JP2017002005A - 脱炭酸反応を用いるカルボニル化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】医薬品、農薬、液晶材料等の原料、またはその中間体として有用なカルボニル化合物の効率的な製造方法の提供。
【解決手段】下記反応式に例示する脱炭酸反応によりカルボニル化合物を製造し、シス体を有する化合物を高い選択性で得る方法。

【選択図】なし

Description

本発明は脱炭酸反応を用いるカルボニル化合物の製造方法の製造に関する。

カルボニル化合物は医・農薬、液晶を含む電子材料、樹脂などの原料、またはその中間体として広く用いられている。
アセト酢酸エステル合成法及びマロン酸エステル合成法（非特許文献１）は、幅広い種類の官能基を修飾させたカルボニル化合物の製造方法として、古くから知られている。官能基修飾を行った後、アセト酢酸エステルやマロン酸エステルなどのβ−オキソカルボニルオキシ構造を有する化合物から、脱炭酸反応を行ってカルボニル化合物を製造する場合、２段階の工程かつ過酷な反応条件を必要とすることが多い。すなわち、まず強酸もしくは強塩基性を使用してエステルの加水分解を行い、対応するカルボン酸を得た後、高温で加熱することにより、脱炭酸反応を起こす方法が一般的に知られている。しかしこの方法は、２段階にわたる工程を必要とし、さらに官能基許容性が低いという問題がある。
この改良方法として、Krapchoらによって報告された脱炭酸反応が知られている（非特許文献２）。この反応では、エステルに対して塩を作用させながら加熱することで、１段階で対応する脱炭酸体を得ることができる。強酸もしくは強塩基のかわりに塩を使用するため、中性に近い比較的温和な反応条件で脱炭酸を達成できる。
しかし、基質の反応点以外の部位に、酸素原子、窒素原子、硫黄原子などのヘテロ原子を有する骨格や官能基が含まれている場合、ヘテロ原子が塩へ配位し、目的とする反応の進行を阻害し、その結果反応速度を低下させる可能性がある。

また、長時間にわたり反応を行う場合、ヘテロ原子を有する骨格や官能基に対する塩の作用と加熱により、基質および目的物の分解を引き起こし、収率を低下させる可能性がある。

一方、ヘテロ原子を有する骨格としてピランを含む基質に対し、酸化銅（Ｉ）触媒等を用いて脱炭酸を行う方法が知られているが、この方法は、用いる基質がカルボン酸に限られるものであった。（特許文献１）。

H. O. Hauser, B. E. Hudson Jr., Org. React. 1942, 1, 266. Krapcho, A. P.; Weimaster, J. F.; Eldridge, J. M.; Jahngen, E. G. E.; Lovey, A. J.; Stephens, W. P. J. Org. Chem. 1978, 43, 138.

特開２０１１−４６７０３号公報

本発明の解決しようとする課題は、炭化水素ではない部位を含むカルボニル化合物を、脱炭酸反応を用いてより高収率に製造することができる製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するために鋭意検討した結果、β‐オキソ‐カルボニルオキシ構造を有する化合物を基質に用いた脱炭酸反応において、エステル部位を立体的に小さくすることにより、脱炭酸反応の反応速度を高められること、また基質および目的物の分解を抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。

すなわち本発明は一般式（ｉ）

（式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜２０のアルキル基を表すが、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２が共に水素原子を表すことはなく、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ５−に置換されていてもよい。）
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
（ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよいが、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の−ＣＨ_２−が置換されることによって一般式（ｉ）は式中に２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表さず、且つ、Ｒ^ｉ１及び／又はＲ^ｉ２中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^ｉ４−に置換されており、
Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２は互いに結合して環を形成してもよく、
Ｒ^ｉ４及びＲ^ｉ５はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
で表される化合物を脱炭酸反応することによる、一般式（ｉｉ）

（式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３と同じ意味を表す。）
で表される化合物の製造方法を提供する。

本発明の製造方法により、β‐オキソ‐カルボニルオキシ構造を有する化合物を基質として用いる脱炭酸反応の速度を高め、また、基質および目的物の分解を抑制できるため、収率が向上する。

一般式（ｉ）で表される化合物の脱炭酸反応により一般式（ｉｉ）で表される化合物を得る反応は、塩を作用させて加熱することによって行うことができる。塩としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、具体的には、金属塩、例えば金属ハロゲン化物、金属シアン化物、金属炭酸塩、金属リン酸塩、金属カルボン酸塩、金属アミド等を挙げることができ、中でもアルカリ金属塩、例えばアルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ金属シアン化物、アルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属炭酸塩、及びアルカリ金属アミドが好ましく、アルカリ金属ハロゲン化物、アルカリ金属シアン化物は更に好ましい。アルカリ金属ハロゲン化物としては塩化リチウム、臭化リチウム、ヨウ化リチウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、塩化カリウム、臭化カリウム、ヨウ化カリウムを、アルカリ金属シアン化物としては青酸ナトリウム、青酸カリウムを、アルカリ金属リン酸塩としてはリン酸三カリウムを、アルカリ金属炭酸塩としては炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸セシウム、炭酸カリウム及び炭酸水素カリウムをそれぞれ好ましく挙げることができる。また、チオールと塩基を作用させて反応させてもよい。使用するチオールとしては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、例えば、E. Keinan, D. Eren, J. Org. Chem. 1986, 51, 3165-3169.に記載のチオールを使用することが好ましく、チオフェノール誘導体であることが好ましい。使用する塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、金属炭酸塩であることが好ましい。

脱炭酸の際の加熱温度は、８０℃〜１８０℃の温度であることが好ましく、９０℃〜１５０℃であることが好ましく、１００℃〜１３０℃であることがより好ましい。

反応時に使用する溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、１，４−ジオキサン、１,３−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびｔ-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはクロロホルム、ジクロロメタン、１,２−ジクロロエタンおよび四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン等を好例として挙げることができる。中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒およびジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等の極性溶媒がより好ましい。また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。

脱炭酸反応の際には空気中で行ってもよく、空気中の酸素による酸化の影響や結晶中に水分が取り込まれることを防ぐため、希ガス又は窒素雰囲気下等の不活性雰囲気下で行ってもよい。ただし、脱炭酸反応時に二酸化炭素が発生するため、脱炭酸反応を密閉系にて行う場合は、発生した二酸化炭素によって生じる圧力変化に耐え得る条件の密閉系とすることが好ましい。

一般式（ｉ）においてＲ^ｉ１及びＲ^ｉ２は共に水素原子を表すことはなく、且つ、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２中の少なくとも１個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^ｉ４−に置換されている。したがって、一般式（ｉ）で表される化合物は、脱炭酸反応の反応点以外に炭化水素ではない部位を有するため、脱炭酸の反応速度が低下してしまうが、本発明では、脱炭酸反応において、塩に含まれるアニオンが、エステル部位に対して求核攻撃をするという反応機構に着目し、エステル部位の炭化水素基を立体的に小さくするためにメチル基に限定することにより、反応速度を速くすることができる。また、脱炭酸反応時の塩の存在と加熱により、一般式（ｉ）及び一般式（ｉｉ）で表される化合物の分解が抑制され、収率を向上させることができる。

Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２のアルキル基中の−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−で置換されていることが好ましく、−Ｏ−で置換されていることがより好ましい。また、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２のアルキル基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましく、１〜８であることが好ましい。

Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２は、アルキル基が互いに結合して環を形成してもよく、環を形成する場合、環の炭素原子数は、５又は６で形成することができる。また、形成した環中の−ＣＨ_２−が−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^ｉ４−に置換されていてもよい。Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２が互いに結合して環を形成する場合、例えば以下の一般式（ｉ−ａ）に表すように、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２のそれぞれのアルキル基の末端が結合して環を形成してもよいが、以下の一般式（ｉ−ｂ）に表すように、Ｒ^ｉ１のアルキル基中の−ＣＨ_２−にＲ^ｉ２のアルキル基が結合することにより環を形成してもよい。なお、（ｉ−ａ）及び（ｉ−ｂ）では、形成した環が六員複素環式化合物である例をあげたが、これに限定されるものではない。

（式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表し、Ｘ^ｉａ１及びＸ^ｉａ２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−ＮＲ^ｉａ１−、−Ｓ−又は−ＣＨ_２−を表すが、Ｘ^ｉａ１及びＸ^ｉａ２の少なくとも１つは−Ｏ−、−ＮＲ^ｉａ１−、−Ｓ−のいずれかを表し、Ｒ^ｉａ１は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）

（式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表し、Ｘ^ｉｂ１及びＸ^ｉｂ２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−ＮＲ^ｉｂ２−、−Ｓ−又は−ＣＨ_２−を表すが、Ｘ^ｉｂ１及びＸ^ｉｂ２の少なくとも１つは−Ｏ−、−ＮＲ^ｉｂ２−、−Ｓ−のいずれかを表し、Ｒ^ｉｂ１は炭素原子数１〜１７のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉｂ３−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉｂ４−に置換されていてもよい。）
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
（ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉｂ１中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉｂ２、Ｒ^ｉｂ３及びＲ^ｉｂ４はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
Ｒ^ｉ３は炭素原子数１〜１２のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１〜８のアルキル基であることが好ましく、１〜５のアルキル基であることがより好ましい。また、Ｒ^ｉ３が炭素原子数２〜２０のアルキル基であるとき、アルキル基中の１個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−で置換されていることが好ましく、−Ｏ−で置換されていることがより好ましい。

一般式（ｉ）で表される化合物は、以下の一般式（ｉ−１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲ^ｉ１及びＲ^ｉ２と同じ意味を表し、Ｒ^ｉ１３は水素原子又は炭素原子数１〜１９のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ１３中の１個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ１４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ１５−に置換されていてもよい。）
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
（ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよいが、Ｒ^ｉ１３中の１個以上の−ＣＨ_２−が置換されることによって一般式（ｉ−１）は式中に２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表さず、
Ｒ^ｉ１３中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ１４及びＲ^ｉ１５は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
一般式（ｉ−１）において、Ｒ^ｉ１３は炭素原子数１〜８のアルキル基又は炭素原子数２〜８のアルケニル基であることが好ましく、炭素原子数１〜５のアルキル基又は炭素原子数２〜５のアルケニル基であることが好ましい。中でも、Ｒ^ｉ１３は炭素原子数１を表すこと、すなわち一般式（ｉ−１）がマロン酸ジメチル誘導体を表すことがより好ましい。

ここで、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の−ＣＨ_２−が置換されることによって一般式（ｉ）は式中に２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表すことはない。一般式（ｉ）は式中に１つのβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を必須として有するものであるが、例えば、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の−ＣＨ_２−が−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−に置換されることによって、他のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造が形成されることを除くことで、本発明における脱炭酸反応に影響を及ぼさないようにするためである。

なお、２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表すものとしては、例えば以下の一般式で表される化合物等が挙げられる。

（式中、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲ^ｉ２及びＲ^ｉ３と同じ意味を表し、Ｒは炭素原子数１〜１５のアルキル基を表す。）
一般式（ｉ−１）で表される化合物は、以下の一般式（ｉ−２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１３は一般式（ｉ−１）中のＲ^ｉ１３と同じ意味を表し、
Ｒ^ｉ２１は水素原子又は炭素原子数１〜１７のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ２１中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ２４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ２１中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていてもよく、
Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−、−Ｓ−又は−ＣＨ_２−を表すが、Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の少なくとも１つは−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−、−Ｓ−のいずれかを表し、
Ｚ^ｉ２１は単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
Ａ^ｉ２１は
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ２６−に置換されていてもよい。）
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよく、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。）
（ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよく、ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、
Ｒ^ｉ２４、Ｒ^ｉ２５及びＲ^ｉ２６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、
ｍ^ｉ２１は０，１，２又は３を表すが、ｍ^ｉ２１が２又は３であってＺ^ｉ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていてもよく、ｍ^ｉ２１が２又は３であってＡ^ｉ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていてもよい。）
一般式（ｉ−２）において、Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の少なくともいずれか一つ以上が−Ｏ−又は−Ｓ−を表すことが好ましく、−Ｏ−を表すことがより好ましい。また、Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の両方が−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−又は−Ｓ−を表すことが好ましく、両方が−Ｏ−又は−Ｓ−を表すことが好ましく、両方が−Ｏ−を表すことがより好ましい。Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の少なくともいずれか一つが−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−又は−Ｓ−のいずれかで置換されている場合、塩を用いて脱炭酸を行う際、一般式（ｉ−２）においてカチオン成分を捕捉した構造が安定となることから、得られる化合物がシス体選択的となる。

すなわち、塩として「ＭＸ（式中、Ｍは金属カチオンを表し、Ｘはカウンターアニオンを表す）」を使用し、一般式（ｉ−２）においてＸ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の少なくともいずれか一つが−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−又は−Ｓ−のいずれかで置換されている化合物の脱炭酸反応を行った場合、以下のような、Ｘ^ｉ２１及び／又はＸ^ｉ２２中のヘテロ原子とカルボニルの酸素原子により、カチオン成分をキレートした構造が安定化に寄与するため、シス選択的に反応が進行すると考えられる。

（図中、Ｒ^ｉ２１、Ｒ^ｉ１３、Ａ^ｉ２１、Ｚ^ｉ２１及びｍ^ｉ２１は一般式（ｉ−２）中のＲ^ｉ２１、Ｒ^ｉ１３、Ａ^ｉ２１、Ｚ^ｉ２１及びｍ^ｉ２１と同じ意味表し、Ｍ^＋は金属カチオンを表す。）
図中のＭ^＋は、リチウムカチオン、カリウムカチオン、ナトリウムカチオン等を挙げることができる。

よって、本発明によると、一般式（ｉ−２）で表される化合物に対して脱炭酸を行うと、シス（ｃｉｓ）体を高い割合で得られる。具体的には、一般式（ｉ−２）で表される化合物に対する脱炭酸反応により得られた２，５−二置換六員複素環式化合物において、トランス−２，５−二置換六員複素環式化合物の質量に対するシス−２，５−二置換六員複素環式化合物の質量の比の値である、（シス体の質量）／（トランス体の質量）の値が、４以上であることが好ましく、４．５以上であることが好ましく、５以上であることがより好ましい。（シス体の質量）／（トランス体の質量）は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー又はNMR（Nuclear Magnetic Resonance）により測定することができる。

なお、一般式（ｉ−２）で表される化合物が複数の二置換環式構造を有する場合、例えば「トランス，トランス体」、「トランス，シス体」、「シス，トランス体」、「シス，シス体」等の異性体が存在するが、本発明では、「シス体」とは一般式（ｉ−２）中に少なくとも１つ以上のシス体を表す異性体とし、「トランス体」とは一般式（ｉ−２）中の全てがトランス体を表す異性体とする。

Ｚ^ｉ２１は−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合であることが好ましく、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−又は単結合であることがより好ましい。

Ａ^ｉ２１はトランス−１，４−シクロヘキシレン基、無置換のナフタレン−２，６−ジイル基又は無置換の１，４−フェニレン基であることが好ましい。また、Ａ^ｉ２１中の−ＣＨ_２−、−ＣＨ＝又は水素原子が置換された基としては、以下の基が好ましい。

Ｒ^ｉ２１は水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数２〜８のアルケニル基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、フッ素原子、シアノ基、−ＣＦ_３又は−ＯＣＦ_３であることが好ましく、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子又はフッ素原子であることが特に好ましい。また、直鎖状であることが好ましい。

好ましい化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２２、Ｚ^ｉ２１及びＡ^ｉ２１はそれぞれ独立して一般式（ｉ−２）中のＲ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２２、Ｚ^ｉ２１及びＡ^ｉ２１と同じ意味を表し、Ｙ^ｉ２ａ１、Ｙ^ｉ２ａ２、Ｙ^ｉ２ｂ１、Ｙ^ｉ２ｂ２、Ｙ^ｉ２ｃ１、Ｙ^ｉ２ｃ２、Ｙ^ｉ２ｃ３、Ｙ^ｉ２ｄ１、Ｙ^ｉ２ｄ２及びＹ^ｉ２ｄ３はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ｒ^ｉ２ａ１、Ｒ^ｉ２ｂ１、Ｒ^ｉ２ｃ１及びＲ^ｉ２ｄ１はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数２〜５のアルケニル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、シアノ基、−ＣＦ_３又は−ＯＣＦ_３を表す。）
一般式（ｉ−２ａ）で表される化合物としては、下記一般式（ｉ−２ａ−１）〜一般式（ｉ−２ａ−６）がより好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ａ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ−２ａ）中のＲ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ａ１と同じ意味を表す。）
一般式（ｉ−２ｂ）で表される化合物としては、下記一般式（ｉ−２ｂ−１）〜一般式（ｉ−２ｂ−２２）がより好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｂ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ−２ｂ）中のＲ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｂ１と同じ意味を表す。）
一般式（ｉ−２ｃ）で表される化合物としては、下記一般式（ｉ−２ｃ−１）〜一般式（ｉ−２ｃ−６）がより好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｃ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ−２ｃ）中のＲ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｃ１と同じ意味を表す。）
一般式（ｉ−２ｄ）で表される化合物としては、下記一般式（ｉ−２ｄ−１）〜一般式（ｉ−２ｄ−１０）がより好ましい。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｄ１はそれぞれ独立して一般式（ｉ−２ｄ）中のＲ^ｉ１３、Ｘ^ｉ２２及びＲ^ｉ２ｄ１と同じ意味を表す。）
一般式（ｉ）において、１，３−ジオキサンを有する以下の一般式（ｉ−３）で表される化合物は、例えば以下のようにして製造できる。

一般式（ｉｉｉ）

（式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表す。）
で表される化合物と、一般式（ｉｖ）

（式中、Ｒ^ｉ３１は水素原子又は炭素原子数１〜１７のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ３１中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ３４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
（ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ３５−に置換されていてもよい。）
（ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
（ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ３１中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていてもよく、
Ｒ^ｉ３４及びＲ^ｉ３５は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
で表される化合物を脱水縮合させて反応させることにより、一般式（ｉ）で表される化合物として一般式（ｉ−３）

（式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表し、Ｒ^ｉ３１は一般式（ｉｖ）中のＲ^ｉ３１と同じ意味を表す。）
で表される化合物を得ることができる。

使用する溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族系溶媒、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒が好ましく、ベンゼン、トルエン、ジイソプロピルエーテル又はジクロロメタンが好ましい。

反応温度としては、反応を好適に進行させる温度であればいずれでも構わないが、室温から反応溶媒が還流するまでの温度が好ましく、使用している溶媒が水と共沸するものである場合には還流下反応により生成した水をディーン・スターク装置等を用いて分離、除去する事が特に好ましい。

使用する酸触媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、ｐ−トルエンスルホン酸、クロロトリメチルシラン、硫酸等が好ましく、ｐ−トルエンスルホン酸又は硫酸が更に好ましい。

本発明では、脱炭酸反応により得られる一般式（ｉｉ）で表される化合物を、精製することが好ましい。精製方法としてはクロマトグラフィー、再結晶、蒸留、昇華、再沈殿、吸着、分液処理等が挙げられる。精製剤を用いる場合、精製剤としてシリカゲル、アルミナ、活性炭、活性白土、セライト、ゼオライト、メソポーラスシリカ、カーボンナノチューブ、カーボンナノホーン、備長炭、木炭、グラフェン、イオン交換樹脂、酸性白土、二酸化ケイ素、珪藻土、パーライト、セルロース、有機ポリマー、多孔質ゲル等が挙げられる。

本発明では、一般式（ｉ−２）で表される化合物を脱炭酸により得られる以下の一般式（ｉｉ−２）で表される化合物の、シス−２，５−二置換六員複素環式化合物とトランス−２，５−二置換六員複素環式化合物を含む混合物に対し、酸又は塩基を反応させることにより、混合物中のシス体の質量に対するトランス体の質量の比の値である、（トランス体の質量）／（シス体の質量）の値を、酸又は塩基と反応する前の（トランス体の質量）／（シス体の質量）の値より大きくしてもよい。

（式中、Ｒ^ｉ１３、Ｒ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２２、Ｚ^ｉ２１、Ａ^ｉ２１及びｍ^ｉ２１は一般式（ｉ−２）中のＲ^ｉ１３、Ｒ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２１、Ｘ^ｉ２２、Ｚ^ｉ２１、Ａ^ｉ２１及びｍ^ｉ２１と同じ意味を表す。）
一般式（ｉｉ−２）で表される化合物はカルボニル基を含み、カルボニル基のα位のプロトンが活性であることから、本発明では、酸性条件又は塩基性条件のどちらでもケト−エノール互変異性が起きるため、異性化が促進される。使用する酸及び塩基としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、具体的には、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、リチウムジイソピロピルアミド、水素化ナトリウム、水素化カリウム、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピロリジン、ピリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−4−アミノピリジン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−5−エン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の塩基、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、三フッ化ほう素、塩化アルミニウム、四塩化チタン等の酸が挙げられる。酸性条件下では、一般式（ｉｉ−２）においてＸ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の両方が−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−又は−Ｓ−のいずれかを表す複素環の開環−閉環により、異性化がより促進されるため、好ましい。

また、より高い選択性でトランス体の化合物を得るために、前述した例の中でも、金属カチオンを含まないｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のブレンステッド酸、及び三フッ化ほう素等のルイス酸を使用する事が好ましく、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のブレンステッド酸がより好ましい。金属カチオンを系内に存在して異性化反応を行う場合、カルボニル基の酸素原子と複素環内のヘテロ原子による金属カチオンをキレートした構造が安定化に寄与するため、速度論的または熱力学的にシス体の生成が有利になることが推定されるためである。

ブレンステッド酸と反応させるときの温度は、０℃〜１５０℃であることが好ましく、５０℃〜１３０℃の温度であることがより好ましく、ルイス酸と反応させるときの温度は、−７８℃〜１００℃であることが好ましく、−７８℃〜２５℃の温度であることがより好ましく、塩基と反応させるときの温度は、−４０℃〜１５０℃であることが好ましく、０℃〜１００℃の温度であることがより好ましい。

反応時に使用する溶媒としては、反応を好適に進行させるものであればいずれでも構わないが、エーテル系溶媒、塩素系溶媒、炭化水素系溶媒、芳香族系溶媒および極性溶媒等を好ましく用いることができる。エーテル系溶媒としては、1,4-ジオキサン、1,3-ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルおよびｔ-ブチルメチルエーテル等を、塩素系溶媒としてはジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタンおよび四塩化炭素等を、炭化水素系溶媒としてはペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタンおよびオクタン等を、芳香族系溶媒としてはベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼンおよびジクロロベンゼン等を、極性溶媒としてはN,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシドおよびスルホラン、メタノール等を好例として挙げることができる。

ブレンステッド酸と反応させる場合、中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒およびベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒がより好ましい。

ルイス酸と反応させる場合、中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒がより好ましい。
塩基と反応させる場合、中でも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系溶媒およびジメチルスルホキシド、N,N-ジメチルホルムアミド等の極性溶媒がより好ましい。
また、前記の各溶媒を単独で使用しても、2種もしくはそれ以上の溶媒を混合して使用してもよい。

異性化反応の際には空気中で行ってもよいし、空気中の酸素による酸化の影響や結晶中に水分が取り込まれることを防ぐため、希ガス又は窒素雰囲気下等の不活性雰囲気下で行ってもよい。中でも、ルイス酸を使用して異性化反応を行う場合は、活性雰囲気下で、且つ、禁水条件で行うことが好ましい。 本発明は、一般式（ｉｉ−２）で表される２，５−二置換六員複素環式化合物の、シス−２，５−二置換六員複素環式化合物とトランス−２，５−二置換六員複素環式化合物を含む混合物において、シス−２，５−二置換六員複素環式化合物（シス体）の質量に対するトランス−２，５−二置換六員複素環式化合物（トランス体）の質量の比の値である、（トランス体の質量）／（シス体の質量）の値が、酸又は塩基と反応する前の（トランス体の質量）／（シス体の質量）の値より大きいものである。酸又は塩基と反応させた後の（トランス体の質量）／（シス体の質量）の値は、１／９以上が好ましく、２／８以上が好ましく、３／７以上が好ましく、４／６以上が好ましく、５／５以上が好ましく、６／４以上が好ましく、７／３以上が好ましく、８／２以上が好ましく９／１以上が好ましい。酸性条件下ではシス体からトランス体への異性化がより促進されるため、トランス体の比率を大きくすることができる。（シス体の質量）／（トランス体の質量）は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー又はNMR（Nuclear Magnetic Resonance）により測定することができる。

なお、前記一般式（ｉ）で表される化合物、一般式（ｉ−１）で表される化合物、一般式（ｉ−２）で表される化合物、一般式（ｉ−３）で表される化合物、一般式（ｉｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ−２）で表される化合物において、
Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２、Ｒ^ｉ３、Ｒ^ｉ１３、Ｒ^ｉ２１及びＲ^ｉ３１中の２個以上の−ＣＨ_２−がそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−に置換される場合、隣接する２個以上の−ＣＨ_２−が上記−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−に置換されることはない。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。得られた化合物のｃｉｓ／ｔｒａｎｓの比率はＮＭＲにより決定した。ＮＭＲの解析、およびシス、トランスの決定には、以下の非特許文献を参考にした。
E. Juaristi, F. Diaz, G. Cuellar, H. A. Jimenez-Vazquez, J. Org. Chem. 1997, 62, 4029-4035.
収率は、単離により、もしくはガスクロマトグラフィー（以下ＧＣ）（カラム：ＤＢ−１７ｍｓ ３０ｍ、膜厚０．２５μｍ、内径０．２５ｍｍ、検出器：ＦＩＤ）を用い、測定を行う各成分のピーク面積比を、各成分の割合として算出した。なお、本発明において上記カラムを使用する場合には、分析を行った各成分のピーク面積比は、各成分の質量％にほぼ対応している。各成分の化合物における補正係数にほとんど差が無いからである。 以下の実施例及び比較例における「%」は特段の指定のない限り『質量%』を意味する。
以下、下記の略語を使用する。
Ｍｅ：メチル基
Ｅｔ：エチル基
ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
ＤＭＦ：ジメチルホルムアミド
ＰＴＳＡ・Ｈ_２Ｏ：ｐ−トルエンスルホン酸一水和物
ＴＨＦ：テトラヒロドフラン
ａｑ．：水溶液
（実施例１）

（１−１）窒素雰囲気下、マロン酸ジメチル（３２０．３ｇ）、ホルムアルデヒド液（３６％水溶液、４３５．４ｇ）のＴＨＦ（２Ｌ）溶液に氷冷下、トリエチルアミン（４．６ｇ）を滴下した。反応溶液を室温にて１日撹拌後、溶媒を減圧留去した。塩化ナトリウム（１５０ｇ）、水（４００ｍＬ）及び酢酸エチル（５００ｍＬ）を加えて分液し、水層を酢酸エチルで３回（４００ｍＬ、３００ｍＬ、２００ｍＬ）抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去する事で無色油状物質（４３６．３ｇ）を得た。ジクロロメタン（３５０ｍＬ）及びヘキサン（２２０ｍＬ）の混合溶媒から再結晶を行い、ビス（ヒドロキシメチル）マロン酸ジメチル（２１８．７ｇ、収率４７％）を白色固体として得た。

（１−２）窒素雰囲気下、ｐ−ブロモベンズアルデヒド（４４．３ｇ）、ビス（ヒドロキシメチル）マロン酸ジメチル（７２．０ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（２．３ｇ）、シクロヘキサン（２２０ｍＬ）及びジイソプロピルエーテル（４５ｍＬ）の混合物を３時間加熱還流し、ディーン・スターク装置を用いて脱水した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２００ｍＬ）を加えて分液し、水層を酢酸エチル（２００ｍＬ）で３回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去する事で無色油状物質（８３．２ｇ）を得た。エタノール（２５０ｍＬ）及びヘキサン（８０ｍＬ）の混合溶媒から再結晶を行い、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（７１．１ｇ、収率８３％）を白色固体として得た。

（１−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１０．０ｇ）、塩化リチウム（２．３ｇ）、水（０．５ｇ）及びジメチルスルホキシド（２０ｍＬ）の混合物を１２０℃にて６時間加熱撹拌した。放冷後、水（５０ｍＬ）を加えて氷冷し、ろ過により得られた白色沈殿を水洗し、減圧下で乾燥させた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１０ｇ、移動相：酢酸エチル／トルエン＝１／１→１／３）により精製する事で２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（８．３ｇ、収率９９％、シス／トランス＝９１／９）を白色固体として得た。これをアセトン／メタノール混合溶媒から再結晶することにより、シス−２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（６．０ｇ、収率７１％、ＮＭＲにてトランス未検出）を白色固体として得た。
シス−２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン
^１Ｈ ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝２．４４（ｓ，１Ｈ），３．８１（ｓ，３Ｈ），４．１０（アキシアル，ｍ，２Ｈ），４．７２（エカトリアル，ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ），５．４７（ｓ，１Ｈ），７．３２（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ），７．４７（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，２．０Ｈｚ）
［Ｍ］：３００

（１−４）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（５１．４ｇ、シス／トランス＝８９／１１）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．６ｇ）、シクロヘキサン（１５０ｍＬ）及びジイソプロピルエーテル（５０ｍＬ）の混合物を２時間加熱還流した。放冷後、トルエン（２００ｍＬ）、ＴＨＦ（１００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）及び水（２００ｍＬ）を加えて分液し、水層をトルエン／ＴＨＦ＝１／２の混合溶媒で２回（３００ｍＬ、１５０ｍＬ）抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてアセトン／エタノール混合溶媒から再結晶することにより、トランス−２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（４４．０ｇ、収率８６％、ＮＭＲにてシス未検出）を白色固体として得た。
トランス−２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン
^１Ｈ ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝３．１４（ｍ，１Ｈ），３．７１（ｓ，３Ｈ），３．９８（アキシアル，ｔ，２Ｈ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ），４．４６（エカトリアル，ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１２．０Ｈｚ，４．８Ｈｚ），５．３９（ｓ，１Ｈ），７．３５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．５０（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
［Ｍ］：３００
（実施例２）

（２−１）窒素雰囲気下、４−クロロ−３−フルオロベンズアルデヒド（２７．６ｇ）、ビス（ヒドロキシメチル）マロン酸ジメチル（５０．０ｇ）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．７ｇ）、シクロヘキサン（１３５ｍＬ）及びジイソプロピルエーテル（３０ｍＬ）の混合物を２時間加熱還流し、ディーン・スターク装置を用いて脱水した。放冷後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（２０ｍＬ）及び水（１００ｍＬ）を加えて氷冷し、ろ過により得られた白色沈殿を水洗し、減圧下で乾燥させた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル６０ｇ、移動相：ヘキサン／トルエン＝１／２混合溶媒）、続くエタノール／ヘキサン＝３／１の混合溶媒から再沈殿を行う事により、２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（４９．７ｇ、収率８６％）を白色固体として得た。

（２−２）窒素雰囲気下、２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（４８．０ｇ）、塩化リチウム（１２．０ｇ）、水（１３．０ｇ）及びジメチルスルホキシド（１００ｍＬ）の混合物を１３０℃にて５時間半加熱撹拌した。放冷後、水（２００ｍＬ）を加えて氷冷し、ろ過により得られた白色沈殿を水洗し、減圧下で乾燥させた。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル４０ｇ、移動相：酢酸エチル）により精製する事で２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（３６．３ｇ、収率９２％、シス／トランス＝９１／９）を白色固体として得た。
シス−２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン
^１Ｈ ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝２．４６（ｓ，１Ｈ），３．８２（ｓ，３Ｈ），４．１２（アキシアル，ｍ，２Ｈ），４．７４（エカトリアル，ｄ，２Ｈ，Ｊ＝１１．８Ｈｚ），５．４８（ｓ，１Ｈ），７．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．２７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１．８Ｈｚ），７．３７（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
［Ｍ］：２７４

（２−３）窒素雰囲気下、２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（３２．１ｇ、シス／トランス＝９１／９）、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物（１．１ｇ）、シクロヘキサン（９０ｍＬ）及びジイソプロピルエーテル（３０ｍＬ）の混合物を２時間半加熱還流した。放冷後、トルエン（１００ｍＬ）、ＴＨＦ（２００ｍＬ）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）及び水（１００ｍＬ）を加えて分液し、水層をトルエン／ＴＨＦ＝１／２の混合溶媒（１５０ｍＬ）で２回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。溶媒を減圧留去後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル３０ｇ、移動相：トルエン）により精製し、続いてアセトン／エタノール混合溶媒から再結晶することにより、トランス−２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（２８．２ｇ、収率８８％、ＮＭＲにてシス未検出）を白色固体として得た。
トランス−２−（４−クロロ−３−フルオロフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン
^１Ｈ ＮＭＲ：（ＣＤＣｌ_３、ＴＭＳ内部標準）δ（ｐｐｍ）＝３．１４（ｍ，１Ｈ），３．７２（ｓ，３Ｈ），３．９８（アキシアル，ｔ，２Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ），４．４７（エカトリアル，ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１１．６Ｈｚ，４．８Ｈｚ），５．３９（ｓ，１Ｈ），７．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１．８Ｈｚ），７．３０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．８Ｈｚ，１．８Ｈｚ），７．４０（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）
［Ｍ］：２７４
（実施例３）
（３−１）及び（３−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（３−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化リチウム（２３．４ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１３０℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は８９％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は８％であった。
（実施例４）
（４−１）及び（４−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（４−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、臭化リチウム（４８．７ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１３０℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は８６％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は１０％であった。
（実施例５）
（５−１）及び（５−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（５−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、ヨウ化リチウム（７５．０ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１３０℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は９０％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は６％であった。
（実施例６）
（６−１）及び（６−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（６−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化テトラメチルアンモニウム（６１．６ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１３０℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は２０％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は６０％であった。
（実施例７）
（７−１）及び（７−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（７−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化リチウム（２３．４ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１１５℃にて９時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は９８％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は２％であった。
（実施例８）
（８−１）及び（８−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（８−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化リチウム（２３．４ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を１００℃にて１５時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は９８％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は１％未満であった。
（実施例９）
（９−１）及び（９−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（９−３）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化リチウム（２３．４ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を８０℃にて４時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は１０％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は１％未満であった。
（実施例１０）
（１０−１）及び（１０−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（１０−３）アルゴン雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（９３ｍｇ）、ｐ−アミノチオフェノール（４８ｍｇ）、炭酸セシウム（２５ｍｇ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）の混合物を８５℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンが定量的に得られた。
（実施例１１）
（１１−１）及び（１１−２）
実施例１の（１−１）及び（１−２）と同様の方法により、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを得た。

（１１−３）アルゴン雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（９３ｍｇ）、ｐ−アミノチオフェノール（４８ｍｇ）、炭酸カリウム（１０ｍｇ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）の混合物を８５℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンが定量的に得られた。
（比較例１）

（１−１）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１．０ｇ）、塩化リチウム（２２０ｍｇ）、水（５０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（２．０ｍＬ）の混合物を１３０℃にて１１時間反応させた。ＧＣ分析を行ったところ、反応が完結していなかったため、続いて１４０℃にて６時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、飽和食塩水にて洗浄後、アルミナカラムクロマトグラフィーにより精製したサンプルをＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は７３％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は２１％であった。

実施例１と比較例１より、比較例１に比べ、実施例１では目的の反応がより円滑に進行し、収率が向上した。また、比較例１は、２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの分解が起こり、ｐ−ブロモベンズアルデヒドが生成してしまい、収率が７３％であったのに対して、実施例１では、２−（４−ブロモフェニル）−５−（メトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンを９９％という高い収率で得られた。
（比較例２）

（２−１）空気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００ｍｇ）、酢酸テトラメチルアンモウム（１２７ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（２．０ｍＬ）の混合物を８５℃にて５時間加熱撹拌した。酢酸エチルで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は４％、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率は２６％であった。

実施例６と比較例２より、比較例２に比べ、実施例６では目的の反応がより円滑に進行し、収率が向上した。また、２−（４−ブロモフェニル）−５−（アルコキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率と、ｐ−ブロモベンズアルデヒドの収率の比を考えれば、比較例２よりも実施例６は、分解反応よりも脱炭酸反応が選択的に進行した。
（比較例３）

（３−１）アルゴン雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００ｍｇ）、ｐ−アミノチオフェノール（４８ｍｇ）、炭酸セシウム（２５ｍｇ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（０．５ｍＬ）の混合物を８５℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は４２％であった。

実施例１０と比較例３より、比較例３に比べ、実施例１０では目的の反応がより円滑に進行し、収率が向上した。
（比較例４）

（４−１）アルゴン雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（２００ｍｇ）、ｐ−アミノチオフェノール（９０ｍｇ）、炭酸カリウム（２０ｍｇ）及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１．０ｍＬ）の混合物を８５℃にて１時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣ面積比において、２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンの収率は１４％であった。

実施例１１と比較例４より、比較例４に比べ、実施例１１では目的の反応がより円滑に進行し、収率が向上した。
（比較例５）

（５−１）窒素雰囲気下、２−（４−ブロモフェニル）−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（１００．０ｍｇ）、塩化リチウム（２３．４ｍｇ）、水（５．０ｍｇ）及びジメチルスルホキシド（０．２ｍＬ）の混合物を６０℃にて４時間加熱撹拌した。トルエンで希釈し、水にて洗浄した有機層をサンプルとし、ＧＣにより分析を行った。ＧＣにより、２−（４−ブロモフェニル）−５−（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサンは未検出であった。

実施例９と比較例５より、比較例５は反応が進行しなかったが、実施例９は反応が進行した。
（比較例６）

（６−１）水酸化カリウム（６０ｇ）及び９５％エタノール（５００ｍＬ）の混合物に、２−フェニル−５，５−ビス（エトキシカルボニル）−１，３−ジオキサン（７７．０ｇ）を加え、１時間加熱した。エタノールを減圧下留去し、得られた固体をジクロロメタン（４００ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、この溶液に１０％塩酸を用い酸性にした。この有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することで２−フェニル−５，５−ジカルボキシ−１，３−ジオキサン（２４．１ｇ、収率４０％）を白色固体として得た。
（６−２）続いて、２−フェニル−５，５−ジカルボキシ−１，３−ジオキサン（１０．０ｇ）及びトリエチルアミン（１５ｍＬ）の混合物を４０分間加熱還流した。トリエチルアミンを留去し、得られた固体をジクロロメタン（１００ｍＬ）に溶解させた。氷冷下、この溶液に１０％塩酸を用い酸性（ｐＨ２）にした。この混合物をジエチルエーテル（１００ｍＬ）で２回抽出し、合わせた有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することで２−フェニル−５−カルボキシ−１，３−ジオキサン（７．３ｇ、（６−１）及び（６−２）を経た２段階での収率３５％、トランス／シス＝６０／４０）を得た。このシストランス混合物を、フラッシュカラムクロマトグラフィーで分離することで、シス−２−フェニル−５−カルボキシ−１，３−ジオキサン（２段階での収率１４％）及びトランス−２−フェニル−５−カルボキシ−１，３−ジオキサン（２段階での収率２１％）をそれぞれ白色固体として得た。

実施例１と比較例６より、比較例６は強酸、強塩基の過酷な条件を使用し、さらに２段階の工程が必要だったが、実施例１は温和な中性条件、かつ１段階のみの工程を使用し、高い収率で反応が進行することがわかった。

Claims (8)

1. 一般式（ｉ）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜２０のアルキル基を表すが、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２が共に水素原子を表すことはなく、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
   （ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ５−に置換されていてもよい。）
   （ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   （ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよいが、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の−ＣＨ_２−が置換されることによって一般式（ｉ）は式中に２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表さず、且つ、Ｒ^ｉ１及び／又はＲ^ｉ２中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＮＲ^ｉ４に置換されており、
   Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２は互いに結合して環を形成してもよく、
   Ｒ^ｉ４及びＲ^ｉ５はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
   で表される化合物を脱炭酸反応することによる、一般式（ｉｉ）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉ３と同じ意味を表す。）
   で表される化合物の製造方法。
2. 一般式（ｉ）で表される化合物が、一般式（ｉ−１）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２はそれぞれ独立して一般式（ｉ）中のＲ^ｉ１及びＲ^ｉ２と同じ意味を表し、Ｒ^ｉ１３は水素原子又は炭素原子数１〜１９のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ１３中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ１４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
   （ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ１５−に置換されていてもよい。）
   （ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   （ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよいが、Ｒ^ｉ１３中の１個以上の−ＣＨ_２−が置換されることによって一般式（ｉ−１）は式中に２つ以上のβ−オキソ−カルボニルオキシ構造を表さず、
   Ｒ^ｉ１３中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ１４及びＲ^ｉ１５は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
   で表される化合物である請求項１に記載の化合物の製造方法。
3. 一般式（ｉ−１）で表される化合物が、一般式（ｉ−２）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ１３は一般式（ｉ−１）中のＲ^ｉ１３と同じ意味を表し、
   Ｒ^ｉ２１は水素原子又は炭素原子数１〜１７のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ２１中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ２４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−又は−ＯＣＦ_２−によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ２１中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていてもよく、
   Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２はそれぞれ独立して−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−、−Ｓ−又は−ＣＨ_２−を表すが、Ｘ^ｉ２１及びＸ^ｉ２２の少なくとも１つは−Ｏ−、−ＮＲ^ｉ２５−、−Ｓ−のいずれかを表し、
   Ｚ^ｉ２１は単結合、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−（ＣＨ_２）_４−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表し、
   Ａ^ｉ２１は
   （ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ２６−に置換されていてもよい。）
   （ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよく、この基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。）
   （ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよく、ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する水素原子はフッ素原子に置換されていてもよい。）
   からなる群より選ばれる基を表し、
   Ｒ^ｉ２４、Ｒ^ｉ２５及びＲ^ｉ２６はそれぞれ独立して水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、
   ｍ^ｉ２１は０，１，２又は３を表すが、ｍ^ｉ２１が２又は３であってＺ^ｉ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていてもよく、ｍ^ｉ２１が２又は３であってＡ^ｉ２１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていてもよい。）
   で表される化合物である、請求項２に記載の化合物の製造方法。
4. 一般式（ｉ−２）で表される化合物に対する脱炭酸反応により得られた２，５−二置換六員複素環式化合物において、トランス−２，５−二置換六員複素環式化合物の質量に対するシス−２，５−二置換六員複素環式化合物の質量の比の値である、（シス体の質量）／（トランス体の質量）の値が、４以上である、請求項３に記載の化合物の製造方法。
5. 一般式（ｉｉｉ）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表す。）
   で表される化合物と、一般式（ｉｖ）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ３１は水素原子又は炭素原子数１〜１７のアルキル基を表し、Ｒ^ｉ３１中の１個又は２個以上の−ＣＨ_２−はそれぞれ独立して−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ^ｉ３４−、−Ｎ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ− 、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＣＨ_２Ｏ−、−ＯＣＨ_２−、−ＣＦ_２Ｏ−、−ＯＣＦ_２−又は
   （ａ） １，４−シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ_２−又は隣接していない２個以上の−ＣＨ_２−は−Ｏ−、−Ｓ−及び−ＮＲ^ｉ３５−に置換されていてもよい。）
   （ｂ） １，４−フェニレン基（この基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   （ｃ） ナフタレン−２，６−ジイル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基又はデカヒドロナフタレン−２，６−ジイル基（ナフタレン−２，６−ジイル基又は１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基中に存在する１個の−ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の−ＣＨ＝は−Ｎ＝に置換されていてもよい。）
   からなる群より選ばれる基によって置換されていてもよく、Ｒ^ｉ３１中の１個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子で置換されていてもよく、
   Ｒ^ｉ３４及びＲ^ｉ３５は水素原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
   で表される化合物を反応させることにより、一般式（ｉ）で表される化合物として一般式（ｉ−３）
   

   

   （式中、Ｒ^ｉ３は一般式（ｉ）中のＲ^ｉ３と同じ意味を表し、Ｒ^ｉ３１は一般式（ｉｖ）中のＲ^ｉ３１と同じ意味を表す。）
   で表される化合物を用いて、脱炭酸反応を行う請求項１に記載の化合物の製造方法。
6. 塩を作用させて脱炭酸を行う、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物の製造方法。
7. ８０℃〜１８０℃の温度で脱炭酸を行う、請求項１〜６のいずれか一項に記載の化合物の製造方法。
8. 得られた一般式（ｉｉ）で表される化合物を精製する、請求項１〜７に記載の化合物の製造方法。