JP2859972B2 - 粒径分布測定装置 - Google Patents
粒径分布測定装置Info
- Publication number
- JP2859972B2 JP2859972B2 JP3063743A JP6374391A JP2859972B2 JP 2859972 B2 JP2859972 B2 JP 2859972B2 JP 3063743 A JP3063743 A JP 3063743A JP 6374391 A JP6374391 A JP 6374391A JP 2859972 B2 JP2859972 B2 JP 2859972B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- solid
- particle size
- size distribution
- group
- imaging device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 63
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 27
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 19
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 18
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はレーザ光を例えば自動車
の燃料噴霧等の微粒子群に照射し、該微粒子群により回
折されたレーザ光を受光し、この回折パターンに基づい
て該微粒子群の径の分布を測定する粒径分布測定装置に
関する。
の燃料噴霧等の微粒子群に照射し、該微粒子群により回
折されたレーザ光を受光し、この回折パターンに基づい
て該微粒子群の径の分布を測定する粒径分布測定装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】所定の径を有する微粒子群にレーザ光を
照射し該微粒子群によるフランホーファー回折像を観察
したときその回折パターンと微粒子群の径とが一対一に
対応することに着目し、種々の径を有する微粒子群から
回折されたレーザ光の複合された回折パターンを所定の
アルゴリズムに基づいて解析することにより、微粒子群
の粒径の分布を知る方法が知られている（例えば「表
面」ｖｏｌ．２２ Ｎｏ．２（１９８４）８７（２７）
頁〜９４（３４）頁参照）。この方法では、上記回折パ
ターンが０次光のスポットを中心とした同心的なパター
ンであることから、例えば同心的な１５個の円環形状の
光センサを用いてその回折パターンを受光し、この受光
された回折パターンを解析することにより粒径分布を求
めるものである。
照射し該微粒子群によるフランホーファー回折像を観察
したときその回折パターンと微粒子群の径とが一対一に
対応することに着目し、種々の径を有する微粒子群から
回折されたレーザ光の複合された回折パターンを所定の
アルゴリズムに基づいて解析することにより、微粒子群
の粒径の分布を知る方法が知られている（例えば「表
面」ｖｏｌ．２２ Ｎｏ．２（１９８４）８７（２７）
頁〜９４（３４）頁参照）。この方法では、上記回折パ
ターンが０次光のスポットを中心とした同心的なパター
ンであることから、例えば同心的な１５個の円環形状の
光センサを用いてその回折パターンを受光し、この受光
された回折パターンを解析することにより粒径分布を求
めるものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記多数の円環状の光
センサを用いる方法は、これら多数の円環状光センサか
らなる光検出器の中心が光軸と正確に一致するように厳
密に位置調整をする必要があり、測定の前準備が大変で
あるという問題がある。
センサを用いる方法は、これら多数の円環状光センサか
らなる光検出器の中心が光軸と正確に一致するように厳
密に位置調整をする必要があり、測定の前準備が大変で
あるという問題がある。
【０００４】この問題を解決するために上記多数の円環
状の光センサからなる検出器に代えて例えばＣＣＤ等の
固体撮像素子を用い、大雑把に位置合わせをして回折光
を受光し、この回折光のパターンが回転対称であること
を利用して演算により光軸中心を求める方法が考えられ
る。
状の光センサからなる検出器に代えて例えばＣＣＤ等の
固体撮像素子を用い、大雑把に位置合わせをして回折光
を受光し、この回折光のパターンが回転対称であること
を利用して演算により光軸中心を求める方法が考えられ
る。
【０００５】ここで、上記の粒径分布測定においては回
折光パターンを高精度に測定する必要がある。ところ
が、通常ＣＣＤ等の固体撮像素子にはその受光面に保護
用のガラス板が配置されており、一般的な撮像の場合に
は問題とはならないが、粒径分布測定の場合は単色のレ
ーザ光を用いるため上記ガラス板内の多重反射により干
渉縞が生じこの干渉縞がもとの回折光に重畳されて受光
されて測定精度が低下してしまうという問題があり、こ
のことがＣＣＤ等の固体撮像素子を粒径分布測定に用い
ることを難しくしていた。
折光パターンを高精度に測定する必要がある。ところ
が、通常ＣＣＤ等の固体撮像素子にはその受光面に保護
用のガラス板が配置されており、一般的な撮像の場合に
は問題とはならないが、粒径分布測定の場合は単色のレ
ーザ光を用いるため上記ガラス板内の多重反射により干
渉縞が生じこの干渉縞がもとの回折光に重畳されて受光
されて測定精度が低下してしまうという問題があり、こ
のことがＣＣＤ等の固体撮像素子を粒径分布測定に用い
ることを難しくしていた。
【０００６】本発明は、上記事情に鑑み、固体撮像素子
を用い、ガラス板で固体撮像素子の受光面を保護すると
ともにこのガラス板に起因する測定精度の低下を押えた
構成を備えた粒径分布測定装置を提供することを目的と
する。
を用い、ガラス板で固体撮像素子の受光面を保護すると
ともにこのガラス板に起因する測定精度の低下を押えた
構成を備えた粒径分布測定装置を提供することを目的と
する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の第一の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒
子群に照射する照射光学系と、該微粒子群による回折像
を受光する固体撮像素子と、該固体撮像素子により受光
された回折像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分
布を求める演算手段とを備えた粒径分布測定装置におい
て、前記撮像素子前面に該撮像素子から離れた側の表面
に反射防止膜が付されたガラス板が配置されてなること
を特徴とするものである。
の本発明の第一の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒
子群に照射する照射光学系と、該微粒子群による回折像
を受光する固体撮像素子と、該固体撮像素子により受光
された回折像パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分
布を求める演算手段とを備えた粒径分布測定装置におい
て、前記撮像素子前面に該撮像素子から離れた側の表面
に反射防止膜が付されたガラス板が配置されてなること
を特徴とするものである。
【０００８】また上記目的を達成するための本発明の第
二の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射す
る照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する固
体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折像
パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演
算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記固体
撮像素子前面に、表面もしくは裏面のうちのいずれか一
方が他方に対してテーパに形成されたガラス板が配置さ
れてなることを特徴とするものである。
二の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射す
る照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する固
体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折像
パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演
算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記固体
撮像素子前面に、表面もしくは裏面のうちのいずれか一
方が他方に対してテーパに形成されたガラス板が配置さ
れてなることを特徴とするものである。
【０００９】また上記目的を達成するための本発明の第
三の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射す
る照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する固
体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折像
パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演
算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記固体
撮像素子前面に、該固体撮像素子から離れた側の表面に
反射防止膜が付されるとともに該表面もしくは裏面のう
ちのいずれか一方が他方に対してテーパに形成されたガ
ラス板が配置されてなることを特徴とするものである。
三の粒径分布測定装置は、レーザ光を微粒子群に照射す
る照射光学系と、該微粒子群による回折像を受光する固
体撮像素子と、該固体撮像素子により受光された回折像
パターンに基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演
算手段とを備えた粒径分布測定装置において、前記固体
撮像素子前面に、該固体撮像素子から離れた側の表面に
反射防止膜が付されるとともに該表面もしくは裏面のう
ちのいずれか一方が他方に対してテーパに形成されたガ
ラス板が配置されてなることを特徴とするものである。
【００１０】
【作用】本発明の第一の粒径分布測定装置は、ガラス板
に反射防止膜を付したため多重反射のほとんどが防止さ
れ、したがって、回折パターンが高精度に測定される。
に反射防止膜を付したため多重反射のほとんどが防止さ
れ、したがって、回折パターンが高精度に測定される。
【００１１】また、本発明の第二の粒径分布測定装置
は、ガラス板がテーパに形成されているため、ガラス板
の１カ所で多重に反射を繰り返すことがなくなり、した
がって余計な干渉縞が生じる余地が少なく、回折パター
ンが高精度と測定される。
は、ガラス板がテーパに形成されているため、ガラス板
の１カ所で多重に反射を繰り返すことがなくなり、した
がって余計な干渉縞が生じる余地が少なく、回折パター
ンが高精度と測定される。
【００１２】また、本発明の第三の粒径分布測定装置
は、テーパに形成されたガラス板に反射防止膜を付した
ため、上記第一の粒径分布測定装置と第二の粒径分布測
定装置の双方の作用が重畳され、回折パターンの一層高
精度の測定が可能となる。
は、テーパに形成されたガラス板に反射防止膜を付した
ため、上記第一の粒径分布測定装置と第二の粒径分布測
定装置の双方の作用が重畳され、回折パターンの一層高
精度の測定が可能となる。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照して、本発明の実施例につ
いて説明する。図１は、本発明の一実施例に係る粒径分
布測定装置の概略構成図である。レーザ光源１から射出
されたレーザ光２は、ビームイクスパンダー（ｂｅａｍ
ｅｘｐａｎｄｅｒ）３により所定の範囲に広がった平行
光とされ、例えば自動車の燃料噴霧等に含まれる微粒子
群４に照射される。この微粒子群４に照射されたレーザ
光はこの一部がこの微粒子群４により回折された後レン
ズ５により集光され、ガラス板８を透過してＣＣＤ６の
前面に照射され、この回折像がＣＣＤ６により受光され
る。
いて説明する。図１は、本発明の一実施例に係る粒径分
布測定装置の概略構成図である。レーザ光源１から射出
されたレーザ光２は、ビームイクスパンダー（ｂｅａｍ
ｅｘｐａｎｄｅｒ）３により所定の範囲に広がった平行
光とされ、例えば自動車の燃料噴霧等に含まれる微粒子
群４に照射される。この微粒子群４に照射されたレーザ
光はこの一部がこの微粒子群４により回折された後レン
ズ５により集光され、ガラス板８を透過してＣＣＤ６の
前面に照射され、この回折像がＣＣＤ６により受光され
る。
【００１４】図２はこのＣＣＤ６の前面における回折像
パターンの一例を表わした図である。微粒子群４がある
所定の径の微粒子のみから構成されている場合は、ＣＣ
Ｄ６上には例えば図２に破線で示す回折パターン１１が
生じ、微粒子群４が他の所定の径の微粒子群のみから構
成されている場合は図２に一点鎖線で示す回折パターン
１２を生じるが、ここでは微粒子群４は種々の径を有す
る微粒子から構成されているためこの微粒子群４により
形成される回折パターン１０は種々の径の微粒子による
回折パターン（回折パターン１１、１２等）が重畳され
たものとなる。
パターンの一例を表わした図である。微粒子群４がある
所定の径の微粒子のみから構成されている場合は、ＣＣ
Ｄ６上には例えば図２に破線で示す回折パターン１１が
生じ、微粒子群４が他の所定の径の微粒子群のみから構
成されている場合は図２に一点鎖線で示す回折パターン
１２を生じるが、ここでは微粒子群４は種々の径を有す
る微粒子から構成されているためこの微粒子群４により
形成される回折パターン１０は種々の径の微粒子による
回折パターン（回折パターン１１、１２等）が重畳され
たものとなる。
【００１５】図１に示すＣＣＤ６により受光され電気信
号に変換された回折パターンは、演算回路７に入力さ
れ、この演算回路７では、この回折パターンを表わす信
号に基づいて、例えば図３に一例を示すように各粒径ｄ
を有する粒子群の粒径分布Ｎが求められる。
号に変換された回折パターンは、演算回路７に入力さ
れ、この演算回路７では、この回折パターンを表わす信
号に基づいて、例えば図３に一例を示すように各粒径ｄ
を有する粒子群の粒径分布Ｎが求められる。
【００１６】図４は、０次光をカットするためのマスク
と回折光を減衰させるためのフィルタを施したガラス板
が表面に貼付されたＣＣＤの一例を表わした正面図であ
る。本実施例ではＣＣＤ６は図４の左上端に０次光が照
射されるようにその概略の光軸調整が行われることが予
定されており、したがって０次光をカットするマスク２
０がＣＣＤ６の表面の左上端に貼付されている。また回
折パターンは、図２に示すように平均的には光軸中心
（０次光の照射位置）に近い領域ほどその光量が大き
く、光軸中心から離れるにしたがってその光量は減衰す
る。そこで本実施例ではマスク２０に隣接する、図４の
左上の領域に一様な濃度のＮＤフィルタ２１が貼付され
ている。
と回折光を減衰させるためのフィルタを施したガラス板
が表面に貼付されたＣＣＤの一例を表わした正面図であ
る。本実施例ではＣＣＤ６は図４の左上端に０次光が照
射されるようにその概略の光軸調整が行われることが予
定されており、したがって０次光をカットするマスク２
０がＣＣＤ６の表面の左上端に貼付されている。また回
折パターンは、図２に示すように平均的には光軸中心
（０次光の照射位置）に近い領域ほどその光量が大き
く、光軸中心から離れるにしたがってその光量は減衰す
る。そこで本実施例ではマスク２０に隣接する、図４の
左上の領域に一様な濃度のＮＤフィルタ２１が貼付され
ている。
【００１７】ここで、ＣＣＤ６の左上端はマスク２０で
覆われており０次光は受光されないため、本実施例では
回折光パターンが光軸中心を中心とした回転対称である
ことを利用し、演算手段７（図１参照）において、ＣＣ
Ｄ６で受光された回折パターンを所定のしきい値で２値
化処理することにより、例えば図４に破線で示す円弧３
０が求められ、この円弧３０の中心点０が求められ、こ
れによりその中心点が光軸中心０とされる。演算手段７
では、上記のように光軸中心０を求めた後、回折パター
ンのうちＮＤフィルタ２１により減衰された分が補正さ
れ、この補正された回折パターンに基づいて微粒子群４
の粒径分布が求められる。
覆われており０次光は受光されないため、本実施例では
回折光パターンが光軸中心を中心とした回転対称である
ことを利用し、演算手段７（図１参照）において、ＣＣ
Ｄ６で受光された回折パターンを所定のしきい値で２値
化処理することにより、例えば図４に破線で示す円弧３
０が求められ、この円弧３０の中心点０が求められ、こ
れによりその中心点が光軸中心０とされる。演算手段７
では、上記のように光軸中心０を求めた後、回折パター
ンのうちＮＤフィルタ２１により減衰された分が補正さ
れ、この補正された回折パターンに基づいて微粒子群４
の粒径分布が求められる。
【００１８】図５は、図４に示すＣＣＤの受光面前面に
フィルタを施したガラス板が付された状態を表わした側
面図である。通常ＣＣＤの前面には、このＣＣＤの受光
面を保護するため、この図に示すようにガラス板が配置
されるが、この図に示すガラス板８は前面８ａがテーパ
に形成されており、さらにこの前面８ａにはこの粒径分
布測定装置で用いられるレーザ光２（図１参照）の波長
に対応して反射防止膜９が蒸着されている。
フィルタを施したガラス板が付された状態を表わした側
面図である。通常ＣＣＤの前面には、このＣＣＤの受光
面を保護するため、この図に示すようにガラス板が配置
されるが、この図に示すガラス板８は前面８ａがテーパ
に形成されており、さらにこの前面８ａにはこの粒径分
布測定装置で用いられるレーザ光２（図１参照）の波長
に対応して反射防止膜９が蒸着されている。
【００１９】したがって、この反射防止膜９によりレー
ザ光の反射が減り、またわずかな反射光についてもガラ
ス板８がテーパに形成されていることから図５に一点鎖
線で示すように同じ位置で反射を繰り返さずに徐々にず
れていき、したがって回折パターンの高精度の測定の邪
魔になる干渉は生じにくい。
ザ光の反射が減り、またわずかな反射光についてもガラ
ス板８がテーパに形成されていることから図５に一点鎖
線で示すように同じ位置で反射を繰り返さずに徐々にず
れていき、したがって回折パターンの高精度の測定の邪
魔になる干渉は生じにくい。
【００２０】なお、上記実施例ではガラス板８はテーパ
に形成されいるとともに反射防止膜９も付されている例
であるが、ガラス板をテーパに形成すること、ガラス板
に反射防止膜を付すことのいずれか一方であっても有害
な干渉光の発生を押えることができる。
に形成されいるとともに反射防止膜９も付されている例
であるが、ガラス板をテーパに形成すること、ガラス板
に反射防止膜を付すことのいずれか一方であっても有害
な干渉光の発生を押えることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の粒
径分布測定装置は、固体撮像素子前面にテーパに形成さ
れたガラス板及び／又は反射防止膜を付したガラス板を
配置したため、回折パターンの測定に有害となる干渉光
を減らすことができ、高精度の測定が可能となる。
径分布測定装置は、固体撮像素子前面にテーパに形成さ
れたガラス板及び／又は反射防止膜を付したガラス板を
配置したため、回折パターンの測定に有害となる干渉光
を減らすことができ、高精度の測定が可能となる。
【図１】本発明の一実施例に係る粒径分布測定装置の概
略構成図である。
略構成図である。
【図２】ＣＣＤ前面における回折像パターンの一例を表
わした図である。
わした図である。
【図３】測定された粒径分布の一例を表わした図であ
る。
る。
【図４】０次光をカットするためのマスクと回折光を減
衰させるためのフィルタが表面に貼付されたＣＣＤの一
例を表わした正面図である。
衰させるためのフィルタが表面に貼付されたＣＣＤの一
例を表わした正面図である。
【図５】図４に示すＣＣＤの受光前面にフィルタを施し
たガラス板が付された状態を表わした側面図である。
たガラス板が付された状態を表わした側面図である。
１ レーザ光源 ２ レーザ光 ３、５ レンズ ４、微粒子群 ６ ＣＣＤ ７ 演算回路 ８ ガラス板 ９ 反射防止膜 １０ 複合された回折パターン ２０ マスク ２１ ＮＤフィルタ
Claims (3)
- 【請求項１】 レーザ光を微粒子群に照射する照射光学
系と、該微粒子群による回折像を受光する固体撮像素子
と、該固体撮像素子により受光された回折像パターンに
基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演算手段とを
備えた粒径分布測定装置において、前記固体撮像素子前
面に、該固体撮像素子から離れた側の表面に反射防止膜
が付されたガラス板が配置されてなることを特徴とする
粒径分布測定装置。 - 【請求項２】 レーザ光を微粒子群に照射する照射光学
系と、該微粒子群による回折像を受光する固体撮像素子
と、該固体撮像素子により受光された回折像パターンに
基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演算手段とを
備えた粒径分布測定装置において、 前記固体撮像素子前面に、表面もしくは裏面のうちのい
ずれか一方が他方に対してテーパに形成されたガラス板
が配置されてなることを特徴とする粒径分布測定装置。 - 【請求項３】 レーザ光を微粒子群に照射する照射光学
系と、該微粒子群による回折像を受光する固体撮像素子
と、該固体撮像素子により受光された回折像パターンに
基づいて前記微粒子群の粒径分布を求める演算手段とを
備えた粒径分布測定装置において、 前記固体撮像素子前面に、該固体撮像素子から離れた側
の表面に反射防止膜が付されるとともに該表面もしくは
裏面のうちのいずれか一方が他方に対してテーパに形成
されたガラス板が配置されてなることを特徴とする粒径
分布測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063743A JP2859972B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 粒径分布測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3063743A JP2859972B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 粒径分布測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04278439A JPH04278439A (ja) | 1992-10-05 |
| JP2859972B2 true JP2859972B2 (ja) | 1999-02-24 |
Family
ID=13238194
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3063743A Expired - Fee Related JP2859972B2 (ja) | 1991-03-06 | 1991-03-06 | 粒径分布測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2859972B2 (ja) |
-
1991
- 1991-03-06 JP JP3063743A patent/JP2859972B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04278439A (ja) | 1992-10-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6894285B2 (en) | Arrangement for monitoring the energy radiated by an EUV radiation source | |
| CN110500963B (zh) | 光学测定装置以及光学测定方法 | |
| EP0503874A2 (en) | Optical measurement device with enhanced sensitivity | |
| EP0419082B1 (en) | Optical distance gauging apparatus | |
| JP2003106980A (ja) | 微小粒子群の計測装置および計測方法 | |
| JPS61247944A (ja) | 反射率測定装置 | |
| JPH0771924A (ja) | 薄膜特性値測定方法及び装置 | |
| JP2859972B2 (ja) | 粒径分布測定装置 | |
| JP3805791B2 (ja) | 三次元カラー結像システム中のノイズの望ましくない効果を低減する方法と装置 | |
| JP2677369B2 (ja) | 赤外線測定装置 | |
| JP2922008B2 (ja) | 粒径分布測定装置 | |
| JPH0611442A (ja) | 赤外線光学装置 | |
| JP2859971B2 (ja) | 粒径分布測定装置 | |
| CN116008231A (zh) | 一种自聚焦透镜折射率分布检测系统及方法 | |
| JP2811236B2 (ja) | 粒径分布測定装置 | |
| JPH08334606A (ja) | レンズ | |
| JP3255589B2 (ja) | レンズ評価装置 | |
| JP2805664B2 (ja) | 粒径分布測定方法 | |
| JP3714490B2 (ja) | 表面状態測定方法 | |
| JPH07113547B2 (ja) | 試料面位置測定装置 | |
| JPH0725618Y2 (ja) | 変位測定装置 | |
| JPS58206948A (ja) | 前方微小角散乱光強度計測装置 | |
| JP2692890B2 (ja) | 位置関係検出装置 | |
| JPH08327334A (ja) | ギャップ測定装置 | |
| JPH02187604A (ja) | 受光位置検出装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19981124 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081204 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |