JPH01104028A - ｔｒａｎｓ−又はｃｉｓ−構造のヘミカロン酸アルデヒド誘導体のエナンチオ選択的製造法 - Google Patents

ｔｒａｎｓ−又はｃｉｓ−構造のヘミカロン酸アルデヒド誘導体のエナンチオ選択的製造法

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JPH01104028A
JPH01104028A JP63207489A JP20748988A JPH01104028A JP H01104028 A JPH01104028 A JP H01104028A JP 63207489 A JP63207489 A JP 63207489A JP 20748988 A JP20748988 A JP 20748988A JP H01104028 A JPH01104028 A JP H01104028A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ｔｒａｎｓ−又はｅｌｍ−構造のへミヵロン
酸アルデヒド誘導体の新規なエナンチオ選択的製造法及
び得られる新規な中間体に関する。
〔発明の詳細な説明〕
したがって、本発明の主題は、ラセミ又は光学活性のｃ
ｉｍ又はｔｒａｎｓ構造の次式ＣＩ）（ここで、Ｒは水
素原子、１〜４個の炭素原子を含有するアルキル基又は
１２個までの炭素原子を含有するアリーＡ／基を表わす
） の化合物を製造する方法であって、次式（■）。
０　゛ （ここで、Ｒ１は１〜４個の炭素原子を含有するアルキ
ル基、１２個までの炭素原子を含有するアリール基又は
８個までの炭素原子を含有するアラルキル基を表わす） のジエステルに、その分割された又はラセミ形の異性体
のいずれかの形で、制御され九還元剤を作用させて次式
（ｍ） Ｃ＝０ ■ Ｃ＝０ のアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式％式％ （ここで、Ｒは前記した通シであり、人はシん有機残基
を表わす） のウイツチヒーエモンズーホーナー試剤を作用させて次
式（ＩＶ） （ここで、Ｒは前記した通シであシ、波線はｅｌｍ又は
ｔｒａｎｓ配置を示す） の化合物を得、この化合物にｇ＠ｍ−ジメチルシクロプ
ロパン化剤を作用させて次式（Ｖ）Ｈ，ＣＣＨＩ ＼　　／ （ここで、Ｒ及び波線は前記の通シである）の化合物か
又は次式（Ｖａ） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通シである）の化合物の
いずれかを得、要すれば式（Ｖａ）の化合物にｇ＠ｍ−
ジメチルシクロプロパン化剤を作用させて前記の式（Ｖ
）の化合物を得、式（Ｖ）又はＣＶ＆　）の化合物のジ
オキソラン残基を加水分解して次式（Ｖｌ　’） ＨｓＣＣＨ３ ＼　　／ （ここで、Ｒ及び波線は前記の通りである）の化合物か
又は次式（Ｖｌｍ） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通シである）の化合物の
いずれかを得、次いで式（Ｖｌ）又は（ＶＴａ）のイ鎗
物の４．５−結合を解裂させて式（１）の所期の化合物
を得るか、成るいは式（Ｖ）又は（ｖｌ）の化合物のジ
オキソラン基を加水分解すると同時に４５−結合を解裂
させて式（Ｉ）の所期の化合物を得ることを特徴とする
式ＣＩ）の化合物の製造法にある。
Ｒはメチル、エチル、線状若しくは分岐状プロピル、又
は線状若しくは分岐状ブチル基を表わすことができる。
Ｒ１がアルキル基を表わすときは、それはＲについて前
記の意味を有する。
Ｒ１が７リール基を表わすときは、それは例えばフェニ
ル、トリル又はす７チル基であってよい。
Ｒ１がアラルキル基を表わすときは、それは例えばベン
ジル又はフェネチル基であってよい。
Ａは、ウイツチヒーエモンズーホーナー試剤の有機シん
残基、即ち、ホスホン酸塩の残基、トリアリールホスホ
ニクム塩の残基、又はジアリールホスフィンオキシトの
残基を表わす。
本発明の方法の好ましい実施条件下では、・制御され次
還元剤は水素化ジイソブチルアルミニウムであシ１ 、ウイッテヒーエモンズーホーナー試剤は次式（ここで
Ｒは前記の通シであシ、ａｌｋｌはメチル、エチル、線
状若しくは分岐状プロピル又は線状若しくは分岐状ブチ
ル基を表わし、φはフェニル基を表わす） の試剤であシ、 ・ｇ＠ｍ−ジメチルシクロプロパン化剤は次式（ここで
Ｘは残基Ｐ　（／ｋｒ）　＠　ｓ　Ｓ　（Ａｒ　）１又
はＮＲ。
Ｓ−Ａｒ（Ａ　ｒはγリール基、特にフェニル基を表わ
し、Ｒ，は水素原子又は１〜４個の炭素原子を含有する
アルキル基を表わす〕 の試剤であシ、 ・ジオキソラン残基の加水分解剤は塩酸、硫酸、酢酸、
過塩素酸又はｐ−）ルエンスルホン酸のような無機又は
有機酸であシ、 ・４．５−結合の解裂剤は過よう葉酸塩、四酢醗鉛又は
過マンガン酸カリウムのような酸化剤であシ、・ジオキ
ソラン残基を加水分解するとともに４．５−結合を解裂
させることのできる試剤は過よう素酸又は硫酸の存在下
での過よう葉酸塩のような酸化剤である。
式Ａ−ＣＨＩ−Ｃ−ＯＲの試剤は、幾何異性（Ｅ−Ｅ）
のジエステル又は幾何異性（２−２）と（２−Ｅ）のジ
エステルの混合物（標準的手段によシ分離できる）を生
じさせることができる。
「・ｍ−ジメチルシクロプロパン化剤を式（■）の化合
物に反応させるとその試料の量に応じて式（Ｖ）のジシ
クロプロパン化合物又は式（Ｖａ）のモノシクロプロパ
ン化合物を導き、そして後者はさらに式（Ｖ）の化合物
に転化することができる。
特に、本発明は、ラセミ又は光学活性のｔｒａｎｓ構造
の次式（ＩＡ） （ここセ、Ｒは前記の通シである） の化合物を製造する方法であって、前記の式（ｎ）のジ
エステルに、その分割された又はラセミ形の異性体のい
ずれかに、制御された還元剤を作用させて対応する異性
体構造の前記の式（ｍ）のジアルデヒド先駆物質を得、
この物質に次式 ％式％ （ここで、Ａ及びＲは前記の通シである）の試剤を作用
させて次式（■１） Ｃ−０Ｒ ／ Ｃ 蹴 Ｃ ＼ Ｈ −ＯＲ （ここで、Ｒは前記の通シであり、二重結合の幾何異性
はｔｒａｎｓである） の化合物を得、この化合物にｇ＠ｍ−ジメチルシクｏ７
’ロパン化剤を作用させて次式（Ｖ’）（ここで、Ｒは
前記した通シであ夛、シクロプロパン環の立体配置はｔ
ｒａｎｓである）の化合物を得、この化合物のジオキソ
ラン残基を加水分解して次式（ＶＩ’） （ここで、Ｒ及びシクロプロパン環の立体配置は前記の
通シである） の化合物を得、次いでこの化合物の４．５−結合を解裂
させて対応する式（ＩＡ）の化合物を得るか・成るいは
式（ｖｌ）のジオキソラン残基を加水分解すると同時に
４．５−結合を解裂させて式（ＩＡ）の所期の化合物を
得ることを特徴とする式（工Ａ）の化合物の製造法を主
題とする。
さらに特定すれば、本発明の主題は、（１Ｒ１ｔｒａｎ
ｓ　）立体配置の式（ＩＡ）の化合物を製造する方法で
あって、（４Ｒ，５Ｒ）立体配置の次式（Ｍ、）Ｃ−Ｏ
Ｒ。
奪 （ここで、Ｒ，ｔｊ：前記の通シである）のジエステル
に水素化ジインブチルアルミニウムを作用させて対応す
る（４Ｒ，ＳＲ）立体配置の次式（Ｉ、） −Ｈ Ｃ−Ｈ（１，） Ｉ のジアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式％式％ （ここでＡ及びＲは前記の通りである）の試剤を作用さ
せて（４８，５８）立体配置の次式（ＩＶ　’　、’） −ＯＲ ／ＣＨ ＨＣ′ ε １「 （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
はｔｒａｎｓである） の化合物を得、この化合物にイングロビリデントリフェ
ニルホスホランを作用させて、（４８，５８）立体配置
であってかつシクロプロパン環が（１Ｒ。
ｔｒａｎｓ　）立体配置である次式（Ｖ’１）−ＯＲ （ここで、Ｒは前記の通シである） の化合物を得、この化合物のジオキソラン残基を加水分
解して、（４Ｂ、ＳＲ）立体配置であってかつシクロプ
ロパン環が（Ｉ　Ｒ，ｔｒａｎａ　）立体配置の次式（
Ｖｌ’、） −ＯＲ ！１ （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、次いでその４．５−結合１−１化剤の作
用によシ解裂させて（Ｉ　Ｒ，ｔｒａｎｓ　）立体配置
の式（ＩＡ）の化合物を得るか、成るいは式（Ｖ’、）
のジオキソラン残基金加水分解すると同時に４．５−結
合を解裂させて（Ｉ　Ｒ’、　ｔｒａｎｓ　）立体配置
の式（ＩＡ）の化合物を得ることを特徴とする製造法に
ある。
また、本発明は、特に、ラセミ又は光学活性のｃ１ｇ構
造の次式（ＩＢ） （ここで、Ｒは前記の通シである） の化合物を製造する方法であって、前記の式（Ｉｆ）の
ジエステルに、その分割された又はラセミ形の異性体の
いずれかに、制御された還元剤を作用させて対応する異
性体構造の前記の式（［）のジアルデヒド先駆物質を得
、この物質に次式 ％式％ （ここで、Ａ及びＲは前記の通りである）の試剤を作用
させて次式（■つ （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
はａｌｍである） の化合物を得、この化合物にイングロビリデンジフェニ
ルスルフランを作用させて次式（ｖｌ）Ｈｓ （ここで、Ｒは前記の通りであシ、シクロプロパン環の
立体配置はｃｆ＋ｓである） の化合物を得、この化合物のジオキンラン残基を加水分
解して次式（■つ （ここで、Ｒ及びシクロプロパン環の立体配置は前記の
通りである） の化合物を得、次いでその４．５−結合を解裂させて対
応する式（ＩＢ）の化合物を得るか、成るいは式（■１
）のジオキイラン残基を加水分解すると同時に４５−結
合を解裂させて式（ＩＢ）の所期の化合物を得ることを
特徴とする製造法を主題とする。
さらに特定すれば、本発明の主題は、（１Ｒ２ｃｐｓ　
）立体配置の式（ＩＢ）の化合物を製造する方法であっ
て、（、ＳＲ，ＳＲ）立体配置の次式（Ｉｆ、）−０Ｒ
１ （ここで、Ｒ１は前記の通りである） のジエステルに水素化ジインブチルアルミニウムを作用
させて（４Ｒ，ｓｕ）立体配置の次式（［、）−Ｈ の対応ジアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式 ％式％ （ここで、Ａ及びＲＦｉ前記の通シである）の試剤を作
用させて（４８，５８）立体配置の次式（■“、） （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
はｅＬｓである） の化合物を得、この化合物にインプロピリデンジフェニ
ルスルフランを作用させて、（４８，５８）立体配置で
あってかつシクロプロパンｌ１ｌ（ｔＲ。
ｅｌｍ　）立体配置である次式（ｖｌｌ）（ここで、Ｒ
は前記の通υである） の化合物を得、この化合物のジオキソランＱ基を加水分
解して（４８，５８）立体配置であってかつシクロプロ
パン環が（’　Ｒｅ　Ｃｉｍ　）立体配置である次式（
ＶＩ’、） ／　高３ （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、次いでこの化合物の４．５−結合を酸化
剤の作用によって解装させて（１Ｒ，ａｌｅ）立体配置
の式＜ＩＢ）　　の化合物を得るか、成るいは式（Ｖ”
、）のジオ千ノラン残基を加水分解すると同時に４．５
−結合を解裂させて（１Ｒ，ｅｌｇ）立体配置の式（Ｉ
Ｂ）の化合物を得ることを特徴とする製造法にある。
ま九、式（ＩＩ）の出発化合物の４．５位における立体
配置並びに試剤Ａ−ＣＨ，−Ｃ−ＯＲの作用により生ず
る式（ｆｆ）の化合物の二重結合の立体配貨に従う（Ｉ
　Ｒ＋　ｔｒａｎｓ　）及び（ＩＲ＋ｃＬａ）構造の式
（１）の化合物の他に、本発明の方法は、式（１）の全
ての可面な異性体構造に対するエナンチオ選択的製造法
を可能にするものである。
以下の表には、式（Ｉ［）のキラルな化合物から出発し
て得られる幾何異性ｃ１ｇ又はｔｒａｎｓ及び幾何異性
ｅ１ｇの式（１）の化合物並びに単離され念中間体の立
体配置を示した。
また、本発明の主題は、式（１）の化合物の製造法の実
施中に得られる式（ＩＴ）、（Ｖ）、（Ｖａ）、（Ｖ［
）及び（■１）の化合物にある。
ヘミカロン酸アルデヒドの名称で知られている式（１）
の化合物は、菊酸又はその類似体、特にハロゲン化され
たものの合成に有用な中間体である。
最後に、本発明の主動は、新規化合物としての、上で記
載の式（■、）のジエステルを水素化ジイソブチルアル
ミニウムにより還元することによって得られる化合物に
ある。
式（Ｕ）のエステルは既知の化合物であって、実験の部
に記載のように、泊石酸から得ることができる。
〔実施例〕
下記の実施例は本発明を例示するためのものであって、
それを何ら制限するものではない。
工程Ａ：（（４８，５８）−２，２−ジメチル−１３−
ジオキノラン−４，５−ジイル）−３，５’−ジ〔（Ｅ
）プロペン酸メチル〕 後記の製造例に従って得た４、　３６　／ｉの生成物を
５０ＣＣのトルエンに溶解してなる溶液を不活性雰囲気
下に一７８℃に冷却し、水素化ジイソブチルアルミニウ
ムの１５Ｍ）ルエン溶液２６．６ｃｃｔゆっくりと加え
、全体をかきまぜながら一７８’Ｃに２時間保つ。得ら
れた溶液にジエチルホスホン酸ナトリウムのジメトキシ
エタン溶液（この製造は以下に示す）を滴下し、反応混
合物を周囲温度に戻す。２０℃で４時間かきまぜた後、
２０ＣＣの水を加え、エーテルで抽出し、次いで乾燥し
、溶媒を減圧下に除去する。得られた４、７ｙの粗生成
物をシリカでクロマトグラフィーする（溶離剤：ヘキサ
ンー酢酸エチル９／１）。２．３１の所期化合物、これ
はそのまま次の工程に用いる。
〔α〕Ｄ＝−７α２°　（セ＝６〜７ｗ　　ＣＨＣｊｍ
　）。
上で用い九ジ“エチルホスホン酸ナトリウムの溶液は次
のように調製した。
不活性雰囲気下に０℃で１４Ｎの水素化ナトリウムを２
０ＣＣのジメトキシエタンに懸濁させ、９４５Ｉジエチ
ルホスホノ酢酸メチルを５ｏｃｃのジメトキシエタンに
溶解してなる溶液を加え、２０℃で３０分間かきまぜる
。
製造：（４Ｒ，５Ｒ）−２，２−ジメチル−１，５−ジ
オキソラン−４，５−ジ（カルボン酸メチ、ル）５α５
Ｉの（２Ｒ，５Ｒ）酒石酸をａｏｇのλ２−ジメトキシ
プロパンに溶解し、α２Ｉのｐ−トルエンスルホン酸を
２０ＣＣのメタノールに溶解してなる溶液を加え、全体
を１５時間加熱還流する。４０．９の２．２−ジメトキ
シエタンｆ：２２５ＣＣのシクロへ中サンで希釈してな
るものを加え、反応媒質を７９℃で２４時間ゆっくりと
蒸留する。
ｃＬ５Ｉの炭酸カリウムを加え、シクロヘキサンの残部
を蒸発させ、生成物を減圧下に分別蒸留すること−によ
って精製する。
６７１１の所期化合物を得た。ｂｌ）＝８６−９１℃（
α４闘Ｈｇ）。
ＩＲスペクトル（Ｃ票−１） ４４８０−λ９８０−２，９５０−１７５０−１，４４
０−’Ｌ５５０−１，２１０−１，１６０−１，１００
−１，０１０−８６０−８４０−８１　０−７８０−７
５０−７００゜ＮＭＲスペクトル（ＣＣＪ４　） メチルのＨ：ｔ４６ｐｐｍ（ｓ） ｃｏｌｃｍ、のＨ：五７９ｐｐｍ（ｓ）−ＣＭ−０のＨ
：　４．６６　ｐｐｍ（ｓ）工程Ｂ！（（４８，５８）
−２，２−ジメチル−１３−ジオキソラン−４，５−ジ
イルツー４３−ジ〔２，２−ジメチル−（１Ｒ，５Ｒ）
−シクロプロパンカルボン酸メチル〕 ｎ−ジチルリチウムのへキサン溶液をよう化イソプロピ
ルトリフェニルホスホニウムのテトラヒドロフラン懸濁
液に添加することによってトリフェニルイソグロビリデ
ンホスホランのテトラヒドロフラン溶液（１２，５Ｘ１
０−ｓモル）を調製する。
２５ｃｃのテトラヒトミフランに溶解した’Ｌ５５１の
工程人で製造した化合物に２０ＣＣの上記溶液を０℃で
導入し、０℃で１時間、次いで周囲温度に戻し危後１時
間かきまぜ続ける。反応混合物を１０ＣＣの水で希釈し
、エーテルで抽出し、乾燥し、溶媒を減圧下に除去する
。
クロマトグラフィーで精製した後、所期化合物を５０〜
６０％の収率で得た。次いでこのものをシクロヘキサン
よシ再結晶する。
（α）”ｐ　＝　−５ａ　５°（ｃ＝２　Ｃｌ３５ｍ９
／’ｔ　ＣＨＣｌ＠　）。
工程Ｃ：（（１８，２８）−＄２−ジヒドロキシエチレ
ン）−４５’−ジ（２，２−ジメチル−（ＩＲ，５Ｒ）
−シクロ７’ｏパンカルボン酸メチル〕 １．８０１ｎ９の工程Ｂで得た化合物を４　ｃｃのテト
ラヒドロフランに溶解し、Ｓ　ＣＣの２Ｎ過塩素酸水溶
液を加え、２０℃で８時間かきまぜる。反応媒質を重炭
酸ナトリウム飽和水溶液で中和し、エーテルで抽出した
後、有機相を乾燥し、溶媒を減圧下に除去する。１６０
Ｉｎ９の粗生成物を回収し、これはそのまま次の工程に
用いる。
（ｃｔ　）”ｎ　”　”’−６７５°（ｃ＝１５．９６
ｍ９７ｄ　ＣＨＣｊｍ　）。
工程Ｄｉ　（ＩＲ，５Ｒ）、５−ホルミル−２，２−ジ
メチルシクロプロパンカルボン酸メチル１０５１Ｒ９の
工程Ｃで得たジオールを４　ｃｃのメタノールに溶解し
、２　ｃｃのりん酸塩緩衝液によりｐＨを７に調節し、
次いで１０７ダの過よう素酸す）　ＩＪウムを一度に加
える。周囲温度で３０分間かきまぜた後、残留物をＦＡ
し、エーテルで洗浄し、溶媒を減圧下にｉ＃失する。残
留物をエーテルで溶解し、水洗し、乾燥し、溶媒を減圧
下に蒸発させ、８２ｒｎ９の粗生成物を集め、これをシ
リカでクロマトグラフィー（溶離剤：ペンタンーエチル
エーテル７／３）することによって精製する。
７２すの所期化合物を得た。
〔α〕ｔ５＝＋１８．８５°　（ｃ＝１８．２５１Ｗ／
−アセトン）。
工程Ａ：　（（４８，５８）−２，２−ジメチル−１３
−ジオキンラン−４，５−ジイル）−ｔｓ’−ジ〔２，
２−ジメチル−（１Ｓ、３Ｓ）−シクロプロパンカルボ
ン酸メチル〕 α９１５ｇのテトラフルオロはう酸イソプロビルジフェ
ニルスルホニウムトｒＪ、２５５１ｔＤｆ１４水ジクロ
ルメタンＱ１２ＣＣの無水ジメトキシエタンに溶解して
なる溶液を一７８℃に冷却し、不活性雰囲気下に置いた
後、リチウムジインプロピルアミド溶液を添加する。こ
の溶液は、０−５２５１のジインプロピルアミンｔ−５
ｃｃのジメトキシエタン中で２．１ＣＣのｎ−ブチルリ
チウム（ヘキサン中ｔ５５Ｍ）により−７８℃で１５分
間処理することによって得た。−７８℃で１５分間かき
まぜた後、例１の工程人に記載のようにして得たＱ、２
７１のジエステルを２　ＣＣのジメトキシエタンに溶解
した溶液として添加する。反応混合物を一７８℃で１５
分間、次いで一６５℃〜−５０℃で４８時間かきまぜる
。次いで、１５分間昇渇きせ、次いでＳ　ＣＣの水を加
える。有機相をエーテルで希釈し、水性相を分離し、水
洗し、乾燥する。溶媒を真空下に蒸発させるとａ、ｙｓ
ｙの粗反応混合物が得られたが、これをシリカでクロマ
トグラフィー（溶離剤：ペンタン＼−エーテル７５−２
５）することによって精製する。α２９ＩＩの所期化合
物を得九。ｍ　ｐ　＝　１５６〜１３７℃。
〔α）１ｏ。ニー２４．７°　（ｃ＝１６．６ｍ９／−
クロロホルム）。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｊ、） ｄ＝１〜ｔ６（１〜ｔ２．１２４及びｔ５５で３つの一
重項を持つ多重項、２２Ｈ，ＣＭ。
及びシクロプロパンの現） 五２〜５．４４　（多重項、２Ｈ，ジオキンランの且） 五６（−重項、６Ｈ，Ｃｏ鵞Ｃ廷３） 工程１　（（ＩＳ、２８）−１，２−ジヒドロキシエチ
レン）−３，５’−ジ〔２，２−ジメチル−（１Ｓ。
３Ｓ）−シクロプロパンカルボン酸メチル〕工程人で得
たα２９Ｊの化合物より出発して、例１の工程Ｃに記載
した方法と類似の方法に冥施し、所期化合物を得た。こ
のものはそのまま次の工程に用いる。
工ｓｃ：（１８，３ｓ）−５−ホルミル−２，２−ジメ
チルシクロプロパンカルボン酸メチル工程Ｂに記載のよ
うにして得た０、　５１　Ｉ！の化合物より出発し、α
５２１１の過よう素酸ナトリウムを使用して、例１の工
￥ＡＤに記載の方法と類似の方法で実施する。−過し、
エーテルで洗浄し、溶媒を除去し、シリカでクロマトグ
ラフィーし、エーテルとペンタンとの混合物（２−８）
で溶離した後、α２１．９の所期化合物を得た。
〔α）”５＝＝−１８”　　（ｅ＝＝２５．５ｍ９／Ｌ
ｔア−＋ｔトン）工程Ａ：　（（４８，５８）−２，２
−ジメチル−１５−ジオキソラン−４５−ジイル）−ｔ
３’−ジ〔（２）プロペン酸メチル〕 例１の工程Ａの後に記載の製造に従って得た２、１Ｅｌ
’の化合物ｔ−５ｏｃｃのトルエンに溶解してなる溶液
を不活性雰囲気下に一７８℃に冷却し、これに水素化ジ
イソブチルアルミニウムの１５Ｍトルエン溶液１５．５
ｃｃをゆっくりと加え、全体を一７ｓ’Ｃで２時間かき
まぜ続ける。得られた溶液に、８．３５Ｆのトリフェニ
ルホスホラニリデン酢酸メチルを１５０ＣＣのメタノー
ルに溶解してなる溶液を滴下し、反応混合物を周囲温度
に戻す。
２０℃で３時間かきまぜた後、５０ＣＣの水を加え、メ
タノールを減圧下に蒸発させ、エーテル抽出を行う。抽
出物を乾燥し、溶媒を減圧下に除失する。
残留物に２５０　ｃｃのペンタンを加え、濾過した後、
炉液を減圧下に乾固する。２．５１の粗組成物を得、こ
れをシリカでクロマトグラフィーし、ペンタンとエーテ
ルとの、混合物（７−５）で溶離する。
ｔｓｙの所期化合物を得た。ｍｐ＝５１−５２℃。
分析’　ＣＩＩＨＩＩＯ＠ 計算：０％　５７．８　　　Ｔ（％　ｈｙａ実測：　　
　　５７．９５　　　　　＆　７０工徨Ｉｓ：　（（４
８，５８）−２，２−ジメチル−１３−ジオギンラン−
４，５−ジイル）−３，５’−ジ〔２，２−ジメチル−
（ＩＲ，５８）−シクロプロパンカルボン酸メチル〕 上記工程で得た（Ｌ２７Ｊｉｌのジエステルよシ出発し
て、例２の工程人に記載した′方法と類似の方法で実施
する。α２４ＪＦの所期化合物を得た。ｍｌ）＝９７〜
９８℃。
〔α〕聞＝−１α１“（６＝５．６ｔｔｕｐ／ｖｔ　Ｃ
ＨＣｌ箇）。
ＮＭＲスペクトル（ＣＤＣｊｓ　） ｄ−＝ｒ：Ｌ９−ｔ６（ｔｌ　６１　ｔ２５及びｔ５６
で３つの一重項を持つ三重環、２２Ｈ，（ｃＨｔ）ｔｃ
及びシクロプロパンのＨ） 五５６（−重環、６Ｈ％Ｃ０ＩＣＨｓ　）４．１−４．
５５　（多重環、２Ｈ，ＣＨＯ）工程Ｃ：　（（１８，
２Ｓ）−１，２−ジヒドロキシエチレン）−！５．５’
−ジ〔２，２−ジメチル−（１Ｒ２３Ｓ）−シクロプロ
パンカルボン酸メチル〕上記工程で得７’Ｃα２４９の
化合物よシ出発して、例１の工程Ｃに記載の方法と類似
の方法で実施する。所期の化合物を得、これはそのまま
次の工程に使用する。
エゼ＋ｊＤ：　（ｌＲ９５８）−５−ホルミル−２，２
−ジメチルシクロプロパンカルボン酸メチル上記工程に
記載のようにして得た１３１１の化合物より出発し、０
．５２　ｇの過よう素酸ナトリウムを使用して、例１の
工程りに記載の方法と類似の方法で実施する。ａｌ　９
Ｆの所期化合物を得た。
〔α）”Ｄ＝　　７　＆２＠（ｃ＝１５．５ｍ９／ｅＩ
ｔアセトン）。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １）ラセミ又は光学活性のｃｉｓ又はｔｒａｎｓ構造の
    、次式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （ここで、Ｒは水素原子、１〜４個の炭素原子を含有す
    るアルキル基又は１２個までの炭素原子を含有するアリ
    ール基を表わす） の化合物を製造する方法であつて、次式（II）▲数式、
    化学式、表等があります▼（II）（ここで、Ｒ＿１は１
    〜４個の炭素原子を含有するアルキル基、１２個までの
    炭素原子を含有するアリール基又は８個までの炭素原子
    を含有するアラルキル基を表わす） のジエステルに、その分割された又はラセミ形の異性体
    のいずれかの形で、制御された還元剤を作用させて次式
    （III） ▲数式、化学式、表等があります▼（III） のアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式▲数式、化
    学式、表等があります▼ （ここで、Ｒは前記した通りであり、Ａはりん有機残基
    を表わす） のウイツチヒ−エモンズ−ホーナー試剤を作用させて次
    式（IV） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV） （ここで、Ｒは前記した通りであり、波線はｃｉｓ又は
    ｔｒａｎｓ配置を示す） の化合物を得、この化合物にｇｅｍ−ジメチルシクロプ
    ロパン化剤を作用させて次式（Ｖ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通りである）の化合物か
    又は次式（Ｖａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖａ） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通りである）の化合物の
    いずれかを得、要すれば式（Ｖａ）の化合物にｇｅｍ−
    ジメチルシクロプロパン化剤を作用させて前記の式（Ｖ
    ）の化合物を得、式（Ｖ）又は（Ｖａ）の化合物のジオ
    キソラン残基を加水分解して次式（VI） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通りである）の化合物か
    又は次式（VIａ） ▲数式、化学式、表等があります▼（VIａ） （ここで、Ｒ及び波線は前記の通りである）の化合物の
    いずれかを得、次いで式（VI）又は（VIａ）の化合物の
    ４，５−結合を解裂させて式（ I ）の所期の化合物を
    得るか、或るいは式（Ｖ）又は（Ｖａ）の化合物のジオ
    キソラン基を加水分解すると同時に４，５−結合を解裂
    させて式（ I ）の所期の化合物を得ることを特徴とす
    る式（ I ）の化合物の製造法。 ２）ラセミ又は光学活性のｔｒａｎｓ構造の次式（ I
    ＿Ａ）▲数式、化学式、表等があります▼（ I ＿Ａ） （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を製造する方法であつて、前記の式（II）のジ
    エステルに、その分割された又はラセミ形の異性体のい
    ずれかに、制御された還元剤を作用させて対応する異性
    体構造の前記の式（III）のジアルデヒド先駆物質を得
    、この物質に次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ａ及びＲは前記の通りである） の試剤を作用させて次式（IV′） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV′） （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
    はｔｒａｎｓある） の化合物を得、この化合物にｇｅｍ−ジメチルシクロプ
    ロパン化剤を作用させて次式（Ｖ′） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ′） （ここで、Ｒは前記した通りであり、シクロプロパン環
    の立体配置はｔｒａｎｓである）の化合物を得、この化
    合物のジオキソラン残基を加水分解して次式（VI′） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI′） （ここで、Ｒ及びシクロプロパン環の立体配置は前記の
    通りである） の化合物を得、次いでこの化合物の４，５−結合を解裂
    させて対応する式（ I ＿Ａ）の化合物を得るか、或る
    いは式（Ｖ′）のジオキソラン残基を加水分解すると同
    時に４，５−結合を解裂させて式（ I ＿Ａ）の所期の
    化合物を得ることを特徴とする式（ I ＿Ａ）の化合物
    の製造法。 ３）請求項２に記載の（１Ｒ、ｔｒａｎｓ）立体配置の
    式（ I ＿Ａ）の化合物を製造する方法であつて、（４
    Ｒ、５Ｒ）立体配置の次式（II＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（II＿１） （ここで、Ｒ＿１は前記の通りである） のジエステルに水素化ジイソブチルアルミニウムを作用
    させて対応する（４Ｒ、５Ｒ）立体配置の次式（III＿
    １） ▲数式、化学式、表等があります▼（III＿１） のジアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式▲数式、
    化学式、表等があります▼ （ここでＡ及びＲは前記の通りである） の試剤を作用させて（４Ｓ、５Ｓ）立体配置の次式（I
    V′＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV′＿１） （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
    はｔｒａｎｓである） の化合物を得、この化合物にイソプロピリデントリフエ
    ニルホスホランを作用させて、（４Ｓ、５Ｓ）立体配置
    であつてかつシクロプロパン環が（１Ｒ、ｔｒａｎｓ）
    立体配置である次式（Ｖ′＿１）▲数式、化学式、表等
    があります▼（Ｖ′＿１） （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、この化合物のジオキソラン残基を加水分
    解して、（４Ｓ、５Ｒ）立体配置であつてかつシクロプ
    ロパン環が（１Ｒ、ｔｒａｎｓ）立体配置の次式（VI′
    ＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI′＿１） （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、次いでその４，５−結合を酸化剤の作用
    により解裂させて（１Ｒ、ｔｒａｎｓ）立体配置の式（
    I ＿Ａ）の化合物を得るか、或るいは式（Ｖ′＿１）
    のジオキソラン残基を加水分解すると同時に４，５−結
    合を解裂させて（１Ｒ、ｔｒａｎｓ）立体配置の式（
    I ＿Ａ）の化合物を得ることを特徴とする製造法。 ４）ラセミ又は光学活性のｃｉｓ構造の次式（ I ＿Ｂ
    ）▲数式、化学式、表等があります▼（ I ＿Ｂ） （ここで、Ｂは前記の通りである） の化合物を製造する方法であつて、前記の式（II）のジ
    エステルに、その分割された又はラセミ形の異性体のい
    ずれかに、制御された還元剤を作用させて対応する異性
    体構造の前記の式（II）のジアルデヒド先駆物質を得、
    この物質に次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ａ及びＲは前記の通りである） の試剤を作用させて次式（IV″） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV″） （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
    はｃｉｓである） の化合物を得、この化合物にイソプロピリデンジフエニ
    ルスルフランを作用させて次式（Ｖ″）▲数式、化学式
    、表等があります▼（Ｖ″） （ここで、Ｒは前記の通りであり、シクロプロパン環の
    立体配置はｃｉｓである） の化合物を得、この化合物のジオキソラン残基を加水分
    解して次式（VI″） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI″） （ここで、Ｒ及びシクロプロパン環の立体配置は前記の
    通りである） の化合物を得、次いでその４，５−結合を解裂させて対
    応する式（ I ＿Ｂ）の化合物を得るか、或るいは式（
    Ｖ″）のジオキソラン残基を加水分解すると同時に４，
    ５−結合を解裂させて式（ I ＿Ｂ）の所期の化合物を
    得ることを特徴とする製造法。 ５）請求項４に記載の（１Ｒ、ｃｉｓ）立体配置の式（
    I ＿Ｂ）の化合物を製造する方法であつて、（４Ｒ、
    ５Ｒ）立体配置の次式（II＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（II＿１） （ここで、Ｒ＿１は前記の通りである） のジエステルに水素化ジイソブチルアルミニウムを作用
    させて（４Ｒ、５Ｒ）立体配置の次式（III＿１）▲数
    式、化学式、表等があります▼（III＿１） の対応ジアルデヒド先駆物質を得、この物質に次式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （ここで、Ａ及びＲは前記の通りである） の試剤を作用させて（４Ｓ、５Ｓ）立体配置の次式（I
    V″＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（IV″＿１） （ここで、Ｒは前記の通りであり、二重結合の幾何異性
    はｃｉｓである） の化合物を得、この化合物にイソプロピリデンジフェニ
    ルスルフランを作用させて、（４Ｓ、５Ｓ）立体配置で
    あつてかつシクロプロパン環が（１Ｒ、ｃｉｓ）立体配
    置である次式（Ｖ″＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（Ｖ″＿１） （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、この化合物のジオキソラン残基を加水分
    解して、（４Ｓ、５Ｓ）立体配置であつてかつシクロプ
    ロパン環が（１Ｒ、ｃｉｓ）立体配置である次式（VI″
    ＿１） ▲数式、化学式、表等があります▼（VI″＿１） （ここで、Ｒは前記の通りである） の化合物を得、次いでこの化合物の４，５−結合を酸化
    剤の作用によつて解裂させて（１Ｒ、ｃｉｓ）立体配置
    の式（ I ＿Ｂ）の化合物を得るか、或るいは式（Ｖ″
    ＿１）のジオキソラン残基を加水分解すると同時に４，
    ５−結合を解裂させて（１Ｒ、ｃｉｓ）立体配置の式（
    I ＿Ｂ）の化合物を得ることを特徴とする製造法。 ６）請求項１に記載の式（IV）、（Ｖ）、（Ｖａ）、（
    VI）及び（VIａ）の化合物。 ７）請求項３に記載の式（II＿１）のジエステルを水素
    化ジイソブチルアルミニウムにより還元することによつ
    て得られる化合物。
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