JP2004200364A - 排ガス処理装置および排ガス処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ガス排気配管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させる。
【解決手段】窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管５を燃焼室２の外周に巻き付け、燃焼室２の発熱により加熱された窒素ガスを真空ポンプ３の希釈ガスとして真空ポンプ３内に送るとともに、プロセスガス排気管７内に送る。
【選択図】 図１
【解決手段】窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管５を燃焼室２の外周に巻き付け、燃焼室２の発熱により加熱された窒素ガスを真空ポンプ３の希釈ガスとして真空ポンプ３内に送るとともに、プロセスガス排気管７内に送る。
【選択図】 図１
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は排ガス処理装置および排ガス処理方法に関し、特に、燃焼式除害装置または加熱式除害装置を持つ半導体製造装置に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の排ガス処理装置では、半導体製造装置から排出される熱排気を利用して、ガス排気配管を加熱することにより、ガス排気配管内に反応生成物が付着することを抑える方法があった。
図３は、従来の排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【０００３】
図３において、半導体製造装置２２にはチャンバ２３が設けられ、チャンバ２３内には、反応ガスが導入されて、ＣＶＤやドライエッチングなどのプロセスが行われる。
そして、チャンバ２３から排出された排ガスは、ガス排気配管２４を介して除害装置２１に導入され、除害装置２１にて、チャンバ２３から排出された排ガスの除害処理が行われる。
【０００４】
ここで、半導体製造装置２２には熱排気管２５が設けられ、熱排気管２５は、ガス排気配管２４の外周を覆うように構成されている。
そして、半導体製造装置から排出される熱排気は熱排気管２５に排出され、ガス排気配管２４の外周を通ってガス排気配管２４を加熱した後、外部に排気される。
【０００５】
そして、ガス排気配管２４を加熱することにより、チャンバ２３から排出された排ガスがガス排気配管２４内で暖められ、ガス排気配管２４内への反応生成物の付着を抑制することが可能となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の排ガス処理装置では、半導体製造装置２２から排出される熱排気を利用して、ガス排気配管２４の周囲を加熱するため、排ガスの加熱効果が必ずしも十分でなく、ガス排気配管２４内への反応生成物の付着を必ずしも十分に抑えることができないという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、ガス排気配管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能な排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、請求項１記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、プロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする。
【０００９】
これにより、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱することが可能となり、除害装置から生じる発熱を有効利用することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスを希釈ガスとして用いつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となる。
このため、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【００１０】
また、請求項２記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、前記加熱されたプロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする。
【００１１】
これにより、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となることから、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【００１２】
また、請求項３記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、プロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする。
【００１３】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となる。
また、請求項４記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱されたプロセスガスプロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする。
【００１４】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となる。
また、請求項５記載の排ガス処理方法によれば、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱するステップと、前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、プロセスガスの排気を行うステップと、前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする。
【００１５】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となる。
また、請求項６記載の排ガス処理方法によれば、除害装置から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱するステップと、前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、前記加熱されたプロセスガスの排気を行うステップと、前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする。
【００１６】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る排ガス処理装置について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００１８】
図１において、燃焼式除害装置１には、除害ガスを燃焼させる燃焼室２が設けられ、真空ポンプ３の吸気側にはプロセスガス吸気管６が連結されるとともに、真空ポンプ３の排気側にはプロセスガス排気管７が連結され、プロセスガス排気管７は燃焼室２に連結されている。
また、窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管５が燃焼室２の外周に巻き付けられるとともに、Ｎ2ガス分岐管５ａ、５ｂにより分岐され、Ｎ2ガス分岐管５ａは真空ポンプ３に連結されるとともに、Ｎ2ガス分岐管５ｂはプロセスガス排気管７の入口側に連結されている。
【００１９】
そして、プロセスガス吸気管６を介して真空ポンプ３に吸引されたプロセス排気は、プロセスガス排気管７を介して燃焼室２内に送られ、燃焼室２にてプロセスガスが燃焼される。
一方、Ｎ2ガス配管５に送出された窒素ガスは燃焼室２からの発熱により加熱され、加熱された窒素ガスの一部は、Ｎ2ガス分岐管５ａを介して、真空ポンプ３の希釈ガスとして真空ポンプ３内に送られるとともに、加熱された窒素ガスの残りは、Ｎ2ガス分岐管５ｂを介して、プロセスガス排気管７内に送られる。
【００２０】
そして、真空ポンプ３およびプロセスガス排気管７内に送られた窒素ガスは、プロセスガス排気管７内を通ることにより、プロセスガス排気管７内を加熱する。
これにより、燃焼室２から放出される発熱を利用して、窒素ガスを加熱することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスを用いて、プロセスガス排気管７内を直接加熱することが可能となる。
【００２１】
このため、省エネルギー化を図りつつ、プロセスガス排気管７内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、プロセスガス排気管７内の詰まりによるトラブルやプロセスガス排気管７内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
図２は、本発明の第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００２２】
図２において、燃焼式除害装置１１には、除害ガスを燃焼させる燃焼室１２が設けられ、真空ポンプ１３の排気側にはプロセスガス排気管１７が連結されるとともに、プロセスガス排気管１７は燃焼室１２に連結されている。
また、窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管１５が燃焼室１２の外周に巻き付けられるとともに、Ｎ2ガス分岐管１５ａ、１５ｂにより分岐され、Ｎ2ガス分岐管１５ａは真空ポンプ１３に連結されるとともに、Ｎ2ガス分岐管１５ｂはプロセスガス排気管１７の入口側に連結されている。
【００２３】
さらに、プロセスガス吸気管１６は、燃焼室１２の外周に巻き付けられ、真空ポンプ１３の吸気側に連結されている。
そして、プロセスガス吸気管１６に送出されたプロセス排気は、プロセスガス吸気管１６を介して加熱された後、真空ポンプ１３に吸引され、プロセスガス排気管１７を介して燃焼室１２内に送られ、燃焼室１２にてプロセスガスが燃焼される。
【００２４】
一方、Ｎ2ガス配管１５に送出された窒素ガスは燃焼室１２からの発熱により加熱され、加熱された窒素ガスの一部は、Ｎ2ガス分岐管１５ａを介して、真空ポンプ１３の希釈ガスとして真空ポンプ１３内に送られるとともに、加熱された窒素ガスの残りは、Ｎ2ガス分岐管１５ｂを介して、プロセスガス排気管１７内に送られる。
【００２５】
そして、真空ポンプ１３およびプロセスガス排気管１７内に送られた窒素ガスおよびプロセスガスは、プロセスガス排気管１７内を通ることにより、プロセスガス排気管１７内を加熱する。
これにより、燃焼室１２から放出される発熱を利用して、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスおよびプロセスガスを用いて、プロセスガス排気管１７内を直接加熱することが可能となる。
【００２６】
このため、省エネルギー化を図りつつ、プロセスガス排気管１７内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となり、プロセスガス排気管１７内の詰まりによるトラブルやプロセスガス排気管１７内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
なお、上述した実施形態では、燃焼式除害装置を例にとって説明したが、発熱源を有する除害装置なら何でもよく、例えば、ヒータ加熱式除害装置を用いるようにしてもよい。
【００２７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、除害装置から生じる発熱を利用して加熱された窒素ガスを用いて、排気管内を直接加熱することにより、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】従来の排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１、１１ 燃焼式除害装置、２、１２ 燃焼室、３、１３ 真空ポンプ、５、１５ Ｎ2ガス配管、５ａ、５ｂ、１５ａ、１５ｂ Ｎ2ガス分岐管 ６、１６ プロセスガス吸気管、７、１７ プロセスガス排気管
【発明の属する技術分野】
本発明は排ガス処理装置および排ガス処理方法に関し、特に、燃焼式除害装置または加熱式除害装置を持つ半導体製造装置に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の排ガス処理装置では、半導体製造装置から排出される熱排気を利用して、ガス排気配管を加熱することにより、ガス排気配管内に反応生成物が付着することを抑える方法があった。
図３は、従来の排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【０００３】
図３において、半導体製造装置２２にはチャンバ２３が設けられ、チャンバ２３内には、反応ガスが導入されて、ＣＶＤやドライエッチングなどのプロセスが行われる。
そして、チャンバ２３から排出された排ガスは、ガス排気配管２４を介して除害装置２１に導入され、除害装置２１にて、チャンバ２３から排出された排ガスの除害処理が行われる。
【０００４】
ここで、半導体製造装置２２には熱排気管２５が設けられ、熱排気管２５は、ガス排気配管２４の外周を覆うように構成されている。
そして、半導体製造装置から排出される熱排気は熱排気管２５に排出され、ガス排気配管２４の外周を通ってガス排気配管２４を加熱した後、外部に排気される。
【０００５】
そして、ガス排気配管２４を加熱することにより、チャンバ２３から排出された排ガスがガス排気配管２４内で暖められ、ガス排気配管２４内への反応生成物の付着を抑制することが可能となる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の排ガス処理装置では、半導体製造装置２２から排出される熱排気を利用して、ガス排気配管２４の周囲を加熱するため、排ガスの加熱効果が必ずしも十分でなく、ガス排気配管２４内への反応生成物の付着を必ずしも十分に抑えることができないという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、ガス排気配管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能な排ガス処理装置および排ガス処理方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上述した課題を解決するために、請求項１記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、プロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする。
【０００９】
これにより、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱することが可能となり、除害装置から生じる発熱を有効利用することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスを希釈ガスとして用いつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となる。
このため、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【００１０】
また、請求項２記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、前記加熱されたプロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする。
【００１１】
これにより、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となることから、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【００１２】
また、請求項３記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、プロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする。
【００１３】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となる。
また、請求項４記載の排ガス処理装置によれば、熱源を有する除害装置と、前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、前記加熱されたプロセスガスプロセスガスを排気する真空ポンプと、前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする。
【００１４】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となる。
また、請求項５記載の排ガス処理方法によれば、除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱するステップと、前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、プロセスガスの排気を行うステップと、前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする。
【００１５】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、加熱された窒素ガスで排気管内を直接加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となる。
また、請求項６記載の排ガス処理方法によれば、除害装置から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱するステップと、前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、前記加熱されたプロセスガスの排気を行うステップと、前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする。
【００１６】
これにより、除害装置から生じる発熱の有効利用を図りつつ、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となり、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態に係る排ガス処理装置について、図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００１８】
図１において、燃焼式除害装置１には、除害ガスを燃焼させる燃焼室２が設けられ、真空ポンプ３の吸気側にはプロセスガス吸気管６が連結されるとともに、真空ポンプ３の排気側にはプロセスガス排気管７が連結され、プロセスガス排気管７は燃焼室２に連結されている。
また、窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管５が燃焼室２の外周に巻き付けられるとともに、Ｎ2ガス分岐管５ａ、５ｂにより分岐され、Ｎ2ガス分岐管５ａは真空ポンプ３に連結されるとともに、Ｎ2ガス分岐管５ｂはプロセスガス排気管７の入口側に連結されている。
【００１９】
そして、プロセスガス吸気管６を介して真空ポンプ３に吸引されたプロセス排気は、プロセスガス排気管７を介して燃焼室２内に送られ、燃焼室２にてプロセスガスが燃焼される。
一方、Ｎ2ガス配管５に送出された窒素ガスは燃焼室２からの発熱により加熱され、加熱された窒素ガスの一部は、Ｎ2ガス分岐管５ａを介して、真空ポンプ３の希釈ガスとして真空ポンプ３内に送られるとともに、加熱された窒素ガスの残りは、Ｎ2ガス分岐管５ｂを介して、プロセスガス排気管７内に送られる。
【００２０】
そして、真空ポンプ３およびプロセスガス排気管７内に送られた窒素ガスは、プロセスガス排気管７内を通ることにより、プロセスガス排気管７内を加熱する。
これにより、燃焼室２から放出される発熱を利用して、窒素ガスを加熱することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスを用いて、プロセスガス排気管７内を直接加熱することが可能となる。
【００２１】
このため、省エネルギー化を図りつつ、プロセスガス排気管７内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、プロセスガス排気管７内の詰まりによるトラブルやプロセスガス排気管７内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
図２は、本発明の第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【００２２】
図２において、燃焼式除害装置１１には、除害ガスを燃焼させる燃焼室１２が設けられ、真空ポンプ１３の排気側にはプロセスガス排気管１７が連結されるとともに、プロセスガス排気管１７は燃焼室１２に連結されている。
また、窒素ガスを輸送するＮ2ガス配管１５が燃焼室１２の外周に巻き付けられるとともに、Ｎ2ガス分岐管１５ａ、１５ｂにより分岐され、Ｎ2ガス分岐管１５ａは真空ポンプ１３に連結されるとともに、Ｎ2ガス分岐管１５ｂはプロセスガス排気管１７の入口側に連結されている。
【００２３】
さらに、プロセスガス吸気管１６は、燃焼室１２の外周に巻き付けられ、真空ポンプ１３の吸気側に連結されている。
そして、プロセスガス吸気管１６に送出されたプロセス排気は、プロセスガス吸気管１６を介して加熱された後、真空ポンプ１３に吸引され、プロセスガス排気管１７を介して燃焼室１２内に送られ、燃焼室１２にてプロセスガスが燃焼される。
【００２４】
一方、Ｎ2ガス配管１５に送出された窒素ガスは燃焼室１２からの発熱により加熱され、加熱された窒素ガスの一部は、Ｎ2ガス分岐管１５ａを介して、真空ポンプ１３の希釈ガスとして真空ポンプ１３内に送られるとともに、加熱された窒素ガスの残りは、Ｎ2ガス分岐管１５ｂを介して、プロセスガス排気管１７内に送られる。
【００２５】
そして、真空ポンプ１３およびプロセスガス排気管１７内に送られた窒素ガスおよびプロセスガスは、プロセスガス排気管１７内を通ることにより、プロセスガス排気管１７内を加熱する。
これにより、燃焼室１２から放出される発熱を利用して、窒素ガスのみならず、プロセスガスも加熱することが可能となるとともに、加熱された窒素ガスおよびプロセスガスを用いて、プロセスガス排気管１７内を直接加熱することが可能となる。
【００２６】
このため、省エネルギー化を図りつつ、プロセスガス排気管１７内への反応生成物の付着抑止効果をより一層向上させることが可能となり、プロセスガス排気管１７内の詰まりによるトラブルやプロセスガス排気管１７内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
なお、上述した実施形態では、燃焼式除害装置を例にとって説明したが、発熱源を有する除害装置なら何でもよく、例えば、ヒータ加熱式除害装置を用いるようにしてもよい。
【００２７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、除害装置から生じる発熱を利用して加熱された窒素ガスを用いて、排気管内を直接加熱することにより、省エネルギー化を図りつつ、排気管内への反応生成物の付着抑止効果を向上させることが可能となり、排気管内の詰まりによるトラブルや排気管内のメンテナンスなどを削減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【図３】従来の排ガス処理装置の概略構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１、１１ 燃焼式除害装置、２、１２ 燃焼室、３、１３ 真空ポンプ、５、１５ Ｎ2ガス配管、５ａ、５ｂ、１５ａ、１５ｂ Ｎ2ガス分岐管 ６、１６ プロセスガス吸気管、７、１７ プロセスガス排気管
Claims (6)
- 熱源を有する除害装置と、
前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、
前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、プロセスガスを排気する真空ポンプと、
前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする排ガス処理装置。 - 熱源を有する除害装置と、
前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、
前記加熱された窒素ガスで希釈を行いつつ、前記加熱されたプロセスガスを排気する真空ポンプと、
前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管とを備えることを特徴とする排ガス処理装置。 - 熱源を有する除害装置と、
前記熱源から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱する加熱手段と、
プロセスガスを排気する真空ポンプと、
前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、
前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする排ガス処理装置。 - 熱源を有する除害装置と、
前記熱源から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱する加熱手段と、
前記加熱されたプロセスガスプロセスガスを排気する真空ポンプと、
前記真空ポンプで排気されたプロセスガスを前記除害装置に導入する排気管と、
前記加熱手段で加熱された窒素ガスを前記排気管に導入する導入管とを備えることを特徴とする排ガス処理装置。 - 除害装置から生じる発熱を利用して、窒素ガスを加熱するステップと、
前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、プロセスガスの排気を行うステップと、
前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする排ガス処理方法。 - 除害装置から生じる発熱を利用して、プロセスガスおよび窒素ガスを加熱するステップと、
前記加熱された窒素ガスを真空ポンプまたは前記真空ポンプの排気管に導入しながら、前記加熱されたプロセスガスの排気を行うステップと、
前記排気されたプロセスガスを前記除害装置で除害するステップとを備えることを特徴とする排ガス処理方法。
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