JPH01100431U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH01100431U JPH01100431U JP19507587U JP19507587U JPH01100431U JP H01100431 U JPH01100431 U JP H01100431U JP 19507587 U JP19507587 U JP 19507587U JP 19507587 U JP19507587 U JP 19507587U JP H01100431 U JPH01100431 U JP H01100431U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactor
- vapor phase
- phase growth
- growth apparatus
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
第1図は本考案に係る気相成長装置の第1実施
例の縦断面図、第2図は第1図のA―A線断面図
、第3図は第2図のB―B線断面図、第4図は第
1図のC―C線断面図、第5図は基板上の膜の層
の深さとドーパント濃度との関係を示す特性図、
第6図は本考案に係る気相成長装置の第2実施例
の縦断面図、第7図は第6図のA―A線断面図、
第8図は第6図のB―B線断面図、第9図及び第
10図は従来の気相成長装置の2種の例を示す縦
断面図である。 1……反応炉、2……ガス導入孔、3……サセ
プタ、4……基板、5……サセプタ駆動軸、14
……スペーサ、15……整流用リブ。
例の縦断面図、第2図は第1図のA―A線断面図
、第3図は第2図のB―B線断面図、第4図は第
1図のC―C線断面図、第5図は基板上の膜の層
の深さとドーパント濃度との関係を示す特性図、
第6図は本考案に係る気相成長装置の第2実施例
の縦断面図、第7図は第6図のA―A線断面図、
第8図は第6図のB―B線断面図、第9図及び第
10図は従来の気相成長装置の2種の例を示す縦
断面図である。 1……反応炉、2……ガス導入孔、3……サセ
プタ、4……基板、5……サセプタ駆動軸、14
……スペーサ、15……整流用リブ。
Claims (1)
- 反応炉にガス導入孔からキヤリアガスと共に原
料ガスを供給し、前記反応炉内に設置されたサセ
プタ上の基板に薄膜を成長させる気相成長装置に
おいて、前記反応炉内の上流部に整流用リブが前
記原料ガスの流れの方向に沿つて設けられている
ことを特徴とする気相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19507587U JPH01100431U (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19507587U JPH01100431U (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01100431U true JPH01100431U (ja) | 1989-07-05 |
Family
ID=31485770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19507587U Pending JPH01100431U (ja) | 1987-12-23 | 1987-12-23 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01100431U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0357931U (ja) * | 1989-10-11 | 1991-06-05 |
-
1987
- 1987-12-23 JP JP19507587U patent/JPH01100431U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0357931U (ja) * | 1989-10-11 | 1991-06-05 |
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