JPH04332684A - 画像形成用マスク材及びその作成方法 - Google Patents

画像形成用マスク材及びその作成方法

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JPH04332684A
JPH04332684A JP3131760A JP13176091A JPH04332684A JP H04332684 A JPH04332684 A JP H04332684A JP 3131760 A JP3131760 A JP 3131760A JP 13176091 A JP13176091 A JP 13176091A JP H04332684 A JPH04332684 A JP H04332684A
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隆宏 小川
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、画像形成用マスク材
及びその作成方法に関するものであり、詳しくは光不透
過性層及び光透過性支持体の表面にラミネート加工を施
して補強する画像形成用マスク材及びその作成方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】写真プリントには、例えば印画紙にネガ
フィルムから画像を焼付けると共に、画像形成用マスク
材を用いてイラスト画像等を同時に焼付けるものがある
。このような画像形成用マスク材は、例えば光不透過性
の熱転写層を有する熱転写シートと光透過性の受容体と
を重ね合わせ、この熱転写シートの背面より文字、図形
等をサーマルヘッドにより加熱して光不透過性の熱転写
層を受容体側に転写させ、その後この熱転写シートを剥
離して作成している。又、画像形成用マスク材原版の光
透過性の支持体から光不透過性の熱転写層をサーマルヘ
ッドにより受容シート上に熱転写させ、この受容シート
を剥離することで画像形成用マスク材を作成している。
【0003】このような熱転写システムを用いて画像形
成用マスク材を作成する場合には、熱転写の性質上、熱
転写層の厚さが10μm以下と薄くしかも強度も不足す
るため、マスク材の取り扱いが難しかった。又熱転写層
にしわや破損例えば傷、やぶれ等が発生しやすい問題も
あった。特に受容体等ががプラスチックフィルムで形成
される場合には、その表面が平滑で固く熱転写層がしみ
こまないため強度の不足が目立ち、このような画像形成
用マスク材を固いものにぶつけたり、あるいは擦ったり
すると容易に傷がついてしまった。
【0004】そこで、従来補強手段としてこの熱転写層
を保護するためにラミネート加工を施すマスク材の作成
方法が提案されていた。この従来のラミネート加工を施
す画像形成用マスク材の作成方法を図12に基づき説明
する。従来は受容体107に光不透過性の熱転写層10
1aをサーマルヘッドにより加熱して熱転写させ、その
後これら全体を覆う形でラミネート材113を被覆し、
その後必要な大きさに切断して画像形成用マスク材11
8を作成していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の画像形
成用マスク材の作成方法では、熱転写層101aの有無
にかかわらず所定の大きさに切断していたため、図12
(b)の破線部に示すような位置で切断すると、画像形
成用マスク材118の切断外縁部118aにこの熱転写
層101aが表れてしまう場合が多かった。この熱転写
層101aは凝集破壊に対する強度が弱く、しかも熱転
写層101aと受容体107・ラミネート材113との
接着性もあまり強固ではないため、熱転写層101aの
上面をラミネート材113で被覆しても側面が被覆され
ていないとラミネート材113が容易に剥がれてしまう
欠点を有していた。
【0006】この発明は従来の画像形成用マスク材及び
その作成方法が有する上記の欠点を解消し、ラミネート
加工後のラミネート材が剥がれにくく、しかも取扱性の
よい画像形成用マスク材及びその作成方法を提供するこ
とを目的としている。又、簡易な装置でラミネート加工
をするとともに、接着力のすぐれたラミネート接着剤を
使用して、より剥がれにくい画像形成用マスク材及びそ
の作成方法も提供する。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
、請求項1記載の画像形成用マスク材は、光透過性支持
体と、この光透過性支持体の表面に画像を形成する光不
透過性層と、この光不透過性層及び前記光透過性支持体
の表面を被覆するラミネート部材とを有する画像形成用
マスク材において、前記光不透過性層を有する前記光透
過性支持体の面内の外縁は前記光透過性支持体の表面に
前記ラミネート部材を直接被覆する部分であることを特
徴としている。
【0008】又、請求項2記載の画像形成用マスク材は
、前記光透過性支持体と、この光透過性支持体の表面に
画像を形成する前記光不透過性層と、この光不透過性層
及び前記光透過性支持体の表面に熱溶融性樹脂又は常温
で接着可能な粘着材であるラミネート接着剤からなるラ
ミネート接着剤層を設け、このラミネート接着剤層の上
にラミネート支持体層を密着して形成することを特徴と
している。
【0009】又、請求項3記載の画像形成用マスク材は
、前記ラミネート接着剤はエチレン酢酸ビニル共重合体
系樹脂を含有するラミネート接着剤であることを特徴と
している。
【0010】又、請求項4記載の画像形成用マスク材の
作成方法は、少なくとも光不透過性層を有する熱転写シ
ートと、光透過性の受容体とを重ね合わせ、前記熱転写
シートの背面より加熱印字した後に、この熱転写シート
を剥離し前記光不透過性層を前記受容体側に熱転写し、
更にこの熱転写された前記光不透過性層及び前記受容体
の表面にラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作
成方法において、前記光不透過性層が熱転写された側の
前記受容体の面内で前記受容体の表面に前記ラミネート
加工が直接施されている部分が画像形成用マスク材の外
縁となるように成形することを特徴としている。
【0011】又、請求項5記載の画像形成用マスク材の
作成方法は、光透過性の支持体上に少なくとも前記光不
透過性層を有する画像形成用マスク材原版の前記光不透
過性層側と受容シートとを重ね合わせ、この受容シート
の背面より加熱印字して前記光不透過性層を前記受容シ
ート上に熱転写し、その後前記受容シートを前記画像形
成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成用マ
スク材原版の前記支持体及び前記光不透過性層の表面に
ラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作成方法に
おいて、前記光不透過性層を熱転写した側の前記支持体
の面内で前記支持体の表面に前記ラミネート加工が直接
施されている部分が画像形成用マスク材の外縁となるよ
うに成形することを特徴としている。
【0012】請求項1乃至請求項4の発明を図1乃至図
8に基づき説明する。図1は熱転写後にラミネート加工
を施す画像形成用マスク材の作成装置の概略側面図、図
2は画像形成用マスク材の切断工程を説明する説明図、
図3は熱転写シートの断面図、図4は画像形成用マスク
材の断面図、図5はラミネート加工部の別の概略側面図
、図6はラミネート加工部の他の概略側面図、図7は剥
離紙を用いるラミネート加工部の概略側面図、図8は片
面ラミネートの画像形成用マスク材の断面図である。 図1において画像形成用マスク材の作成装置は熱転写部
Aとラミネート加工部Bから構成されている。熱転写部
Aは未使用の熱転写シート1を巻着する元巻マガジン2
と、この熱転写シート1を熱印字手段を構成するサーマ
ルヘッド3とプラテン4との間にガイドしながら搬送す
るガイドローラ5及び巻取ローラ6とを有し、このサー
マルヘッド3及びプラテン4に挟まれる熱転写シート1
に重なるように光透過性の受容体7が搬送される。この
受容体7は元巻マガジン8に巻着されており、ガイドロ
ーラ9を介して熱転写部Aを通り抜け、続いて配設され
るラミネート加工部Bに搬出されている。
【0013】この熱転写部Aではサーマルヘッド3は制
御手段10より送られる印字信号に基づき所定の文字、
符号等を熱転写シート1の裏側から加熱印字する。この
印字により熱転写シート1の光不透過性の熱転写層が受
容体7上に転写される。
【0014】この発明で光不透過性の定義は、マスク材
を利用するシステムにおける光源光に対して透過率が低
いことを意味している。光透過濃度では光源光量との関
係もあり、いちがいに限定されないが、通常1.0好ま
しくは2.0以上が良い。また、受容シート7の光透過
性についても同様に光源光に対する透過率が高いことを
意味する。光透過率ではやはり光源光量とも関係があり
、いちがいに限定されないが、通常80%好ましくは9
0%以上の透過率が好ましい。
【0015】熱転写層が転写された受容体7はラミネー
ト加工部Bに搬出される。ラミネート加工部Bは、受容
体7を挟持して搬送する一対のヒーターロール兼プレス
ロール11を有しており、このヒーターロール兼プレス
ロール11には受容体7を挟み込む形で、元巻マガジン
12に巻着するラミネート材13がガイドローラ14を
介して送り込まれている。このラミネート材13には熱
溶融性樹脂を含むラミネート接着剤層が設けられている
ため、ヒーターロール兼プレスロール11の加熱及び押
圧力によりラミネート材13を転写済みの受容体7に接
着することができる。この両面にラミネート材13を被
覆した転写済みの受容体7は長尺画像形成用マスク材1
6となって送りローラ15を介して巻取ローラ17に巻
き取られる。
【0016】この長尺画像形成用マスク材16は所要の
大きさに切断されて画像形成用マスク材となる。この作
成工程を図2に基づいて説明する。図2は画像形成用マ
スク材の切断工程を説明する説明図である。熱転写部A
で受容体7に熱転写シート1の熱転写層1aを転写され
(図2(a))、ラミネート部Bで両面にラミネート材
13を被着した長尺画像形成用マスク材16は巻取ロー
ラ17から取り外されて、図2(b)の破線の位置で切
断され、所要の大きさの画像形成用マスク材18となる
(図2(c))。この切断位置は熱転写層1aが熱転写
された側の受容体7の面内7aにおいて、受容体7の表
面にラミネート材13が直接施されている部分とする。 即ち受容体7上に熱転写層1aが転写されていない部分
である。このため画像形成用マスク材18の切断外縁部
18aには熱転写層1aが露出していない。
【0017】熱転写部Aで用いる熱転写シート1の層構
成の基本は、図3における支持体1b及び光不透過性層
である熱転写層1aであるが、加熱によって効率的な熱
転写を行うために、支持体1bと熱転写層1aとの間に
剥離層1cを設けてもよい。更には熱転写層1aの上に
接着層を設けてもよい。このような多層構造の例として
は支持体1b上に下記の層を順に積層するものでもよい
。但しこれに限定されるものではない。 ■剥離層、熱転写層 ■剥離層、熱転写層、接着層 ■熱転写層、接着層 熱転写シート1の支持体1bとしては、良好な耐熱強度
を有するとともに寸法安定性の高いことが望ましい。そ
の材料としては、例えば普通紙、コンデンサー紙、ラミ
ネート紙及びコート紙等の紙類;ポリエチレン、ポリプ
ロピレン及びポリイミド等の樹脂フィルム類;紙と樹脂
フィルムとの複合体ならびにアルミ箔等の金属シートな
どを挙げることができる。支持体1bの厚みは、通常3
0μm以下、好ましくは2〜30μmの範囲内である。 支持体1bの厚みが30μmを超えると、熱伝導性が劣
化して印字品質の低下を招くことがある。
【0018】又、光不透過性層である熱転写層1aは、
熱によって溶融し受容体7に対する接着性を示すもので
あればよいが、一般には色材、ワックス類、熱可塑性樹
脂、添加剤を適宜組み合わせて構成する。
【0019】この色材としては公知の染料、顔料を挙げ
ることができ、例えばアルカリ土類金属の炭酸塩、二酸
化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、アルミナ、シ
リカ、カーボンブラック、ニグロシン染料、スーダンブ
ラックSM、ファースト・イエローG、ベンジジン・イ
エロー、ピグメント・イエロー、オイルイエローGG、
ザポンファーストイエローCGG、スミプラストイエロ
ーGG、インドファーストオレンジ、スミプラストオレ
ンジG、ピグメントオレンジR、ザポンファーストオレ
ンジGG、イルガジシン・レッド、パラニトロアニリン
・レッド、トルイジン・レッド、リソールレッド2G、
レーキレッドO、オイルスカーレット、ザポンファース
トスカーレットOG、アイゼンスピロンレッドBEH、
メチルバイオレットBレーキ、フタロシアニンブルー、
ピグメントブルー、ファーストゲンブルー5007、ビ
クトリアブルーF4R、スーダンブルー、オイルピーコ
ックブルー、ブリリアントグリーンB、フタロシアニン
グリーン等は全て用いることができる。
【0020】又ワックス類としては、カルナバワックス
、モンタンワックス、密ろう、ライスワックス、キャン
デリラワックス、ラノリンワックス、パラフィンワック
ス、マイクロリスタリンワックス、ポリエチレンワック
ス、サゾールワックス、酸化ワックス、アミドワックス
、シリコンワックス等が用いられる。
【0021】又熱可塑性樹脂としては、ポリアミド樹脂
(ナイロン等)、ポリエステル樹脂、ポリ(メタ)アク
リル酸エステル系樹脂(ポリメチルメタクリート、ポリ
エチルアクリレート等)、ポリウレタン樹脂、ポリ塩化
ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリ塩化ビニル−酢酸ビニル
樹脂、ポリスチレン−アクリル樹脂、ポリエチレン−酢
酸ビニル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリポロピレン樹脂
、ポリブタジエン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、フ
ェノール樹脂、セルロース系樹脂(メチルセルロース、
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ニト
ロセルロース、アセチルセルロース等)、ポリビニルエ
ーテル樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ポリビニルア
ニリン樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂
、アイオノマー樹脂、ポリシロキサン樹脂、アセタール
系樹脂(ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール
、ポリビニルホルマール等)、石油系樹脂、ロジン系樹
脂、クロマン−インデン樹脂、テルペン系樹脂、スチレ
ン−ブタジエンゴム、イソプレンゴム、ニトリルゴム等
が用いられる。
【0022】更に添加剤としては、各種界面活性剤、高
級脂肪酸類(ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸
、ステアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸等)、長鎖ア
ルコール類(ステアリルアルコール、ベヘニルアルコー
ル等)、長鎖脂肪酸の金属塩(ステアリン酸カルシウム
、バルミチン酸亜鉛等)、酸化防止剤、各種可塑剤、シ
リコンオイル等が用いられる。
【0023】これら色材、ワックス類、熱可塑性樹脂、
添加剤等各素材の好ましい組成比は、熱転写シート1の
支持体1b上に積層する各層の層構成によっても全く異
なる。
【0024】又剥離層1cは、熱転写層1aで用いるワ
ックス類、熱可塑性樹脂類、添加剤を組み合わせて作成
される加熱時に溶融又は軟化することによってそれ自体
が凝集破壊できる層であってもよいし、又は他の樹脂と
の組み合せで比較的接着力を示しにくい樹脂、例えばシ
リコン系樹脂、弗素系樹脂(テフロン、弗素含有アクリ
ル樹脂等)、ポリシロキサン樹脂、アセタール系樹脂(
ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビ
ニルホルマール等)を用いた層であってもよい。ただし
、後者の接着力を示しにくい樹脂による層構成の場合は
、これに隣接する層の組成によって剥離層1cの素材も
大きく変化するものであるため上記の例は単なる一例に
すぎない。
【0025】更に接着層としては、例えば鯨ロウ、ミツ
ロウ、ラノリン、アルナバワックス、キャンデリラワッ
クス、モンタンワックスなどの天然ワックス、パラフィ
ンワックス、マイクロクリンワックス、酸化ワックス、
エステルワックス、低分子量ポリエチレンなどの合成ワ
ックス、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ス
テアリン酸、フロメン酸、ベヘニン酸などの高級脂肪酸
、ステアリルアクコール、ベヘニルアルコールなどの高
級アルコール、ソルビタンの脂肪酸エステルなどのエス
テル類、ステアリンアミド、オレインアミドなどのアミ
ド類、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、エポキ
シ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化
ビニル系樹脂、セルロース系樹脂、ポリビニール系樹脂
、石油系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、フ
ェノール系樹脂、スチレン系樹脂、天然ゴム、スチレン
ブタジエンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴムな
どのエラストマー類、ロジン及びその誘導体、テルペン
樹脂、水添石油樹脂などのタッキファイヤー充填剤、可
塑剤、酸化防止剤などの単独又は混合されたものが用い
られる。従来の感熱転写シールの場合と同様に加熱手段
がサーマルヘッドによる短時間の加熱であるため、融点
の低いもの(通常70〜100℃程度)が要求される。 接着層の厚さは被転写体の表面状態などにより適宜選択
決定されるものであるが、通常は1〜10μm程度の範
囲から選ばれる。
【0026】なお、支持体1bの裏面側の構成について
は任意であり、例えばAST層等のバックコート層を設
けても良い。
【0027】受容体7はポリエチレン等の公知な材料で
構成されるが、良好な耐熱強度を有するとともに寸法安
定性の高いこと材料であることが望ましい。導電性付与
、接着性向上などのために表面処理、コーティング等が
してあるものでもよい。
【0028】次にラミネート材13の構成を図4に基づ
き説明する。図4は画像形成用マスク材の断面図である
。熱転写層1aを転写した受容体7の両面に設けられる
ラミネート材13はラミネート支持体13aとラミネー
ト接着剤層13bとを有している。このラミネート支持
体13aとしては、例えばポリ塩化ビニル、ポリエチレ
ン、ポリエステル、ポリアクリル等の公知の材料のもの
でよいが、補強性能を有することから、厚さは好ましく
は2〜100μmである。ラミネート接着剤層13bに
は、エチレン系樹脂等の熱溶融性樹脂、好ましくはエチ
レン酢酸ビニル共重合体(EVA)系樹脂を含有する熱
溶融性樹脂を用いる。EVA系樹脂を含有するラミネー
ト接着剤13bは接着力が強いため、画像形成用マスク
材18の取扱性が向上し、折り曲げてもラミネート材1
3が剥がれない。
【0029】このようにラミネート材13を加熱してラ
ミネート加工するラミネート加工部Bの構成は、図5に
示すようなヒーターロール111とプレスロール112
とを分離した構成でもよいし、又図6に示すようなヒー
ターロール兼プレスロール211の他に別の予熱用ヒー
ターロール212を設ける構成でもよい。
【0030】又ラミネート接着剤層13bとしては熱溶
融性樹脂を用いる代わりに、常温で接着可能な粘着材を
用いてもよい。この場合には加熱の必要がなくなるため
図1、図5及び図6で示したヒーターロール兼プレスロ
ールロール11、211やヒーターロール111、21
2の加熱は不要になる。
【0031】なお常温で接着可能な粘着材を用いた場合
で取扱を容易にするためラミネート接着剤層13b上に
剥離紙を設けてある場合には、図7に示すようにラミネ
ート加工部Bのプレスロール311に沿って剥離紙20
を分離する分離ローラ312を設けておく。
【0032】なお上述したラミネート加工は両面ラミネ
ートの場合であるが、図8に示すように熱転写層1aが
転写された面のみに設ける片面ラミネートでもよい。但
し画像形成用マスク材18のカールを防止するためには
両面に施す方が好ましい。
【0033】次に請求項5記載の発明を図9及び図10
に基づき説明する。図9は画像形成用マスク材原版の光
透過性の支持体から光不透過性層をサーマルヘッドによ
り受容シート上に熱転写させ、この受容シートを剥離す
ることで画像形成用マスク材を作成する方法を説明する
概略図、図10は画像形成用マスク材の切断位置を説明
する説明図である。
【0034】長尺の画像形成用マスク材原版21は、図
9(a),(b)に示すように、光透過性の支持体22
上に少なくとも光不透過性層23を有するものからなる
。この画像形成用マスク材原版21の光不透過性層23
側と受容シート24とを、図1に示す画像形成用マスク
材の作成装置と同様な熱転写部で重ね合わせ、この受容
シート24背面よりサーマルヘッド3で加熱印字する。 この加熱印字した後に受容シート24を剥離すると、加
熱されない部分23aの光不透過性層23が受容シート
24に転写される。なお、受容シートには加熱した部分
の光不透過性層が転写されるものでもよい。この受容シ
ート24は加熱印字により光不透過性層23を画像形成
用マスク材原版21より転写させた後廃棄する。
【0035】画像形成用マスク材原版21の支持体22
及び受容シート24は、前述した熱転写シート1の支持
体1bと同様な材料で形成され、良好な耐熱強度を有す
るとともに寸法安定性の高いことが望ましい。
【0036】また、画像形成用マスク材原版21の光不
透過性層23は色材、熱軟化性樹脂、熱溶融物質を適宜
組みあわせて構成することができる。この色材としては
、前述した熱転写シート1の熱転写層1aと同様な素材
を挙げることができる。
【0037】また、熱軟化性樹脂としては、エチレン系
共重合体、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアミド系樹
脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリオ
レフィン系樹脂、アクリル系樹脂、塩化ビニル系樹脂、
セルロース系樹脂、ロジン系樹脂、アイオノマー樹脂及
び石油系樹脂等の樹脂類;天然ゴム、スチレンブタジエ
ンゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム及びジエン
系コポリマーなどのエラストマー類;エステルガム、ロ
ジンマレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂及び水添ロ
ジン等のロジン誘導体;並びにフェノール樹脂、テルペ
ン樹脂、シクロペンタジエン樹脂及び芳香族系炭化水素
樹脂等の軟化点50〜200℃の高分子化合物などを挙
げることができる。なお、軟化点の測定はJIS  k
2531に記載されているような環球法を採用すること
により行なうことができる。
【0038】更に熱溶融物質の具体例としてはカルナバ
ロウ、木ロウ、オウリキュリーロウ及びエスパルロウ等
の植物ロウ;蜜ロウ、昆虫ロウ、セラックロウ及び鯨ロ
ウ等の動物ロウ;パラフィンワックス、マイクロクリス
タルワックス、ポリエチレンワックス、エステルワック
ス及び酸ワックス等の石油ロウ;並びにモンタンロウ、
オゾケライト及びセレシン等の鉱物ロウ等のワックス類
を挙げることができ、さらにこれらのワックス類などの
他にパルミチン酸、ステアリン酸、マルガリン酸及びヘ
ベン酸等の高級脂肪酸;パルミチルアルコール、ステア
リルアルコール、ベヘニルアルコール、マルガニルアル
コール、ミリシルアルコール及びエイコサノール等の高
級アルコール;パルミチン酸セチル、パルミチン酸ミリ
シル、ステアリン酸セチル及びステアリン酸ミリシル等
の高級脂肪酸エステル;アセトアミド、プロピオン酸ア
ミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド及びア
ミドワックス等のアミド類;並びにステアリルアミン、
ベヘニルアミン及びパルミチルアミン等の高級アミド類
などが挙げられる。
【0039】転写済みの画像形成用マスク材21は前述
の受容体7と同様にラミネート加工部において両面にラ
ミネート材が被覆され長尺画像形成用マスク材となる。 この方法で作成された長尺画像形成用マスク材も同様に
所要の大きさに切断されて画像形成用マスク材となる。 この切断位置は光不透過性層23を熱転写した側の支持
体22の面内22aにおいて、支持体22の表面にラミ
ネート材13が直接施されている部分とする。即ち支持
体22上の光不透過性層23が受容シート24に転写さ
れた部分である。このため画像形成用マスク材の切断外
縁部には光不透過性層が露出していない。
【0040】
【作用】請求項1記載の発明は、光透過性支持体の表面
に画像を形成する光不透過性層と光透過性支持体の表面
をラミネート部材で被覆する。この光透過性支持体の表
面にラミネート部材が直接施されている部分が外縁部と
なるように切断して画像形成用マスク材を成形する。
【0041】請求項2記載の発明は、画像形成用マスク
材のラミネート加工には、ラミネート支持体層上に、熱
溶融性樹脂又は常温で接着可能な粘着材からなるラミネ
ート接着剤層を設けたラミネート材を用いる。
【0042】更に請求項3記載の発明は、接着効果を高
めるため熱溶融性樹脂としてエチレン酢酸ビニル共重合
体系樹脂を用いる。
【0043】又請求項4記載の発明は、少なくとも光不
透過性層を有する熱転写シートと受容体とを重ね合わせ
、熱転写シートの背面より任意の文字、図形からなるパ
ターンを加熱印字した後に熱転写シートを剥離する。 その後熱転写された光不透過性層及び受容体の表面にラ
ミネート加工を施す。次にこの受容体の表面にラミネー
ト加工が直接施されている部分が外縁部となるように画
像形成用マスク材を成形する。
【0044】又請求項5記載の発明は、光透過性の支持
体上に少なくとも光不透過性層を有する画像形成用マス
ク材原版の光不透過性層側と受容シートとを重ね合わせ
、この受容シートの背面より加熱印字して光不透過性層
を受容シート上に熱転写し、その後受容シートを画像形
成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成用マ
スク材原版の支持体及び光不透過性層の表面にラミネー
ト加工を施す。次にこの支持体の表面にラミネート加工
が直接施されている部分が外縁となるように画像形成用
マスク材を成形する。
【0045】
【実施例】以下、実施例をあげてこの発明を説明する。 実施例1 100μm厚の市販PETベース(ダイアホイル製Oh
’−PRO100)を受容体7であるマスク材原版とし
た。又熱転写シート1には背面に耐熱処理された4.5
μmPETベースを用い、これを支持体1bとして下記
組成の剥離層1cを0.3μmの厚さに塗布した。 剥離層処方   カルナバワックス  (MEK20%分散物)  
              48.5部  エチレン
−酢ビ共重合体  (MIBIK10%溶液)    
      3.0部  (エバフレックスEV−40
Y:三井デュポンポリケミカル製)  MIBK   
                         
                    48.5部
上記組成の液を良く撹拌、混合し塗布液とした。さらに
この剥離層1c上に下記組成の熱転写層1aを2.0μ
mの厚さに塗布した。 熱転写層処方   カーボンブラック  (IPA22%分散物)  
              35.3部  ロジン変
性樹脂  (IPA30%溶液)          
          40.7部  (ハリエスターD
S−90:播磨化成製)  マイクロクリスタリンワッ
クス  (IPA20%分散物)    17.6部 
 IPA                     
                         
      6.4部上記組成の液を良く撹拌、混合し
塗布液とした。
【0046】以上のようにして作成した熱転写シート1
を受容体7であるマスク材原版に重ね、耐熱処理された
熱転写シート1の背面より加熱印字した。この時の印字
条件は下記の通りである。 印字条件 260mm幅のラインサーマルヘッド搭載のサーマルプ
リンタを用い、印字エネルギー25mj/mm2  、
ヘッド押圧7kg/ヘッドでコンピュータ上で作成した
マスクパターンを受容体であるマスク材原版上に出力し
た。このようにして作成されたマスク材をラミネート加
工した。ラミネート条件は図6に示すラミネート加工部
Bを用いた。 ラミネート条件 ラミネータ(東京ラミネックス製DX350)を用い、
ヒーターロール212を140℃、ヒーターロール兼プ
レスロール211を60℃に温度調整し、加工速度は4
m/分とした。ラミネート材13は、ラミネート支持体
13aを12μmのPETとし、これにEVA系樹脂か
らなる15μm厚のラミネート接着剤層13bを設けた
ものを用いた。ラミネート加工後熱転写層1aが受容体
7上に熱転写されていない部分が切断外縁部18aにな
るように画像形成用マスク材原版16を切断して所望の
大きさの画像形成用マスク材18を得た。切断外縁部1
8aは熱転写層1aが受容体7上に熱転写されている部
分から5mm離した位置とした。 比較例1 ラミネート加工までは実施例1と同様である。但し、マ
スクパターンを実施例1より大きめにし、画像形成用マ
スク材原版16を所望の大きさに切った時に熱転写層1
aが切断外縁部18aに含まれるように形成した。 実施例2 熱転写シート1に市販の熱転写ファクシミリ用熱転写シ
ート(富士ゼロックス7033テレコピア用)を用いた
以外は実施例1と同様である。 比較例2 熱転写シート1に市販の熱転写ファクシミリ用熱転写シ
ート(富士ゼロックス7033テレコピア用)を用いた
以外は比較例1と同様である。 実施例3 ラミネート接着剤をエチレン−アクリル酸系樹脂にした
以外は実施例2と同様である。 比較例3 ラミネート加工をしない以外は実施例2と同様である。 上記のようにして作成した画像形成用マスク材18を下
記の方法で評価した。 取扱性 画像形成用マスク材18を通常と同様に取扱い、その時
の傷つき具合いを評価した。 ラミネート材のはがれにくさ 図9に示すように画像形成用マスク材18を半径r=1
mmで180°折り曲げ、続けて反対側に同様に180
°折り曲げ、これを10回繰り返す屈曲試験を行った。 屈曲試験後、端部のラミネート材13のはがれ具合いを
評価した。 ラミネート材の接着性 ラミネート材13を手ではがしてその接着性を評価した
。以上の評価結果を表1に示す。
【0047】
【表1】 表1で示すように熱転写層1aが切断外縁部18aに含
まれるラミネート加工では(比較例1、比較例2)はが
れが生じたり、接着性も劣る結果となり、ラミネート接
着剤をエチレン−アクリル酸系樹脂とした場合(実施例
3)にはEVA系樹脂の場合(実施例1、2)に比べや
や接着性が劣っている。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1記載の画
像形成用マスク材は、外縁部で光透過性支持体とラミネ
ート部材とが密着して光不透過性層が外部に露出しない
ため、ラミネート部材が剥がれにくく、取扱性にも優れ
る。
【0049】又請求項2記載の画像形成用マスク材は、
ラミネート接着剤層として熱溶融性樹脂又は常温で接着
可能な粘着材を設けることで、簡易な装置で容易にラミ
ネート部材の接着を行うことができる。
【0050】又請求項3記載の画像形成用マスク材は、
ラミネート接着剤としてエチレン酢酸ビニル共重合体系
樹脂を用いることで、接着力がすぐれ、より剥がれにく
い画像形成用マスク材を提供できる。
【0051】又請求項4記載の画像形成用マスク材の作
成方法では、ラミネート加工された画像形成用マスク材
の外縁部に熱転写された光不透過性層が露出しないため
、ラミネート材が剥がれにくく、取扱性も優れた画像形
成用マスク材を提供することができる。
【0052】同様に請求項5記載の画像形成用マスク材
の作成方法でも、支持体上の光不透過性層が露出しない
ため、ラミネート材が剥がれにくく、取扱性も優れた画
像形成用マスク材を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】画像形成用マスク材の作成装置の概略側面図で
ある。
【図2】画像形成用マスク材の切断工程を説明する説明
図である。
【図3】熱転写シートの断面図である。
【図4】画像形成用マスク材の断面図である。
【図5】ラミネート加工部の別の概略側面図である。
【図6】ラミネート加工部の他の概略側面図である。
【図7】剥離紙を用いるラミネート加工部の概略側面図
である。
【図8】片面ラミネートの画像形成用マスク材の断面図
である。
【図9】画像形成用マスク材原版から光不透過性層を受
容シートに熱転写させて画像形成用マスク材を作成する
概略図である。
【図10】画像形成用マスク材の切断位置を説明する説
明図である。
【図11】屈曲試験の説明図である。
【図12】従来のラミネート加工を施す画像形成用マス
ク材の切断工程を説明する説明図である。
【符号の説明】
A熱転写部 B  ラミネート加工部 1  熱転写シート 1a  熱転写層 3  サーマルヘッド 7  受容体 13  ラミネート材 13b  ラミネート接着剤層 18  画像形成用マスク材 18a  切断外縁部 21  画像形成用マスク材原版 22  支持体 23  光不透過性層 24  受容シート

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  光透過性支持体と、この光透過性支持
    体の表面に画像を形成する光不透過性層と、この光不透
    過性層及び前記光透過性支持体の表面を被覆するラミネ
    ート部材とを有する画像形成用マスク材において、前記
    光不透過性層を有する前記光透過性支持体の面内の外縁
    は前記光透過性支持体の表面に前記ラミネート部材を直
    接被覆する部分であることを特徴とする画像形成用マス
    ク材。
  2. 【請求項2】  前記光透過性支持体と、この光透過性
    支持体の表面に画像を形成する前記光不透過性層と、こ
    の光不透過性層及び前記光透過性支持体の表面に熱溶融
    性樹脂又は常温で接着可能な粘着材であるラミネート接
    着剤からなるラミネート接着剤層を設け、このラミネー
    ト接着剤層の上にラミネート支持体層を密着して形成す
    ることを特徴とする画像形成用マスク材。
  3. 【請求項3】  前記ラミネート接着剤はエチレン酢酸
    ビニル共重合体系樹脂を含有するラミネート接着剤であ
    ることを特徴とする請求項2記載の画像形成用マスク材
  4. 【請求項4】  少なくとも光不透過性層を有する熱転
    写シートと、光透過性の受容体とを重ね合わせ、前記熱
    転写シートの背面より加熱印字した後に、この熱転写シ
    ートを剥離し前記光不透過性層を前記受容体側に熱転写
    し、更にこの熱転写された前記光不透過性層及び前記受
    容体の表面にラミネート加工を施す画像形成用マスク材
    の作成方法において、前記光不透過性層が熱転写された
    側の前記受容体の面内で前記受容体の表面に前記ラミネ
    ート加工が直接施されている部分が画像形成用マスク材
    の外縁となるように成形することを特徴とする画像形成
    用マスク材の作成方法。
  5. 【請求項5】  光透過性の支持体上に少なくとも前記
    光不透過性層を有する画像形成用マスク材原版の前記光
    不透過性層側と受容シートとを重ね合わせ、この受容シ
    ートの背面より加熱印字して前記光不透過性層を前記受
    容シート上に熱転写し、その後前記受容シートを前記画
    像形成用マスク材原版から剥離し、次いでこの画像形成
    用マスク材原版の前記支持体及び前記光不透過性層の表
    面にラミネート加工を施す画像形成用マスク材の作成方
    法において、前記光不透過性層を熱転写した側の前記支
    持体の面内で前記支持体の表面に前記ラミネート加工が
    直接施されている部分が画像形成用マスク材の外縁とな
    るように成形することを特徴とする画像形成用マスク材
    の作成方法。
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