JPH01102930A - 電子線描画装置 - Google Patents

電子線描画装置

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JPH01102930A
JPH01102930A JP62259715A JP25971587A JPH01102930A JP H01102930 A JPH01102930 A JP H01102930A JP 62259715 A JP62259715 A JP 62259715A JP 25971587 A JP25971587 A JP 25971587A JP H01102930 A JPH01102930 A JP H01102930A
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JP
Japan
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electron beam
sample
aperture
shots
electron
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JP62259715A
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English (en)
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Yoichi Fujikura
藤倉　洋一
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/304—Controlling tubes by information coming from the objects or from the beam, e.g. correction signals
    • H—ELECTRICITY
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電子線描画装置に係り、特に描画結果における
ショット回数の誤り検出と、描画の信頼性向上に好適な
描画制御装置に関する。
（従来の技術〕 電子線描画装置においては、描画時には描画信号に合わ
せて電子線通路に設けられた静電電極に電圧を印加し、
電子線通路に設けられた絞り孔外に電子線を偏向してブ
ランキング状態にしておき、次に試料に電子線を照射し
露光する時は、ブランキング状態から描画信号に同期し
て静電電極に印加されている電圧を解除し、定められた
時間電子線を絞り孔を通し、試料に電子線を照射する。
その後、再び描画信号に合わせブランキングを行なうこ
とにより試料上に所望の描画が得られる。
〔発明が解決しようとする問題点〕
このように電子線描画装置においては、ブランキングお
よび露光状態を繰り返しながら描画を行うため、電子線
照射のショット回数を管理する必要がある。
従来、このショット回数の管理は、静電電極に印加する
電圧のオン、オフする回数を計数して行っていた。この
結果、制御用計算機からのショット回数と計数されたシ
ョット回数は合致するが、描画結果と合致しない場合が
あった。
本発明の目的は、上記した従来技術の欠点をなくし、描
画信号に同期した正確なショット回数を計数し描画の信
頼性を向上し得る電子線描画装置を提供することにある
。
〔問題点を解決するための手段〕
試料を描画するためには、電子ビームを試料に照射して
露光することと、電子ビームをブランキング状態にする
ことの動作を繰り返すことにより実現される。
この露光、ブランキングの状態を計測、監視するには種
々の方法があるが、試料上にて検出するためには試料を
絶縁しなければならない。この方法では試料上に帯電現
象が起き、微細パターンの静電破壊が起こり、パターン
を破壊する等の欠点があり困難である。
また、もう一つの方法として、描画すべき同形データを
図形分割後、ショット分解された信号により露光とブラ
ンキング状態を繰り返すが、本信号のオン・オフの回数
を計測したのでは、電子ビームが確実に露光、およびブ
ランキングを繰り返しているのか不確実である。
これらを解決するには、露光およびブランキングされた
実際の電子ビームを計測することが不可欠である。
このため本発明は、電子線通路に設けられたブランカ極
に電圧を印加および解除して、電子ビームを絞りに照射
および通過させ、絞りに照射されている電子ビーム量を
電流−電圧変換して検出することにより、実際にビーム
が偏向されているか否かを確認することにより達成する
ようにしたものである。
〔作用〕
描画しようとする試料に対し、電子ビームを露光状態、
およびブランキング状態にするために電子線通路に設け
られたブランカと、その後段に設けられた絞りに対し、
露光状態ではブランカに電圧が印加されないため、絞り
には電子ビームが照射されない０次に描画信号によりブ
ランキング状態では、全ての電子ビームが絞りに照射さ
れるので、このビーム量を電流−電圧変換により検出し
。
予め試料面に到達している電子ビーム量を計測してその
ビーム量に応じた値を制御用計算機より比較値として設
定し、絞りに照射されたビーム量とを比較してビームが
実際にブランキングされていることを検出し、これを１
回のショットとしてカウンタに計測し、一連の描画にお
けるショット回数と、描画図形を図形分割してショット
分割されたショット回数とを制御計算機で比較、確認で
きるようにする。
〔実施例〕
以下、本発明の一実施例を第１図により説明する。第１
図において１は電子銃、２は電子線、３は整形レンズ、
４ａは整形絞り、４ｂは対物絞り、５は投影レンズ、６
は試料、７は制御用計算機、８は描画信号発生部、９は
偏向器、１０はブランカ、１１は電流−電圧変換器、１
２は比較器、１３はカウンタを表わす。
電子銃１から射出した電子線２は、整形レンズ３、整形
絞り４ａにより矩形に整形され、投影レンズ５で試料６
上に矩形ビームを結像する。一方。
制御用計算機７から描画信号発生部８のデータが転送さ
れ、描画信号が偏向器９に送られ、電子線２を試料上で
走査する。同時に、ブランカ１０にブランキング電圧を
印加することにより、実線のブランキング状態と、点線
の露光状態とを制御し、試料６は露光される。
ここで、あらかじめブランキング状態で対物レンズ４６
に照射されるビーム量を、電流−電圧変換器１１により
検出し、例えば、その１／２のビーム量を比較データと
して、制御用計算機７から比較器１２に与えておく。描
画開始前には、ブランカ１０はアナログ回路整定時間お
よび描画データ転送待ち時間中、ｆｌ！子線２を偏向し
、対物絞り４６でカットしている。この時、対物絞り４
６に照射されるビーム電流を電流−電圧変換器１１によ
り検出し、比較器１２へ入力する。比較器１２は制御用
計算器７より設定された比較データにより出力を制御し
、カウンタ１３に入力する。第２図においてこの状態は
、ブランキングの状態で゛Ｌ′″レベルを保持する。次
に描画信号発生部８からの信号によりブランカ１０に印
加されている電圧が解除されると、対物絞り４６にはビ
ーム電流が照射されなくなり、この状態を電流−電圧変
換器により検出し、前記同様カウンタ１３に入力すると
、カウンタ１３が計数し、ショット回数１を記憶する。
第２図において、この状態は露光状態で“ＨＩｔレベル
を保持する。描画信号発生部８からの信号で定められた
時間露光した後、再びブランキング状態となり、次の露
光となる。このようにして順次、描画信号発生部８から
の信号により、ブランキングおよび露光状態を繰り返し
ながらショット回数を計測し、一連の描画を終了する。
描画の終了に伴い、制御用計算機７は、露光回数を描画
信号発生部８より読み取るとともに、ショット回数をカ
ウンタ１３から読み取り、比較して描画結果の良否を判
定する。
本発明の実施例によれば、描画結果の良否を試料をｌ！
察しなくてもショット回数により判定でき、ショット回
数が確認、管理できるので信頼性の高い描画結果が得ら
れる効果がある。
〔発明の効果〕
本発明によれば、一連の描画におけるショット回数が確
認、管理できるため描画結果の誤りが検出でき、信頼性
の高い描画結果が得られる。
また、ショットごとにブランキング状態を確認できるよ
うにすることにより、描画状態の監視が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例を示す電子線描画装置の構成
図、第２図はショット回数の計数方式を示す図である。 １・・・電子銃、２・・・電子線、３・・・整形レンズ
、４ａ・・・整形絞り、４ｂ・・・対物絞り、５・・・
投影レンズ。 ６・・・試料、７・・・制御用計算機、８・・・描画信
号発生部、９・・・偏向器、１０・・・ブランカ、１１
・・・電流−電圧変換器、１２・・・比較器、１３・・
・カウンタ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. １、電子ビームを発生する手段、前記電子ビームを整形
    する手段、試料面に前記電子ビームを位置決めするビー
    ム偏向手段、前記整形手段と試料との間に設けられた絞
    り、制御用計算機からの描画信号によつてオン・オフ制
    御され前記電子ビームを前記試料あるいは絞りに照射す
    るブランカ、前記絞りに照射された電子ビームを検出し
    て絞りに照射された回数を検出する手段とから構成した
    ことを特徴とする電子線描画装置。
JP62259715A 1987-10-16 1987-10-16 電子線描画装置 Pending JPH01102930A (ja)

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