5F031 CA05 CA07 FA04 FA07 FA12 FA14 FA21 GA15 LA09 LA15 MA22 MA23

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 四辺形の基板を表裏反転する四辺形基板
   反転装置において；第１の軸線に沿って搬送された前記
   基板を保持し、第２の軸線回りに１８０度回転させる基
   板保持部材を備え；前記第１の軸線と前記第２の軸線と
   は、４５度の角度をなしている；四辺形基板反転装置。
2. 【請求項２】 前記基板保持部材は、保持される基板を
   挟持するブイ字溝の形成された４個の保持部品を有す
   る；請求項１に記載の四辺形基板反転装置。
3. 【請求項３】 前記基板保持部材は、対称軸に対称に配
   置され、前記対称軸に対称に開閉動作をし、閉動作によ
   り前記基板を挟持する一対の部材を含んで構成され；前
   記一対の部材がそれぞれ２個の前記保持部品を有してい
   る；請求項２に記載の四辺形基板反転装置。
4. 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか１項に
   記載の四辺形基板反転装置と；前記四辺形の基板の表面
   または裏面のいずれか一方、及び対向する二つの側面を
   洗浄する洗浄装置と；前記四辺形の基板を、前記四辺形
   基板反転装置及び前記洗浄装置間で搬送する搬送装置と
   を備えた；四辺形基板洗浄ユニット。