JP3144525B2 - ボンディング装置のワイヤ形状測定装置 - Google Patents

ボンディング装置のワイヤ形状測定装置

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体のワイヤボンディ
ング工程においてボンディングされたワイヤの形状を測
定するボンディング装置のワイヤ形状測定装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ワイヤボンディング工程は、半導体チッ
プ(ダイ)上の電極パッドとパッケージの外部引き出し
用端子(リード)との間をアルミニウムや白金等のボン
ディングワイヤで接続する工程であり、接続するワイヤ
と電極パッドおよびリードを互いに加圧し、熱又は超音
波振動あるいはその両方を与えて接合する工程である。
【0003】ところで、このワイヤボンディング工程で
ボンディングされるワイヤは、次工程でのモールディン
グ時や製品使用時の温度上昇等によってにワイヤが断線
しないように、予め所定量の緩みを持った一定の形状に
保たれなければならない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ワイヤボンディング装置には、ボンディングされたワイ
ヤの形状を直接測定する手段がない。そのため、次工程
のモールディング時や製品使用時にICパッケージ内で
ワイヤが断線してしまうという問題がある。本発明はこ
のような事情に鑑みてなされたもので、ボンディングさ
れたワイヤの形状を測定することができるボンディング
ワイヤの形状測定装置を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成する為に、リードフレームのリードと半導体のダイと
をキャピラリから供給されるワイヤでボンディングする
ボンディング装置のワイヤ形状測定装置において、キャ
ピラリの運動を制御するキャピラリコントローラと、ボ
ンディングされたワイヤに向けて光を照射する光照射手
段と、光照射手段から照射された光のうち特定波長の光
のみを通す出射側フィルタと、出射側フィルタから出射
した特定波長の光をボンディングされた直後のワイヤに
照射させるスリットと、前記出射側フィルタと同一のフ
ィルタで形成され、ボンディングワイヤに向けて照射さ
れた特定波長の光のワイヤからの反射光のみを通す入射
側フィルタと、入射側フィルタを通った光が入射する撮
像手段と、予め登録されたリファレンスパターンと前記
撮像手段によって撮像された測定パターンとを比較する
画像処理手段とを備え、前記キャピラリコントローラ
は、前記比較の結果、撮像されたワイヤの測定パターン
がリファレンスパターンに近づくように前記キャピラリ
の運動を制御することを特徴としている。
【0006】
【作用】本発明によれば、照射手段から照射された光が
出射側フィルタ及びスリットを介してボンディング直後
のワイヤを照射し、該ワイヤから反射した光は入射側フ
ィルタを通って撮像手段に入射する。画像処理手段で
は、予め登録されたリファレンスパターンと、前記撮像
手段によって撮像された測定パターンとを比較してボン
ディングされたワイヤ形状を判別する。その判別結果は
次にボンディングされるワイヤのキャピラリの駆動にフ
ィードバックされる。従って、次工程のモールド時や製
品使用時のワイヤ断線を防止することができる。
【0007】
【実施例】以下添付図面に従って本発明に係るボンディ
ングワイヤの形状測定装置の好ましい実施例を詳述す
る。図1はワイヤボンディング工程を説明する説明図で
ある。同図において、10は図示しないリードフレーム
のタブ上に接着されたダイ、12、12…はダイ10上
に形成される電極パッド、14、14’、14”…はリ
ードフレームのリード、16、16’、16”…はアル
ミニウムまたは白金の直径が約0.1mm程度のワイヤで
あり、ワイヤボンディング装置のキャピラリ18によっ
て、パッド12とリード14とがワイヤ16でボンディ
ングされる。
【0008】図2はワイヤボンディング時のダイ10、
パッド12、リード14、ワイヤ16、及び軸心にワイ
ヤ16を通すための細穴を有しその先端が円錐形をした
ワイヤボンディング用ツールであるキャピラリ18の動
きを説明する説明図である。キャピラリ18は、一定の
投影面上で直線的に運動しており、一動作毎に上下又は
横方向に移動してダイ10上のパッド12とリード14
とをワイヤ16でボンディングする。尚、キャピラリ1
8の運動はキャピラリコントローラ19によって制御さ
れている。ダイ10とリードフレームとは図示しないワ
ークテーブル上に搭載され、一回ボンディングする毎
に、リードフレームは所定の角度だけ図中の矢印方向に
回転し、次のボンディング対象となるリード14”とダ
イ10とがキャピラリ18の下方に位置される。
【0009】図3はボンディングされたワイヤの好まし
い形状を示す側面図であり、ワイヤの形状は図4に示す
形状測定装置20によって管理されている。形状測定装
置20の光源22から発光された光は、色フィルタ24
を通過して特定の色、例えば赤色のみがレンズ26に入
射する。レンズ26を介して平行になった光は、スリッ
ト28によってボンディング直後の1本のワイヤ16の
みを照射する。ワイヤ16はその断面形状が丸いので、
照射された光をCCDカメラ30の方向にも反射し、そ
の反射した光はフィルタ24と同種のフィルタ32を介
してCCDカメラ30に入射する。従って、フィルタ3
2を有しているのでCCDカメラ30にはワイヤに照射
された反射光のみを入射させることができる。
【0010】前記の如く構成した形状測定装置20でワ
イヤ16の形状を測定する方法を説明する。先ず、図5
に示すようなリファレンスパターン36となる形状を有
するワイヤ16を実際にCCDカメラ30で測定して、
画像処理装置31にリファレンスパターン36として登
録する。このリファレンスパターン36に基づき管理限
界形状38、及び限界形状40が計算され、しきい値と
して登録される。また、レンズ26、CCDカメラ30
等の取付位置が変更する時には、リファレンスパターン
36、管理限界形状38、及び限界形状40はその都度
補正される。
【0011】リードフレームのタブ上にダイ10が接着
させた後、リード14とパッド12とにキャピラリ18
からのワイヤがボンディングされる。その後、形状測定
装置20の光源22から発光した光が色フィルタ24、
レンズ26、及びスリット28を介してボンディング直
後のワイヤ16を照射し、ワイヤ16で反射した光はフ
ィルタ32を介してCCDカメラ30に入射し、画像処
理装置31にはワイヤ16の形状34が静止画として送
られる。ワイヤ16の形状34は、予め登録されている
リファレンスパターン36、管理限界形状38、及び限
界形状40と比較され、形状34が管理限界形状38の
範囲を越える場合には、キャピラリコントローラ19に
フィードバックされる。即ち、キャピラリコントローラ
19は、次回のワイヤボンディング時において、ワイヤ
のパターンがリファレンスパターン36に近づくように
キャピラリ18の動作を制御する。
【0012】一方、形状34が管理限界形状38の範囲
を越えない場合には、そのまま続行される。また、形状
34が限界形状40の範囲を越える場合には、ワイヤ1
6の張り具合いが張りすぎ、もしくは、緩めであるた
め、ボンディング装置の駆動を停止する。従って、図1
に示すように、ワイヤボンディングされたワイヤ16の
形状を形状測定装置20でリファレンスパターン36と
比較して可否を表示することができるので、次工程のモ
ールド時や製品使用時にワイヤ16が断線することがな
い。
【0013】また、ワイヤ16、16’、16”…のリ
ファレンスパターンは、リード14、14’、14”…
と電極パッド12、12、12…との位置関係によって
異なるため、複数のリファレンスパターン36、3
6’、36”…がワイヤの位置を示す番号とともに記憶
されており、これらを切り換えて比較する。これによ
り、1個のICパッケージにおける全てのボンディング
ワイヤ16、16’、16”…の形状を測定することが
出来る。
【0014】上記実施例では、単一波長のみを通すフィ
ルタを使用する場合について説明したが、これ限られる
ものではなく、単一波長の光照射手段を用いて出射側フ
ィルタ24および入射側フィルタ32を省略してもよ
い。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るボンデ
ィング装置のワイヤ形状測定装置によれば、予め登録さ
れたリファレンスパターンと、前記撮像手段によって撮
像された測定パターンとを比較し、その結果は次にボン
ディングされるワイヤのキャピラリの駆動にフィードバ
ックされる。従って、次工程のモールド時や製品使用時
のワイヤ断線を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】ワイヤボンディング工程を説明する説明図
【図2】ワイヤボンディング時の各部材の動きを説明す
る説明図
【図3】ボンディングされたワイヤの好ましい形状を示
す側面図
【図4】本発明に係わる形状測定装置の概略図
【図5】ワイヤのリファレンスパターンと測定パターン
の比較を説明する説明図
【符号の説明】
10…ダイ 12…電極パッド 14…リード 16…ワイヤ 20…形状測定装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G01B 11/00 - 11/30 G06T 1/00 305 H01L 21/60 321 H01L 21/66

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームのリードと半導体のダイ
    とをキャピラリから供給されるワイヤでボンディングす
    るボンディング装置のワイヤ形状測定装置において、キャピラリの運動を制御するキャピラリコントローラ
    と、 ボンディングされたワイヤに向けて光を照射する光照射
    手段と、 光照射手段から照射された光のうち特定波長の光のみを
    通す出射側フィルタと、 出射側フィルタから出射した特定波長の光をボンディン
    グされた直後のワイヤに照射させるスリットと、 前記出射側フィルタと同一のフィルタで形成され、ボン
    ディングワイヤに向けて照射された特定波長の光のワイ
    ヤからの反射光のみを通す入射側フィルタと、 入射側フィルタを通った光が入射する撮像手段と、 予め登録されたリファレンスパターンと前記撮像手段に
    よって撮像された測定パターンとを比較する画像処理手
    段と、を備え、 前記キャピラリコントローラは、前記比較の結果、撮像
    されたワイヤの測定パターンがリファレンスパターンに
    近づくように前記キャピラリの運動を制御することを特
    徴とするボンディング装置のワイヤ形状測定装置。
  2. 【請求項2】 リードフレームのリードと半導体のダイ
    とをキャピラリから供給されるワイヤでボンディングす
    るボンディング装置のワイヤ形状測定装置において、キャピラリの運動を制御するキャピラリコントローラ
    と、 ボンディングされたワイヤに向けて単一波長の光を照射
    する光照射手段と、 光照射手段から出射した光をボンディングされた直後の
    ワイヤに照射させるスリットと、 ワイヤからの反射光が入射する撮像手段と、 予め登録されたリファレンスパターンと前記撮像手段に
    よって撮像された測定パターンとを比較する画像処理手
    段と、を備え、 前記キャピラリコントローラは、前記比較の結果、撮像
    されたワイヤの測定パターンがリファレンスパターンに
    近づくように前記キャピラリの運動を制御することを特
    徴とするボンディング装置のワイヤ形状測定装置。
  3. 【請求項3】前記画像処理手段は、予め登録された管理
    限界形状と前記撮像手段によって撮像された測定パター
    ンとを比較し、 前記キャピラリコントローラは、前記比較の結果、撮像
    されたワイヤの測定パターンが管理限界形状を越えない
    場合にはワイヤボンディング装置の駆動をそのまま続行
    し、撮像されたワイヤの測定パターンが管理限界形状を
    越えた場合には撮像されたワイヤの測定パターンがリフ
    ァレンスパターンに近づくように前記キャピラリの運動
    を制御することを特徴とする請求項1又は2のボンディ
    ング装置のワイヤ形状測定装置。
  4. 【請求項4】前記画像処理手段は、予め登録された限界
    形状と前記撮像手段によって撮像された測定パターンと
    を比較し、 前記キャピラリコントローラは、前記比較の結果、撮像
    されたワイヤの測定パターンが限界形状を越えた場合に
    はワイヤボンディング装置の駆動を停止することを特徴
    とする請求項1、2又は3のボンディング装置のワイヤ
    形状測定装置。
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