JPH01104792A - Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法 - Google Patents
Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法Info
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- JPH01104792A JPH01104792A JP26187687A JP26187687A JPH01104792A JP H01104792 A JPH01104792 A JP H01104792A JP 26187687 A JP26187687 A JP 26187687A JP 26187687 A JP26187687 A JP 26187687A JP H01104792 A JPH01104792 A JP H01104792A
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Landscapes
- Electrolytic Production Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高強度で靭性に優れており、高透磁率材料で
あるＮｉの含有率が２０〜５０％と高いＦｅ −Ｎｉ合
金箔を電解により連続的に製造する方法に関するもので
ある。
あるＮｉの含有率が２０〜５０％と高いＦｅ −Ｎｉ合
金箔を電解により連続的に製造する方法に関するもので
ある。
近年、極薄鉄箔は感磁性やシールド性等に優れた特性を
有しているので紙やプラスチックとの複合材として例え
ば地図、ゲーム盤、フロッピーディスクケース、コンピ
ューターケース用シールド材等に利用されるようになっ
てきた。
有しているので紙やプラスチックとの複合材として例え
ば地図、ゲーム盤、フロッピーディスクケース、コンピ
ューターケース用シールド材等に利用されるようになっ
てきた。
従来、このような極薄鉄箔を製造する方法としては、圧
延法と電解法とがあった。
延法と電解法とがあった。
圧延法は、熱延コイルを冷間圧延で中間厚さに仕上げた
薄鉄板を出発素材として焼鈍と冷間圧麺とを繰り返して
所定の厚さにまで圧延する方法であリ、最近では５声程
度のものまで製造が可能となってきている。しかしなが
ら、この圧延法では箔厚用の圧延機で冷間圧延と焼鈍と
を何回も繰り返して行なわなければならないので、生産
性や歩留りが非常に悪く、生産コストが高いという問題
点があった。
薄鉄板を出発素材として焼鈍と冷間圧麺とを繰り返して
所定の厚さにまで圧延する方法であリ、最近では５声程
度のものまで製造が可能となってきている。しかしなが
ら、この圧延法では箔厚用の圧延機で冷間圧延と焼鈍と
を何回も繰り返して行なわなければならないので、生産
性や歩留りが非常に悪く、生産コストが高いという問題
点があった。
また電解法は、全屈製回転ドラムを陰極として鉄イオン
を含む電解液中で回転ドラム上に鉄を電着させつつ順次
これを剥離して鉄箔を連続的に製造する方法であり、厚
さの薄い純鉄の箔が一挙に得られる利点はあるが、この
電解法で得られる鉄箔は圧延法で得られる鉄箔に比べて
強度が低く、厚さが薄くなるほど金属製回転ドラムから
の剥離や巻き取りが困難となり、一応２０ｉＩｎ程度が
製造可能な極薄鉄箔の厚さの下限とされているが、それ
以上の厚さにおいても２０ｐに近づくほどトラブルが発
生しており、極薄鉄箔を安定して製造することが困難で
あるという問題点があった。
を含む電解液中で回転ドラム上に鉄を電着させつつ順次
これを剥離して鉄箔を連続的に製造する方法であり、厚
さの薄い純鉄の箔が一挙に得られる利点はあるが、この
電解法で得られる鉄箔は圧延法で得られる鉄箔に比べて
強度が低く、厚さが薄くなるほど金属製回転ドラムから
の剥離や巻き取りが困難となり、一応２０ｉＩｎ程度が
製造可能な極薄鉄箔の厚さの下限とされているが、それ
以上の厚さにおいても２０ｐに近づくほどトラブルが発
生しており、極薄鉄箔を安定して製造することが困難で
あるという問題点があった。
上述したように電解法によって純鉄から成る極薄鉄箔を
安定して製造することにおいて種々の問題点があったが
、この問題点の大きな原因は純鉄がその強度や靭性にお
いて劣っていることにあり、ＮｉとＦｅとの合金箔とす
れば強度や靭性が格段に優れたものとなると共にその高
い透磁率から上記用途に使用するのに非常に有効である
ことが考えられる。
安定して製造することにおいて種々の問題点があったが
、この問題点の大きな原因は純鉄がその強度や靭性にお
いて劣っていることにあり、ＮｉとＦｅとの合金箔とす
れば強度や靭性が格段に優れたものとなると共にその高
い透磁率から上記用途に使用するのに非常に有効である
ことが考えられる。
しかしながら、純鉄から成る極薄鉄箔ではなく、鉄と他
の金属との合金から成る極薄箔を電解法により製造しよ
うとすると、鉄と他の金属とを所定の割合で陰極面に析
出させるのに鉄イオンと他の金属のイオンとをどのよう
な濃度にした電解液を使用するか、そしてその電解液の
温度やｐＨをどのような範囲にして電流密度をどのよう
な範囲として電解を実施するか、更に陰極ドラム表面の
陰極面に析出した合金電解箔をその陰極面からどのよう
な素材を使用すれば容易に剥離することができるかなど
種々の問題点があり、特に鉄と共に合金を構成する金属
がＮｉであって製造する合金電解箔のＮｉ含有率が２０
〜５０％と非常に高い場合には上記問題点は全く解決さ
れていないためにＦｅ−Ｎｉ合金がパーマロイと略称さ
れているように優れた透磁率を有していることが判って
いながらＦｅ −Ｎｉ合金電解箔が製造されていなかっ
たのである。
の金属との合金から成る極薄箔を電解法により製造しよ
うとすると、鉄と他の金属とを所定の割合で陰極面に析
出させるのに鉄イオンと他の金属のイオンとをどのよう
な濃度にした電解液を使用するか、そしてその電解液の
温度やｐＨをどのような範囲にして電流密度をどのよう
な範囲として電解を実施するか、更に陰極ドラム表面の
陰極面に析出した合金電解箔をその陰極面からどのよう
な素材を使用すれば容易に剥離することができるかなど
種々の問題点があり、特に鉄と共に合金を構成する金属
がＮｉであって製造する合金電解箔のＮｉ含有率が２０
〜５０％と非常に高い場合には上記問題点は全く解決さ
れていないためにＦｅ−Ｎｉ合金がパーマロイと略称さ
れているように優れた透磁率を有していることが判って
いながらＦｅ −Ｎｉ合金電解箔が製造されていなかっ
たのである。
本発明者等は、上記従来技術の問題点を解決してＮｉ含
有率が２０〜５０％のＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造す
べく鋭意研究の結果、使用する電解液としては８０〜１
５０ｇ／ｌのＦｅ＋＋イオンと２０〜１２０ ｇ ／
ＱのＮｉ＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液
を使用し、種々の実験から電流密度と温度範囲とｐｌ（
どの最適範囲を究明すると共に、陰極ドラムと。ての材
質と表面粗度Ｒａとを成る特定のもとすれば陰極面に析
出せしめたＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を良好に剥離させて
Ｆｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造できることを究明して本
発明を完成したのである。
有率が２０〜５０％のＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造す
べく鋭意研究の結果、使用する電解液としては８０〜１
５０ｇ／ｌのＦｅ＋＋イオンと２０〜１２０ ｇ ／
ＱのＮｉ＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液
を使用し、種々の実験から電流密度と温度範囲とｐｌ（
どの最適範囲を究明すると共に、陰極ドラムと。ての材
質と表面粗度Ｒａとを成る特定のもとすれば陰極面に析
出せしめたＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を良好に剥離させて
Ｆｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造できることを究明して本
発明を完成したのである。
すなわち本発明は、Ｎｉ含有率が２０〜５０％のＦｅ
−Ｎｉ合金電解箔を製造するに際し、８０〜１５０ ｇ
／ ＱのＦｅ＋＋イオンと２０−１２０ｇ／ｌのＮｕ
＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液を使用し
て電流密度を５〜１００Ａ／ｄｍ２とし、９０〜１１０
℃の温度範囲でｐＨを３以下に調整しながら陰極ドラム
として表面粗度Ｒａが０．３〜０，７ＩｊＭであるＴｉ
、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ−Ｎｂ合金のいずれかを使用
して陰極面にＦｅ −Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰
極面に析出したＦｅ Ｎｉ合金電解箔を剥離すること
を特徴とするＦｅ −Ｎｉ合金電解箔の製造方法に関す
るものである。
−Ｎｉ合金電解箔を製造するに際し、８０〜１５０ ｇ
／ ＱのＦｅ＋＋イオンと２０−１２０ｇ／ｌのＮｕ
＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液を使用し
て電流密度を５〜１００Ａ／ｄｍ２とし、９０〜１１０
℃の温度範囲でｐＨを３以下に調整しながら陰極ドラム
として表面粗度Ｒａが０．３〜０，７ＩｊＭであるＴｉ
、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ−Ｎｂ合金のいずれかを使用
して陰極面にＦｅ −Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰
極面に析出したＦｅ Ｎｉ合金電解箔を剥離すること
を特徴とするＦｅ −Ｎｉ合金電解箔の製造方法に関す
るものである。
以下、本発明方法について詳細に説明する。
本発明方法は上述したように電解法によりＮｉ含有率が
２０〜５０％と高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造する
方法であって、８０〜１５０ ｇ ／ ＱのＦｅ＋＋イ
オンと２０〜１２０ｇ／ΩのＮｉ＋＋イオンとを含有す
る水溶液から成る電解液を使用する。この電解液は、Ｎ
ｉ＋＋イオンの濃度が２０ ｇ ／ ｆ１未満では電解
法により得られるＦｅ−Ｎｉ合金電解箔中のＮｉ含有率
が２０％未満となって本発明の目的とするＮｉ含有率の
高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造することができず、
また１２０ｇ／Ωを超えると電解法により得られるＦｅ
−Ｎｉ合金電解箔中のＮｉ含有率が５０％を超えて高く
なるため市着応力が高くなって得られるＦｅ −Ｎｉ合
金電解箔に割れが生じたり陰極面に電着する皮膜が電解
中に陰極面から剥がれたりして良好にＦｅ−Ｎｉ合金電
解箔を製造することができないために好ましくないから
である。またＦｅ＋＋イオンの濃度が８０〜１５０ ｇ
／ ｆｌの範囲になければならないのは、電解液中に
おけるＦＣ＋＋イオンとＮｉ＋＋イオンとの和は１００
〜２７０ ｇ ／Ωの範囲内になければならないからで
あって、和が１００ｇ／ｌ未満では電着応力が高くなっ
て陰極面に電着する皮膜を陰極面から良好に剥離するこ
とができなくなるなどの理由により好ましくなく、和が
２７０ ｇ ／Ωを超えると陰極面に結晶が析出しまた
電流効率が低下するなどの理由により好ましくないから
である。
２０〜５０％と高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造する
方法であって、８０〜１５０ ｇ ／ ＱのＦｅ＋＋イ
オンと２０〜１２０ｇ／ΩのＮｉ＋＋イオンとを含有す
る水溶液から成る電解液を使用する。この電解液は、Ｎ
ｉ＋＋イオンの濃度が２０ ｇ ／ ｆ１未満では電解
法により得られるＦｅ−Ｎｉ合金電解箔中のＮｉ含有率
が２０％未満となって本発明の目的とするＮｉ含有率の
高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造することができず、
また１２０ｇ／Ωを超えると電解法により得られるＦｅ
−Ｎｉ合金電解箔中のＮｉ含有率が５０％を超えて高く
なるため市着応力が高くなって得られるＦｅ −Ｎｉ合
金電解箔に割れが生じたり陰極面に電着する皮膜が電解
中に陰極面から剥がれたりして良好にＦｅ−Ｎｉ合金電
解箔を製造することができないために好ましくないから
である。またＦｅ＋＋イオンの濃度が８０〜１５０ ｇ
／ ｆｌの範囲になければならないのは、電解液中に
おけるＦＣ＋＋イオンとＮｉ＋＋イオンとの和は１００
〜２７０ ｇ ／Ωの範囲内になければならないからで
あって、和が１００ｇ／ｌ未満では電着応力が高くなっ
て陰極面に電着する皮膜を陰極面から良好に剥離するこ
とができなくなるなどの理由により好ましくなく、和が
２７０ ｇ ／Ωを超えると陰極面に結晶が析出しまた
電流効率が低下するなどの理由により好ましくないから
である。
この電解液はＦａＣＩ２．・ｎＨ，ＯとＮｉＣ１，・６
Ｈ２０とを用いて調製することができるが、電解量にお
いてはｐＨを３以下に調整し且つ温度を９０〜１１０℃
の温度範囲に維持することに留意しなければならず、ｐ
Ｈを３以下に調整するのはＰＨが３以上になる場合には
ＨＣｌを添加することによって行えば良い。これはρ１
１が３を超えると２価の鉄イオンが３価の鉄イオンに酸
化して陰極面に電着する皮膜中の水酸化物が増すことに
よって鉄含有量が増加して本発明の目的とする２０％以
上のＮｉ含有量を有するＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を製造す
ることができなくなるためであり、温度を９０−１１０
℃の温度範囲に維持するのは温度が９０℃未満では電着
応力が高く且つ陰極面に電着する皮膜中の鉄が脆化する
ために陰極面から剥離することができなくなるので好ま
しくなく、１１０℃を超えると電解液が沸騰して陰極面
に電着するＦｅ −Ｎｉ合金電解箔の表面状態を悪化さ
せるので好ましくないためである。
Ｈ２０とを用いて調製することができるが、電解量にお
いてはｐＨを３以下に調整し且つ温度を９０〜１１０℃
の温度範囲に維持することに留意しなければならず、ｐ
Ｈを３以下に調整するのはＰＨが３以上になる場合には
ＨＣｌを添加することによって行えば良い。これはρ１
１が３を超えると２価の鉄イオンが３価の鉄イオンに酸
化して陰極面に電着する皮膜中の水酸化物が増すことに
よって鉄含有量が増加して本発明の目的とする２０％以
上のＮｉ含有量を有するＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を製造す
ることができなくなるためであり、温度を９０−１１０
℃の温度範囲に維持するのは温度が９０℃未満では電着
応力が高く且つ陰極面に電着する皮膜中の鉄が脆化する
ために陰極面から剥離することができなくなるので好ま
しくなく、１１０℃を超えると電解液が沸騰して陰極面
に電着するＦｅ −Ｎｉ合金電解箔の表面状態を悪化さ
せるので好ましくないためである。
このようにして調製した電解液を使用して電解を行うに
際し、電流密度は５〜１００Ａ／ｄｍ”に維持すること
が必要であり、電流密度が５ Ａ／ｄｍ２未満では陰極
面でＮｉの析出が優先的に起こって電着応力が高くなり
クラックが生じて箔として剥離できなくなると共に生産
性も低くなり、１００Ａ／ｄｍ２を超えると電流効率が
低下して著しい場合には箔の表面状態が悪化するために
好ましくないからである。
際し、電流密度は５〜１００Ａ／ｄｍ”に維持すること
が必要であり、電流密度が５ Ａ／ｄｍ２未満では陰極
面でＮｉの析出が優先的に起こって電着応力が高くなり
クラックが生じて箔として剥離できなくなると共に生産
性も低くなり、１００Ａ／ｄｍ２を超えると電流効率が
低下して著しい場合には箔の表面状態が悪化するために
好ましくないからである。
そして使用する陰極面としては、電着した金属に対する
剥離性の良い金属であるＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ
−Ｎｂ合金のいずれかを雨月した陰極ドラムを使用する
ことが必要であるが、単にこのような剥離性の良い金属
製の陰極ドラムを使用しただけでは陰極面に析出せしめ
たＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を剥離することはできず、その
表面粗度Ｒａが０．３〜０．７ｐの範囲内になければな
らないのである。これは表面粗度Ｒａが０．３ｐ未満で
は陰極面に析出する皮膜が目的の厚さに到達する前に陰
極面から部分的に剥離し著しい場合には全体的に剥離し
てしまうので好ましくなく１表面粗度Ｒａが０．７ＩＪ
ｆａを超えると陰極面に電着する皮膜が陰極面に密着し
て箔として陰極面から剥離することが困難となり著しい
場合には陰極面から剥離することが全くできなくなる現
象が生じるために好ましくないからである。
剥離性の良い金属であるＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ
−Ｎｂ合金のいずれかを雨月した陰極ドラムを使用する
ことが必要であるが、単にこのような剥離性の良い金属
製の陰極ドラムを使用しただけでは陰極面に析出せしめ
たＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を剥離することはできず、その
表面粗度Ｒａが０．３〜０．７ｐの範囲内になければな
らないのである。これは表面粗度Ｒａが０．３ｐ未満で
は陰極面に析出する皮膜が目的の厚さに到達する前に陰
極面から部分的に剥離し著しい場合には全体的に剥離し
てしまうので好ましくなく１表面粗度Ｒａが０．７ＩＪ
ｆａを超えると陰極面に電着する皮膜が陰極面に密着し
て箔として陰極面から剥離することが困難となり著しい
場合には陰極面から剥離することが全くできなくなる現
象が生じるために好ましくないからである。
このように、８０〜１５０ｇ／ｌのＦｅ＋＋イオンと２
０〜１２０ｇ／ｕのＮｉ”イオンとを含有する水溶液か
ら成る電解液を使用して電流密度を５〜１００Ａ／ｄｍ
”とし、９０〜１１０℃の温度範囲でｐＨを３以下に調
整しながら陰極ドラムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０
．７声であるＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ−Ｎｂ合金
のいずれかを使用して電解を行うと、陰極面にＮｉ含有
率が２０〜５０％のＦｅ−Ｎｉ合金電解箔が析出するの
でこの陰極面に析出したＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を剥離
すればＮｉ含有率が２０”ｒ５０％と高いＦｅ −Ｎｉ
合金電解箔を良好に連続的に製造することができるので
ある。
０〜１２０ｇ／ｕのＮｉ”イオンとを含有する水溶液か
ら成る電解液を使用して電流密度を５〜１００Ａ／ｄｍ
”とし、９０〜１１０℃の温度範囲でｐＨを３以下に調
整しながら陰極ドラムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０
．７声であるＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ、 Ｔａ−Ｎｂ合金
のいずれかを使用して電解を行うと、陰極面にＮｉ含有
率が２０〜５０％のＦｅ−Ｎｉ合金電解箔が析出するの
でこの陰極面に析出したＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を剥離
すればＮｉ含有率が２０”ｒ５０％と高いＦｅ −Ｎｉ
合金電解箔を良好に連続的に製造することができるので
ある。
以下に実施例について説明する。
先ず、下表に示す混合割合でＦｅＣｌ２・ｎＨ２ＯとＮ
ｉＣｌ２・６Ｈ２０と更に必要に応じて添加したＨＣｌ
とＮＨ４ＯＨ，とを用いて電解液を調製した。なお、Ｈ
ＣｌとＮＨ，ＯＨとはＦｅＣ４・ｎＨ，ＯとＮｉＣｌ２
・６Ｈ２０とで第１表に記載した混合割合で調製した電
解液ＩＱに第１表に記載した量だけ添加したものである
。
ｉＣｌ２・６Ｈ２０と更に必要に応じて添加したＨＣｌ
とＮＨ４ＯＨ，とを用いて電解液を調製した。なお、Ｈ
ＣｌとＮＨ，ＯＨとはＦｅＣ４・ｎＨ，ＯとＮｉＣｌ２
・６Ｈ２０とで第１表に記載した混合割合で調製した電
解液ＩＱに第１表に記載した量だけ添加したものである
。
以下余白
第１表
上記第１表に示した電解液を使用してＦｅ−Ｎｉ合金箔
を電解法により製造した結果の実施例を第２表に、また
比較例を第３表にそれぞれ示す。
を電解法により製造した結果の実施例を第２表に、また
比較例を第３表にそれぞれ示す。
第２表
第３表
上記第２表及び第３表において、成否の欄における各部
は次の通りである。
は次の通りである。
０ｆｒＪの製造可能
・ 箔を剥離できない
Δ 箔が電着中で剥離した
ム 箔の表面状態が不良
× 箔にならなかった
上記第２表及び第３表の実施例及び比較例から８０〜１
５０ｇＩＱのＦｅ＋＋イオンと２０〜１２０ｇ／ｌのＮ
ｘ ＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液を
使用して電流密度を５〜１００Ａ／ｄａｉ”とし、９０
〜１１０℃の温度範囲でｐＨを３以下に調整しながら陰
極ドラムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０．７．ｎであ
るＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ。
５０ｇＩＱのＦｅ＋＋イオンと２０〜１２０ｇ／ｌのＮ
ｘ ＋＋イオンとを含有する水溶液から成る電解液を
使用して電流密度を５〜１００Ａ／ｄａｉ”とし、９０
〜１１０℃の温度範囲でｐＨを３以下に調整しながら陰
極ドラムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０．７．ｎであ
るＴｉ、 Ｔａ、 Ｎｂ。
Ｔａ−Ｎｂ合金のいずれかを使用して陰極面にＦｅ −
Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰極面に析出したＦｅ
−Ｎｉ合金電解箔を剥離する本発明に係るＦｅ −Ｎｉ
合金電解箔の製造方法によれば、Ｎｉ含有率が２０〜５
０％と高いＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を良好に製造すること
ができるのに対し、比較例１〜４のように電解液のＦｅ
＋＋イオン及びＮｉ＋＋イオンの含有量、特にＮｉ＋＋
イオンの含有量が多すぎて本発明法の範囲を逸脱してい
る場合には箔の製造が不可能であり、比較例５〜７のよ
うに電流密度が小さすぎて本発明法の範囲を逸脱してい
る場合には箔の製造が不可能でありまた比較例８〜１０
のように電流密度が大きすぎて本発明法の範囲を逸脱し
ている場合には箔の表面状態が不良となり、比較例１１
〜１３のように陰極板の表面粗度Ｒａが小さすぎて本発
明法の範囲を逸脱している場合には箔が電着中で剥離し
て好ましくなくまた比較例１４及び１５のように表面粗
度Ｒａが大きすぎて本発明法の範囲を逸脱している場合
には箔を陰極板の表面から剥にできないために箔の製造
が不可能であり、更に比較例１６及び１７のように陰極
板の表面粗度Ｒａが本発明法の範囲を逸脱していると共
に陰極ドラムの陰極面が本発明法の対象とする剥離性の
良い金属に該当しない５ｔｌＳ４３０であっても同様で
あり、比較例１８〜２０のように電解液のＰＨが高すぎ
て本発明法の範囲を逸脱している場合には箔にならず比
較例２１及び２２のように電解液のＰＨが低すぎて本発
明法の範囲を逸脱している場合には箔の表面状態が不良
となって好ましくなく、比較例２３〜２５のように電解
液の液温か高すぎて本発明法の範囲を逸脱している場合
には箔の表面状態が不良となって好ましくなく比較例２
６及び２７のように電解液の液温か低すぎて本発明法の
範囲を逸脱している場合には箔にならず、比較例２８〜
３２のように陰極ドラムの陰極面が本発明法の対象とす
る剥離性の良い金属に該当しない金属であると箔が陰極
面から剥離できなかったり箔が電着途中で剥離したりし
て良好な合金箔を製造できないことが判る。
Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰極面に析出したＦｅ
−Ｎｉ合金電解箔を剥離する本発明に係るＦｅ −Ｎｉ
合金電解箔の製造方法によれば、Ｎｉ含有率が２０〜５
０％と高いＦｅ−Ｎｉ合金電解箔を良好に製造すること
ができるのに対し、比較例１〜４のように電解液のＦｅ
＋＋イオン及びＮｉ＋＋イオンの含有量、特にＮｉ＋＋
イオンの含有量が多すぎて本発明法の範囲を逸脱してい
る場合には箔の製造が不可能であり、比較例５〜７のよ
うに電流密度が小さすぎて本発明法の範囲を逸脱してい
る場合には箔の製造が不可能でありまた比較例８〜１０
のように電流密度が大きすぎて本発明法の範囲を逸脱し
ている場合には箔の表面状態が不良となり、比較例１１
〜１３のように陰極板の表面粗度Ｒａが小さすぎて本発
明法の範囲を逸脱している場合には箔が電着中で剥離し
て好ましくなくまた比較例１４及び１５のように表面粗
度Ｒａが大きすぎて本発明法の範囲を逸脱している場合
には箔を陰極板の表面から剥にできないために箔の製造
が不可能であり、更に比較例１６及び１７のように陰極
板の表面粗度Ｒａが本発明法の範囲を逸脱していると共
に陰極ドラムの陰極面が本発明法の対象とする剥離性の
良い金属に該当しない５ｔｌＳ４３０であっても同様で
あり、比較例１８〜２０のように電解液のＰＨが高すぎ
て本発明法の範囲を逸脱している場合には箔にならず比
較例２１及び２２のように電解液のＰＨが低すぎて本発
明法の範囲を逸脱している場合には箔の表面状態が不良
となって好ましくなく、比較例２３〜２５のように電解
液の液温か高すぎて本発明法の範囲を逸脱している場合
には箔の表面状態が不良となって好ましくなく比較例２
６及び２７のように電解液の液温か低すぎて本発明法の
範囲を逸脱している場合には箔にならず、比較例２８〜
３２のように陰極ドラムの陰極面が本発明法の対象とす
る剥離性の良い金属に該当しない金属であると箔が陰極
面から剥離できなかったり箔が電着途中で剥離したりし
て良好な合金箔を製造できないことが判る。
以上詳述した本発明に係るＦｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造
方法は、８０〜１５０ ｇ ／ ＱのＦｅ＋＋イオンと
２０〜１２０ｇ／ΩのＮｉ＋＋イオンとを含有する水溶
液から成る電解液を使用して電流密度を５〜１００Ａ／
ｄｍ２とし、９０〜１１０℃の温度範囲でＨＣｌを添加
することによってＰＨを３以下に調整しながら陰極ドラ
ムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０．７７ａであるＴｉ
、丁ａ、 Ｎｂ。
方法は、８０〜１５０ ｇ ／ ＱのＦｅ＋＋イオンと
２０〜１２０ｇ／ΩのＮｉ＋＋イオンとを含有する水溶
液から成る電解液を使用して電流密度を５〜１００Ａ／
ｄｍ２とし、９０〜１１０℃の温度範囲でＨＣｌを添加
することによってＰＨを３以下に調整しながら陰極ドラ
ムとして表面粗度Ｒａが０．３〜０．７７ａであるＴｉ
、丁ａ、 Ｎｂ。
Ｔａ−Ｎｂ合金のいずれかを使用して陰極面にＦｅ −
Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰極面に析出したＦｅ＝
Ｎｉ合金電解箔を剥離することにより従来電解法により
製造することが不可能であったＮｉ含有率が２０〜５０
％と高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造することを可能
とした画期的な方法であり、Ｎｉ含有率が高いことに起
因した高強度で靭性に優れていて高透磁率材料であるＮ
ｉの含有率が２０〜５′０％と高いＦｅ −Ｎｉ合金箔
を電解により連続的に製造することができるために従来
極薄鉄箔では不充分であった特性を改善した紙やプラス
チックとの複合材として例えば地図、ゲーム盤、フロッ
ピーディスクケース。
Ｎｉ合金を析出せしめた後に該陰極面に析出したＦｅ＝
Ｎｉ合金電解箔を剥離することにより従来電解法により
製造することが不可能であったＮｉ含有率が２０〜５０
％と高いＦｅ −Ｎｉ合金電解箔を製造することを可能
とした画期的な方法であり、Ｎｉ含有率が高いことに起
因した高強度で靭性に優れていて高透磁率材料であるＮ
ｉの含有率が２０〜５′０％と高いＦｅ −Ｎｉ合金箔
を電解により連続的に製造することができるために従来
極薄鉄箔では不充分であった特性を改善した紙やプラス
チックとの複合材として例えば地図、ゲーム盤、フロッ
ピーディスクケース。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ Ｎｉ含有率が２０〜５０％のＦｅ−Ｎｉ合金電解箔
を製造するに際し、８０〜１５０ｇ／ｌのＦｅ＾＋＾＋
イオンと２０〜１２０ｇ／ｌのＮｉ＾＋＾＋イオンとを
含有する水溶液から成る電解液を使用して電流密度を５
〜１００Ａ／ｄｍ＾２とし、９０〜１１０℃の温度範囲
でｐＨを３以下に調整しながら陰極ドラムとして表面粗
度Ｒａが０．３〜０．７μｍであるＴｉ、Ｔａ、Ｎｂ、
Ｔａ−Ｎｂ合金のいずれかを使用して陰極面にＦｅ−Ｎ
ｉ合金を析出せしめた後に該陰極面に析出したＦｅ−Ｎ
ｉ合金電解箔を剥離することを特徴とするＦｅ−Ｎｉ合
金電解箔の製造方法。 ２ ８０〜１５０ｇ／ｌのＦｅ＾＋＾＋イオンと２０〜
１２０ｇ／ｌのＮｉ＾＋＾＋イオンとを含有する水溶液
から成る電解液をＦｅＣｌ＿２・ｎＨ＿２ＯとＮｉＣｌ
＿２・６Ｈ＿２Ｏとを用いて調製する特許請求の範囲第
１項に記載のＦｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法。 ３ 電解液のｐＨをＨＣｌを添加することによつて３以
下に調整する特許請求の範囲第１項又は第２項に記載の
Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26187687A JPH01104792A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26187687A JPH01104792A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01104792A true JPH01104792A (ja) | 1989-04-21 |
Family
ID=17367988
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26187687A Pending JPH01104792A (ja) | 1987-10-19 | 1987-10-19 | Ｆｅ−Ｎｉ合金電解箔の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01104792A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503348B1 (en) | 1997-09-03 | 2003-01-07 | Ballard Power Systems Ag | Method of making a metal membrane foil made of a palladium alloy for hydrogen separation |
| JPWO2011001932A1 (ja) * | 2009-06-29 | 2012-12-13 | 日立金属株式会社 | アルミニウム箔の製造方法 |
| JPWO2021075253A1 (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | ||
| WO2022014668A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電解鉄箔 |
| WO2022014669A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電解鉄箔 |
-
1987
- 1987-10-19 JP JP26187687A patent/JPH01104792A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6503348B1 (en) | 1997-09-03 | 2003-01-07 | Ballard Power Systems Ag | Method of making a metal membrane foil made of a palladium alloy for hydrogen separation |
| JPWO2011001932A1 (ja) * | 2009-06-29 | 2012-12-13 | 日立金属株式会社 | アルミニウム箔の製造方法 |
| JPWO2021075253A1 (ja) * | 2019-10-16 | 2021-04-22 | ||
| JP2024100919A (ja) * | 2019-10-16 | 2024-07-26 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電解箔及び電池用集電体 |
| WO2022014668A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電解鉄箔 |
| WO2022014669A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | 東洋鋼鈑株式会社 | 電解鉄箔 |
| JPWO2022014669A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | ||
| JPWO2022014668A1 (ja) * | 2020-07-16 | 2022-01-20 | ||
| TWI869610B (zh) * | 2020-07-16 | 2025-01-11 | 日商東洋鋼鈑股份有限公司 | 電解鐵箔 |
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