JPH01101499A - 再処理オフガス処理方法 - Google Patents
再処理オフガス処理方法Info
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- JPH01101499A JPH01101499A JP62260344A JP26034487A JPH01101499A JP H01101499 A JPH01101499 A JP H01101499A JP 62260344 A JP62260344 A JP 62260344A JP 26034487 A JP26034487 A JP 26034487A JP H01101499 A JPH01101499 A JP H01101499A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/30—Nuclear fission reactors
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、再処理オフガス処理方法に係り、特に再処理
オフガス中のヨウ素およびＮｏ、を除去する装置におけ
るヨウ素による腐食を防止するののに好適な再処理オフ
ガス処理方法に関する。
オフガス中のヨウ素およびＮｏ、を除去する装置におけ
るヨウ素による腐食を防止するののに好適な再処理オフ
ガス処理方法に関する。
核燃料再処理工場は、使用済燃料を濃硝酸により溶解し
、燃料として再利用できるウラン、プルトニウム等の物
質を回収することを目的とする施設である。使用済燃料
を濃硝酸で溶解する溶解工程において、蒸気、Ｎｏ、等
を主成分とするオフガスが発生し、これらをキャリアガ
スとし使用する燃料中のヨウ素等の揮発性Ｆ、Ｐ（核分
裂生成物）がオフガス工程に放出されてくる。ヨウ素は
長半減期物質であり、また人体に及ぼす影響が大きいた
め厳しい環境放出規制値が設けられており、その除去は
再処理オフガス処理システムにおいては重要な構成要素
である。
、燃料として再利用できるウラン、プルトニウム等の物
質を回収することを目的とする施設である。使用済燃料
を濃硝酸で溶解する溶解工程において、蒸気、Ｎｏ、等
を主成分とするオフガスが発生し、これらをキャリアガ
スとし使用する燃料中のヨウ素等の揮発性Ｆ、Ｐ（核分
裂生成物）がオフガス工程に放出されてくる。ヨウ素は
長半減期物質であり、また人体に及ぼす影響が大きいた
め厳しい環境放出規制値が設けられており、その除去は
再処理オフガス処理システムにおいては重要な構成要素
である。
従来のオフガス処理工程は第１１図に示される系統とな
っている。この処理工程では、使用済み燃料を濃硝酸に
より溶解する溶解槽３および溶解液からのヨウ素追出槽
４より発生するオフガス１８は、まず前置コンデンサー
５に入り、ここで冷却され水蒸気の大部分が回収される
。この凝縮水は、Ｎ０８吸収塔６の吸収液として使用さ
れる。
っている。この処理工程では、使用済み燃料を濃硝酸に
より溶解する溶解槽３および溶解液からのヨウ素追出槽
４より発生するオフガス１８は、まず前置コンデンサー
５に入り、ここで冷却され水蒸気の大部分が回収される
。この凝縮水は、Ｎ０８吸収塔６の吸収液として使用さ
れる。
前置コンデンサー５′？！凝縮されなかったガスは、Ｎ
ｏ、吸収塔６に送られる。
ｏ、吸収塔６に送られる。
Ｎｏ、吸収塔６を出たガスはヨウ素再追出塔９から出て
くるガスと混合された後、予熱器１２に入り１５０℃ま
で予熱され、ガス中の相対湿度を下げ、次いで吸着材を
装荷されたヨウ素除去塔１３に入り、ここで溶解オフガ
ス系に流入する大部分のヨウ素が除去される。ヨウ素を
除去されたガスは冷却器１６で冷却された後、フィルタ
１４を通過しブロワ１５により排気筒１に移送され放出
される。
くるガスと混合された後、予熱器１２に入り１５０℃ま
で予熱され、ガス中の相対湿度を下げ、次いで吸着材を
装荷されたヨウ素除去塔１３に入り、ここで溶解オフガ
ス系に流入する大部分のヨウ素が除去される。ヨウ素を
除去されたガスは冷却器１６で冷却された後、フィルタ
１４を通過しブロワ１５により排気筒１に移送され放出
される。
一方、前置コンデンサー５からの凝縮水及びＮｏ、吸収
塔６の吸収酸中にはそれぞれ多量のヨウ素が混入してく
るため、これらの凝縮水および吸収酸は吸収酸貯槽７に
貯えられた後、ポンプ８によってヨウ素再追出塔９に移
送される。吸収酸はこのヨウ素再進出塔９で８０〜９０
℃に加熱され、Ｎ８ガスにより液中からガス中へのヨウ
素再追出しが行われる。ヨウ素が追出された吸収酸は冷
却された後、回収酸貯槽ｌＯおよび移送ポンプ１１を経
て溶解液として再使用するための調整が行われた後、溶
解槽３に戻される。
塔６の吸収酸中にはそれぞれ多量のヨウ素が混入してく
るため、これらの凝縮水および吸収酸は吸収酸貯槽７に
貯えられた後、ポンプ８によってヨウ素再追出塔９に移
送される。吸収酸はこのヨウ素再進出塔９で８０〜９０
℃に加熱され、Ｎ８ガスにより液中からガス中へのヨウ
素再追出しが行われる。ヨウ素が追出された吸収酸は冷
却された後、回収酸貯槽ｌＯおよび移送ポンプ１１を経
て溶解液として再使用するための調整が行われた後、溶
解槽３に戻される。
上記従来技術においては、ヨウ素除去塔１３を、前置コ
ンデンサー５、Ｎｏ、吸収塔６の下流側に設置している
ため、オフガス系統の殆どの部位で腐食性の激しいヨウ
素が含有されていることになる。
ンデンサー５、Ｎｏ、吸収塔６の下流側に設置している
ため、オフガス系統の殆どの部位で腐食性の激しいヨウ
素が含有されていることになる。
以下、オフガス系の代表的環境でのヨウ素による装置部
材の腐食挙動について更に詳しく述べる。
材の腐食挙動について更に詳しく述べる。
（ＯＲＮＬ Ｒｅｐｏｒｔ Ｎｏ、０ＲＮＬ／５ｕ
ｂ−７３２７／１１ （８１−１１）ヨウ素含有ガスに
よる各種材質の腐食試験として、試験雰囲気は、２５℃
の大気中にヨウ素７、４ Ｘ １０−’ｇ／ｍｊ！、水
Ｉ Ｘ １０−’ｇ／ｍｌを含有させたガス相で、各種
材質を４００時間試験した結果では、Ｔｉ、Ｚｒおよび
高Ｃ「又は高ＮｉにＭｏを含有した合金（Ｈａｓｔｅｌ
ｌｏｙＣ−２７６、［ｎｃｏｎｅｌ ６２６、ＡＬ−
２９４および Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ Ｇ）は、全面腐
食および孔食感受性はいずれに対しても高い抵抗性を有
している。
ｂ−７３２７／１１ （８１−１１）ヨウ素含有ガスに
よる各種材質の腐食試験として、試験雰囲気は、２５℃
の大気中にヨウ素７、４ Ｘ １０−’ｇ／ｍｊ！、水
Ｉ Ｘ １０−’ｇ／ｍｌを含有させたガス相で、各種
材質を４００時間試験した結果では、Ｔｉ、Ｚｒおよび
高Ｃ「又は高ＮｉにＭｏを含有した合金（Ｈａｓｔｅｌ
ｌｏｙＣ−２７６、［ｎｃｏｎｅｌ ６２６、ＡＬ−
２９４および Ｈａｓｔｅｌｌｏｙ Ｇ）は、全面腐
食および孔食感受性はいずれに対しても高い抵抗性を有
している。
しかし、その他の通常のオーステナイト系ステンレス鋼
やＭｏ含有量の少ないＮ１基合金は、全面腐食量をおよ
び孔食深さとも多く、実質上許容できる腐食量を示して
いない、このことは、装置構成材料として耐食性のある
ものを選定すると、装置コストが非常に多大となり、経
済性を無視したものになる。
やＭｏ含有量の少ないＮ１基合金は、全面腐食量をおよ
び孔食深さとも多く、実質上許容できる腐食量を示して
いない、このことは、装置構成材料として耐食性のある
ものを選定すると、装置コストが非常に多大となり、経
済性を無視したものになる。
一方、比較的耐食性の良いＩｎｃｏｌｏｙ ８２５及
びＩｎｃｌｎｅｌ ６７１でも年間０． ５ｍｍの孔
食が生じることから、装置寿命１０年でも５ｍｍ以上の
腐食化を考慮しなければならず、厚肉化による熱伝動性
能の悪化が問題となる。このように、腐食に及ぼすヨウ
素の影響は大きく、さらに、その濃度がｐｐｍオーダの
非常に＠量なヨウ素濃度でも悪影響を及ぼす。
びＩｎｃｌｎｅｌ ６７１でも年間０． ５ｍｍの孔
食が生じることから、装置寿命１０年でも５ｍｍ以上の
腐食化を考慮しなければならず、厚肉化による熱伝動性
能の悪化が問題となる。このように、腐食に及ぼすヨウ
素の影響は大きく、さらに、その濃度がｐｐｍオーダの
非常に＠量なヨウ素濃度でも悪影響を及ぼす。
本発明の目的は、上記した従来技術の問題点を解消し、
腐食性の激しいヨウ素を含有したオフガス処理系統にお
いて、ヨウ素による腐食を防止することができる再処理
オフガス処理方法を提供することにある。
腐食性の激しいヨウ素を含有したオフガス処理系統にお
いて、ヨウ素による腐食を防止することができる再処理
オフガス処理方法を提供することにある。
上記した目的は、ヨウ素およびＮｏ、を含有する再処理
オフガスに対し、装置の起動、停止時等のようにヨウ素
が介在する状態でガス中のＮＯ！の濃度が低いとき〜に
、ガス中のＮＯオ濃度が０．５％以上となるようにオフ
ガス処理系統内にＮｏ２を主成分とするガスを供給すこ
とによって達成される。
オフガスに対し、装置の起動、停止時等のようにヨウ素
が介在する状態でガス中のＮＯ！の濃度が低いとき〜に
、ガス中のＮＯオ濃度が０．５％以上となるようにオフ
ガス処理系統内にＮｏ２を主成分とするガスを供給すこ
とによって達成される。
ヨウ素による腐食に対し、ＮＯ□が０．５％以上共存す
ると、孔食の発生が抑制される。
ると、孔食の発生が抑制される。
即ち、ヨウ素による腐食に対し、ＮＯ８濃度が一定以上
のときに抑制効果を有することを着目したものである。
のときに抑制効果を有することを着目したものである。
第１２図は、低Ｃ−１８Ｃｒ−８Ｎｉ （ＳＵＳ３０４
Ｌ材）のヨウ素による腐食に及ぼすＮＯ８濃度の影響に
ついて検討した結果である。
Ｌ材）のヨウ素による腐食に及ぼすＮＯ８濃度の影響に
ついて検討した結果である。
（ＯＲＮＬ Ｒｅｐｏｒｔ Ｎｏ、０ＲＮＬ／５ｕ
ｂ−７３２７／ｌ １ （８１−１１）第１１図から明
らかなようにヨウ素を含む飽和蒸気中での５ＵＳ３０４
Ｌ材の腐食は、ＮＯＩ濃度が０．５％以上のときに発生
しなくなっている。
ｂ−７３２７／ｌ １ （８１−１１）第１１図から明
らかなようにヨウ素を含む飽和蒸気中での５ＵＳ３０４
Ｌ材の腐食は、ＮＯＩ濃度が０．５％以上のときに発生
しなくなっている。
この理由は、現時点では、詳細には明確になっていない
が、次の２つの理由が考えられる。第１は、Ｎ Ｏｘが
試験片表面で形成されている薄い水分層と下式で示した
反応により硝酸（ＨＮＯｓ）を形成し、硝酸の酸化力に
より腐食が抑制されていると考えられる。
が、次の２つの理由が考えられる。第１は、Ｎ Ｏｘが
試験片表面で形成されている薄い水分層と下式で示した
反応により硝酸（ＨＮＯｓ）を形成し、硝酸の酸化力に
より腐食が抑制されていると考えられる。
２ＮＯオ＋Ｈ，Ｏ→ＨＮ Ｏｓ ＋ ＨＮ Ｏを第２は
、硝酸のベーパーが直接気相金属表面に付着し、薄い硝
酸の液膜層を形成するためと考えられる。
、硝酸のベーパーが直接気相金属表面に付着し、薄い硝
酸の液膜層を形成するためと考えられる。
したがって、装置の起動、停止時等のように、ヨウ素が
共存した状態でガス中のＮＯＲ濃度が低くなるときに、
オフガス処理系統内にＮＯヨを主成分とするガスを供給
して、ガス中のＮｏ、ｆｉ度を０．５％以上とすると、
ヨウ素による腐食をう防止することができる。
共存した状態でガス中のＮＯＲ濃度が低くなるときに、
オフガス処理系統内にＮＯヨを主成分とするガスを供給
して、ガス中のＮｏ、ｆｉ度を０．５％以上とすると、
ヨウ素による腐食をう防止することができる。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。
第１図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第１
実施例を示す系統図である。
実施例を示す系統図である。
第１図において、ヨウ素再追出塔９および回収酸貯槽１
０で生成し、回収された硝酸の一部を、加熱、沸騰させ
る硝酸／ＮＯ１発生器１９に供給し、この硝酸／ Ｎ
Ｏを発生器１９からの硝酸ベーパーおよびＮＯｘガスを
前置コンデンサ５の入口部に供給できる装置構成となっ
ている。
０で生成し、回収された硝酸の一部を、加熱、沸騰させ
る硝酸／ＮＯ１発生器１９に供給し、この硝酸／ Ｎ
Ｏを発生器１９からの硝酸ベーパーおよびＮＯｘガスを
前置コンデンサ５の入口部に供給できる装置構成となっ
ている。
次に第１図に示す装置による再処理オフガス処理方法の
１例を第２図を参照して説明する。第２図は、再処理オ
フガス処理装置の起動／停止パターンを示す説明図であ
る。
１例を第２図を参照して説明する。第２図は、再処理オ
フガス処理装置の起動／停止パターンを示す説明図であ
る。
まず、オフガス系処理装置のうち、前置コンデンサ５か
らブロアー１５に至る系統内の各装置を起動させ、準備
状態とする０次いで溶解槽４を核燃料溶解時と同時に温
度Ｔ、まで昇温し、更に硝酸／ Ｎ Ｏ＊発生器１９を
所定の温度Ｔｔまで昇温し、溶解槽４および硝酸／Ｎ０
８発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ８
ガスをオフガス系に供給する。そして、所定時間ｔ、の
間、前記硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ２をオフガス
系の供給してガス中のＮＯ意濃度が０．５％以上となる
ようにし１、燃料の剪断・溶解を行う。
らブロアー１５に至る系統内の各装置を起動させ、準備
状態とする０次いで溶解槽４を核燃料溶解時と同時に温
度Ｔ、まで昇温し、更に硝酸／ Ｎ Ｏ＊発生器１９を
所定の温度Ｔｔまで昇温し、溶解槽４および硝酸／Ｎ０
８発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ８
ガスをオフガス系に供給する。そして、所定時間ｔ、の
間、前記硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ２をオフガス
系の供給してガス中のＮＯ意濃度が０．５％以上となる
ようにし１、燃料の剪断・溶解を行う。
以上が起動時の運転パターンである。
オフガス処理装置の停止時には、燃料溶解を停止後も溶
解槽４および硝酸／ＮＯ８発生器１９はいずれも引続き
ｔ３時間運転し、オフガス装置内に残留しているヨウ素
に対してガス中のＮｏ！濃度を０． ５％以上とすると
とにも硝酸ベーパーおよびＮＯ８共存下でヨウ素を除去
する０以上が停止パターンである。この場合、ヨウ素の
除去は、高温程容易であることからオフガス処理装置の
うち、低温で運転される前置コンデンサ５およびＮＯｘ
吸収塔６等は昇温してもよい。
解槽４および硝酸／ＮＯ８発生器１９はいずれも引続き
ｔ３時間運転し、オフガス装置内に残留しているヨウ素
に対してガス中のＮｏ！濃度を０． ５％以上とすると
とにも硝酸ベーパーおよびＮＯ８共存下でヨウ素を除去
する０以上が停止パターンである。この場合、ヨウ素の
除去は、高温程容易であることからオフガス処理装置の
うち、低温で運転される前置コンデンサ５およびＮＯｘ
吸収塔６等は昇温してもよい。
前記硝酸／ＮＯ１発生器１９は、加熱方式により硝酸ベ
ーパーを形成させるものであり、また、硝酸濃度が高く
高温の場合には硝酸の熱分解により下式の反応が生じ、
ＮＯｏが多量に発生する。
ーパーを形成させるものであり、また、硝酸濃度が高く
高温の場合には硝酸の熱分解により下式の反応が生じ、
ＮＯｏが多量に発生する。
４ＨＮＯｘ→ ２Ｈｔ Ｏ＋４ＮＯ鵞 ＋０３この
反応は温度依存性が強く、硝酸／ＮＯ８発生器１９の運
転温度Ｔ、としては、１００℃以上に硝酸を加熱するこ
とが好ましい、この場合、燃料溶解までの時間ｔ、を短
縮することができる。
反応は温度依存性が強く、硝酸／ＮＯ８発生器１９の運
転温度Ｔ、としては、１００℃以上に硝酸を加熱するこ
とが好ましい、この場合、燃料溶解までの時間ｔ、を短
縮することができる。
ただし、低温の硝酸ベーパーのみでも燃料溶解までの時
間ｔ、を長くすればよい、硝酸／Ｎ０８発生器１９から
の硝酸ベーパー、水蒸気及びＮＯ８は、オフガス系の下
流側に設置されたブロワ−１５によりオフガス系に供給
されるが、このとき、Ｎ１ガス等のキャリアガスを用い
ると、更に効果的である。
間ｔ、を長くすればよい、硝酸／Ｎ０８発生器１９から
の硝酸ベーパー、水蒸気及びＮＯ８は、オフガス系の下
流側に設置されたブロワ−１５によりオフガス系に供給
されるが、このとき、Ｎ１ガス等のキャリアガスを用い
ると、更に効果的である。
このように、燃料溶解前、即ちオフガス中にヨウ素が含
有する前に腐食環境の厳しい気相中の装置表面を硝酸ベ
ーパー、水蒸気およびＮ Ｏｘを通気させ、予め気相中
の装置表面に硝酸水溶液組成からなる薄い液相を形成さ
せることによりヨウ素による腐食発生を防止できる。
有する前に腐食環境の厳しい気相中の装置表面を硝酸ベ
ーパー、水蒸気およびＮ Ｏｘを通気させ、予め気相中
の装置表面に硝酸水溶液組成からなる薄い液相を形成さ
せることによりヨウ素による腐食発生を防止できる。
また、オフガス処理装置の運転時に燃料の溶解で発生す
るヨウ素の濃度は、硝酸／Ｎｏ□発生器１９からの硝酸
ベーパー、水蒸気およびＮ Ｏｘガスで希釈されるため
、オフガス処理系統内に導入されるオフガス中のヨウ素
濃度が低下し、耐食性上有効となる。また、液相中での
硝酸濃度の上昇が期待でき、耐食性上有効となる。
るヨウ素の濃度は、硝酸／Ｎｏ□発生器１９からの硝酸
ベーパー、水蒸気およびＮ Ｏｘガスで希釈されるため
、オフガス処理系統内に導入されるオフガス中のヨウ素
濃度が低下し、耐食性上有効となる。また、液相中での
硝酸濃度の上昇が期待でき、耐食性上有効となる。
第３図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第２
実施例を示すための起動／停止パターンの説明図である
。
実施例を示すための起動／停止パターンの説明図である
。
第２実施例においては、起動／停止時、第３図に示すよ
うに溶解槽４の温度をＴ２とし、運転時の温度Ｔ、より
も温度上昇させ、溶解槽４からのオフガス中のＮ Ｏｘ
濃度を高くするようにしたものである。
うに溶解槽４の温度をＴ２とし、運転時の温度Ｔ、より
も温度上昇させ、溶解槽４からのオフガス中のＮ Ｏｘ
濃度を高くするようにしたものである。
即ち、第２実施例では、起動／停止時の溶解槽４の運転
条件を変えることにより溶解槽４を、第１実施例におけ
る硝酸／Ｎ０８発生器１９と同様に機能するようにした
ものである。
条件を変えることにより溶解槽４を、第１実施例におけ
る硝酸／Ｎ０８発生器１９と同様に機能するようにした
ものである。
したがって、第２実施例では、第１図に示すような硝酸
／Ｎ０８発生器１９を新たに設置することな（、ヨウ素
による腐食を防止することができる。
／Ｎ０８発生器１９を新たに設置することな（、ヨウ素
による腐食を防止することができる。
第４図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第３
実施例を示す系統図である。第３実施例において、ヨウ
素除去塔１３の入口部にＮＯ！モニター２０が設置され
ている。この場合、ＮＯ１除去塔６およびヨウ素再追出
塔９からのガス中のＮ Ｏｘ濃度をＮＯ！モニター２０
に計測し、そのＮｏｗ ’ａ度計測値に基づいて硝酸／
ＮＯ８発生器１９の温度を制御し、硝酸／ＮＯ８発生器
１９からオフガス系に導入される硝酸ベーパー、水蒸気
およびＮ Ｏを量を制御するものである。
実施例を示す系統図である。第３実施例において、ヨウ
素除去塔１３の入口部にＮＯ！モニター２０が設置され
ている。この場合、ＮＯ１除去塔６およびヨウ素再追出
塔９からのガス中のＮ Ｏｘ濃度をＮＯ！モニター２０
に計測し、そのＮｏｗ ’ａ度計測値に基づいて硝酸／
ＮＯ８発生器１９の温度を制御し、硝酸／ＮＯ８発生器
１９からオフガス系に導入される硝酸ベーパー、水蒸気
およびＮ Ｏを量を制御するものである。
第５図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第４
実施例を示す系統図である。
実施例を示す系統図である。
第４実施例において、ヨウ素除去塔１３の入口部にヨウ
素モニター２１が設置されている。二の場合、起動／停
止パターンは、第２図と同様であるが、ヨウ素モニター
２１によりＮＯｘ吸収塔６およびヨウ素再追出塔９から
のガス中の田つ素濃度が計測し、ガス中の残留ヨウ素の
有無により第２図におけるｔ１時間の設定を行うように
したものである。即ち、ヨウ素モニター２１によりガス
中にヨウ素が残留していないことが判定された場合、ヨ
ウ・素による装置の腐食は生じないので、硝酸／ＮＯ！
発生器１９からのオフガス系に対する硝酸ベーパー、水
蒸気およびＮＯｌの供給が停止される。
素モニター２１が設置されている。二の場合、起動／停
止パターンは、第２図と同様であるが、ヨウ素モニター
２１によりＮＯｘ吸収塔６およびヨウ素再追出塔９から
のガス中の田つ素濃度が計測し、ガス中の残留ヨウ素の
有無により第２図におけるｔ１時間の設定を行うように
したものである。即ち、ヨウ素モニター２１によりガス
中にヨウ素が残留していないことが判定された場合、ヨ
ウ・素による装置の腐食は生じないので、硝酸／ＮＯ！
発生器１９からのオフガス系に対する硝酸ベーパー、水
蒸気およびＮＯｌの供給が停止される。
第６図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第５
実施例を示す系統図である。
実施例を示す系統図である。
第５実施例において、硝酸／Ｎｏ、発生器１９からのガ
スを前置コンデンサ５の入口部に供給するとともに運転
中のヨウ素再進出塔９にも供給してヨウ素再追い出し用
のキャリアガスとして利用したものである。
スを前置コンデンサ５の入口部に供給するとともに運転
中のヨウ素再進出塔９にも供給してヨウ素再追い出し用
のキャリアガスとして利用したものである。
この場合、ヨウ素再追い出し用として新たなキャリアガ
スを使用する必要がなく、従来使用されているＮ□ガス
に比べてヨウ素再追い出し効果が向上するという効果が
ある。
スを使用する必要がなく、従来使用されているＮ□ガス
に比べてヨウ素再追い出し効果が向上するという効果が
ある。
第７図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第６
実施例に示す系統図である。
実施例に示す系統図である。
第６実施例において、硝酸／ Ｎ Ｏｘ発生器１９から
硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ７をＮＯｘ吸収塔６お
よびヨウ素再追出塔９のそれぞれの塔内上部に導入する
ようにしたものである。
硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ７をＮＯｘ吸収塔６お
よびヨウ素再追出塔９のそれぞれの塔内上部に導入する
ようにしたものである。
ＮＯｘ吸収塔６およびヨウ素再追出塔９のそれぞれの塔
内上部では、ＮＯ８濃度が低下するので、この領域に硝
酸／ＮＯ０発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸気およ
びＮＯ意を導入して、ガス中のＮＯ１濃度が０．５％以
上となるようにすれば、ＮＯｘ吸収塔６およびヨウ素再
追゛出塔９の塔内の腐食を防止することができる。
内上部では、ＮＯ８濃度が低下するので、この領域に硝
酸／ＮＯ０発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸気およ
びＮＯ意を導入して、ガス中のＮＯ１濃度が０．５％以
上となるようにすれば、ＮＯｘ吸収塔６およびヨウ素再
追゛出塔９の塔内の腐食を防止することができる。
第８図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第７
実施例を示す系統図である。
実施例を示す系統図である。
第７実施例においては、オフガス処理装置が２系統並列
に設置されており、それぞれの系統内の回収酸貯槽１０
と硝Ｎｔ／ Ｎ Ｏｚ発生器１９が接続されている。ま
た、硝酸／Ｎｏ！発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸
気およびＮＯｔは、それぞれ各系統の前置コンデンサ５
の入口部に導入可能となっている。
に設置されており、それぞれの系統内の回収酸貯槽１０
と硝Ｎｔ／ Ｎ Ｏｚ発生器１９が接続されている。ま
た、硝酸／Ｎｏ！発生器１９からの硝酸ベーパー、水蒸
気およびＮＯｔは、それぞれ各系統の前置コンデンサ５
の入口部に導入可能となっている。
通常、オフガス処理設備では、待機中の処理系統におい
て、設備の各部材表面は腐食上有害なヨウ素元素が付着
する同時に部材内に残留した水が蒸発し、待機中の温度
は常温付近のため相対湿度が約３００％以上となり、各
構造部材の腐食速度および孔食深さが増大する。
て、設備の各部材表面は腐食上有害なヨウ素元素が付着
する同時に部材内に残留した水が蒸発し、待機中の温度
は常温付近のため相対湿度が約３００％以上となり、各
構造部材の腐食速度および孔食深さが増大する。
第７実施例では、待機中の処理系統側の前置コンデンサ
５の入口部に硝酸／Ｎｏ３発生器１９からの硝酸ベーパ
ー、水蒸気およびＮ Ｏｘを導入することにより、待機
中の処理設備内をＮ０８雰囲気とし、万一ヨウ素が待機
中の処理設備に残留している場合にもヨウ素による腐食
を防止することができる。
５の入口部に硝酸／Ｎｏ３発生器１９からの硝酸ベーパ
ー、水蒸気およびＮ Ｏｘを導入することにより、待機
中の処理設備内をＮ０８雰囲気とし、万一ヨウ素が待機
中の処理設備に残留している場合にもヨウ素による腐食
を防止することができる。
第９図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第８
実施例に示す系統図である。
実施例に示す系統図である。
第８実施例において、硝酸／ Ｎ Ｏｘ発生器１９とと
もにＮＯｘ供給装置２２が設置され、それぞれの装置か
ら前置コンデンサ５に入口部にガス供給系統が配設され
ている。
もにＮＯｘ供給装置２２が設置され、それぞれの装置か
ら前置コンデンサ５に入口部にガス供給系統が配設され
ている。
第８実施例においては、硝酸／ Ｎ Ｏｘ発生器１９か
らの硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ８がヨ □つ素に
よる腐食を防止するのに必要な量以下の場合にＮＯ８供
給装置２２からＮａｇ、Ｐ／′スが前置コンデンサ５の
入口部に導入される。
らの硝酸ベーパー、水蒸気およびＮＯ８がヨ □つ素に
よる腐食を防止するのに必要な量以下の場合にＮＯ８供
給装置２２からＮａｇ、Ｐ／′スが前置コンデンサ５の
入口部に導入される。
第１０図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第
９実施例に示す系統図である。
９実施例に示す系統図である。
第９実施例においては、硝酸／Ｎｏ、発生器１９に亜硝
酸を供給するための亜硝酸供給装置２３が設置されてい
る。第９実施例では硝酸／ＮＯ２発生器１９からの硝酸
ベーパー、水蒸気およびＮＯ８がヨウ素による腐食を防
止するのに必要な量以下の場合に亜硝酸供給装置ｆ２３
から亜硝酸が硝酸／Ｎｏ２発生器１９に供給される。
酸を供給するための亜硝酸供給装置２３が設置されてい
る。第９実施例では硝酸／ＮＯ２発生器１９からの硝酸
ベーパー、水蒸気およびＮＯ８がヨウ素による腐食を防
止するのに必要な量以下の場合に亜硝酸供給装置ｆ２３
から亜硝酸が硝酸／Ｎｏ２発生器１９に供給される。
本発明は、ヨウ素が含むガス中でＮＯ！濃度が０．５％
以上のとき構造部材の腐食が発生しないことを知見した
結果到達したものであり、しだがって、本発明は起動／
停止時等のように、腐食に有害なヨウ素が存在し、ガス
中のＮＯ８濃度が低いときにガス中のＮＯ８濃度が０．
５％以上となるように腐食が進行し易い装置内にＮＯ！
を含むガスを導入するものである。したがって、上記し
た実施例は、本発明の１例を示したものに過ぎず、上記
した状態のときにＮＯ！ガスを含むガスを装置内に導入
する装置構成は種々変更可能である。
以上のとき構造部材の腐食が発生しないことを知見した
結果到達したものであり、しだがって、本発明は起動／
停止時等のように、腐食に有害なヨウ素が存在し、ガス
中のＮＯ８濃度が低いときにガス中のＮＯ８濃度が０．
５％以上となるように腐食が進行し易い装置内にＮＯ！
を含むガスを導入するものである。したがって、上記し
た実施例は、本発明の１例を示したものに過ぎず、上記
した状態のときにＮＯ！ガスを含むガスを装置内に導入
する装置構成は種々変更可能である。
以上のように本発明によれば、オフガス処理装置の起動
／停止時等のようにヨウ素による構造部材の腐食が進行
□し易い場合にもＮＯ□含有するガスをオフガス処理装
置内に導入することによりオフガス処理装置内の気相表
面が耐食性を有する環境となり、ヨウ素による腐食を防
止することができる。
／停止時等のようにヨウ素による構造部材の腐食が進行
□し易い場合にもＮＯ□含有するガスをオフガス処理装
置内に導入することによりオフガス処理装置内の気相表
面が耐食性を有する環境となり、ヨウ素による腐食を防
止することができる。
第１図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第１
実施例を示す系統図、第２図は第１実施例における運転
パターンを示す説明図、第３図は本発明にかかる再処理
オフガス処理方法の第２実施例を示すための運転パター
ンの説明図、第４図は本発明にかかる再処理オフガス処
理方法の第３実施例を示す系統図、第５図は本発明にか
かる再処理オフガス処理方法の第４実施例を示す系統図
、第６図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第
５実施例を示す系統図、第７図は本発明にかか、る再処
理オフガス処理方法の第６実施例を示す系統図、第８図
は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第７実施例
を示す系統図、第９図は本発明にかかる再処理オフガス
処理方法の第８実施例を示す系統図、第１０図は本発明
にかかる再処理オフガス処理方法の第９実施例を示す系
統図、第１１図は従来の再処理オフガス処理方法を示す
系統図、第１２図はヨウ素による腐食に及ぼすＮＯ８濃
度の影響を示すグラフである。 ３・・・・・・溶解槽、４・・・・・・ヨウ素追出槽
、５・・・・・・前置コンデンサ、６・・・・・・Ｎｏ
、吸収塔、７・・・・・・吸収酸貯槽、９・・・・・・
ヨウ素再追出塔、ｌＯ・・・・・・回収酸貯槽、１３・
・・・・・ヨウ素除去塔、１４・・・・・・フィルタ、
１６・・・・・・冷却器、１９・・・・・・ 硝酸／Ｎ
０８発生器、２０・・・・・・ＮＯ２モニター、２１・
・・・・・ヨウ素゛モニター、２２・・・・・・ＮＯ２
供給装置、２３・・・・・・亜硝酸供給装置。 代理人 弁理士 西 元 勝 − にむに区冑 袋賓鵞 ■；俊ｔ
実施例を示す系統図、第２図は第１実施例における運転
パターンを示す説明図、第３図は本発明にかかる再処理
オフガス処理方法の第２実施例を示すための運転パター
ンの説明図、第４図は本発明にかかる再処理オフガス処
理方法の第３実施例を示す系統図、第５図は本発明にか
かる再処理オフガス処理方法の第４実施例を示す系統図
、第６図は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第
５実施例を示す系統図、第７図は本発明にかか、る再処
理オフガス処理方法の第６実施例を示す系統図、第８図
は本発明にかかる再処理オフガス処理方法の第７実施例
を示す系統図、第９図は本発明にかかる再処理オフガス
処理方法の第８実施例を示す系統図、第１０図は本発明
にかかる再処理オフガス処理方法の第９実施例を示す系
統図、第１１図は従来の再処理オフガス処理方法を示す
系統図、第１２図はヨウ素による腐食に及ぼすＮＯ８濃
度の影響を示すグラフである。 ３・・・・・・溶解槽、４・・・・・・ヨウ素追出槽
、５・・・・・・前置コンデンサ、６・・・・・・Ｎｏ
、吸収塔、７・・・・・・吸収酸貯槽、９・・・・・・
ヨウ素再追出塔、ｌＯ・・・・・・回収酸貯槽、１３・
・・・・・ヨウ素除去塔、１４・・・・・・フィルタ、
１６・・・・・・冷却器、１９・・・・・・ 硝酸／Ｎ
０８発生器、２０・・・・・・ＮＯ２モニター、２１・
・・・・・ヨウ素゛モニター、２２・・・・・・ＮＯ２
供給装置、２３・・・・・・亜硝酸供給装置。 代理人 弁理士 西 元 勝 − にむに区冑 袋賓鵞 ■；俊ｔ
Claims (6)
- （１）ＮＯ＿ｘ吸収塔、ヨウ素除去塔等を備えた再処理
オフガス処理装置の起動、停止時等のように少なくとも
ヨウ素を含有するガスがオフガス処理系統内に介在する
ときに、ＮＯ＿２を主成分とするガスを、オフガス処理
系統内におけるＮＯ＿２濃度が０．５％以上となるよう
にそのオフガス処理系統に供給することを特徴とする再
処理オフガス処理方法。 - （２）前記ＮＯ＿２を主成分とするガスが、ＮＯ＿２硝
酸ベーパーおよび水蒸気からなることを特徴とする特許
請求の範囲第（１）項記載の再処理オフガス処理方法。 - （３）前記ＮＯ＿２を主成分とするガスが、前記ＮＯ＿
ｘ吸収塔の上流側に設置された前置コンデンサ、ＮＯ＿
ｘ吸収塔、前記ヨウ素除去塔の上流側に設置されたヨウ
素再追出塔および前記ヨウ素除去塔の少なくともいずれ
かの入口部に供給されることを特徴とする特許請求の範
囲第（１）項記載の再処理オフガス処理方法。 - （４）前記ＮＯ＿２、硝酸ベーパーおよび水蒸気からな
るガスが、前記ヨウ素再追出塔からの回収酸を加熱して
得られるものであることを特徴とする特許請求の範囲第
（２）項記載の再処理オフガス処理方法。 - （５）前記ＮＯ＿２を主成分とするガスが、前記ＮＯ＿
ｘ吸収塔へのオフガス供給源としての溶解槽の温度制御
により得られるものである特許請求の範囲第（１）項記
載の再処理オフガス処理方法。 - （６）前記ヨウ素除去塔の入口部でガス中のＮＯ＿２濃
度を計測するとともにガス中のヨウ素の有無を計測し、
ガス中にヨウ素が存在するとともにガス中のＮＯ＿２濃
度が０．５％の以下ときに前記ＮＯ＿２を主成分とする
ガスをオフガス処理系統内に供給することを特徴とする
特許請求の範囲第（１）項記載乃至第（５）項記載の再
処理オフガス処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62260344A JPH01101499A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 再処理オフガス処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62260344A JPH01101499A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 再処理オフガス処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01101499A true JPH01101499A (ja) | 1989-04-19 |
Family
ID=17346670
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62260344A Pending JPH01101499A (ja) | 1987-10-15 | 1987-10-15 | 再処理オフガス処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01101499A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4892693A (en) * | 1987-07-24 | 1990-01-09 | Aluminum Company Of America | Method of making filament growth composite |
-
1987
- 1987-10-15 JP JP62260344A patent/JPH01101499A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4892693A (en) * | 1987-07-24 | 1990-01-09 | Aluminum Company Of America | Method of making filament growth composite |
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