JP3143713B2 - 画像形成用マスク材及びその作成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、画像形成用マスク材
及びその作成方法に関するものであり、詳しくは光不透
過性層及び光透過性支持体の表面にラミネート加工を施
して補強する画像形成用マスク材及びその作成方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】写真プリントには、例えば印画紙にネガ
フィルムから画像を焼付けると共に、画像形成用マスク
材を用いてイラスト画像等を同時に焼付けるものがあ
る。このような画像形成用マスク材は、例えば光不透過
性の熱転写層を有する熱転写シートと光透過性の受容体
とを重ね合わせ、この熱転写シートの背面より文字、図
形等をサーマルヘッドにより加熱して光不透過性の熱転
写層を受容体側に転写させ、その後この熱転写シートを
剥離して作成している。又、画像形成用マスク材原版の
光透過性の支持体から光不透過性の熱転写層をサーマル
ヘッドにより受容シート上に熱転写させ、この受容シー
トを剥離することで画像形成用マスク材を作成してい
る。

【０００３】このような熱転写システムを用いて画像形
成用マスク材を作成する場合には、熱転写の性質上、熱
転写層の厚さが１０μｍ以下と薄くしかも強度も不足す
るため、マスク材の取り扱いが難しかった。又熱転写層
にしわや破損例えば傷、やぶれ等が発生しやすい問題も
あった。特に受容体等ががプラスチックフィルムで形成
される場合には、その表面が平滑で固く熱転写層がしみ
こまないため強度の不足が目立ち、このような画像形成
用マスク材を固いものにぶつけたり、あるいは擦ったり
すると容易に傷がついてしまった。

【０００４】そこで、従来補強手段としてこの熱転写層
を保護するためにラミネート加工を施すマスク材の作成
方法が提案されていた。この従来のラミネート加工を施
す画像形成用マスク材の作成方法を図１２に基づき説明
する。従来は受容体１０７に光不透過性の熱転写層１０
１ａをサーマルヘッドにより加熱して熱転写させ、その
後これら全体を覆う形でラミネート材１１３を被覆し、
その後必要な大きさに切断して画像形成用マスク材１１
８を作成していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の画像形
成用マスク材の作成方法では、熱転写層１０１ａの有無
にかかわらず所定の大きさに切断していたため、図１２
の破線部に示すような位置で切断すると、画像形成用マ
スク材１１８の切断外縁部１１８ａにこの熱転写層１０
１ａが表れてしまう場合が多かった。この熱転写層１０
１ａは凝集破壊に対する強度が弱く、しかも熱転写層１
０１ａと受容体１０７・ラミネート材１１３との接着性
もあまり強固ではないため、熱転写層１０１ａの上面を
ラミネート材１１３で被覆しても側面が被覆されていな
いとラミネート材１１３が容易に剥がれてしまう欠点を
有していた。

【０００６】この発明は従来の画像形成用マスク材及び
その作成方法が有する上記の欠点を解消し、ラミネート
加工後のラミネート材が剥がれにくく、しかも取扱性の
よい画像形成用マスク材及びその作成方法を提供するこ
とを目的としている。

【０００７】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、請求項１記載の画像形成用マスク材は、光透過性支
持体と、この光透過性支持体の表面に画像を形成する光
不透過性層と、この光不透過性層及び前記光透過性支持
体の表面を被覆するラミネート部材とを有する画像形成
用マスク材において、前記光不透過性層を有する前記光
透過性支持体の面内の外縁は前記光透過性支持体の表面
に前記ラミネート部材を直接被覆する部分であることを
特徴としている。

【０００８】又、請求項２記載の画像形成用マスク材
は、前記光透過性支持体と、この光透過性支持体の表面
に画像を形成する前記光不透過性層と、この光不透過性
層及び前記光透過性支持体の表面に熱溶融性樹脂又は常
温で接着可能な粘着材であるラミネート接着剤からなる
ラミネート接着剤層を設け、このラミネート接着剤層の
上にラミネート支持体層を密着して形成することを特徴
としている。

【０００９】又、請求項３記載の画像形成用マスク材
は、前記ラミネート接着剤はエチレン酢酸ビニル共重合
体系樹脂を含有するラミネート接着剤であることを特徴
としている。

【００１０】又、請求項４記載の画像形成用マスク材の
作成方法は、少なくとも光不透過性層を有する熱転写シ
ートと、光透過性の受容体とを重ね合わせ、前記熱転写
シートの背面より加熱印字した後に、この熱転写シート
を剥離し前記光不透過性層を前記受容体側に熱転写し、
更にこの熱転写された前記光不透過性層及び前記受容体
の表面にラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作
成方法において、前記光不透過性層が熱転写された側の
前記受容体の面内で前記受容体の表面に前記ラミネート
加工が直接施されている部分が画像形成用マスク材の外
縁となるように成形することを特徴としている。

【００１１】又、請求項５記載の画像形成用マスク材の
作成方法は、光透過性の支持体上に少なくとも前記光不
透過性層を有する画像形成用マスク材原版の前記光不透
過性層側と受容シートとを重ね合わせ、この受容シート
の背面より加熱印字して前記光不透過性層を前記受容シ
ート上に熱転写し、その後前記受容シートを前記画像形
成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成用マ
スク材原版の前記支持体及び前記光不透過性層の表面に
ラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作成方法に
おいて、前記光不透過性層を熱転写した側の前記支持体
の面内で前記支持体の表面に前記ラミネート加工が直接
施されている部分が画像形成用マスク材の外縁となるよ
うに成形することを特徴としている。

【００１２】この発明を図１乃至図８に基づき説明す
る。図１は熱転写後にラミネート加工を施す画像形成用
マスク材の作成装置の概略側面図、図２は画像形成用マ
スク材の切断工程を説明する説明図、図３は熱転写シー
トの断面図、図４は画像形成用マスク材の断面図、図５
はラミネート加工部の別の概略側面図、図６はラミネー
ト加工部の他の概略側面図、図７は剥離紙を用いるラミ
ネート加工部の概略側面図、図８は片面ラミネートの画
像形成用マスク材の断面図である。

【００１３】図１において画像形成用マスク材の作成装
置は熱転写部Ａとラミネート加工部Ｂから構成されてい
る。熱転写部Ａは未使用の熱転写シート１を巻着する元
巻マガジン２と、この熱転写シート１を熱印字手段を構
成するサーマルヘッド３とプラテン４との間にガイドし
ながら搬送するガイドローラ５及び巻取ローラ６とを有
し、このサーマルヘッド３及びプラテン４に挟まれる熱
転写シート１に重なるように光透過性の受容体７が搬送
される。この受容体７は元巻マガジン８に巻着されてお
り、ガイドローラ９を介して熱転写部Ａを通り抜け、続
いて配設されるラミネート加工部Ｂに搬出されている。

【００１４】この熱転写部Ａではサーマルヘッド３は制
御手段１０より送られる印字信号に基づき所定の文字、
符号等を熱転写シート１の裏側から加熱印字する。この
印字により熱転写シート１の光不透過性の熱転写層が受
容体７上に転写される。

【００１５】この発明で光不透過性の定義は、マスク材
を利用するシステムにおける光源光に対して透過率が低
いことを意味している。光透過濃度では光源光量との関
係もあり、いちがいに限定されないが、通常１．０好ま
しくは２．０以上が良い。また、受容シート７の光透過
性についても同様に光源光に対する透過率が高いことを
意味する。光透過率ではやはり光源光量とも関係があ
り、いちがいに限定されないが、通常８０％好ましくは
９０％以上の透過率が好ましい。

【００１６】熱転写層が転写された受容体７はラミネー
ト加工部Ｂに搬出される。ラミネート加工部Ｂは、受容
体７を挟持して搬送する一対のヒーターロール兼プレス
ロール１１を有しており、このヒーターロール兼プレス
ロール１１には受容体７を挟み込む形で、元巻マガジン
１２に巻着するラミネート材１３がガイドローラ１４を
介して送り込まれている。このラミネート材１３には熱
溶融性樹脂を含むラミネート接着剤層が設けられている
ため、ヒーターロール兼プレスロール１１の加熱及び押
圧力によりラミネート材１３を転写済みの受容体７に接
着することができる。この両面にラミネート材１３を被
覆した転写済みの受容体７は長尺画像形成用マスク材１
６となって送りローラ１５を介して巻取ローラ１７に巻
き取られる。

【００１７】この長尺画像形成用マスク材１６は所要の
大きさに切断されて画像形成用マスク材となる。この作
成工程を図２に基づいて説明する。図２は画像形成用マ
スク材の切断工程を説明する説明図である。熱転写部Ａ
で受容体７に熱転写シート１の熱転写層１ａを転写され
（図２（ａ））、ラミネート部Ｂで両面にラミネート材
１３を被着した長尺画像形成用マスク材１６は巻取ロー
ラ１７から取り外されて、図２（ｂ）の破線の位置で切
断され、所要の大きさの画像形成用マスク材１８となる
（図２（ｃ））。この切断位置は熱転写層１ａが熱転写
された側の受容体７の面内７ａにおいて、受容体７の表
面にラミネート材１３が直接施されている部分とする。
即ち受容体７上に熱転写層１ａが転写されていない部分
である。このため画像形成用マスク材１８の切断外縁部
１８ａには熱転写層１ａが露出していない。

【００１８】熱転写部Ａで用いる熱転写シート１の層構
成の基本は、図３における支持体１ｂ及び光不透過性層
である熱転写層１ａであるが、加熱によって効率的な熱
転写を行うために、支持体１ｂと熱転写層１ａとの間に
剥離層１ｃを設けてもよい。更には熱転写層１ａの上に
接着層を設けてもよい。このような多層構造の例として
は支持体１ｂ上に下記の層を順に積層するものでもよ
い。但しこれに限定されるものではない。 剥離層、熱転写層 剥離層、熱転写層、接着層 熱転写層、接着層 熱転写シート１の支持体１ｂとしては、良好な耐熱強度
を有するとともに寸法安定性の高いことが望ましい。そ
の材料としては、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミ
ネート紙及びコート紙等の紙類；ポリエチレン、ポリプ
ロピレン及びポリイミド等の樹脂フィルム類；紙と樹脂
フィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シートな
どを挙げることができる。支持体１ｂの厚みは、通常３
０μｍ以下、好ましくは２〜３０μｍの範囲内である。
支持体１ｂの厚みが３０μｍを超えると、熱伝導性が劣
化して印字品質の低下を招くことがある。

【００１９】又、光不透過性層である熱転写層１ａは、
熱によって溶融し受容体７に対する接着性を示すもので
あればよいが、一般には色材、ワックス類、熱可塑性樹
脂、添加剤を適宜組み合わせて構成する。

【００２０】この色材としては公知の染料、顔料を挙げ
ることができ、例えばアルカリ土類金属の炭酸塩、二酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シ
リカ、カーボンブラック、ニグロシン染料、スーダンブ
ラックＳＭ、ファースト・イエローＧ、ベンジジン・イ
エロー、ピグメント・イエロー、オイルイエローＧＧ、
ザポンファーストイエローＣＧＧ、スミプラストイエロ
ーＧＧ、インドファーストオレンジ、スミプラストオレ
ンジＧ、ピグメントオレンジＲ、ザポンファーストオレ
ンジＧＧ、イルガジシン・レッド、パラニトロアニリン
・レッド、トルイジン・レッド、リソールレッド２Ｇ、
レーキレッドＯ、オイルスカーレット、ザポンファース
トスカーレットＯＧ、アイゼンスピロンレッドＢＥＨ、
メチルバイオレットＢレーキ、フタロシアニンブルー、
ピグメントブルー、ファーストゲンブルー５００７、ビ
クトリアブルーＦ４Ｒ、スーダンブルー、オイルピーコ
ックブルー、ブリリアントグリーンＢ、フタロシアニン
グリーン等は全て用いることができる。

【００２１】又ワックス類としては、カルナバワック
ス、モンタンワックス、密ろう、ライスワックス、キャ
ンデリラワックス、ラノリンワックス、パラフィンワッ
クス、マイクロリスタリンワックス、ポリエチレンワッ
クス、サゾールワックス、酸化ワックス、アミドワック
ス、シリコンワックス等が用いられる。

【００２２】又熱可塑性樹脂としては、ポリアミド樹脂
（ナイロン等）、ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アク
リル酸エステル系樹脂（ポリメチルメタクリート、ポリ
エチルアクリレート等）、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル
樹脂、ポリスチレン−アクリル樹脂、ポリエチレン−酢
酸ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリポロピレン樹
脂、ポリブタジエン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、
フェノール樹脂、セルロース系樹脂（メチルセルロー
ス、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、
ニトロセルロース、アセチルセルロース等）、ポリビニ
ルエーテル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニ
ルアニリン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリカーボネート
樹脂、アイオノマー樹脂、ポリシロキサン樹脂、アセタ
ール系樹脂（ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニルホルマール等）、石油系樹脂、ロジン
系樹脂、クロマン−インデン樹脂、テルペン系樹脂、ス
チレン−ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ニトリルゴ
ム等が用いられる。

【００２３】更に添加剤としては、各種界面活性剤、高
級脂肪酸類（ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸等）、長鎖
アルコール類（ステアリルアルコール、ベヘニルアルコ
ール等）、長鎖脂肪酸の金属塩（ステアリン酸カルシウ
ム、バルミチン酸亜鉛等）、酸化防止剤、各種可塑剤、
シリコンオイル等が用いられる。

【００２４】これら色材、ワックス類、熱可塑性樹脂、
添加剤等各素材の好ましい組成比は、熱転写シート１の
支持体１ｂ上に積層する各層の層構成によっても全く異
なる。

【００２５】又剥離層１ｃは、熱転写層１ａで用いるワ
ックス類、熱可塑性樹脂類、添加剤を組み合わせて作成
される加熱時に溶融又は軟化することによってそれ自体
が凝集破壊できる層であってもよいし、又は他の樹脂と
の組み合せで比較的接着力を示しにくい樹脂、例えばシ
リコン系樹脂、弗素系樹脂（テフロン、弗素含有アクリ
ル樹脂等）、ポリシロキサン樹脂、アセタール系樹脂
（ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリ
ビニルホルマール等）を用いた層であってもよい。ただ
し、後者の接着力を示しにくい樹脂による層構成の場合
は、これに隣接する層の組成によって剥離層１ｃの素材
も大きく変化するものであるため上記の例は単なる一例
にすぎない。

【００２６】更に接着層としては、例えば鯨ロウ、ミツ
ロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャンデリラワッ
クス、モンタンワックスなどの天然ワックス、パラフィ
ンワックス、マイクロクリンワックス、酸化ワックス、
エステルワックス、低分子量ポリエチレンなどの合成ワ
ックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸などの高級脂肪
酸、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコールなどの
高級アルコール、ソルビタンの脂肪酸エステルなどのエ
ステル類、ステアリンアミド、オレインアミドなどのア
ミド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポ
キシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、塩
化ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニール系樹
脂、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、
フェノール系樹脂、スチレン系樹脂、天然ゴム、スチレ
ンブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム
などのエラストマー類、ロジン及びその誘導体、テルペ
ン樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイヤー充填剤、
可塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合されたものが用
いられる。従来の感熱転写シールの場合と同様に加熱手
段がサーマルヘッドによる短時間の加熱であるため、融
点の低いもの（通常７０〜１００℃程度）が要求され
る。接着層の厚さは被転写体の表面状態などにより適宜
選択決定されるものであるが、通常は１〜１０μｍ程度
の範囲から選ばれる。

【００２７】なお、支持体１ｂの裏面側の構成について
は任意であり、例えばＡＳＴ層等のバックコート層を設
けても良い。

【００２８】受容体７はポリエチレン等の公知な材料で
構成されるが、良好な耐熱強度を有するとともに寸法安
定性の高いこと材料であることが望ましい。導電性付
与、接着性向上などのために表面処理、コーティング等
がしてあるものでもよい。

【００２９】次にラミネート材１３の構成を図４に基づ
き説明する。図４は画像形成用マスク材の断面図であ
る。熱転写層１ａを転写した受容体７の両面に設けられ
るラミネート材１３はラミネート支持体１３ａとラミネ
ート接着剤層１３ｂとを有している。このラミネート支
持体１３ａとしては、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチ
レン、ポリエステル、ポリアクリル等の公知の材料のも
のでよいが、補強性能を有することから、厚さは好まし
くは２〜１００μｍである。ラミネート接着剤層１３ｂ
には、エチレン系樹脂等の熱溶融性樹脂、好ましくはエ
チレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）系樹脂を含有する
熱溶融性樹脂を用いる。ＥＶＡ系樹脂を含有するラミネ
ート接着剤１３ｂは接着力が強いため、画像形成用マス
ク材１８の取扱性が向上し、折り曲げてもラミネート材
１３が剥がれない。

【００３０】このようにラミネート材１３を加熱してラ
ミネート加工するラミネート加工部Ｂの構成は、図５に
示すようなヒーターロール１１１とプレスロール１１２
とを分離した構成でもよいし、又図６に示すようなヒー
ターロール兼プレスロール２１１の他に別の予熱用ヒー
ターロール２１２を設ける構成でもよい。

【００３１】又ラミネート接着剤層１３ｂとしては熱溶
融性樹脂を用いる代わりに、常温で接着可能な粘着材を
用いてもよい。この場合には加熱の必要がなくなるため
図１、図５及び図６で示したヒーターロール兼プレスロ
ールロール１１、２１１やヒーターロール１１１、２１
２の加熱は不要になる。

【００３２】なお常温で接着可能な粘着材を用いた場合
で取扱を容易にするためラミネート接着剤層１３ｂ上に
剥離紙を設けてある場合には、図７に示すようにラミネ
ート加工部Ｂのプレスロール３１１に沿って剥離紙２０
を分離する分離ローラ３１２を設けておく。

【００３３】なお上述したラミネート加工は両面ラミネ
ートの場合であるが、図８に示すように熱転写層１ａが
転写された面のみに設ける片面ラミネートでもよい。但
し画像形成用マスク材１８のカールを防止するためには
両面に施す方が好ましい。

【００３４】次に、他の発明を図９及び図１０に基づき
説明する。図９は画像形成用マスク材原版の光透過性の
支持体から光不透過性層をサーマルヘッドにより受容シ
ート上に熱転写させ、この受容シートを剥離することで
画像形成用マスク材を作成する方法を説明する概略図、
図１０は画像形成用マスク材の切断位置を説明する説明
図である。

【００３５】長尺の画像形成用マスク材原版２１は、図
９（ａ），（ｂ）に示すように、光透過性の支持体２２
上に少なくとも光不透過性層２３を有するものからな
る。この画像形成用マスク材原版２１の光不透過性層２
３側と受容シート２４とを、図１に示す画像形成用マス
ク材の作成装置と同様な熱転写部で重ね合わせ、この受
容シート２４背面よりサーマルヘッド３で加熱印字す
る。この加熱印字した後に受容シート２４を剥離する
と、加熱されない部分２３ａの光不透過性層２３が受容
シート２４に転写される。なお、受容シートには加熱し
た部分の光不透過性層が転写されるものでもよい。この
受容シート２４は加熱印字により光不透過性層２３を画
像形成用マスク材原版２１より転写させた後廃棄する。

【００３６】画像形成用マスク材原版２１の支持体２２
及び受容シート２４は、前述した熱転写シート１の支持
体１ｂと同様な材料で形成され、良好な耐熱強度を有す
るとともに寸法安定性の高いことが望ましい。

【００３７】また、画像形成用マスク材原版２１の光不
透過性層２３は色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質を適宜
組みあわせて構成することができる。この色材として
は、前述した熱転写シート１の熱転写層１ａと同様な素
材を挙げることができる。

【００３８】また、熱軟化性樹脂としては、エチレン系
共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、アイオノマー樹脂及
び石油系樹脂等の樹脂類；天然ゴム、スチレンブタジエ
ンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム及びジエン
系コポリマーなどのエラストマー類；エステルガム、ロ
ジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂及び水添ロ
ジン等のロジン誘導体；並びにフェノール樹脂、テルペ
ン樹脂、シクロペンタジエン樹脂及び芳香族系炭化水素
樹脂等の軟化点５０〜２００℃の高分子化合物などを挙
げることができる。なお、軟化点の測定はＪＩＳ ｋ25
31に記載されているような環球法を採用することにより
行なうことができる。

【００３９】更に熱溶融物質の具体例としてはカルナバ
ロウ、木ロウ、オウリキュリーロウ及びエスパルロウ等
の植物ロウ；蜜ロウ、昆虫ロウ、セラックロウ及び鯨ロ
ウ等の動物ロウ；パラフィンワックス、マイクロクリス
タルワックス、ポリエチレンワックス、エステルワック
ス及び酸ワックス等の石油ロウ；並びにモンタンロウ、
オゾケライト及びセレシン等の鉱物ロウ等のワックス類
を挙げることができ、さらにこれらのワックス類などの
他にパルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸及びヘ
ベン酸等の高級脂肪酸；パルミチルアルコール、ステア
リルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアル
コール、ミリシルアルコール及びエイコサノール等の高
級アルコール；パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリ
シル、ステアリン酸セチル及びステアリン酸ミリシル等
の高級脂肪酸エステル；アセトアミド、プロピオン酸ア
ミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド及びア
ミドワックス等のアミド類；並びにステアリルアミン、
ベヘニルアミン及びパルミチルアミン等の高級アミド類
などが挙げられる。

【００４０】転写済みの画像形成用マスク材２１は前述
の受容体７と同様にラミネート加工部において両面にラ
ミネート材が被覆され長尺画像形成用マスク材となる。
この方法で作成された長尺画像形成用マスク材も同様に
所要の大きさに切断されて画像形成用マスク材となる。
この切断位置は光不透過性層２３を熱転写した側の支持
体２２の面内２２ａにおいて、支持体２２の表面にラミ
ネート材１３が直接施されている部分とする。即ち支持
体２２上の光不透過性層２３が受容シート２４に転写さ
れた部分である。このため画像形成用マスク材の切断外
縁部には光不透過性層が露出していない。

【００４１】

【作用】請求項１記載の発明は、光透過性支持体の表面
に画像を形成する光不透過性層と光透過性支持体の表面
をラミネート部材で被覆し、光透過性支持体の表面にラ
ミネート部材が直接施されている部分が外縁部となるよ
うに切断して画像形成用マスク材を成形する。

【００４２】請求項２記載の発明は、画像形成用マスク
材のラミネート加工には、ラミネート支持体層上に、熱
溶融性樹脂又は常温で接着可能な粘着材からなるラミネ
ート接着剤層を設けたラミネート材を用いる。

【００４３】更に、請求項３記載の発明は、接着効果を
高めるため熱溶融性樹脂としてエチレン酢酸ビニル共重
合体系樹脂を用いる。

【００４４】又請求項４記載の発明は、少なくとも光不
透過性層を有する熱転写シートと受容体とを重ね合わ
せ、熱転写シートの背面より任意の文字、図形からなる
パターンを加熱印字した後に熱転写シートを剥離する。
その後熱転写された光不透過性層及び受容体の表面にラ
ミネート加工を施し、次に受容体の表面にラミネート加
工が直接施されている部分が外縁部となるように画像形
成用マスク材を成形する。

【００４５】又請求項５記載の発明は、光透過性の支持
体上に少なくとも光不透過性層を有する画像形成用マス
ク材原版の光不透過性層側と受容シートとを重ね合わ
せ、この受容シートの背面より加熱印字して光不透過性
層を受容シート上に熱転写し、その後受容シートを画像
形成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成用
マスク材原版の支持体及び光不透過性層の表面にラミネ
ート加工を施し、次に支持体の表面にラミネート加工が
直接施されている部分が外縁となるように画像形成用マ
スク材を成形する。

【００４６】

【実施例】以下、実施例をあげてこの発明を説明する。 実施例１ １００μｍ厚の市販ＰＥＴベース（ダイアホイル製Ｏ
ｈ’−ＰＲＯ１００）を受容体７であるマスク材原版と
した。又熱転写シート１には背面に耐熱処理された４．
５μｍＰＥＴベースを用い、これを支持体１ｂとして下
記組成の剥離層１ｃを０．３μｍの厚さに塗布した。 剥離層処方 カルナバワックス （ＭＥＫ２０％分散物） ４８．５部 エチレン−酢ビ共重合体 （ＭＩＢＩＫ１０％溶液） ３．０部 （エバフレックスＥＶ−４０Ｙ：三井デュポンポリケミカル製） ＭＩＢＫ ４８．５部 上記組成の液を良く撹拌、混合し塗布液とした。さらに
この剥離層１ｃ上に下記組成の熱転写層１ａを２．０μ
ｍの厚さに塗布した。 熱転写層処方 カーボンブラック （ＩＰＡ２２％分散物） ３５．３部 ロジン変性樹脂 （ＩＰＡ３０％溶液） ４０．７部 （ハリエスターＤＳ−９０：播磨化成製） マイクロクリスタリンワックス （ＩＰＡ２０％分散物） １７．６部 ＩＰＡ ６．４部 上記組成の液を良く撹拌、混合し塗布液とした。

【００４７】以上のようにして作成した熱転写シート１
を受容体７であるマスク材原版に重ね、耐熱処理された
熱転写シート１の背面より加熱印字した。この時の印字
条件は下記の通りである。 印字条件 ２６０ｍｍ幅のラインサーマルヘッド搭載のサーマルプ
リンタを用い、印字エネルギー２５ｍｊ／ｍｍ² 、ヘ
ッド押圧７ｋｇ／ヘッドでコンピュータ上で作成したマ
スクパターンを受容体であるマスク材原版上に出力し
た。このようにして作成されたマスク材をラミネート加
工した。ラミネート条件は図６に示すラミネート加工部
Ｂを用いた。 ラミネート条件 ラミネータ（東京ラミネックス製ＤＸ３５０）を用い、
ヒーターロール２１２を１４０℃、ヒーターロール兼プ
レスロール２１１を６０℃に温度調整し、加工速度は４
ｍ／分とした。ラミネート材１３は、ラミネート支持体
１３ａを１２μｍのＰＥＴとし、これにＥＶＡ系樹脂か
らなる１５μｍ厚のラミネート接着剤層１３ｂを設けた
ものを用いた。ラミネート加工後熱転写層１ａが受容体
７上に熱転写されていない部分が切断外縁部１８ａにな
るように画像形成用マスク材原版１６を切断して所望の
大きさの画像形成用マスク材１８を得た。切断外縁部１
８ａは熱転写層１ａが受容体７上に熱転写されている部
分から５ｍｍ離した位置とした。 比較例１ ラミネート加工までは実施例１と同様である。但し、マ
スクパターンを実施例１より大きめにし、画像形成用マ
スク材原版１６を所望の大きさに切った時に熱転写層１
ａが切断外縁部１８ａに含まれるように形成した。 実施例２ 熱転写シート１に市販の熱転写ファクシミリ用熱転写シ
ート（富士ゼロックス７０３３テレコピア用）を用いた
以外は実施例１と同様である。 比較例２ 熱転写シート１に市販の熱転写ファクシミリ用熱転写シ
ート（富士ゼロックス７０３３テレコピア用）を用いた
以外は比較例１と同様である。 実施例３ ラミネート接着剤をエチレン−アクリル酸系樹脂にした
以外は実施例２と同様である。 比較例３ ラミネート加工をしない以外は実施例２と同様である。
上記のようにして作成した画像形成用マスク材１８を下
記の方法で評価した。 取扱性 画像形成用マスク材１８を通常と同様に取扱い、その時
の傷つき具合いを評価した。 ラミネート材のはがれにくさ 図９に示すように画像形成用マスク材１８を半径ｒ＝１
ｍｍで１８０°折り曲げ、続けて反対側に同様に１８０
°折り曲げ、これを１０回繰り返す屈曲試験を行った。
屈曲試験後、端部のラミネート材１３のはがれ具合いを
評価した。 ラミネート材の接着性 ラミネート材１３を手ではがしてその接着性を評価し
た。以上の評価結果を表１に示す。

【００４８】

【表１】 表１で示すように熱転写層１ａが切断外縁部１８ａに含
まれるラミネート加工では（比較例１、比較例２）はが
れが生じたり、接着性も劣る結果となり、ラミネート接
着剤をエチレン−アクリル酸系樹脂とした場合（実施例
３）にはＥＶＡ系樹脂の場合（実施例１、２）に比べや
や接着性が劣っている。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の画
像形成用マスク材は、外縁部で光透過性支持体とラミネ
ート部材とが密着して光不透過性層が外部に露出しない
ため、ラミネート部材が剥がれにくく、取扱性にも優れ
る。

【００５０】又請求項２記載の画像形成用マスク材は、
ラミネート接着剤層として熱溶融性樹脂又は常温で接着
可能な粘着材を設けることで、簡易な装置で容易にラミ
ネート部材の接着を行うことができる。

【００５１】又請求項３記載の画像形成用マスク材は、
ラミネート接着剤としてエチレン酢酸ビニル共重合体系
樹脂を用いることで、接着力がすぐれ、より剥がれにく
い画像形成用マスク材を提供できる。

【００５２】又請求項４記載の画像形成用マスク材の作
成方法では、ラミネート加工された画像形成用マスク材
の外縁部に熱転写された光不透過性層が露出しないた
め、ラミネート材が剥がれにくく、取扱性も優れた画像
形成用マスク材を提供することができる。

【００５３】同様に請求項５記載の画像形成用マスク材
の作成方法でも、支持体上の光不透過性層が露出しない
ため、ラミネート材が剥がれにくく、取扱性も優れた画
像形成用マスク材を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】画像形成用マスク材の作成装置の概略側面図で
ある。

【図２】画像形成用マスク材の切断工程を説明する説明
図である。

【図３】熱転写シートの断面図である。

【図４】画像形成用マスク材の断面図である。

【図５】ラミネート加工部の別の概略側面図である。

【図６】ラミネート加工部の他の概略側面図である。

【図７】剥離紙を用いるラミネート加工部の概略側面図
である。

【図８】片面ラミネートの画像形成用マスク材の断面図
である。

【図９】画像形成用マスク材原版から光不透過性層を受
容シートに熱転写させて画像形成用マスク材を作成する
概略図である。

【図１０】画像形成用マスク材の切断位置を説明する説
明図である。

【図１１】屈曲試験の説明図である。

【図１２】従来のラミネート加工を施す画像形成用マス
ク材の切断工程を説明する説明図である。

【符号の説明】

Ａ熱転写部 Ｂ ラミネート加工部 １ 熱転写シート １ａ 熱転写層 ３ サーマルヘッド ７ 受容体 １３ ラミネート材 １３ｂ ラミネート接着剤層 １８ 画像形成用マスク材 １８ａ 切断外縁部 ２１ 画像形成用マスク材原版 ２２ 支持体 ２３ 光不透過性層 ２４ 受容シート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川上 壮太 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株 式会社内 (56)参考文献 特開 平４−101143（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03F 1/00 - 1/16

Claims (5)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光透過性支持体と、この光透過性支持体の
   表面に画像を形成する光不透過性層と、この光不透過性
   層及び前記光透過性支持体の表面を被覆するラミネート
   部材とを有する画像形成用マスク材において、 前記光不透過性層を有する前記光透過性支持体の面内の
   外縁は、前記光透過性支持体の表面に前記ラミネート部
   材を直接被覆する部分であることを特徴とする画像形成
   用マスク材。
2. 【請求項２】前記光不透過性層及び前記光透過性支持体
   の表面に熱溶融性樹脂又は常温で接着可能な粘着材であ
   るラミネート接着剤からなるラミネート接着剤層を設
   け、このラミネート接着剤層の上にラミネート支持体層
   を密着して形成することを特徴とする請求項１に記載の
   画像形成用マスク材。
3. 【請求項３】前記ラミネート接着剤はエチレン酢酸ビニ
   ル共重合体系樹脂を含有するラミネート接着剤であるこ
   とを特徴とする請求項２に記載の画像形成用マスク材。
4. 【請求項４】少なくとも光不透過性層を有する熱転写シ
   ートと、光透過性の受容体とを重ね合わせ、前記熱転写
   シートの背面より加熱印字した後に、この熱転写シート
   を剥離し前記光不透過性層を前記受容体側に熱転写し、
   更にこの熱転写された前記光不透過性層及び前記受容体
   の表面にラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作
   成方法において、 前記光不透過性層が熱転写された側の前記受容体の面内
   で前記受容体の表面に、前記ラミネート加工が直接施さ
   れている部分が画像形成用マスク材の外縁となるように
   成形することを特徴とする画像形成用マスク材の作成方
   法。
5. 【請求項５】光透過性の支持体上に少なくとも前記光不
   透過性層を有する画像形成用マスク材原版の前記光不透
   過性層側と受容シートとを重ね合わせ、この受容シート
   の背面より加熱印字して前記光不透過性層を前記受容シ
   ート上に熱転写し、その後前記受容シートを前記画像形
   成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成用マ
   スク材原版の前記支持体及び前記光不透過性層の表面に
   ラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作成方法に
   おいて、 前記光不透過性層を熱転写した側の前記支持体の面内で
   前記支持体の表面に、前記ラミネート加工が直接施され
   ている部分が画像形成用マスク材の外縁となるように成
   形することを特徴とする画像形成用マスク材の作成方
   法。