JP2721996B2 - 真空発生方法 - Google Patents
真空発生方法Info
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- JP2721996B2 JP2721996B2 JP1152009A JP15200989A JP2721996B2 JP 2721996 B2 JP2721996 B2 JP 2721996B2 JP 1152009 A JP1152009 A JP 1152009A JP 15200989 A JP15200989 A JP 15200989A JP 2721996 B2 JP2721996 B2 JP 2721996B2
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- cavity
- vacuum
- metal hydride
- hydrogen
- hydride
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/02—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by absorption or adsorption
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Filling Or Discharging Of Gas Storage Vessels (AREA)
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 a. 産業上の利用分野 本発明は、特許請求の範囲第１項の上位概念に記載の
空洞体中での真空発生方法に関する。
空洞体中での真空発生方法に関する。
b. 従来の技術 多くの技術的利用例えば電灯，流体ガス導管、いわゆ
る真空断熱等で空洞空間の排気が必要である。排気すべ
き空洞空間の中にあるガス大気は、印加すべき真空の必
要な高さに依存して異なる動作原理で動作する真空ポン
プ（例えば液体ジェットポンプ，往復ポンプ，うず巻き
ポンプ等）を用いて吸込排出される。必要なポンプ動作
時間は性能と排気すべき空間の体積に依存するだけでな
く、排気空間の幾何学的形状により強く影響され、達す
るべき真空の圧力が低いほど不釣り合いに増加する。排
気空間に充填された固体物質（例えば断熱材）または内
側壁に付着している分子状水素層またはガス層も排気の
際に一緒に除去するために、その都度空洞体を排気中に
例えば300℃の温度に加熱することが通常行われる。
る真空断熱等で空洞空間の排気が必要である。排気すべ
き空洞空間の中にあるガス大気は、印加すべき真空の必
要な高さに依存して異なる動作原理で動作する真空ポン
プ（例えば液体ジェットポンプ，往復ポンプ，うず巻き
ポンプ等）を用いて吸込排出される。必要なポンプ動作
時間は性能と排気すべき空間の体積に依存するだけでな
く、排気空間の幾何学的形状により強く影響され、達す
るべき真空の圧力が低いほど不釣り合いに増加する。排
気空間に充填された固体物質（例えば断熱材）または内
側壁に付着している分子状水素層またはガス層も排気の
際に一緒に除去するために、その都度空洞体を排気中に
例えば300℃の温度に加熱することが通常行われる。
高真空を長期間にわたり（多年にわたり）確実に保持
するためにいわゆるゲッター材料を排気された空洞空間
の中に入れることが公知である。ゲッター材料は固体物
質であり、後から排気空間の中で遊離されるまたは外か
らこの中に侵入するガスを収着する特性を有する。この
ための公知の手段は活性炭である。これに加え西独特許
出願第3436754号明細書によりTi−Ｖ−Fe−Al−Cr−Mn
をベースとした金属水素化物をゲッター材料として断熱
容器の真空外套の中の真空の維持のために用いることも
公知である。
するためにいわゆるゲッター材料を排気された空洞空間
の中に入れることが公知である。ゲッター材料は固体物
質であり、後から排気空間の中で遊離されるまたは外か
らこの中に侵入するガスを収着する特性を有する。この
ための公知の手段は活性炭である。これに加え西独特許
出願第3436754号明細書によりTi−Ｖ−Fe−Al−Cr−Mn
をベースとした金属水素化物をゲッター材料として断熱
容器の真空外套の中の真空の維持のために用いることも
公知である。
この場合、真空の発生はポンプによる吸込排出により
行われる。排気空間の中に入れられた金属水素化物の量
は真空空間中で２〜4g/dm3である。
行われる。排気空間の中に入れられた金属水素化物の量
は真空空間中で２〜4g/dm3である。
真空断熱の断熱特性を優れたものにするために少なく
とも10-3ないし10-4mbarのオーダの高真空の保証が必要
である。対応する断熱材の壁は通常は金属製加工材例え
ば特殊鋼により作られる。断熱外套の外側壁と内側壁が
互いに支持することを可能にするためと、輻射による熱
損失を最小にするために空洞空間は幾重にも有孔断熱材
（けいそう土）または繊維状断熱物質（例えばガラス繊
維）により充填される。従って、排気の際に空洞空間か
ら除去されるべきガスの体積は低減される。しかし、同
様に良好な真空を得るためのポンプ動作時間犯、対応す
る空の真空空間のための時間に比して非常に高まる。何
故ならば断熱材により形成されている最小の空洞空間
（例えば細孔）が多数あるためである。例えば“空”の
真空空間では10-3mbarの真空のために30〜60分のポンプ
動作時間が必要とされるのに対し、対応する“充填され
た”真空空間ではポンプ動作時間は約12時間である。従
って、対応する断熱素子の大きいシリーズ生産まして本
格的な大量生産では障害となるオーダのポンプ動作時間
に達してしまう。
とも10-3ないし10-4mbarのオーダの高真空の保証が必要
である。対応する断熱材の壁は通常は金属製加工材例え
ば特殊鋼により作られる。断熱外套の外側壁と内側壁が
互いに支持することを可能にするためと、輻射による熱
損失を最小にするために空洞空間は幾重にも有孔断熱材
（けいそう土）または繊維状断熱物質（例えばガラス繊
維）により充填される。従って、排気の際に空洞空間か
ら除去されるべきガスの体積は低減される。しかし、同
様に良好な真空を得るためのポンプ動作時間犯、対応す
る空の真空空間のための時間に比して非常に高まる。何
故ならば断熱材により形成されている最小の空洞空間
（例えば細孔）が多数あるためである。例えば“空”の
真空空間では10-3mbarの真空のために30〜60分のポンプ
動作時間が必要とされるのに対し、対応する“充填され
た”真空空間ではポンプ動作時間は約12時間である。従
って、対応する断熱素子の大きいシリーズ生産まして本
格的な大量生産では障害となるオーダのポンプ動作時間
に達してしまう。
西独特許出願第1539126号公報により、排気空間から
のガス大気の除去がポンプによる吸込排出をしないで電
気真空放電機器を排気する方法が公知である。この場
合、排気すべき機器のケーシングは水素炉の中に入れら
れ、水素により通常洗浄されながら、450〜500℃に加熱
され、このようにしてすべての異物ガスと、温度の作用
によりガスになる付着している汚物が除去される。
のガス大気の除去がポンプによる吸込排出をしないで電
気真空放電機器を排気する方法が公知である。この場
合、排気すべき機器のケーシングは水素炉の中に入れら
れ、水素により通常洗浄されながら、450〜500℃に加熱
され、このようにしてすべての異物ガスと、温度の作用
によりガスになる付着している汚物が除去される。
加熱の開始時にケーシングの中に、チタン粉末により
ほぼ充填されている排気されているカプセルが入れられ
る。十分に水素洗浄を行った後、ケーシングの中にある
洗浄開口部が気密に閉じられケーシングが冷却される。
ついで、外から作動可能な装置によりチタン入りカプセ
ルが穿孔され、このようにしてケーシング中の水素がチ
タン粉末に達する。水素化物を生成する特性を有するの
でチタンはガス状水素を貧欲に収着し、このようにして
ケーシングの内部に真空が発生する。この方法は、水素
化物生成物質であるチタンを気密に囲むカプセルを使用
することと、穿孔機構が必要であることと、水素大気を
有する特殊炉が必要であることのため非常に煩わしく危
険であり（爆発のおそれ）従って大きいシリーズ製造に
はあまり適していない。
ほぼ充填されている排気されているカプセルが入れられ
る。十分に水素洗浄を行った後、ケーシングの中にある
洗浄開口部が気密に閉じられケーシングが冷却される。
ついで、外から作動可能な装置によりチタン入りカプセ
ルが穿孔され、このようにしてケーシング中の水素がチ
タン粉末に達する。水素化物を生成する特性を有するの
でチタンはガス状水素を貧欲に収着し、このようにして
ケーシングの内部に真空が発生する。この方法は、水素
化物生成物質であるチタンを気密に囲むカプセルを使用
することと、穿孔機構が必要であることと、水素大気を
有する特殊炉が必要であることのため非常に煩わしく危
険であり（爆発のおそれ）従って大きいシリーズ製造に
はあまり適していない。
カプセルを準備することに関して西独特許出願公開第
1539126号明細書には、同様に水素炉が用いられる類似
の方法が説明されている。ガスの貫流のための一連の開
口部が設けられているカプセルの中のふるい状の中間底
の上に、カプセルの体積の約半分を充填する量の粉末状
のチタン水素化物が置かれる。ついでカプセルは、水素
洗浄された炉の中に入れられ700℃を越える温度に加熱
され、このようにしてチタン水素化物の中に結合されて
いる水素はほぼ完全に遊離される。遊離された水素は炉
中の大気の中の水素と共働してカプセルの内部を徹底的
に洗浄し、すなわちすべての異物ガス成分を追放する。
約1000℃まで温度をさらに高めることにより、洗浄開口
部の直接の近傍に設けられている硬質はんだディスクが
溶融し、このようにしてカプセルの冷却後にすべての洗
浄開口部が気密に閉じられる。
1539126号明細書には、同様に水素炉が用いられる類似
の方法が説明されている。ガスの貫流のための一連の開
口部が設けられているカプセルの中のふるい状の中間底
の上に、カプセルの体積の約半分を充填する量の粉末状
のチタン水素化物が置かれる。ついでカプセルは、水素
洗浄された炉の中に入れられ700℃を越える温度に加熱
され、このようにしてチタン水素化物の中に結合されて
いる水素はほぼ完全に遊離される。遊離された水素は炉
中の大気の中の水素と共働してカプセルの内部を徹底的
に洗浄し、すなわちすべての異物ガス成分を追放する。
約1000℃まで温度をさらに高めることにより、洗浄開口
部の直接の近傍に設けられている硬質はんだディスクが
溶融し、このようにしてカプセルの冷却後にすべての洗
浄開口部が気密に閉じられる。
閉じて囲まれている水素大気はチタン粉末により貧欲
に収着され、このようにして真空が生ずる。しかしこの
真空は、電気機器を排気するためにカプセルを用いるこ
とに関しては何らの直接の機能を果たさず、ただチタン
粉末の収着容量を保持するためにのみ用いられる。すな
わちこれは単なる“補助真空”であり、これに比べて体
積が非常に大きい空洞体の中に生ずる本来発生すべき
“使用真空”ではない。必要な加熱温度が高いのでこの
方法も、大きい空洞空間を排気する利用例にはほとんど
の場合に考慮の対象とはならない。何故ならばこのよう
な温度では空洞空間壁の加工材の特性は許容されない動
作で幾十にも変化するからである。
に収着され、このようにして真空が生ずる。しかしこの
真空は、電気機器を排気するためにカプセルを用いるこ
とに関しては何らの直接の機能を果たさず、ただチタン
粉末の収着容量を保持するためにのみ用いられる。すな
わちこれは単なる“補助真空”であり、これに比べて体
積が非常に大きい空洞体の中に生ずる本来発生すべき
“使用真空”ではない。必要な加熱温度が高いのでこの
方法も、大きい空洞空間を排気する利用例にはほとんど
の場合に考慮の対象とはならない。何故ならばこのよう
な温度では空洞空間壁の加工材の特性は許容されない動
作で幾十にも変化するからである。
c. 発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、できるだけ簡単でしかもコスト的に
も好適な方法で空洞空間の迅速な排気を可能にする方
法、特に“充填された”排気空間の中に高真空を迅速に
発生するために適し、高い加熱により加工材の特性を劣
化することを導かない方法を提供することにある。
も好適な方法で空洞空間の迅速な排気を可能にする方
法、特に“充填された”排気空間の中に高真空を迅速に
発生するために適し、高い加熱により加工材の特性を劣
化することを導かない方法を提供することにある。
d. 課題を解決するための手段 上記課題は本発明により特許請求の範囲第１項記載の
特徴部分に記載の特徴を有する方法により解決される。
本発明の有利な実施例は特許請求の範囲第２項ないし第
７項に記載されている。
特徴部分に記載の特徴を有する方法により解決される。
本発明の有利な実施例は特許請求の範囲第２項ないし第
７項に記載されている。
本発明の根本の考えはゲッター材料として前に述べた
金属水素化物が、真空を維持するというその機能を越え
て真空を発生するために用いられることにある。このた
めに、金属水素化物を比較的大量に排気空間の中に入れ
る必要がある。
金属水素化物が、真空を維持するというその機能を越え
て真空を発生するために用いられることにある。このた
めに、金属水素化物を比較的大量に排気空間の中に入れ
る必要がある。
しかしこの量は、もとの排気体積の最大５％有利には
３％より小さい体積がこれにより充填されるように制限
される。水素により充填されている金属水素化物は排気
空間の加熱中に水素ガスを、排気空間の洗浄が作用され
るようにすなわちもとからあるガス大気が遊離水素ガス
により完全に追放される量で遊離する（通常の圧力では
排気体積の少なくとも３ないし10倍である）。排気空間
と、必要な場合にはこの排気空間の中に入れられた充填
材（例えば断熱材）の前処理が汚物の除去に関して良好
であればあるほど水素化物の必要量は小さい。洗浄では
水素ガスの多くの特性が非常に好適に作用する。例え
ば、 ・分子の大きさからして水素ガスは断熱材における最小
空洞空間の中に非常に迅速に侵入し他のガスを追出す。
３％より小さい体積がこれにより充填されるように制限
される。水素により充填されている金属水素化物は排気
空間の加熱中に水素ガスを、排気空間の洗浄が作用され
るようにすなわちもとからあるガス大気が遊離水素ガス
により完全に追放される量で遊離する（通常の圧力では
排気体積の少なくとも３ないし10倍である）。排気空間
と、必要な場合にはこの排気空間の中に入れられた充填
材（例えば断熱材）の前処理が汚物の除去に関して良好
であればあるほど水素化物の必要量は小さい。洗浄では
水素ガスの多くの特性が非常に好適に作用する。例え
ば、 ・分子の大きさからして水素ガスは断熱材における最小
空洞空間の中に非常に迅速に侵入し他のガスを追出す。
・比重が小さいので、出口開口部を下に設けると無駄の
ない追出し効果が得られる。何故ならば他のガスの比重
はより大きく従ってこれらのガスは下から流出するから
である。
ない追出し効果が得られる。何故ならば他のガスの比重
はより大きく従ってこれらのガスは下から流出するから
である。
・還元効果を有するので排気空間の中の表面吸着層、そ
して吸収層もより簡単に除去される。
して吸収層もより簡単に除去される。
排気空間の加熱は本発明により、400℃ないし最大500
℃に制限されるので加工材が損なわれるおそれがない。
有利にはこの加熱は、金属水素化物が最終段階で（必要
な場合には別個に加熱することにより）特に強く加熱さ
れるように行われる。いずれにしても、蓄積されている
水素ガスは金属水素化物から大幅に遊離されなければな
らない。
℃に制限されるので加工材が損なわれるおそれがない。
有利にはこの加熱は、金属水素化物が最終段階で（必要
な場合には別個に加熱することにより）特に強く加熱さ
れるように行われる。いずれにしても、蓄積されている
水素ガスは金属水素化物から大幅に遊離されなければな
らない。
このようにして、排気空間を閉じた後に特に良好な吸
収能力が達せられる。排気空間に真空が、脱水された水
素化物を冷却する際に残りの水素ガス大気が完全に収着
されることにより発生する。排気空間に後に加わる最大
動作温度でその放出圧力が、要求される真空の圧力段階
より必ず小さいように、用いられる金属水素化物は対応
する蓄積特性（圧力−温度特性）を有しなければなら
ず、金属水素化物は加熱段階で対応して前もって与えら
れている高い温度に加熱される。好適には金属水素化物
のための合金はこの合金が、空洞体の後の通常動作温度
を約200〜300K上回る温度で初めて、蓄積されている水
素の大幅な遊離に到るように選択される。
収能力が達せられる。排気空間に真空が、脱水された水
素化物を冷却する際に残りの水素ガス大気が完全に収着
されることにより発生する。排気空間に後に加わる最大
動作温度でその放出圧力が、要求される真空の圧力段階
より必ず小さいように、用いられる金属水素化物は対応
する蓄積特性（圧力−温度特性）を有しなければなら
ず、金属水素化物は加熱段階で対応して前もって与えら
れている高い温度に加熱される。好適には金属水素化物
のための合金はこの合金が、空洞体の後の通常動作温度
を約200〜300K上回る温度で初めて、蓄積されている水
素の大幅な遊離に到るように選択される。
行うべき排気作業の一部を公知の方法でポンプによる
吸込排出により行い、このようにして本発明による方法
と従来の技術による方法の組合せを用いることも可能で
あるのは自明である。この場合、ポンプによる吸込排出
は加熱工程の終りの段階に置かれる。このようにして排
気は、恒久的に非常に小さい圧力段階で実現することが
できる。
吸込排出により行い、このようにして本発明による方法
と従来の技術による方法の組合せを用いることも可能で
あるのは自明である。この場合、ポンプによる吸込排出
は加熱工程の終りの段階に置かれる。このようにして排
気は、恒久的に非常に小さい圧力段階で実現することが
できる。
本発明による方法は、有孔材料または繊維状材料（例
えば真空超断熱材）により充填されている空洞空間また
は延ばされ分岐されている空間構造（例えば分岐されて
いる導管系）を有する空洞空間の排気に用いると特に有
利である。後者の場合、全系の各部分系の中に対応して
定められている量の水素化物材料が入れられ、そこにあ
るガス大気を追出すのに用いられる。
えば真空超断熱材）により充填されている空洞空間また
は延ばされ分岐されている空間構造（例えば分岐されて
いる導管系）を有する空洞空間の排気に用いると特に有
利である。後者の場合、全系の各部分系の中に対応して
定められている量の水素化物材料が入れられ、そこにあ
るガス大気を追出すのに用いられる。
e. 実施例 次に本発明を実施例に基づき図を参照しながら詳細に
説明する。この図では（蓋のない）断熱容器１が軸方向
の縦断面図で示されている。断熱容器１は内側の特殊鋼
外套２と外側の特殊鋼外套３を有する。２つの外套2,3
の間に形成されている空洞室４はガラス繊維材料５から
成る充填材を備えている。ガラス繊維材料５は内側外套
２を外側外套３に対して保護し輻射損の低減を作用す
る。断熱容器１が高い真空超断熱値を得るように空洞室
４の中の圧力は10-3mbarより小さい値に低められなけれ
ばならない。外側外套３の中にはガラス出口支持部材６
が設けられている。ガラス出口支持部材６からできるだ
け離れて位置する個所で1dm3当り20ないし30gの金属水
素化物７が設けられている。金属水素化物７は、その水
素充填率が室内温度および通常の雰囲気圧力での充填量
を基準として２〜３重量％の領域にあるように選択され
ている。真空を印加するために容器１は例えば通常の加
熱炉で200℃より高く、できるならば約450℃ないし500
℃に加熱される。金属水素化物７の加熱温度が高まると
ともに水素ガスは空洞室４の中で遊離され、ガラス繊維
充填材５の非常に小さい空洞空間の中まで侵入し、そこ
にもとからある比重のより重いガス大気を下に位置する
ガラス出口支持部材を介して例えば通常の雰囲気圧力に
対抗して追出す。この場合、総量が（通常の圧力で）空
洞室４の体積の約10倍である初期段階で比較的高い圧力
で遊離された水素ガスは空洞室４の中に存在していた気
体を追い出す作用を有する。金属水素化物のできるだけ
大量の（例えば95％を越える）放出を作用するために、
局所的な集中された熱供給による加熱の最終段階で金属
水素化物７の温度を500℃まで高めると好適である。
説明する。この図では（蓋のない）断熱容器１が軸方向
の縦断面図で示されている。断熱容器１は内側の特殊鋼
外套２と外側の特殊鋼外套３を有する。２つの外套2,3
の間に形成されている空洞室４はガラス繊維材料５から
成る充填材を備えている。ガラス繊維材料５は内側外套
２を外側外套３に対して保護し輻射損の低減を作用す
る。断熱容器１が高い真空超断熱値を得るように空洞室
４の中の圧力は10-3mbarより小さい値に低められなけれ
ばならない。外側外套３の中にはガラス出口支持部材６
が設けられている。ガラス出口支持部材６からできるだ
け離れて位置する個所で1dm3当り20ないし30gの金属水
素化物７が設けられている。金属水素化物７は、その水
素充填率が室内温度および通常の雰囲気圧力での充填量
を基準として２〜３重量％の領域にあるように選択され
ている。真空を印加するために容器１は例えば通常の加
熱炉で200℃より高く、できるならば約450℃ないし500
℃に加熱される。金属水素化物７の加熱温度が高まると
ともに水素ガスは空洞室４の中で遊離され、ガラス繊維
充填材５の非常に小さい空洞空間の中まで侵入し、そこ
にもとからある比重のより重いガス大気を下に位置する
ガラス出口支持部材を介して例えば通常の雰囲気圧力に
対抗して追出す。この場合、総量が（通常の圧力で）空
洞室４の体積の約10倍である初期段階で比較的高い圧力
で遊離された水素ガスは空洞室４の中に存在していた気
体を追い出す作用を有する。金属水素化物のできるだけ
大量の（例えば95％を越える）放出を作用するために、
局所的な集中された熱供給による加熱の最終段階で金属
水素化物７の温度を500℃まで高めると好適である。
局所的加熱のために例えば電気抵抗により金属水素化
物を直接に加熱する場合、場合によってはこの温度は50
0℃を越えて、しかし空洞体の壁は同様に強くは加熱さ
れないで高められることもある。
物を直接に加熱する場合、場合によってはこの温度は50
0℃を越えて、しかし空洞体の壁は同様に強くは加熱さ
れないで高められることもある。
ガラス出口支持部材６の中のガス流通が、前もって与
えられている最小値に低められることただちにこの開口
部は気密に閉じられ、容器１は冷却される。金属水素化
物７が冷たくなるとともに金属水素化物７は、空洞室４
の中にある水素ガスを収着する。金属水素化物７の温度
が、断熱容器１が後で達する最大使用温度に対応する20
0℃である場合、金属水素化物７の水素放出圧力そして
これに伴い得られた真空も10-4mbarより小さい。室温の
場合、10-5mbarより小さい値に達しさえする。さらにこ
の真空は、水素ガス洗浄に加えて真空ポンプによる水素
ガス量の最終的な低減を行うことにより付加的に改善す
ることができる。このようにして到達することのできる
（室温での）真空段階が10-8ないし10-9mbarである。
えられている最小値に低められることただちにこの開口
部は気密に閉じられ、容器１は冷却される。金属水素化
物７が冷たくなるとともに金属水素化物７は、空洞室４
の中にある水素ガスを収着する。金属水素化物７の温度
が、断熱容器１が後で達する最大使用温度に対応する20
0℃である場合、金属水素化物７の水素放出圧力そして
これに伴い得られた真空も10-4mbarより小さい。室温の
場合、10-5mbarより小さい値に達しさえする。さらにこ
の真空は、水素ガス洗浄に加えて真空ポンプによる水素
ガス量の最終的な低減を行うことにより付加的に改善す
ることができる。このようにして到達することのできる
（室温での）真空段階が10-8ないし10-9mbarである。
第１図は本発明による断熱容器の側面断面図である。 １……断熱容器、2,3……外套、 ４……空洞室、５……ガラス繊維、 ６……ガラス出口支持部材。
フロントページの続き (72)発明者 マンフレート・ケラー ドイツ連邦共和国、デー 4150 クレー フェルト、ペーター‐エッサー‐ディー ク ６ (56)参考文献 特開 昭59−200078（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−167740（ＪＰ，Ａ) 米国特許4446101（ＵＳ，Ａ)
Claims (5)
- 【請求項１】中にあるガス大気のために少なくとも１つ
の出口開口部を備えている空洞体の中での真空発生方法
であって、空洞体の内部に金属水素化物が入れられ、そ
の金属水素化物の中に蓄積されている水素ガスが大幅に
遊離される温度にまで、空洞体が加熱され、もとからあ
るガス大気がこの水素ガスにより１つまたは複数の出口
開口部を介して追い出され、上記開口部を閉止した後に
空洞体が冷却され水素大気が水素化物を生成する金属に
より収着される真空発生方法において、 水素を大量に吸着する水素化物生成用合金が前記空洞体
の中に直接にしかも上記出口開口部からできるだけ遠く
に配置されることと、 前記追い出し段階の間は、前記出口開口部が空洞体のそ
の他の部分よりできるだけ低い位置レベルに保持される
ことと、 前記追い出し段階の間は、真空にされるべき前記空洞の
中に存在する上記水素化物生成用合金が前記空洞の壁を
介して、金属水素化物生成用合金の中に吸蔵されている
水素ガスが遊離する温度にされ、その際前記空洞自体の
温度は、最大500℃に制限されていることと、 入れられる金属水素化物の量が、排気体積を基準として
少なくとも3g/dm3であり、もとの排気体積の５％より少
なく充填するように定めされていることと、 金属水素化物として、水素を大量に吸着する、次の化学
式を有する金属水素化物生成用合金が用いられること
と、 Ti（V1-a-bFeaAlb）xCryMnz （ただし１＜ｘ≦２、０＜ｙ≦0.2、ｘ＋ｙ≦２、０＜
ａ＜0.4、０＜ｂ ≦0.2、ａ＋ｂ≦0.5、（１−ａ−ｂ）ｘ≧１、０＜ｚ≦
２−ｘ−ｙ） を特徴とする真空発生方法。 - 【請求項２】前記空洞体の通常の動作温度より少なくと
も約200〜300K高い温度で周囲圧力に対抗して水素放出
をする金属水素化物が用いられることを特徴とする特許
請求の範囲第１項記載の真空発生方法。 - 【請求項３】前記金属水素化物が前記追い出し段階の終
りでその前の放出温度より高い温度に加熱されることを
特徴とする特許請求の範囲第１項ないし第３項のうちの
いずれか１項に記載の真空発生方法。 - 【請求項４】金属水素化物の少なくとも加熱後に、空洞
体の中に含まれているガス大気の一部が公知の方法で真
空ポンプで吸込排出されることを特徴とする特許請求の
範囲第１項ないし第４項のうちのいずれか１項に記載の
真空発生方法。 - 【請求項５】入れられる金属水素化物の量が排気体積の
３％より少ないことを特徴とする特許請求の範囲第１項
ないし第６項のうちのいずれか１項に記載の真空発生方
法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3820951.9 | 1988-06-16 | ||
| DE3820951 | 1988-06-16 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0243938A JPH0243938A (ja) | 1990-02-14 |
| JP2721996B2 true JP2721996B2 (ja) | 1998-03-04 |
Family
ID=6356939
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152009A Expired - Lifetime JP2721996B2 (ja) | 1988-06-16 | 1989-06-14 | 真空発生方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4973227A (ja) |
| EP (1) | EP0347367B1 (ja) |
| JP (1) | JP2721996B2 (ja) |
| DE (1) | DE58904045D1 (ja) |
| ES (1) | ES2041033T3 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4039735A1 (de) * | 1990-12-10 | 1992-06-11 | Mannesmann Ag | Waermegedaempftes auspuffrohr und verfahren zur herstellung desselben |
| JP4843845B2 (ja) | 2000-07-03 | 2011-12-21 | トヨタ自動車株式会社 | 燃料電池システムおよびその制御方法 |
| CN1656316A (zh) * | 2002-05-20 | 2005-08-17 | Ts株式会社 | 真空泵 |
| DE102008040367A1 (de) | 2008-07-11 | 2010-02-25 | Evonik Degussa Gmbh | Bauteil zur Herstellung von Vakuumisolationssystemen |
| CN116263147A (zh) * | 2021-12-14 | 2023-06-16 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种内部加热式填充结构非蒸散型吸气剂泵 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4446101A (en) | 1981-10-03 | 1984-05-01 | Daimler-Benz Aktiengesellschaft | Storage material for hydrogen |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| NL181727B (nl) * | 1953-09-30 | Krupp Koppers Gmbh | Werkwijze voor het bedrijven van extractie- en/of extractiefdestillatie-inrichtingen, onder toepassen van n-gesubstitueerde morfolinen als selectief oplosmiddel. | |
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| JPS5950742B2 (ja) * | 1982-03-26 | 1984-12-10 | 工業技術院長 | チタン四元系水素吸蔵用合金 |
| JPS59200078A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空排気方法 |
| DE3425055C1 (de) * | 1984-07-07 | 1985-07-25 | Daimler-Benz Ag, 7000 Stuttgart | Getterstoff |
-
1989
- 1989-06-01 EP EP89730135A patent/EP0347367B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-01 DE DE8989730135T patent/DE58904045D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-06-01 ES ES198989730135T patent/ES2041033T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-14 JP JP1152009A patent/JP2721996B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1989-06-16 US US07/367,025 patent/US4973227A/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4446101A (en) | 1981-10-03 | 1984-05-01 | Daimler-Benz Aktiengesellschaft | Storage material for hydrogen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE58904045D1 (de) | 1993-05-19 |
| US4973227A (en) | 1990-11-27 |
| EP0347367A3 (de) | 1991-02-27 |
| ES2041033T3 (es) | 1993-11-01 |
| EP0347367B1 (de) | 1993-04-14 |
| JPH0243938A (ja) | 1990-02-14 |
| EP0347367A2 (de) | 1989-12-20 |
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