JP5021141B2 - レトロウイルスプロテアーゼ阻害薬を調製するための方法および中間体 - Google Patents

レトロウイルスプロテアーゼ阻害薬を調製するための方法および中間体 Download PDF

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Description

【0001】
技術分野
本発明は、HIVプロテアーゼ阻害薬の合成に使用する方法および中間体に関する。
【0002】
発明の背景
ヒト免疫不全ウイルス(HIV)のプロテアーゼ阻害薬である化合物は、in vitroおよびin vivoでのHIVプロテアーゼの阻害に有用であり、さらにHIV感染の抑制に有用である。HIVプロテアーゼ阻害薬の例には、次式Iの化合物が含まれ、
【0003】
【化5】
Figure 0005021141
またこれは、((2S,3S,5S)−2−(2,6−ジメチルフェノキシアセチル)−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロピリミド−2−オニル)−3−メチル−ブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンまたはロピナビルとして知られている。式Iの化合物およびその類似体を調製する方法は、1999年6月22日発行の米国特許第5,914,332号で提唱されているが、これを参照により本明細書に組み込む。
【0004】
式Iの化合物およびその類似体の調製に有用な中間体は、次式IIの化合物である。
【0005】
【化6】
Figure 0005021141
[式中、Rは、低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルであり、PおよびPは、独立に、水素およびN保護基から選沢される。]好ましい式IIの化合物は、Rが低級アルキルであり、PおよびPが水素であるか、またはPおよびPがベンジルである。より好ましい式IIの化合物は、Rがイソプロピルであり、PおよびPが水素であるか、あるいはRがイソプロピルであり、PおよびPがベンジルである。
【0006】
式IIの化合物の調製方法は、米国特許第5,914,332号で開示されている。その方法は、次式IIIの化合物
【0007】
【化7】
Figure 0005021141
[式中、Pは水素またはN保護基であり、PはN保護基である]と、次式IVの化合物
【0008】
【化8】
Figure 0005021141
[式中、Rは、低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルである]、その塩、またはその活性化エステルとの反応を含む。
【0009】
好ましい式IIIの化合物は、PおよびPがN保護基である。最も好ましい式IIIの化合物は、PおよびPがどちらもベンジルである。最高に好ましいものは、(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンである式IIIの化合物である。
【0010】
好ましい式IVの化合物は、Rが低級アルキルである。最も好ましい式IVの化合物は、Rがイソプロピルである。同様に好ましいものは、式IVの化合物の酸塩化物誘導体である。最高に好ましいものは、2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチル酪酸である式IVの化合物および2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイルクロリドである式IVの化合物である。
【0011】
開示されている方法では、適切な溶媒(酢酸エチルまたは酢酸エチル/DMF)中で、塩基としてイミダゾールを用い、(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンを2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイルクロリドと反応させる。しかし、この方法は、中間体の不安定さ、収率の低さ、および触媒被毒を含む数多くの理由のために大規模生産に適さない。特に、この酸塩化物が比較的不安定であり、酸塩化物の調製に塩化チオニルを使用すると、後の反応で使用する触媒を被毒させる不純物がもたらされる。さらに、利用された反応条件下では、アミノ酸側鎖のある程度のラセミ化が起こる。
【0012】
したがって、上文で定義した式Iの化合物を含むHIVプロテアーゼ阻害薬の合成に使用する中間体を調製するための改良された方法が今なお求められている。
【0013】
発明の開示
本発明は、次式IIの化合物
【0014】
【化9】
Figure 0005021141
[式中、Rは、低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルであり、PおよびPは、独立に、水素およびN保護基から選択される]を調製するための方法および中間体であって、次式IIIの化合物
【0015】
【化10】
Figure 0005021141
[式中、Pは水素またはN保護基であり、PはN保護基である]を
次式Vの化合物
【0016】
【化11】
Figure 0005021141
[式中、Rは低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルであり、Rは、イミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、インドリル、ベンズイミダゾリル、および、ベンゾトリアゾリルからなる群から選択された、環上窒素原子を介してカルボニル基に結合している含窒素複素環である]と反応させることを含む方法および中間体に関する。
【0017】
本発明の好ましい方法では、PおよびPはN保護基であり、Rは低級アルキルであり、Rはイミダゾリルである。本発明の最も好ましい方法では、PおよびPはどちらもベンジルであり、Rはイソプロピルであり、Rはイミダゾリルである。
【0018】
本発明の方法では、式IIIの化合物約1.0モルから式Vの化合物約1.3モルのモル比で、式IIIの化合物と式Vの化合物を反応させる。好ましい比は、約1.0〜約1.2である。最も好ましい比は、約1.0から約1.15である。
【0019】
本発明の方法に適する溶媒は、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン(THF)、メチルt−ブチルエーテルなど、不活性溶媒である。本発明の方法に好ましい溶媒は、酢酸エチルである。
【0020】
本発明の方法は、約15℃〜約100℃の温度で実施できる。本発明の方法に好ましい温度は、溶媒の還流温度付近である。本発明の方法に最も好ましい温度は、約75℃から約80℃である。
【0021】
本発明の方法は、水が存在すると加速される。反応混合物中に存在する水の好ましい量は、反応混合物の総体積(mL)に対する水の量(グラム)の割合で約1%〜約3%(重量/体積)である。
【0022】
式Vの化合物は、酢酸イソプロピル、酢酸エチル、テトラヒドロフラン(THF)、メチルt−ブチルエーテルなど、不活性な非プロトン性溶媒中、約15℃〜約50℃の温度で、カルボン酸IV(約1.00モル)とカルボニルジイミダゾール(約1.05モル)を反応させることによって調製する。酢酸エチル中約15℃で、カルボン酸IVと、R−C(O)−R、R−C(S)−R、またはR−S(O)−R[式中、Rは上記で定義したとおりである](好ましくはカルボニルジイミダゾール)を反応させることが好ましい。
【0023】
式Vの化合物は単離することもできるが、これを調製し、次いでワンポットプロセスで、式IIIの化合物と(単離および精製をせずに)反応させることが好ましい。
【0024】
次いで、PおよびPがそれぞれベンジルである式IIの化合物を脱ベンジル化することができ、さらに、得られた、PおよびPがそれぞれ水素である((S)−ピログルタミン酸塩としての)式IIの化合物を、(米国特許第5,914,332号で開示されているような)2,6−ジメチルフェノキシアセチルクロリドと反応させて、ロピナビルを得ることができる。
【0025】
本明細書では、用語「低級アルキル」は、1〜6個の炭素原子を含む直鎖または分枝鎖の炭化水素基を指す。低級アルキル基の代表例には、たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、s−ブチル、t−ブチルn−ペンチル、1−メチル−ブチル、2,2−ジメチルブチル、2−メチルペンチル、2,2−ジメチルプロピル、n−ヘキシルなどの基が含まれる。
【0026】
本明細書では、用語「シクロアルキル」は、3〜10個の炭素原子および1または2個の環を有する脂肪族環系を指す。代表的なシクロアルキル基には、たとえば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、ノルボルナン、ビシクロ[2.2.2]オクタンなどが含まれる。
【0027】
本明細書では、用語「(シクロアルキル)アルキル」は、低級アルキル基に結合したシクロアルキル基を指す。(シクロアルキル)アルキル基の代表例には、たとえば、シクロヘキシルメチル、シクロペンチルメチル、シクロヘキシルエチル、シクロペンチルエチルなどの基が含まれる。
【0028】
本明細書では、用語「N保護基」または「N保護した」は、アミノ酸またはペプチドのN末端を保護する、あるいは合成手順中の望ましくない反応からアミノ基を保護することを意図した基を指す。一般に使用されているN保護基は、T.H.GreeneおよびP.G.M.Wutsの「Protective Groups in Organic Synthesis」、第2版、ニューヨーク、John Wiley&Sons社刊、(1991年)で開示されている。N保護基は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、t−ブチルアセチル、2−クロロアセチル、2−ブロモアセチル、トリフルオロアセチル、トリクロロアセチル、フタリル、o−ニトロフェノキシアセチル、α−クロロブチリル、ベンゾイル、4−クロロベンゾイル、4−ブロモベンゾイル、4−ニトロベンゾイルなど、アシル基;ベンゼンスルホニル、p−トルエンスルホニルなど、スルホニル基;フェニルスルフェニル(フェニル−S−)、トリフェニルメチルスルフェニル(トリチル−S−)など、スルフェニル基;p−メチルフェニルスルフィニル(p−メチルフェニル−S(O)−)、t−ブチルスルフィニル(t−Bu−S(O)−)など、スルフィニル基;ベンジルオキシカルボニル、p−クロロベンジルオキシカルボニル、p−メトキシベンジルオキシカルボニル、p−ニトロベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベンジルオキシカルボニル、p−ブロモベンジルオキシカルボニル、3,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、3,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2,4−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロ−4,5−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、3,4,5−トリメトキシベンジルオキシカルボニル、1−(p−ビフェニルイル)−1−メチルエトキシカルボニル、α,α−ジメチル−3,5−ジメトキシベンジルオキシ−カルボニル、ベンズヒドリルオキシカルボニル、t−ブチルオキシカルボニル、ジイソプロピルメトキシ−カルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、エトキシカルボニル、メトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、フェノキシカルボニル、4−ニトロ−フェノキシカルボニル、フルオレニル−9−メトキシカルボニル、シクロペンチルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、シクロヘキシルオキシカルボニル、フェニルチオカルボニルなど、カルバメート形成基;ベンジル、p−メトキシベンジル、トリフェニルメチル、ベンジルオキシメチルなど、アルキル基;p−メトキシフェニルなど;およびトリメチルシリルなど、シリル基を含む。好ましいN保護基には、ベンジルなどがある。
【0029】
以下に実施例を示して本発明をさらに説明する。
【0030】
実施例1
(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
A.(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
水素化ホウ素ナトリウム11.5グラムをエチレングリコールジメチルエーテル(DME)292グラム中に懸濁させ、−5℃以上に冷却した。別のフラスコで、温度を35℃以下に保ったエチレングリコールジメチルエーテル28.0グラムにメタンスルホン酸(MSA)70.4グラムをゆっくりと加えた。このMSA溶液を25℃以下に冷却し、温度を5℃以下に保った水素化ホウ素ナトリウム懸濁液に移した。別のフラスコで、エチレングリコールジメチルエーテル91.7グラムとイソプロピルアルコール50.0グラムの混合物中に2−アミノ−5S−ジベンジルアミノ−4−オキソ−1,6−ジフェニルヘキサン(米国特許第5,491,253号)50gmを溶解させた。この溶液を、温度を25℃以下に保った水素化ホウ素ナトリウム/MSA溶液に移した。フラスコの内容物を15〜25℃で1時間以上攪拌した。次いで、内容物を−3℃以下に冷却し、温度を5℃以下に保ちながらトリエタノールアミン53.0グラムを加えた。この混合物を15分以上攪拌し、温度を10℃以下に保ちながら、水素化ホウ素ナトリウム7.1グラムをジメチルアセトアミド79.4グラムに溶かした溶液を加えた。次いで、蒸留水240.2グラムを加え、内容物を10〜30℃で30分間以上混合した。メチルt−ブチルエーテル121.2グラムを加え、混合物を30分間以上攪拌した。各層に分離させ、水層を捨てた。有機層を、水酸化ナトリウム16.5グラムと蒸留水150.2グラムから調製した水酸化ナトリウム溶液で洗浄した。各層に分離させ、水層を捨てた。有機層を、塩化ナトリウム16.5グラムと蒸留水109.7グラムから調製した塩化ナトリウム溶液で洗浄した。各層に分離させ、水層を捨てた。有機層を、75℃以下の真空中(50〜100mmHg)で蒸留した。残渣を酢酸エチル196.5グラムに溶解させた。蒸留水5.0グラムを加えた。
【0031】
B.N−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)イミダゾール
酢酸エチル147.5グラム中に2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチル酪酸(米国特許第5,914,332号)24.8グラムおよびカルボニルジイミダゾール21.0グラムを含む混合物を、15〜25℃で1時間以上攪拌した。
【0032】
C.(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
実施例1ステップBから得られた溶液に蒸留水0.6グラムを加え、内容物を15分間以上攪拌した。実施例1ステップAから得られた溶液を、還流するまで加熱した。この実施例1ステップAから得られた還流溶液を含んだフラスコに、実施例1ステップBから得られた溶液を移し、還流しながら1時間以上攪拌した。反応物を室温に冷却し、蒸留水246.2グラムを加えた。この溶液を15分間以上攪拌し、水層を分離し、廃棄した。洗浄の度に246.2グラムの蒸留水を使用して、有機層をさらに3回洗浄した。次いで、75℃以下の真空中(50〜100mmHg)で有機層を蒸留すると、所望の生成物が得られた。
【0033】
実施例2
((2S,3S,5S)−2−(2,6−ジメチルフェノキシアセチル)−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロピリミド−2−オニル)−3−メチル−ブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
A.(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
必要なら55℃に加熱しながら、実施例1ステップCの生成物をメタノール307.5グラムに溶解させた。この溶液に、ギ酸アンモニウム21.8グラムおよびパラジウム担持炭素6.9グラムを加えた後、反応物を50〜60℃で2時間以上攪拌した。内容物を、濾過助剤パッドを通して濾過した。フラスコおよび濾紙をメタノール85.6グラムで濯いだ。濾液を合わせて、75℃以下の真空中(50〜100mmHg)で蒸留した。必要なら50℃に加熱しながら、残渣を酢酸エチル171.3グラムに溶解させ、75℃以下の真空中(50〜100mmHg)で濃縮した。必要なら50℃に加熱しながら、残渣を酢酸エチル262.1グラムに溶解させた。試料の水分を分析して、0.2%の限界点に達するようにし、その限界点に達していなければ、蒸留および酢酸エチルの添加を繰り返した。溶媒を蒸留して、所望の化合物を得た。
【0034】
B.(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン(S−ピログルタミン酸塩)
必要なら50℃に加熱しながら、実施例2ステップAの生成物を酢酸エチル262.1グラムに溶解させた。ジメチルホルムアミド79.6グラムを加え、溶液を52℃に加熱した。温度を52℃に保ちながら、S−ピログルタミン酸14.6グラムをジメチルホルムアミド30.0グラムに溶かした溶液を加えた。ピログルタミン酸塩が沈殿するまで、混合物を52℃で攪拌した。沈殿し始めない場合、(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン(S−ピログルタミン酸塩)種晶(米国特許第5,914,332号)0.05グラムを使用して、バッチに添加してよい。沈殿し始めたら、バッチを52℃で1時間以上攪拌し、次いで、20℃に冷却し、5時間以上攪拌した。沈殿を濾過によって収集し、酢酸エチル128.5グラムで洗浄した。真空炉中、65℃以下の真空中(50〜100mmHg)で固体を乾燥すると、所望の化合物55.6グラムが得られた。
【0035】
C.((2S,3S,5S)−2−(2,6−ジメチルフェノキシアセチル)−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロピリミド−2−オニル)−3−メチル−ブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
米国特許第5,914,332号に記載の方法に従って、実施例2ステップBの生成物と2,6−ジメチルフェノキシアセチルクロリドを反応させて、所望の生成物を得た。
【0036】
実施例3
(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
A.(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
反応器A(1,000L、ガラスライニング製)にエチレングリコールジメチルエーテル560Lを投入した。攪拌する間、反応器の内容物を5℃以下に冷却した。反応器B(10,000L、ステンレス鋼製)に水素化ホウ素ナトリウム104kgを投入した。水素化ホウ素ナトリウムの塊は、砕いてから反応器に投入した。水素化ホウ素ナトリウムが入っている反応器Bにエチレングリコールジメチルエーテル2400Lを投入した。攪拌する間、反応器Bの内容物を−10℃以下に冷却した。添加する間、内部温度を30℃以下に保ちながら、反応器Aにメタンスルホン酸624kgを投入した。
【0037】
窒素雰囲気下、反応器C(3,500L、ステンレス鋼製)に2−アミノ−5−S−ジベンジルアミノ−4−オキソ−1,6−ジフェニルヘキサ−2−エン400kgを投入した。これにエチレングリコールジメチルエーテル850Lを投入した。これにイソプロピルアルコール510Lも投入した。この反応器Cの内容物を、固体が溶解するまで混合した。
【0038】
反応器Bの温度を5℃以下に保ちながら、反応器Aの内容物を反応器Bに移した。反応器Bの温度を25℃以下に保ちながら、反応器Cの内容物を反応器Bに移した。加え終えてから、反応器Bの内容物の温度を調節して20℃±5℃とした。
【0039】
反応器Cにエチレングリコールジメチルエーテル250Lを投入し、次いで、反応器Cの内容物を反応器Bに移した。反応器Bの内容物を20℃±5℃で6時間以上攪拌した。次に反応器Bの内容物を−3℃以下に冷却した。
【0040】
窒素雰囲気中で、反応器Cに水素化ホウ素ナトリウム57kgを投入した。水素化ホウ素ナトリウムの塊は、砕いてから反応器に投入した。ポンプを使用して、反応器Cに、攪拌しながらジメチルアセトアミド635kgを投入した。反応器Bの内容物の温度を5℃以下に保ちながら、ポンプを使用して、反応器Bにトリエタノールアミン424kgを投入した。加え終えてから、反応器Bの内容物を−3℃以下に冷却した。
【0041】
反応器Bの内容物の温度を10℃以下に保ちながら、反応器Cの内容物を反応器Bに移した。加え終えてから、反応器Bの内容物の温度を調節して15℃±5℃とし、15℃±5℃で1時間以上攪拌した。
【0042】
窒素雰囲気中で、反応器D(12,000L、ステンレス鋼製)に水1920Lを投入し、反応器ジャケットを5℃±5℃に冷却した。反応器Dの内容物を攪拌しながら、反応器Bの内容物を反応器Dに移し、その間、反応器Dの内容物の温度は30℃以下に保った。反応器Bにエチレングリコールジメチルエーテル100Lを投入し、次いで反応器Bの内容物を反応器Dに移した。
【0043】
反応器Dの内容物を20℃±5℃で30分間以上攪拌した。次いで攪拌を止め、反応器Dの内容物を1時間以上かけて沈降させた。反応器Dの下層を反応器E(1,000L、ステンレス鋼製)中に分離した。反応器Eにメチルtert−ブチルエーテル1310Lを投入し、反応器Eの内容物を20℃±5℃で15分間以上攪拌した。攪拌した後、反応器Eの内容物を1時間以上かけて沈降させた。反応器E内の下層を分離し、除去した。
【0044】
反応器Eの内容物を反応器Dに移した。反応器Dの内容物を15分間以上攪拌した。攪拌し終えてから、反応器Dの内容物を15分間以上かけて沈降させた。反応器D内の下層を分離し、除去した。
【0045】
反応器Eに水1200Lを投入した。反応器Eに水酸化ナトリウムペレット132kgを投入した。固体がすべて溶解するまで反応器Eの内容物を攪拌した。
【0046】
反応器Eの内容物を反応器Dに移し、反応器Dの内容物を15分間以上攪拌した。次いで、反応器Dの内容物を15分間以上かけて沈降させた。反応器Dの下方の水層を分離し、除去した。
【0047】
反応器Eに水880Lを投入した。反応器Eに塩化ナトリウム132kgを投入してから、固体がすべて溶解するまで攪拌した。次いで、反応器Eの内容物を反応器Dに移した。反応器Dの内容物を15分間以上攪拌し、次いで30分間以上かけて沈降させた。反応器D内の下層を分離し、除去した。
【0048】
真空中(50〜100mmHg)、75℃の最高ジャケット温度で、それ以上蒸留できなくなるまで反応器Dの内容物を蒸留した。反応器Dに酢酸エチル1740Lを投入し、固体がすべて溶解するまで50℃以下で攪拌した。固体がすべて溶解したとき、反応器Dの内容物を20℃±5℃に冷却した。
【0049】
B.N−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)イミダゾール
窒素雰囲気中で、反応器G(6,000L、ガラスライニング製)に、N−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタン酸(米国特許第5,914,332)199kgを投入した。これにカルボニルイミダゾール175kgを投入した。これに酢酸エチル1320Lも投入し、その内容物を20℃±5℃で1時間以上攪拌した。
【0050】
C.(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン
反応器Dに水30kgを投入し、この内容物を10分間以上攪拌した。次いで、反応器Dの温度を調節して、還流するようにした(およそ75〜77℃)。反応器Dの内容物が還流するようになってから、反応器Gに水4.6kgを投入し、その内容物を15分間以上攪拌した。次いで、反応器Gの内容物を反応器Dに移した。反応器Gに酢酸エチル430Lを投入し、次いで反応器Gの内容物を反応器Dに移した。次に、反応器Dの温度を、内容物が還流するように再度調節した。反応器Dの内容物を、還流させながら1時間以上攪拌した。
【0051】
反応器Dに水1970Lを投入した。反応器Dの内容物が40℃±5℃の温度範囲まで冷えるのを待ち、この内容物を15分間以上攪拌し続けた。次いで、この内容物を30分間以上かけて沈降させた。反応器D内の下層を分離し、除去した。
【0052】
反応器Dに水1970Lを投入した。反応器Dの内容物が40℃±5℃の温度範囲まで冷えるのを待ち、この内容物を15分間以上攪拌し続けた。次いで、この内容物を30分間以上かけて沈降させた。反応器D内の下層を分離し、除去した。
【0053】
反応器Dに水1970Lを投入した。反応器Dの内容物が40℃±5℃の温度範囲まで冷えるのを待ち、この内容物を15分間以上攪拌し続けた。次いで、この内容物を30分間以上かけて沈降させた。反応器D内の下層を分離し、除去した。
【0054】
最高ジャケット温度が75℃、かつ内部温度が50℃以下の真空中(50〜100mmHg)で、それ以上蒸留できなくなるまで反応器Dの内容物を蒸留すると、(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンが得られた。
【0055】
反応器Dにメタノール3110Lを投入し、固体がすべて溶解するまで55℃±5℃で攪拌した。これにギ酸アンモニウム174kgを投入し、固体がすべて溶解するまで55℃±5℃で攪拌した。
【0056】
窒素雰囲気中で、反応器H(8,000L、グラスライニング製)にパラジウム担持炭素(水分50%の5%Pd/C)55kgを投入した。次いで反応器Hを2度排気し、それに窒素を充填した。窒素雰囲気を維持しながら、反応器Dの内容物を反応器Hに移した。反応器Dにメタノール220Lを投入し、次いで反応器Dの内容物を反応器Hに移した。反応器Hの内容物を55℃±5℃に加熱し、55℃±5℃で2時間以上攪拌した。次いで、反応器Hのジャケット温度を調節して45℃±5℃とした。
【0057】
反応器Hの内容物を、マルチプレートフィルタ(珪藻土)を通して反応器I中へ熱濾過した。真空中(50〜100mmHg)(ジャケット温度75℃以下かつ内部温度50℃以下)で、反応器Iの内容物をそれ以上蒸留できなくなるまで還流させた。
【0058】
次いで、反応器Iに酢酸エチル1520Lを投入し、固体がすべて溶解するまで内容物を45℃±5℃で攪拌し、真空中(50〜100mmHg)(ジャケット温度75℃以下かつ内部温度50℃以下)で、それ以上蒸留できなくなるまでこの内容物を還流させて、標題の化合物を得た。
【0059】
前述の事項は、単に本発明の例に過ぎず、本発明を、開示した諸実施形態に限定するものではない。当分野の技術者に明らかなバリエーションおよび変更は、添付の特許請求の範囲で定義する本発明の範囲の内にあるものとする。

Claims (13)

  1. 次式の化合物
    Figure 0005021141
    [式中、Rは、低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルであり、PおよびPは、独立に、水素およびN保護基から選択される]を調製する方法であって、不活性溶媒中で次式の化合物
    Figure 0005021141
    [式中、PおよびPは上記で定義したとおりである]を次式の化合物
    Figure 0005021141
    [式中、Rは上記で定義したとおりであり、Rは、環上窒素原子を介してカルボニル基に結合した含窒素複素環であり、その複素環は、イミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、インドリル、ベンズイミダゾリル、および、ベンゾトリアゾリルからなる群から選択される]と反応させることを含む方法。
  2. がイミダゾリルである請求項1に記載の方法。
  3. およびPがそれぞれベンジルであり、Rが低級アルキルであり、Rがイミダゾリルである、請求項1に記載の方法。
  4. およびPがそれぞれベンジルであり、Rがイソプロピルであり、Rがイミダゾリルである、請求項1に記載の方法。
  5. さらに水を含む請求項1に記載の方法。
  6. 反応混合物の体積に対する水の重量の割合で%〜%(重量/体積)の量の水が存在する、請求項5に記載の方法。
  7. (2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサン、および、(2S,3S,5S)−2−アミノ−3−ヒドロキシ−5−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンからなる群より選沢された化合物を調製する方法であって、不活性溶媒中で(2S,3S,5S)−2−N,N−ジベンジルアミノ−3−ヒドロキシ−5−アミノ−1,6−ジフェニルヘキサンを、N−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)イミダゾールと反応させることを含む方法。
  8. さらに水を含む請求項7に記載の方法。
  9. 反応混合物の体積に対する水の重量の割合で%〜%(重量/体積)の量の水が存在する請求項8に記載の方法。
  10. 次式の化合物。
    Figure 0005021141
    [式中、Rは、低級アルキル、ヒドロキシアルキル、またはシクロアルキルアルキルであり、Rは、イミダゾリル、ピロリル、ピラゾリル、1,2,3−トリアゾリル、1,2,4−トリアゾリル、テトラゾリル、インドリル、ベンズイミダゾリル、およびベンゾトリアゾリルからなる群から選択された、環上窒素原子を介してカルボニル基に結合している含窒素複素環である。]
  11. が低級アルキルであり、Rがイミダゾリルである請求項10に記載の化合物。
  12. がイソプロピルであり、Rがイミダゾリルである請求項10に記載の化合物。
  13. N−(2S−(1−テトラヒドロ−ピリミド−2−オニル)−3−メチルブタノイル)イミダゾールである化合物。
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