JP4208449B2 - 発光ダイオードのステンシル蛍光体層 - Google Patents

Description

【０００１】
（技術分野）
本発明は、一般に発光装置に関し、より詳細には蛍光体を用いた発光ダイオードに関する。
【０００２】
（背景技術）
視覚的に白色光を発する発光装置を製造するために、青色発光ダイオード（ＬＥＤ）が、発光材料（蛍光体）とともに用いられる。例えば、米国特許第５,８１３,７５３号および米国特許第５,９９８,９２５号には、青色ＬＥＤが反射カップに配置され蛍光体含有材料により囲まれた、発光装置が開示されている。このＬＥＤにより発せられた青色光の一部は上記蛍光体により吸収され、この蛍光体はこれに応えて赤色光および緑色光を発する。上記ＬＥＤにより発せられた吸収されない青色光と、上記蛍光体により発せられた赤色光および緑色光と、が結合したものが、人間の目には白色光として見える。不運にも、このような蛍光体により囲まれた従来のＬＥＤは、一様に白い空間プロファイルで光を発するよりむしろ、黄色光および青色光の輪により囲まれた、中心にある錐体で白色光を頻繁に発する。
【０００３】
参照によりここに含められるローワリー（Lowery）の米国特許第５,９５９,３１６号の開示によれば、このような青色光および黄色光の輪は、上記ＬＥＤを囲んでいる蛍光体含有材料の厚さが一様でないために、青色光の吸収ならびに赤色光および緑色光の発光が空間的に一様になされない結果として生じうる。具体的には、蛍光体含有材料の厚い部分が、蛍光体含有材料の薄い部分よりも、多くの青色光を吸収し多くの赤色光および緑色光を発する。この結果、上記厚い部分が黄色に見え、上記薄い部分が青色に見える傾向がある。さらに、ローワリー（Lowery）の開示によれば、蛍光体含有材料を一様な厚さでたい積させるよりも前に、上記ＬＥＤの上部および周囲に透明な隙間（spacer）をたい積させることにより、発光プロファイルにおける上記輪を取り除くことができる。しかしながら、表面張力のために、一般的に液体またはペースト（液体中に分散した固体）としてたい積される蛍光体含有材料の、形状および厚さを制御することは困難である。
【０００４】
蛍光体含有材料をＬＥＤに一様に塗布する方法が必要とされている。
【０００５】
（発明の開示）
発光半導体装置上に発光層を形成する方法は、基板上に設けられた発光半導体装置がステンシルの開口部内に位置するように、上記基板上で上記ステンシルの位置決めを行う工程と、発光材料を含むステンシル組成物を上記開口部にたい積させる工程と、上記基板から上記ステンシルを除去する工程と、上記ステンシル組成物を固体状態まで硬化させる工程と、を含む。一実施形態では、上記ステンシルの上記開口部の形状は、上記発光半導体装置の形状にほぼ整合し、上記開口部の深さは、上記発光半導体装置の高さと上記発光層の厚さとの総和にほぼ等しく、上記開口部の幅は、上記発光半導体装置の幅と上記発光層の厚さを２倍した値との総和にほぼ等しい。
【０００６】
一実施形態では、上記基板上に設けられた複数の発光半導体装置のそれぞれが、上記ステンシルの複数の開口部のうち対応する１つの開口部内に位置するように、上記ステンシルの位置決めが行われる。上記複数の開口部のそれぞれには、ステンシル組成物がたい積される。
【０００７】
発光層は、上記基板における隣接する部分を汚さないように、かつ、例えば、基板における電気的接触部を完全に被うことなく、発光半導体装置上に形成される。これにより、このような接触部のワイヤボンディングは、上記発光層を形成させた後、実行されうる。さらに、多くの発光装置は、単一基板にたい積され、発光材料含有層と同時にステンシルで掘り出されるので、この方法を用いることにより、スループットが高くなるので、コスト効率を高めることができる。
【０００８】
一実施形態では、発光ステンシル組成物は、熱または光により硬化されうる光学的に透明なシリコンポリマー中に分散された、蛍光体分子および二酸化珪素分子を含む。好ましくは、硬化されていない上記シリコンポリマーは、約１０００センチストークから２００００センチストークの間の粘度を有し、上記二酸化珪素分子は、約９０ｍ²／ｇより大きい、単位質量あたりの表面積を有する燻蒸された二酸化珪素（fumed silica）である。この実施形態で用いられる上記二酸化珪素は、上記発光ステンシル組成物に対して揺変性を分け与える。この結果、上記硬化されていない発光ステンシル組成物から形成された層は、ステンシルで掘り出された後、崩壊することなくまたは沈むことなく、その形状を保持する。一旦固体状態まで硬化されると、上記発光ステンシル組成物により形成された層は、この層が形成される上記発光半導体装置に対する後の処理に耐えるのに十分な強度を示す。さらに、この実施の形態により形成された、上記発光ステンシル組成物における硬化されていない層は、１２０℃を超える温度において化学的および物理的に安定である。特に、発光ステンシル組成物における上記硬化されていない層は、約１２０℃から約２００℃の間の温度に長時間さらされている間でも、黄色化しないであろう。
【０００９】
結果として生ずる発光装置は、活性領域を備える半導体層を含む層のスタックと、上記スタックの少なくとも一部のまわりに設けられ、ほぼ一様な厚さを有する、発光材料含有層と、を含む。上記スタックに隣接しない上記発光材料含有層の表面は、実質的に上記スタックの形状にほぼ整合する。一実施形態では、上記発光半導体装置は、さらに、上記発光材料含有層と上記スタックとの間に設けられた、光学的に透明な層を含む。
【００１０】
一実施形態では、上記活性領域は青色光を発し、上記発光材料含有層は、上記青色光の一部を、上記青色光の残りの部分と結合して白色光を生ずる光に転換しする、蛍光体を含む。この実施形態では、上記発光装置は、一様に白い空間プロファイルで白色光を発する。特に、蛍光体に囲まれた白色光を発する従来方式の発光装置による、黄色および青色の輪はなくなる。
【００１１】
（発明を実施するための最良の形態）
本発明にかかる一実施形態によれば、蛍光体含有材料は、発光ダイオード（ＬＥＤ）上にステンシルで刷り出される。図１を参照するに、一実施形態では、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆは、基板４の上部表面３においてパターンを形成するように配置される。明瞭に説明を行うために、図１には６個のＬＥＤが描かれているが、６より多くのＬＥＤまたは６未満のＬＥＤは、基板４上に配置されるであろう。ステンシル６は、上部表面５、下部表面７、および、ステンシル６を貫通し、形状においてＬＥＤ２Ａ−２Ｆに対応する開口部８Ａ−８Ｆを有する。一実施形態では、開口部８Ａ−８Ｆは、基板４上のＬＥＤ２Ａ−２Ｆのパターンに対応したパターンでステンシル６に配置されている。別の実施形態として、ステンシル６における開口部の数は、基板４におけるＬＥＤの数より多く、ステンシル６における下位セットの開口部は、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆのパターンに対応したパターンで配置される。ステンシル６は、例えば、ステンレス鋼の板により形成されている。ステンシル６が形成する２次元平面に対する垂直な面において測定された、ステンシル６の厚さ（開口部８Ａ−８Ｆの深さ）は、基板４に垂直な面において測定されたＬＥＤ２Ａ−２Ｆの高さの総和に等しく、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上に設けられる、蛍光体含有材料の所望の厚さに近い。同様に、開口部８Ａ−８Ｆの長さおよび幅は、それぞれ、対応するＬＥＤ２Ａ−２Ｆの長さまたは幅の総和に等しく、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆのまわりに設けられる、蛍光体含有材料の所望の厚さのほぼ２倍となる。
【００１２】
一実施形態では、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆは、例えば図２に示すＬＥＤ２Ａのような、フリップチップジオメトリＬＥＤである。各図面における同一の参照番号は、各実施形態における同一の部分を示す。ＬＥＤ２Ａは、第１の伝導型の第１半導体層１０および第２の伝導型の第２半導体層１２を含む。半導体層１０および半導体層１２は、電気的に活性領域１４に結合されている。活性領域１４は、例えば、ｐｎ接合により半導体層１０，１２と結合されている。これに代えて、活性領域１４は、ドーピングされたｎ型、ｐ型、またはドーピングされていない１つ以上の半導体層を含むようにしてもよい。透明な基板（superstrate）１６は、半導体層１０上に任意に設けられる。接触部１８および２０は、それぞれ、半導体層１０および１２に電気的に結合される。活性領域１４は、接触部１８および２０を経由した適切な電圧を適用することにより発光する。内部接続部（interconnect）２２および２４は、それぞれ、接触部１８および２０を基板接触部２６および２８に電気的に結合する。
【００１３】
一実施形態では、半導体層１０および１２ならびに活性領域１４は、Ａｌ_xＩｎ_yＧａ_1-xＮ化合物のような第３族窒化化合物（III-Nitride compounds）により形成され、活性領域１４は、例えば４７０ｎｍの波長の青色光を発する。透明な基板（superstrate）１６は、例えば、サファイアまたは炭化ケイ素から形成される。基板４は例えばシリコンを含む。
【００１４】
図２は特定のＬＥＤ構造を示しているが、本発明は、ＬＥＤ２Ａにおける半導体層の数、および、活性領域１４の詳細な構造とは無関係である。各図面に示されているＬＥＤ２Ａにおける各要素の縮尺が統一されていないことに注意されたい。
【００１５】
フリップチップジオメトリＬＥＤに比べて、従来のジオメトリＬＥＤは、基板（上部表面）から離れて面するＬＥＤの表面における電極をこの基板に電気的に結合する、１つ以上のワイヤボンド（wirebond）を一般的に有する。これらのワイヤボンドは、一般的に壊れやすいが、ＬＥＤにおける上部表面への接触を防ぐ。本発明によれば、蛍光体含有材料は、このような従来のジオメトリ発光ダイオードにステンシルで掘り出されうるが、上記ワイヤボンドを傷つけないように注意しなくてはならない。図２に示すＬＥＤ２ＡのようなフリップチップジオメトリＬＥＤは、このようなＬＥＤの上部表面へのワイヤボンドによる接続を不要としているので、フリップチップジオメトリＬＥＤは、従来のジオメトリＬＥＤよりも、蛍光体含有材料とともにステンシルで容易に掘り出される。
【００１６】
再度図１を参照するに、ステンシル６は、開口部８Ａ−８ＦがＬＥＤ２Ａ−２Ｆと合致するように、かつ、ステンシル６の下部表面７が基板４の上部表面３と接触するように、基板４上に位置決めされる。
【００１７】
図３Ａに示す基板４上に位置決めされたステンシル６の側面図から明らかなように、ＬＥＤ２Ａ−２Ｃは、例えば、ステンシル６における対応する開口部８Ａ−８Ｃの中心に配置される。次に、下記の蛍光体を含むステンシル組成物（stenciling composition）等の硬化可能発光ステンシル組成物（curable luminescent stenciling composition）が、ステンシル６の開口部８Ａ−８Ｆに設けられる。一実施形態では、上記ステンシル組成物は、表面５を横切って移動した金属材料とともに、ステンシル６の開口部８Ａ−８Ｆに設けられる。この後、ステンシル６は基板４から除去されて、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆの上部およびまわりに設けられた、図３Ｂおよび図３Ｃに示す蛍光体層３０Ａ−３０Ｃのようなステンシルで掘り出された蛍光体層が残る。
【００１８】
一実施形態では、基板４上にステンシル６の位置決めを行う工程、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上に蛍光体層３０Ａ−３０Ｃのような蛍光体層を形成するために表面５および開口部８Ａ−８Ｆに発光ステンシル組成物を設ける工程、および、基板４からステンシル６を除去する工程は、一般的にプリント基板上にはんだペーストをステンシルで掘り出すために用いられる、従来の高精度ステンシル機械により実行される。上記ステンシル機械は、例えば、マサチューセッツ州のＭＰＭフランクリン株式会社により製造されたウルトラプリント１５００等である。
【００１９】
ステンシル６が基板４から除去された後、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上の蛍光体層は、例えば熱放射または紫外線放射を適用することにより、固体状態まで硬化される。硬化工程は、上記半導体層における整形用高分子化合物の架橋（cross-linking）を含む。一実施形態では、例えば、蛍光体層３０Ａ−３０Ｃを硬化させるために、ＬＥＤ２Ａ−２Ｃは、従来のオーブン内において約１０分間約１００℃で加熱される。
【００２０】
この結果得られた一実施形態にかかる蛍光体層３０Ａを有するＬＥＤ２Ａの概ほぼが、一例として図４に示されている。蛍光体層３０Ａは、上部表面３２の上部、ならびに、ＬＥＤ２Ａの垂直面３４および３６に、ほぼ一様な厚さを有する。さらに、蛍光体層３０Ａの上部表面３８、ならびに、垂直面の表面４０および４２は、それぞれ、ＬＥＤ２Ａの上部表面３２、ならびに、垂直面の表面３４および３６に平行となっている。これにより、蛍光体層３０Ａの表面３８，４０，４２等の外部表面は、実質的にＬＥＤ２Ａの形状にほぼ整合する。ＡおよびＢと表示された蛍光体３０Ａの寸法は、ともに５０μｍから２５０μｍの範囲にわたる。
【００２１】
ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上の蛍光体層が硬化された後、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆを別個の装置（ダイス型）に分離するために、基板４は鋸または画線器によりひかれる。
【００２２】
一実施形態では、ほぼ一様な厚さとなっている蛍光体層３０Ａ−３０Ｆを有するＬＥＤ２Ａ−２Ｆは、一様に白い空間プロファイルで光を発する。特に、蛍光体に囲まれた白色光を発する従来方式の発光装置による、黄色および青色の輪はなくなる。さらに、蛍光体層３０Ａ−３０Ｆは、基板４での隣接した領域を汚すことなく、また、ＬＥＤ２Ａの接触部２６および２８のような基板接触部を完全に被うことなく、ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上に設けられる。これにより、例えば、接触部２６および２８のワイヤボンディングは、蛍光体層３０Ａを形成させた後、実行されうる。さらに、多くのＬＥＤは、単一の基板に設けられ、蛍光体層と同時にステンシルで掘り出されるので、上述したステンシル工程は、スループットが高くかつコスト効率の良い工程となる。
【００２３】
ＬＥＤ２Ａ−２Ｆ上の蛍光体層は、硬化されるまでは、崩壊することなくまたは沈むことなく、ステンシルで掘り出された形状を実質的に保持しなくてはならない。さらに、蛍光体層が、化学的または物理的性質を変えることなく約１２０℃を超える動作温度に長期間耐えることが望ましい。例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、および、これらと同様の有機樹脂は、蛍光体層に用いることに適していない。なぜならば、これらは、約１２０℃を超える温度では酸化して黄色化するからである。この後、これらの黄色化した有機樹脂は、ＬＥＤにより発せられた青色光を吸収して、このＬＥＤの性能を低下させる。白色を発することを意図された装置による明白な色は、上記有機樹脂が酸化するにつれて、黄色に転移していくであろう。
【００２４】
本発明の一実施形態にかかる使用に適した発光ステンシル組成物は、以下のように用意される。まず第１に、蛍光体の粉が、従来の硬化可能（curable）シリコンポリマー組成物と混合される。この硬化可能シリコンポリマー組成物は、互い違いの位置関係となっている（alternating）シリコン原子および酸素原子（シリコンポリマー）を含む化学的構造を有する少なくとも１つのポリマーを含み、シリコンポリマーまたは光重合開始因子（photopolymerization initiator）の架橋に触媒作用を及ぼす触媒のような硬化剤（curing agent）を随意含む。
【００２５】
上記硬化可能シリコンポリマー組成物は、好ましくは、約４００ｎｍから６００ｎｍの光の波長に対して、実質的に吸収せずに散乱しない（光学的に透明）。硬化されていないステンシル組成物は、硬化されるまでステンシルで掘り出された形状を保持するのであれば、約１０００センチストークよりも大きい粘度を有していなければならない。この結果、硬化可能シリコンポリマー組成物は、好ましくは、硬化前の粘度として約１０００センチストークから２００００センチストークを有する。さらに、硬化可能シリコンポリマー組成物は、ＬＥＤからステンシル組成物に入射する光と、蛍光体の分子からステンシル組成物に入射する光とが結合する効率を高めるために、好ましくは、約１.４５より大きい屈折率を有する。また、硬化可能シリコンポリマー組成物は、好ましくは、例えば加熱または紫外線への照射により固体状態まで硬化されるまで、室温において液体として安定である。
【００２６】
適当な硬化可能シリコンポリマー組成物については、市販されているものを利用することができる。一実施形態では、例えば、硬化可能シリコンポリマー組成物は、約１３００センチストークの粘度を有し、１００℃で約１０分間および室温で約２週間硬化された、マサチューセッツ州フェアヘーヴンにあるナイ・ルーブリカンツ（Nye Lubricants, Inc）より入手可能な、従来の２成分から構成される熱硬化可能（thermally curable）シリコンポリマー組成物である。
【００２７】
一実施形態では、従来の硬化可能シリコン組成物と混合された上記蛍光体の粉は、イングランドのエセックス州のネイチング(Nazeing)にあるフォスファーテクノロジー（Phosphor Technology Ltd）による製品番号ＱＵＭＫ５８／Ｆとして入手可能な、（Ｙ,Ｇｄ）₃Ａ_l5Ｏ₁₂：Ｃｅ（ガドリニウムおよびセリウムが添加されたイットリウム・アルミニウム・ガーネット）の粉である。この蛍光体材料の分子は、約１μｍから約５μｍの定型的直径を有し、約４３０ｎｍから約４９０ｎｍの波長を有する光を吸収し、約５１０ｎｍから約６１０ｎｍまでの広範な帯域における光を発する。ステンシルで掘り出された蛍光体層を有するＬＥＤにより発せられた光の色は、一部分、発光ステンシル組成物における蛍光体分子の濃度により、決定される。一般的に、上記蛍光体分子は、１００グラムのシリコンポリマー組成物に約２０グラム〜１２０グラムの蛍光体分子が含まれる濃度となるように、硬化可能シリコンポリマー組成物と混合される。
【００２８】
一実施形態では、二酸化チタニウムは、さらに１００グラムのシリコンポリマー組成物に約１.５グラム〜５.０グラムの二酸化チタニウムが含まれる濃度となるように、シリコンポリマー組成物に分散される。この二酸化チタニウムは、蛍光体分子とほぼ同じ大きさであり、活性領域１４により発せられる光の散乱を増進させ、これによりこの光の上記蛍光体分子による吸収を増進させる。しかしながら、二酸化チタニウムの濃度が増加するにつれて、ＬＥＤの全体的な転化効率は低下する。
【００２９】
次に、蛍光体分子および任意に二酸化チタニウム分子が硬化可能シリコン組成物に混合された後、揺変性のゲルを形成するために、精細に分離された二酸化珪素分子が、上記組成物に分散される。揺変性のゲルは、揺変性、すなわち、剪断応力がかけられると粘度が明らかに低下し、剪断応力が除去されると粘度が本来のレベルに戻る性質を示す。この結果、揺変性のゲルは、振り動かされ、攪拌され、または、別の方法でかき乱された場合に液体として動き、静止状態におかれた場合に再度ゲルに戻る。これにより、本発明の一実施形態では用意された発光ステンシル組成物は、ＬＥＤ上にステンシルで掘り出される際には液体として動くが、ステンシルが除去された後乱されなければ形状を保持する、蛍光体含有層を、上記ＬＥＤ上に形成する。
【００３０】
一実施形態では、二酸化珪素分子は、燻蒸された二酸化珪素（fumed silica）の分子、水素―酸素の炉においてクロロシランを燃焼させることにより作られるコロイド形状の二酸化珪素である。燻蒸された二酸化珪素は、１２０℃を超える温度において化学的および物理的に安定であり、可視光に対して透明であり、さらに、比較的に低い濃度で発光ステンシル組成物に対して十分な揺変性を分け与えるであろう。用いる燻蒸された二酸化珪素の等級は、この二酸化珪素が無極性材料に混合されても化学反応を起こさないように、選択される。一実施形態では、上記燻蒸された二酸化珪素は、マサチューセッツ州ボストンにあるカボットコーポレーション（Cabot Corporation）より得られる、未処理の無定形の燻蒸された二酸化珪素、Ｍ−５Ｐ等級のＣＡＢ−Ｏ−ＳＩＬ（Ｒ）である。この階級の燻蒸された二酸化珪素は、疎水性を有し、単位質量あたりの平均表面積として２００±１５ｍ²／ｇを有する。上記Ｍ５−Ｐ等級の燻蒸された二酸化珪素分子は、１００グラムのシリコンポリマー組成物に約１.５グラム〜４.５グラムの燻蒸された二酸化珪素が含まれる濃度となるように、従来の３方向回転式粉砕機（three roll mill）を用いて、蛍光体分子とシリコンポリマー分子との組成物中に分散される。燻蒸された二酸化珪素の濃度が増加するにつれて、ステンシル組成物は、より揺変性を強める、すなわち、乱されないゲルとしてより固体状になる。
【００３１】
別の実施形態として、２００±１５ｍ²／ｇより大きい方の、または、小さい方のいずれかの単位質量あたりの表面積を有する、燻蒸された二酸化珪素を用いる。燻蒸された二酸化珪素の固定濃度に対して、ステンシル組成物は、上記燻蒸された二酸化珪素の単位質量あたりの表面積が増加するにつれて、より揺変性を強める。これにより、単位質量あたりの表面積が小さい、燻蒸された二酸化珪素ほど、より高い濃度で用いなければならない。単位質量あたりの表面積が小さい、燻蒸された二酸化珪素の濃度を高くする必要がある結果、大きすぎて容易にステンシルで掘り出されないような粘度を有するステンシル組成物を用いることになる。この結果、上記燻蒸された二酸化珪素は、好ましくは、約９０ｍ²／ｇより大きい、単位質量あたりの表面積を有する。逆に、上記燻蒸された二酸化珪素の単位質量あたりの表面積が大きくなるにつれて、燻蒸された二酸化珪素の必要とされる濃度は小さくなるが、このような燻蒸された二酸化珪素は、シリコンポリマー組成物中で分散することがより困難となる。
【００３２】
図５は、基板上の上部表面３に設けられた、ステンシルで掘り出された蛍光体含有層３０Ａの定型的に測定された断面図と、一般的に配向されたフリップチップジオメトリＬＥＤ２Ａの断面図と、を重ね合わせた様子を示している。便宜上、図５に示す測定された断面図および図４に示す模式図において、同一の部分には同様の参照番号が用いられている。図５に示す蛍光体含有層３０Ａは、上述したように、１００グラムのシリコンポリマー組成物に約７０グラムの蛍光体分子が含まれるような濃度で約１３００センチストークの粘度となる（Ｙ,Ｇｄ）₃Ａ_l5Ｏ₁₂：Ｃｅ蛍光体分子、を有する硬化可能シリコンポリマー組成物と、１００グラムのシリコンポリマー組成物に約３.５グラムの燻蒸された二酸化珪素が含まれるような濃度で２００±１５ｍ²／ｇの単位質量あたりの表面積を有する、燻蒸された二酸化珪素分子と、を含む発光ステンシル組成物により形成されている。蛍光体層３０Ａの断面は、従来の工具製造業者により製造された顕微鏡を用いて測定される。ＬＥＤ２Ａの一般的な配向は、シリコン基板上に従来通りに設けられた、塗布されていない様々なＬＥＤの断面を、従来のプロフィルメータを用いて測定することにより確証される。
【００３３】
図４の模式図にも示されているように、図５における蛍光体層３０Ａは、ほぼ一様な厚さを有し、実質的にＬＥＤ２Ａの形状とほぼ整合する。特に、蛍光体層３０Ａの上部表面３８ならびに垂直面の表面４０および４２は、それぞれ、ＬＥＤ２Ａの上部表面３２ならびに垂直面３４および３６にほぼ平行となっている。さらに、図５に示す蛍光体層３０Ａは、発光ステンシル組成物が硬化される前であってステンシルが除去されるときまたは除去された後に形をなす、隆起部４４および尾部４６を示す。
【００３４】
文字ＡからＥで表示された寸法は次の通りである。すなわち、Ａは９０μｍ、Ｂは６０μｍ、Ｃは３０μｍ、Ｄは８０μｍ、および、Ｅは１.３１ｍｍである。ステンシル工程が自動パターン認識ソフトウェアを備えたステンシル機械により実行されるのであれば、寸法Ｂは、±２％すなわち±１２μｍの誤差の範囲で再現可能である。
【００３５】
図５に示す蛍光体層３０Ａの形成のもとになったステンシル組成物に用いられる燻蒸された二酸化珪素の濃度および等級は、隆起部４４および尾部４６を最小化するように選択された。ステンシル組成物おける燻蒸された二酸化珪素の濃度が増加すれば、隆起部４４の高さが増加するとともに尾部４６の長さが減少するであろう。逆に、燻蒸された二酸化珪素の濃度が減少すれば、隆起部４４の高さが減少し、尾部４６の長さが減少し、さらに、蛍光体層３０Ａの垂直面の表面４０および４２は、ＬＥＤ２Ａの上部表面３２付近の寸法Ｂが基板４付近の寸法Ｂよりずいぶん小さくなり、かつ、上部表面３２における端の付近の寸法Ａが上部表面３２の中心付近の寸法Ａよりずいぶん小さくなるような具合に、沈み込むであろう。
【００３６】
図６を参照するに、別の実施形態として、光学的に透明な層４８は、例えばステンシルで掘り出された蛍光体含有層３０Ａがたい積されるよりも前に、ＬＥＤ２Ａの上部および周囲にたい積される。一実施形態では、光学的に透明な層４８は、上述したステンシル工程を用いて、光学的に透明なステンシル組成物から形成される。光学的に透明な適当なステンシル組成物は、上述した発光ステンシル組成物と本質的に同様な（ただし、蛍光体分子を添加しない）方法により準備される。光学的に透明な層４８は、約４５μｍ〜約８０μｍの厚さを有する。光学的に透明な層４８および蛍光体含有層３０Ａは、ともに、ほぼ一様な厚さを有するとともに、実質的にＬＥＤ２Ａの形状にほぼ整合する。
【００３７】
本発明は、特定の実施形態を用いて説明されているが、本発明は、添付請求項の範囲内にあるあらゆる変形および変更を含むように、解釈される。例えば、発光ステンシル組成物は、蛍光体分子に加えてまたは蛍光体分子に代えて、半導体ナノクリスタル（semiconductor nanocrystals）および／または色素分子（dye molecules）を含むことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる基板上に設けられた発光ダイオードおよび対応するステンシルを示す模式図
【図２】本発明の一実施形態にかかる蛍光体含有材料とともにステンシルで掘り出される発光ダイオードを示す模式図
【図３Ａ】本発明の一実施形態にかかるステンシル方法における３つの工程に対応する基板上に設けられた発光ダイオードを示す側面図
【図３Ｂ】本発明の一実施形態にかかるステンシル方法における３つの工程に対応する基板上に設けられた発光ダイオードを示す側面図
【図３Ｃ】本発明の一実施形態にかかるステンシル方法における３つの工程に対応する基板上に設けられた発光ダイオードを示す側面図
【図４】本発明の一実施形態にかかる蛍光体含有層を有する発光ダイオードを示す模式図
【図５】基板上に搭載された、ステンシルで掘り出された蛍光体含有層の定型的に測定された断面図と、一般的に配向されたフリップチップジオメトリ発光ダイオードの断面図と、を重ね合わせた様子を示す図
【図６】本発明の一実施形態にかかる光学的に透明な層および蛍光体含有層を有する発光ダイオードを示す模式図

Claims (17)

1. 活性領域を備える半導体層を含む層のスタックと、
   該スタックの少なくとも一部のまわりに設けられたほぼ一様な厚さを有する発光材料含有層と、
   を備え、
   前記スタックの垂直面及び上部表面の両方の上に設けられた前記発光材料含有層の厚さがほぼ一様となって、前記スタックに隣接しない前記発光材料含有層の表面が、前記スタックの形状にほぼ整合する発光装置であって、
   基板上に設けられた前記スタックがステンシルの開口部内に位置するように、前記基板上で前記ステンシルの位置決めを行い、
   蛍光体を含み約１０００センチストークより大きい粘度を有するステンシル組成物を前記開口部に堆積させ、
   前記基板から前記ステンシルを除去し、
   前記ステンシルを除去した後、前記ステンシル組成物を固体状態まで硬化させる、
   ことにより製造されたものである、ことを特徴とする発光装置。
2. 前記発光材料含有層は、少なくとも１つのシリコンポリマーを含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
3. 前記発光材料含有層は、二酸化珪素分子を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
4. 前記二酸化珪素分子は、乾式シリカであることを特徴とする請求項３に記載の発光装置。
5. 前記発光材料含有層は、前記活性領域により発せられた光の波長を少なくとも別の波長に転換する蛍光体を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
6. 前記蛍光体は、ガドリニウムおよびセリウムが添加された、イットリウム・アルミニウム・ガーネットを含むことを特徴とする請求項５に記載の発光装置。
7. 前記活性領域は青色光を発し、前記発光材料含有層は、前記青色光の一部を、前記青色光の残り部分と結合して白色光を生ずる、蛍光体を含むことを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
8. 前記発光材料含有層と前記スタックとの間に設けられた、光学的に透明な層を備えることを特徴とする請求項１に記載の発光装置。
9. 活性領域を備える半導体層を含むスタックと、
   前記スタックの少なくとも一部のまわりに設けられたほぼ一様な厚さを有する発光材料含有層と、
   を備え、
   前記発光材料含有層が、シリコンポリマー、乾式シリカ、および、蛍光体を具備し、
   前記スタックの垂直面及び上部表面の両方の上に設けられた前記発光材料含有層の厚さがほぼ一様となって、前記スタックに隣接しない前記発光材料含有層の表面が、前記スタックの形状にほぼ整合する発光装置であって、
   基板上に設けられた前記スタックがステンシルの開口部内に位置するように、前記基板上で前記ステンシルの位置決めを行い、
   蛍光体を含み約１０００センチストークより大きい粘度を有するステンシル組成物を前記開口部に堆積させ、
   前記基板から前記ステンシルを除去し、
   前記ステンシルを除去した後、前記ステンシル組成物を固体状態まで硬化させる、ことにより製造されたものである、ことを特徴とする発光装置。
10. 発光半導体装置上に発光層を形成する方法であって、
    基板上に設けられた発光半導体装置がステンシルの開口部内に位置するように、前記基板上で前記ステンシルの位置決めを行う工程と、
    前記発光半導体装置の垂直面及び上部表面の両方の上に形成される発光材料を含むステンシル組成物であって約１０００センチストークより大きい粘度を有するステンシル組成物の厚さがほぼ一様となるように、該ステンシル組成物を前記開口部にたい積させる工程と、
    前記基板から前記ステンシルを除去する工程と、
    前記ステンシルを除去した後に前記ステンシル組成物を固体状態まで硬化させる工程と、
    を含むことを特徴とする方法。
11. 前記開口部は、実質的に前記発光半導体装置の形状にほぼ整合することを特徴とする請求項１０に記載の方法。
12. 前記開口部の深さは、前記発光半導体装置の高さと前記発光層の厚さとの総和にほぼ等しいことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
13. 前記開口部の幅は、前記発光半導体装置の幅と前記発光層の厚さを２倍した値との総和にほぼ等しいことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
14. 前記ステンシル組成物は、乾式シリカ分子、および、少なくとも１つのシリコンポリマーを含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
15. 前記乾式シリカ分子は、約９０ｍ²／ｇより大きい、単位質量あたりの表面積比を有することを特徴とする請求項１４に記載の方法。
16. 前記シリコンポリマーは、約１０００センチストークから約２００００センチストークの粘度を有することを特徴とする請求項１４に記載の方法。
17. 前記基板上に設けられた複数の発光半導体装置のそれぞれが前記ステンシルにおける複数の開口部のうち対応する１つの開口部内に配置されるように、前記ステンシルの位置決めを行う工程と、
    前記複数の開口部のそれぞれにおいて、前記ステンシル組成物をたい積させる工程と、
    を含むことを特徴とする請求項１０に記載の方法。

Images