JPH01105944A - 写真要素と画造形成可能な媒染組成物 - Google Patents

写真要素と画造形成可能な媒染組成物

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JPH01105944A
JPH01105944A JP63207204A JP20720488A JPH01105944A JP H01105944 A JPH01105944 A JP H01105944A JP 63207204 A JP63207204 A JP 63207204A JP 20720488 A JP20720488 A JP 20720488A JP H01105944 A JPH01105944 A JP H01105944A
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aromatic
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JP63207204A
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Robert A Snow
ロバート・アラン・スノー
Hugh G Mcguckin
ヒュー・ジェラルド・マクガッキン
Ignazio S Ponticello
イグナジオ・サルヴァトアー・ポンティセロ
Robert C Daly
ロバート・カーティス・デイリー
Laurel J Pace
ローレル・ジーン・ペース
Sandra K Fischer
サンドラ・クレイン・フィッシャー
Michael J Hanrahan
マイケル・ジョン・ハンラハン
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Original Assignee
Eastman Kodak Co
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    • G03F7/038Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 mへ五肛充i 本発明は露光と現像に応答して媒染画像を形成可能な写
真性組成物に関する。
良東囚皮肌 来夏の特許出願第18.9,081/1982号(19
82年10月29日出願)に基づく特許出願公開第79
246/1984号には、4−ビニル−N−メチルピリ
ニジニウム側鎖基を含むカラーフィルター要素を形成す
るレジスト組成物を開示している。しかし4感光性が低
下した、水溶液を形成できない組成物の生成を避けるた
めに、これらの側鎖基(ペンダント基)を含む反復単位
が1モルにつき10%未満に限定されることがみられる
サナダ(S anada)等のrCCDマイクロカラー
フィルター用の新規な遠紫外線染色可能なネガレジスト
」[スビイ(SPIE)631巻、アドバンセスイン 
レジスト テクノロジー アンド プロセシング(Ad
vances  in  Re5ist  Techn
ologyand  Processing)III(
1986)、187〜191頁]は電荷結合デバイス用
のフィルター要素の形成に用いるための、ビスアジド類
によって架橋される第4級アンモニウム塩を末端に持つ
アクリレート−グリシジルメタクリレート・コポリマー
を開示している。このアプローチの1つの難点は、架橋
に関して別の化合物であるビスアジドに依存しているこ
とである。反応物の割合が変化すると当然不均一な結果
を生ずることになる。他の基本的な難点は、架橋に非常
に短い波長の紫外線(以下、UVとして表す)を用いる
必要があることである。これは、半導体デバイスの製造
用として個別に開発された、最も一般的な画像形成露光
装置に使用できない。
B  <  ゛      工 UVまたは可視光線に露光させることによって画像を形
成しうる媒染ポリマーを提供することが本発明の目的で
ある。
・   ゛ るための この目的は、スペクトルの可視部及び近紫外部を輻射線
を吸収可能なトリブレット増悪剤から受容されるエネル
ギーに反応する光架橋性ポリマーしから成り、前記光架
橋性ポリマーが媒染部位と架橋部位の両方を形成するた
めに、次式:[式中、Arは芳香族結合基であり、 Rはメチレン基であり、 R−はそれぞれ独立に異っていても良い低級アルキル基
であり、 R2は2価の結合基であり、 Xは活性化ビニル成分を含む光架橋性基であり、Zは電
荷的平衡を与える対イオンである]で示される反復単位
から成る写真性ネガ型画像形成性媒染組成物によって解
決される。
本発明はスペクトルの可視部及び近紫外部を吸光可能な
トリブレット増感剤とこのトリブレット増感剤から受容
されるエネルギーに反応する、媒染部位と架橋部位の両
方を与える少なくとも1つの反復単位から成る光架橋性
ポリマーとから成る写真性ネガ型画像形成媒染組成物を
提供する。
本発明の組成物に用いる光架橋性ポリマーは、エチレン
系不飽和モノマーの付加重合と、それに続く媒染部位お
よび架橋部位を形成するためのペンダント基の修飾とに
よって形成される線状ポリマーである。光架橋性ポリマ
ーは式■によって示される型の媒染機能と架橋機能の両
方を果しうる少なくとも1つの反復単位を含む: R+ 式Iを満たす反復単位は、式■を満たす線状付加ポリマ
ーの反復単位のペンダント基を式■を満たす第3級アミ
ンとの反応による修正によって形成される: (II)   −(CI・−?11〉 Ar −CI R’ [式(、II 、I[[の各々において、Arは芳香族
結合基であり、 Rはメチレン基であり、 R1は各出現毎に独立的に低級アルキル基であり、R2
は2価結合基であり、 Xは活性化ビニル成分を含む光架橋性基であり、Z−は
電荷平衡対イオンである] 芳香族結合基は都合の良い、2価の芳香族基を用いるこ
とができる。芳香族結合基は炭素数6〜10のアリーレ
ン基であることが好ましい、典型的なアリーレン基はフ
ェニレン基とナフタレン基である。
Rはメチレン基である。メチレン基は不飽和メチレン基
(すなわち−CH2−基)または合成的に都合の良い置
換メチレン基でありうる。典型的なメチレン基の置換基
は塩素のような、ハロゲン原子または低級アルキレン基
である。「低級アルキル」なる用語は炭素数1〜3のア
ルキル基すなわちメチル、エチル、n−プロピル及びi
−プロピル基を示すものとして、この明細書を通して用
いる。
R1は各出現毎に低級アルキル基から独立的に選択する
R2は合成的に都合の良い2価結合基でありうる。R2
はアルキレン(例えばメチレン、エチレン、プロピレン
、ブチレン、ベンチレン、ヘキシレン、及びこれらの分
枝鎖異性体のような、炭素数1〜6のアルキレン);ア
リーレン(例えば、上記Arのいずれかの種類);アリ
ーレンアルキレン(例えば上記アルキレン成分とアリー
レン成分とから成る、炭素数7〜16の複合体);及び
−〇’(0)OR3−または−C(0)NR’−(R3
は上記の2価のアルキレン、アリーレン及びアリーレン
アルキレンのいずれかの形式をとりうる)から成る群か
ら選択することができる。
Xは活性化ビニル成分を含む光架橋性基である。
好ましい活性化ビニル成分は式■または■を満たすよう
な、活性化ビニルアリール基である:(■)     
−EJ!−(CH=CH) L−^rlまたは (V)         。
−(^r’) −(CH=C1l) 、 −C−E−R
’[式中、Ar’は芳香族成分であり、 Ar2は2価芳香族成分であり、 Eはオキシまたはイミノ成分であり、 輪は1または2であり、 11はOまたは1であり、 R4は末端炭化水素基である] 芳香族成分Ar’は都合の良い芳香族核の形式をとりう
る。芳香族核は式■のビニル基に直接結合した5員また
は6員の芳香族環の形式をとりうる。
芳香族環は複素環または炭素環のいずれでも良い。
例えば2−チエニル、3−チエニル、2−フリル、3−
フリル及びそれらの融合炭素環同族体のような、1個ま
たは2個のカルコガン・ヘテロ原子を含む芳香族複素環
置換基が特に好ましい。4級化反応における競合を避け
るために、複素芳香族環は窒素原子を含まないことが好
ましい。この代りに、芳香族核は例えばフェニルまたは
ナフチル核のような、芳香族炭素環核の形式をとること
ができる。芳香族核は置換または非置換のいずれでも良
い。例えば、炭素数1〜6の1個以上のアルキル基が考
えられる。−最に、芳香族成分が炭素数約15未満、特
に総炭素数約12未満であることが好ましい。
Ar2は都合の良い2価芳香族成分でありうる。
例えば、ASは1価ではなく2価であるという点だけで
上記芳香族成分Ar’とは異なる。特に好ましい形式の
Ar2はArに関して上記種類の2価アリーレン成分で
ある。
各場合に、A r ’とAr2の芳香族環炭素原子と弐
■とVのビニル基との間は、それぞれ直接結合されてい
る。
R2がアリーレン基を末端に有する場合に、Ar2がさ
らに存在する式Iの4級化窒素と式■のビニル基とを分
離する、2個の連続したアリーレン基が生ずることは明
らかである。従って、この場合には、nが0であること
が好ましい。
オキシカルボニルまたはイミノカルボニル成分−E−C
o−は、弐■及びVのビニル基の反対端部に付着した芳
香族環と相互作用して適当に活性化したビニル基を形成
する電子求引基である。イミノ窒素原子の第3結合は水
素または例えば炭素数1〜6のアルキル基、特に低級ア
ルキル基または炭素数6〜10の芳香族基(例えば、フ
ェニルまたはナフチル)によって満たされる。オキシ成
分とイミノ成分はスペクトルの可視部と近紫外部での感
光を促進させる。
R4は都合の良い末端炭化水素基でありうる。
R4は好ましくは炭素数6〜10のアリール基(例えば
フェニルまたはナフチル)または好ましくは炭素数1〜
6のアルキル基、特に低級アルキル基でありうる。
弐■とVの活性化ビニル芳香族成分はこれらの基がとり
うる種々な多くの形式の中の幾つかの簡単な形式を単に
例示するにすぎないことは明らかである。複数のビニル
基、入念に作られた結合基または他のへテロ原子を含む
活性化ビニル芳香族成分の全てが可能であるが、必らず
しも必要ではなく、大ていの場合に媒染剤の合成または
媒染剤の大型化を妨げ、代償の利益を提供することがな
い。
式■の第3級アミン: をシナミン酸または同様な酸でエステル化して、式■の
第3級アミン; [式中、A r 、va 、 R’及びR2は前記で定
義した通りであり、 R5は水素または好ましくは、R4に関連して上述した
種類の末端炭化水素基であるコ を製造することによって、特に好ましいペンダント媒染
・架橋基を形成する。
前記の活性化ビニル成分が好ましが、これらのtnm形
の他の変化も可能である0例えば、活性化ビニル成分は
、式■: [式中、Ar’は独立的に、Ar’に関連して上述した
ように選択する、Eは前述したように選択する]によっ
て示される形をとりうる。
特に好ましい形では、式■の活性化ビニル成分はオキシ
カルボニル−3−(1,2−ジアリールプロペン)の形
をとる。
Z−は都合の良い、電荷平衡対イオンでありうる。式■
と■によって示した合成系路を式■の反復単位の製造で
とる場合には、Z−は最初は塩化物陰イオンである。し
かし、塩化物陰イオンは例えば臭化物、ヨウ化物陰イオ
ン、p−hルエンスルホネート、トリフルオロボレート
等の他の都合の良い陰イオンと容易に置換される。
式Iの反復単位は媒染と架橋の両性能を与えるので、完
全な画像形成可能な媒染ポリマーを形成しうる0式■の
反復単位は単一ポリマー分子内に上記の種々な形の組合
せをとりうる9式■の反復単位の全てを一度に形成する
ことが一般に、合成的に便利である。弐■を満たす第3
級アミンの混合物を都合良く用いて、形成される反復単
位の構造を変えることができる0本発明の特に好ましい
態様では、画像形成可能な媒染剤は式■を満たす単一ポ
リマー反復単位を式■を満たす単一第3級アミンと反応
させることによって形成される。
式Iを満たす反復単位から成る画像形成可能な媒染剤全
体の形成も考えられるが、これは必要ではない0画像形
成可能な媒染剤分子の小部分のみが式■の反復単位から
成る場合にも、非露光分子の現像による選択的除去を可
能にする充分な光架橋が達成される0画像形成可能な媒
染剤を構成する反復単位のモル基準で少なくとも20%
が式Iを満たすことが好ましい、さらに好ましい画像形
成可能な媒染剤では、反復単位の約30〜60%(モル
基準)が式Iを満たす。
画像形成可能な媒染剤の反復単位の全てが架橋部位を形
成するとは限らないが、媒染性能を最大にするなめには
、各反復単位が媒染部位を形成することが好ましい。媒
染部位と架橋部位の両方を形成する式■の反復単位に加
えて、媒染しうるが架橋しない反復単位を含む画像形成
可能な媒染剤は、式■を満たす第3級アミンと式■を満
たす第3級アミンとをブレンドし、この混合物を式■の
反復単位を有するポリマーと反応させることによって好
都合に形成される: R6 [式中、R6は各出現毎に独立的に炭素数1〜6の炭化
水素基またはオキシ置換炭化水素基であるが、少なくと
も2つのR6は炭素数1〜3であるコ。
R6の炭化水素基は炭素数1〜6のシクロアルキルを含
むアルキル、またはアルケニル、炭素数6〜10のアリ
ール、または炭素数7〜16のアルカリールから選択す
るのが好ましい。
少なくとも1つのR6は画像形成可能な媒染剤の特徴を
1つ以上の点で強化するように選択することが好ましい
。R1がアルケニル基である場合には、補助的な架橋部
位を与えることができる。
例えば、R6は加熱誘導架橋の部位を与えることができ
る。特に好ましい態様では、R6はアリル基である。R
6がヒドロキシ基またはアルコキシ(C1〜C3)基の
ような置換基を含む場合には、保護被覆ポリマー層の接
着を促進することができる。
例えば、画像形成可能な媒染剤を用いたフィルター要素
を形成する場合に、媒染すべき異なる染料をそれぞれ吸
収した連続層を被覆することが考えられる。特に好まし
いオキシ置換アルキルはω−ヒドロキシアルキル−例え
ば、β−ヒドロキシエチル、γ−ヒドロキシプロピル、
β、γ−ヒドロキシプロピル等である。
式■の第3級アミンは式■の第3級アミンと競合して、
式Xを満たす反復単位を形成する:(X) [式中、A r 、 R、R’ 、 Z−は前記で定義
した通りである] 上述の説明から、本発明の画像形成可能な媒染剤が媒染
部位を与える、媒染剤の各反復単位によって容易に形成
可能であり、媒染部位対架橋部位の比が弐■の第3級ア
ミンと式■の第3級アミンとの比を単に選択するだけで
、任意に容易に制御可能であることは明らかである。
本発明は画像形成可能な媒染剤ポリマーの各反復単位内
に媒染部位を与えることができ、通常はこれが望ましい
が、本発明はこれに限定されるわけではない。式■のホ
モポリマーを選択する代りに、その反復単位の一部のみ
が式■を満たす他の通常のポリマーを用いる場合に、媒
染部位の数を任意に調整できることは明らかである。出
発ポリマーは、式■の反復単位の他に、通常のビニル付
加ポリマー反復単位のいずれかまたはこのような反復単
位の組合せを含みうる。例えば、アクリル酸とメタクリ
ル酸、エステル及びアミド反復単位;ビニルアルコール
;スチレン反復単位;及びアルキレン(例えばエチレン
とプロピレン)反復単位の全てが考えられる。一般に、
式Iまたは式Xを満たす反復単位が画像形成可能な媒染
剤のモル基準て少なくとも50%、最適には少なくとも
90%を占めることが好ましい。
本発明の画像形成可能な媒染剤は水素結合極性溶媒中に
溶解しうる線状ポリマーである。好ましいポリマーは水
溶液またはアルコール溶液中に分散可能なポリマーであ
る。一般の現像剤によって完全に除去されるためには、
約20,000〜200 、000、好ましくは約40
,000〜150,000の範囲内のポリマー分子量(
平均分子N)が良好に適している。ポリマー分子量は、
他に指示しないかぎり、「近代的サイズ排除クロマトグ
ラフィ法(Modern  S 1zeExclusi
on  CI+romatograpby)j、ダブリ
ュ、ダブリュ、ヤウ(W、W、Yau)、ジエイ、ジェ
イ。
キルクランド(J 、 J 、 Kerkland)と
デイ、デイ。
ブライ(D、D、Bly)著、ウィリーインターサイエ
ンス(Wiley  I nterscience)、
ジエイ、ウィリーアンド サンズ(J 、 Wiley
  &  5ons)1979に詳細に述べられている
サイズ排除クロマトグラフィ法によって測定されると理
解される。
この分子量をポリスチレン標準に関連づける。
画像形成可能な媒染ポリマーの活性化ビニル基は短波長
の紫外線に直接反応しうるが、スペクトルの可視部及び
近紫外部への露光によって光架橋を行いうるためには、
増悪剤を媒染組成物に混入する。ハックス  ミ ル 
−  シ す1イロウ ヒル(McGraw  H1l
l) 1969に存在する定義によると、「近紫外部(
Near  UV)Jなる用語は紫外スペクトルの29
0〜390nmの範囲の部分を意味する0本発明の好ま
しい媒染組成物は約300〜450nmのスペクトル領
域の輻射線に反応する。
媒染ポリマーへの露光エネルギーの吸収と転移に基づく
タイプの都合良く可溶化しうる通常の増感剤を用いるこ
とができる。このような増感剤は最も一最的にはトリプ
レット増感剤であり、電子移動タイプの増悪剤とは区別
される。露光した光子は増感剤によって捕捉される。各
捕捉光子は占有分子軌道からの電子のエネルギーレベル
(基底状態)を、1重項状態と呼ばれる励起状態に高め
る。1重項励起状態の持続期間は典型的に数ナノ秒未満
に限定される。1重項励起状態からその元の基底状態に
直接戻る励起電子は捕捉光子エネルギーを放散させる。
この代りに、成る場合には、1重項励起状態の感光剤が
電子スピン反転を介して寿命が典型的にマイクロ秒から
ミリ秒の範囲である3重項状態と呼ばれる、他の励起状
態への中間系横断を行う、この非常に長い励起状態期間
は被架橋媒染ポリマーへのエネルギー転移の可能性を高
める。
ここで用いるかぎり、「トリプレット増感剤」なる用語
はそのIM項状君から3重項状態への約20%より多い
中間系横断効率を示す通常のエネルギー転移増感剤を意
味する。好ましいトリプレット増感剤は50%より多い
中間系横断効率を示す増感剤である。
特に好ましい種類のトリプレット増感剤には、3−置換
クマリンがある。このような増感剤はスペヒト(Spe
cht)等の米国特許第4.147゜552号に開示さ
れている。スベヒト、マルチツク(Martic)とフ
アツト(F arid)の[トリプレット増感剤の新し
い種類(A New  C1ass  ofTripl
et  5ensitizers)J38巻、1203
〜1211頁、1982、は92%までの範囲の中間系
横断効率を示すアミノ置換ケトクマリンを開示している
特に好ましい3−置換クマリン増感剤は弐訂を満たす増
感剤である: U式中、R7は水素、低級アルキル、または炭素数6〜
10のアリールであり; Qは−CNまたは−XIRIであり; R6は炭素数1〜12のアルキル、炭素数2〜12のア
ルケニル、炭素数5〜12の炭素環式基、または5〜1
5個の植成素原子とへテロ原子とを含む複素環式基であ
り; XIはカルボニル、スルホニル、スルフィニル、または
アリーレンジカルボニルであり;zlは芳香族炭素環式
核を完成させる原子を表すコ特に好ましい形の3=置換
クマリン増感剤では、XIがカルボニルまたはスルホニ
ルであり、Raは弐℃を満たすアジニウム環(例えばピ
リジニラ11またはキノリニウム)から成る: (XI)R・ [式中、R7とZlは上記形のいずれかをとり、対称形
または非対称形のビスクマリンを完成させるコ特に好ま
しい形のトリプレット増悪剤には、ヴアン アラン(V
an  A11an)等の米国特許第4.062,68
6号及び第4,116,466号に開示されている増悪
剤がある。これらの好ましい増感剤は2−(ヘテロシク
ロカルボニルメチレン)チアゾリンとセレナゾリンなら
びに2−[ジ(ヘテロシクリルカルボニル)メチレン]
チアゾリンとセレナゾリンである。
特に好ましいチアゾリンとセレナゾリンのトリプレット
増感剤は弐■によって示される増感剤である: [式中、R9は低級アルキルであり; R”は水素または−C(0)R”であり;R1は例えば
フリルまたはチエニルのような、複素環式基であり; Z2は芳香族炭素環核を完成させる原子を表す]。
トリプレット増感剤は被増感ポリマーの重量を基準にし
て約0.1〜100重量%、好ましくは5〜25重景%
の濃度で画像形成媒染ポリマーに混合する。
本発明による画像形成可能な媒染組成物の形成に、媒染
ポリマーと増感剤以外の他の成分は不必要である。
本発明による写真性要素の形成には、支持体への媒染組
成物の単一コーチングのみが必要である。
支持体は通常の写真性要素支持体であり、例えば1  
    ”””イス ロー −(Researchp」
互clo互但7176巻、1979年12月号。
17643項、セクションX■に開示されている写真用
支持体の全てを用いることができる0分離したカラーフ
ィルターアレイを形成する場合には、写真フィルム支持
体のような透明な支持体を用いることができる。他の場
合には、形成すべきカラーフィルターアレイに、このフ
ィルターアレイを通して伝達される光線を受容するため
のデバイスを組合せることができる。このような場合に
は、半導体デバイスまたは分離中間層のような受容要素
が写真性要素の支持体を形成しうる。
本発明の好ましい態様では、画像形成前と後の両方の媒
染ポリマーは「無色」であり、25μmまでのコーチン
グ厚さにおいて可視スペクトル内での0.02密度単位
未満、好ましくは0,01密度単位未満の吸光を示すも
のとして量的に定義される。反復単位t、n、及びXの
いずれをも可視スペクトル内のカラーに寄与しうる発色
団を有していない。
さらに、コポリマーの製造に用いられる、上記のポリマ
ーを含むビニル付加ポリマーの一般反復単位も同様に発
色団を有していない。
増感剤がスペクトルの近紫外部内の光線を吸光する程度
では、増感剤は着色される必要はない。
無色増感剤を用いる場合には、これが画像形成した媒染
剤内に留まるかまたは除去されるかは問題ではない。
可視スペクトル内で吸光する増感剤は媒染組成物に必然
的に色を与える。幸いにも、非露光部分の媒染剤を除去
する同じ現像、洗浄方法が露光部分から上記の好ましい
増感剤を効果的に除去する。
通常の現像、洗浄時に除去されない増感剤を見い出すな
らば、増感剤の考えられる低濃度が多くの場合に画像形
成媒染組成物中の好ましくない保有カラーを最少にする
ためにそれ自体で充分であることが認められる。
本発明の媒染組成物には、通常の媒染可能な陰イオン染
料を用いることができる。マクグキン(M cG uc
kin)とローヘン(Cohen)の米国特許第4.2
20,700号に開示されている媒染可能な染料が説明
のために挙げられる。さらに、陰イオン染料の物理的性
質に似た物理的性質と有する多様な物質のいずれも本発
明の媒染組成物によって、有利に固定化することができ
る。例えば、UV吸収剤、写真用結合剤等は本発明の使
用によって全て有効に媒染される。媒染可能な染料に関
する参考文献の全てが他の媒染可能な物質にも該当する
ものとして、理解すべきである。
ある種の用途では、染料が画像形成媒染剤層に入るのを
阻止することが望ましい。例えば、平坦化層の表面にフ
ィルター要素を形成することから生ずるように、後に接
触染料になる平坦化層の形成に画像形成可能な媒染剤を
用いる場合に、このことが生ずる0画像形成な媒染剤を
200℃の温度に60秒間加熱することによって、画像
形成媒染剤層への染料侵入を阻止することができる。他
の形式の媒染剤層へのエネルギー導入も同様な結果を生
じうる。
本発明の詳細な説明は簡単な、好ましい実施態様に関す
るものであるが、本発明が当業者に容易に明らかな、多
くの方法で変更可能であることは理解される。例えば、
媒染組成物は通常のフォトレジスト−媒染ブレンドの代
替物であると述べられているが、上記媒染組成物と通常
のフォトレジスト、媒染剤、またはフォトレジスト−媒
染剤との組合せが可能であることは理解されよう、さら
に、例えば可溶性結合剤等のような、通常のネガ型フォ
トレジストの一般的な補助成分を本発明の媒染組成物と
競合的に用いることもできるが、これらの使用は本貫的
ではない。
実施例 本発明は次の特定の実施例を参照することによってさら
に充分に理解される。
0℃に冷却した塩化メチレン100mji中の2−N、
N−ジメチルアミンエタノール9.0g(0,10モル
)の機械的に撹拌した溶液に、アルゴン下で塩化メチレ
ン100m1中の新たに蒸留した塩化シナモイル16.
7g(0,10T1+1>を滴加した。反応混合物を室
温において1晩撹拌した。溶媒を蒸発させ、固体残渣を
水100n+Z中に溶解した。この溶液を1当量のIN
水酸化ナトリウム溶液で処理し、遊離アミンをエーテル
3X150+alずつで抽出した。エーテル抽出物を一
緒にして、水で洗浄し、次に飽和塩化ナトリウム溶液で
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、濾過し、溶媒を
蒸発させた。残留物をi1 3インチヴエグロイクス(Vegreux)  カラム
を通して180℃/ 1.5n+mHgにおいて蒸留し
、次の性質を示す目的物質19.4g(88,5$)を
得た:質量スペクトル、m/e  M” =219; 
 ’Hnear(δ、CD CI2.32(s、611
.N−C11,)、2.14(t、2H,CIl□−N
) 、4.31(t、211.CH2−0) 、6.4
5(d、ill、J:1611z 、ビニル:Ctl−
C(−0)) 、7.20(d 、 IH、J:161
1z 、ビニル=C1]−アリール)、7.36(m、
311.芳香族)及び7.511)I)…(陽、2H1
芳香族);  ”Cnmr(δ、CD C/、>166
.3(C=O)、144.3(ビニル=CH−アリール
(133,9(芳香族C−1)、129.7(芳香族C
−4) 、128.4及び127.8(芳香族C−2,
Cl3及びC−3,C−5) 、117.6(ビニル=
Cll=C0) 、61.7(N−C)I2)。
57.4(N−CI+□)、及び4s、zpp輪(N−
CHj)。
分析値 C+ y H+ t N O2としての計算値: C,
71,2,11,7,8,N、6.4実測値: C,7
1,4,H,7,8,N、6.2この物質を製造例1で
用いた方法と同じ方法で製造して、次の性質を示す油を
88.3%収量で得た: 沸点:142℃70.1n+*HFI;質量スペクトル
、va/eM” =233;’Hn請r(δ、 CD 
Cj!*)7.63(d、IH,J”161(z。
vinyl:cHアリール)、7.46(m、2H,芳
香族)、7.32(m。
3H,芳香族)、6.41(d、li、J:16Hz、
ビニ/I、=CH−C(=0)) 。
4.35 (t 、2H、Cl42−0) 、 2.2
4(t 、2H、CH2−N) 、2.20(S 、6
H。
C11,−N)、及び1.90ppm(m、2H,Cl
l□−CIl□−C112)、  IりCnIIr(δ
、CD CZ、)166.8(C=0) 、144.6
(=CII−アリール)、134.4(芳香族C−1)
 、130.2(芳香族C−2) 、128.8及び1
28.0(芳香族C−2,C−6,C−3,C−5)、
118.1(ビニル=CII−Co) 、62.8(C
11□−〇)、56.1(CIl□−N) 、45.3
(Ctl3−N)、及び27.0pp−(C−CH2−
C) 。
分析値 CI 4 Hlt N O□としての 計算値:  C,72,1,)1,8.2. N、6.
0実測値:  C,72,0,)1,8.2. N、5
.8この物質を製造例1に用いた方法と同じ方法で製造
して、次の性質を示す油を91.2%収量で得た: 沸点:140℃10.1mm)IgH’Hnmr(δ、
CDCl3>7.76(d、IH,J:1611z、ア
クリレートビニル=CH−チエニル)、7.34及び7
.23(a’sの対、211.チエニル11−3及びI
+−5) 、7.04(鱗、ill、チェニルト4)、
6.26(d、l■、J=16Hz、アクリレ−)−=
CH−C=0> 、4.27(L 、21(、CHj2
−0) 。
2.13(t、2H,C11□−N)及び2.30pp
+*(s、611.C1l3−N) ;”Cnear(
δ、CD CI、>166.3(C=0)、139.2
(チエニルC−2) 、136.9(ビニル:C1(−
チエニル)、130.5(チェニルC−5) 、128
.1及び127.7(チエニルC−3及びC−4) 。
116.7(ビニル−C−C−C=O) 、61.8(
C)12−0) 、57.6(CIl□−N) 、57
.6(CIl□−N)、及び45.4pp鴫(C)I、
−N)。
分析値 C+ + H+ s N Oz Sとしての計算値、 
 C,58,6,H,6,2,N、14.2実測値: 
 C,58,4,H,6,9,N、14.5この物質を
製造例1に用いた方法と同じ方法で製造し、次の性質の
油を88%収量で得た:沸点:128℃10.25nu
+F1g;質量スペクトルm/eM”=209; 富1
1 nmr(δ、CDC1,)7.46(d、III、
フラニルIt−5>、7.41(d、1■、J:161
(z、ビニル:CH−フラニル)。
6.60(d、IH,フラニルト3) 、6.45(m
、IH,フラニル1l−4) 、6.35(d、III
、J:16Hz、ビニル=CトC=0) 、4.28(
t、2H,C11□−〇) 、2.64(t、211.
C1l2−N) 、及び2.33ppm(s、6)1.
CH3−N);  ’コCnnr(δ 、CD CZj
)166.3(C=0) 、150.4(フラニルC−
2) 、144.3(フラニルC−5゜130.7ビニ
ル=(1トフラニル)、115.3及び114.2(フ
ラニルC−3及びビニル=CH−C=0)、111.8
(フラニルC−4) 、61.8(C112−0) 、
57.4(CII2−N) 、及び45.3ppm(C
H,−N) 。
分析値 C+ + H+ s N Osとしての計算値:  C
,63,1,H,7,2,N、6.7実測値:  C,
63,2,H,7,2,N、6.1この物質は製造例1
で用いた方法と同じ方法で製造し、次の性質の油を86
.8%収量で得た:沸点:120℃10.15mmHg
;質量スペクトルm/eM”=223; ’Hnmr(
δ、CD (1り) 7.48(d、IH,フラニルH
−5) 、7.42(d、1)1.J=16Hz、ビニ
ル−CH−フラニル)。
6.59(d、ill、フラニルIf−3) 、6.4
3(m、IH,フラニル]1−4)、6.28(d、I
H,J=16Hz、ビニル=CH−C=O) 、4.2
2(t、2H,CH2−0)、2.36(t、211.
CH2−N)、2.22(s、tH。
CH,−N)、及び1.84ppm(輪、211.C−
C1l2−C)、   l”Cnmr(δ、CD C1
,)166.4(C=0) 、150.5(フラニルC
−2) 、144.3(フラニルC−5) 、130.
6(ビニル=CH−フラニル)、115.5(ビニル=
CトC=O) 、114.3(フラニルC−3>、11
1.9(フラニルC−4) 、62.4(CH2−0)
 、55.8(CH2−N)、45.1(CI、−N)
及び26.7pp饋(C−CH2−C) −分析値 C1□H1?N○3としての 計算値:  C,64,8,H,7,7,N、6.3実
測値:  C,64,5,H,7,4,N、5.5塩化
メチレン200m&’中3−N、N−ジメチルプロピル
アミン62g(0,60モル)の機械的に撹拌した、水
冷溶液に塩化メチレン200m1中の塩化シナモイル(
100g、0.60モル)の溶液を1時間にわたって加
えた0反応混合物を室温において一晩撹拌させ、次に水
浴中で冷却し、やや過剰なlNNaOH溶液で処理した
0次に塩化メチレン溶液を水で洗浄し、飽和塩化ナトリ
ウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、溶媒
を蒸発させて、油を得、これを205℃/1.On+m
Hgで蒸留して、68.9%収量で目的生成物を得た。
この物質は次の性質を示した: 質量スペクトル、ra/ e  M” =232; ’
11 nmr(δ、 CD C1z)7.57(d、I
H,J:16Hz 、ビニル=CII−aryl)、7
.48(−,2H,芳香族)、7.33(m、3L芳香
族)。
7.21(s、IH,D□0と交換、−C(=0)−N
)l−) 、6.34(d、LH,J=16Hz 、ビ
ニル=CH−C0) 、3.48(+s、2H,−CH
z−Ntl−C・0) 。
2.40(t、2H,CH2−N) 、2.24(s、
6H,CH=−N) 、及び1.71ppm(m、28
.C−CH2−C); 13Cns+r(δ、CDC1
,>165.8(C=0) 、140.0(ビニル=C
H−アリール)。
134.9(芳香族C−1) 、129.3(芳香族C
−4) 、128.6及び127.5(芳香族C−2,
C−6及びC−3,C−5) 、121.4(ビニル=
 Cl1−C=0) 、58.5(CH,−N) 、4
5.3 (CFl、 −N) 、39.4 (CH2−
NH−C=0) 、及び26.1ppm(C−CH,−
C) 。
分析値 CI 48 z o N Os Oとしての計算値: 
 C,72,4,Fl、8.7. N、12.1実測値
、  C,72,1,■、8.7. N、12.1製鎖
f1 2.2“−アゾビス(2−メチルプロピオニトリル)5
.13g(0,03125モル)を含むトルエン954
g中の、メタ異性体/パラ異性体の60/40混合物と
しての、新たに蒸留したクロロメチルスチレン953.
6g(6,25モル)の機械的に撹拌した溶液を、窒素
噴出(ebul l 1tion)によって45分間脱
酸し、次に60℃で15分間加熱し、周囲温度に冷却し
、テトラヒドロフラン700n+1で希釈した。ポリマ
ーをメタノール181中に沈殿させ、濾過によって、新
たなメタノールで洗浄し、ブフナーロート中でそれを通
して空気を吸引することにより24時間乾燥させた。
収量: 白色粉末601g(63%)。ミクロスチロゲ
ル(+1cro  styrogel) 10 ’〜1
0 ’多孔質カラムを用いた、テトラヒドロフラン中で
のゲル透過クロマトグラフィは2.79の拡散度;Mn
= 26 X10’;Mw=74X103;ポリスチレ
ンに関連づけた場合の輸z=143X10’を示した。
分析値 C,89C1としての 計算値: C,70,8,H,5,9,N、23.2実
測値: C,71,0,H,6,0; N、23.31
00mi’ハイポバイアル中で、ジメチルホルムアミド
(DMF)35ml中の製造例7からのポリ(クロロメ
チルスチレン)11.49g(0,0753当量)の溶
液をDMF10mj!中の製造例1からの3−N、N−
ジメチルアミノプロピルシナメート9.91g(0,0
452当量)の溶液で処理した。反応混合物にアルゴン
を5分間噴出させ、次にバイアルにシリコーンゴム栓と
アルミニウム・クリンプキャップとで栓をしシールして
、このバイアルを60℃の恒温浴に入れ、軸に対して3
0°の角度で100分間回転させた0次にバイアルを水
浴中で周囲温度に冷却し、開放し、反応混合物をメタノ
ール181中の3−N、N−ジメチルアミンプロパツー
ル3.48g(0,0336当Jl)の溶液で処理した
。バイアルに再び栓をしシールして、このバイアルを試
薬の均一な分布を保証するために振とうし、再び60℃
において2時間回転させた0次にバイアルを周囲温度に
冷却し、開放し、反応混合物をメタノールで250m1
に希釈した。ポリマーを酢酸エチル31中に沈殿させ、
炉別し、酢酸エチル1,1を加えてすり潰し、濾過し、
酢酸エチルで洗浄し、ブフナーロート中でそれを通して
空気を吸引することによって24時間乾燥させた。
収量: 26g 分析値: C,、H,2□C1,N50.としての計算値: C,
89,4,H,フ、6. N、4.3. C1,10,
9実測値: C,69,1,H,7,5,N、4.2.
 CF、11.1本発明の一部である、幾つかの付加的
な画像形成可能な媒染剤を第1表にリストし、対応する
燃焼分析結果を第■表にリストする。ポリマーは製造例
8に述べた方法によって、使用アミンのそれぞれの分子
量とモル比の変化を可能にするために適当に調整して製
造した。本発明の目的と利益を満たす画像形成可能な媒
染剤の組成物はこれらの表に含まれる組成物に限定され
るわけではない。
11民 加liユ1LiLu 1Luk 16040   ^  8  M 8882  100
 0   ^  MM−−−37030^  MMMM
M 46040   ^  MMGMM 54060   ^  HMGMN 66040   ^  MMIMM 75050   ^  M  M  II  M  M
84060   ^  HM  II  M  M9 
 3070   ^  MMHMM102080   
^  Mt4HMM11零  6040   ^  M
MHMM126040   ^  MMLMM 13  5050   A   8148814145
050   ^  MMKMM 156040    ^   MMJJJ16   1
00  0    CM   M   −−−1790
10CMMMMM 18    8020    C8888台19   
 7030    CMMMMM20   6040 
   C8888M21    5050    CM
MIII22    9010    C880882
38020C88088 247030C88088 255040CM8088 26    9010    CMMKMM27   
 8020    CMMKMM28   7030 
   CMMKMM29    6040    CM
MKMM30    5050    CMMKMM3
1    6040    C881NN32    
6040    B    MMMM   台33  
  6040    B    88  1NN34 
  6040    B    88118835  
  6040    B    88118   M3
6    6040    B    8808837
   6040    B    MMNM   台3
8    6040    D    MMKHM39
 6040  F  8888M 40    60 40    E   、M   N
   −−−41、bf  41 27    八  
 88148842、cd5030    CM   
M   K   M   M43、ce4030   
 CM   M   K   M   M44、gh 
 40 30   ^  MHHMM45   604
0    P    MMHMM46    6040
    F    M14HMM木製造例8 LL瓦へ11 a置換基:^−C11□CH20−Co−C)I=CH
−C,1I5B −C11□CH2Cll2O−CO−
CH=CH−C,II。
C−CH2Cl、Cl2NH−CO−CIl=CI−C
,H2C−C1lzC)I:CL H−CH2CH2CH2011 1−CH2CH20H J −C)I2CH。
に−C6HI + t、 −co2co(Oil)C1120)IM −C
11゜ N −CIl□CsH’t b、残りはT=−[C11,−C(CH,)] x−C
OOC)I2C1l□0OCCH。
によるターポリマーである。
によるターポリマーである。
d、 ”x”=20u+ol $ e、 xTl:3011101 I 1 ”x”= 32mol % g、残りは T=−[CH2Cl1コ。−C,)14−CH2N[C
H2Cl1=C■2](CH,)3”  、  C1e によるターポリマーである。
h、 ”x”=25mol Z 第」L宍− g−tLJ!L± 工 」ニ エN   CHN   
CIJ、、a  70.1 7.5 3.5 11.5
 70.1 7.6 4.6 11.82   71.
1 7.0 3.8  9.5 70.6 6.9 3
.5  7.33   −、−  −、−  −、− 
 −、−  −、−   −、−  −、−  −、−
4   71.0 7.5 4.4  11.1  7
1.0 7.4  4.2  11.25   70.
2 7.8 4.6 12.2 70.2 7.8 3
.5 12.06   69.1 7.4 4.4 1
1.1 69.3 7.9 4.5 1+、47   
68.9 7.7 4.5 11.3 66.4 7.
7 4.4 11.18   68.4 7.9 4.
6 11.7  B4.2 7.9 4.3 11.5
9   87.8 8.0 4.8 12.2 66.
4 7.6 4.6 11.810   87.2 8
.2 5.0 12.7 64.3 7.7 4.7 
12.311   69.4 7.6 4.3 10.
9 69.1 7.6 4.2 11.112   6
8.0 7.4 4.2 10.7 67.3 7.6
 4.1 11.113   70.0 7.6 4.
8 12.1 69.2 7.8 4.9 12.51
4   71.9 8.0 4.3 10.9 68.
0 7.4 3.7  9.715   71.0 7
.8 4.3 10.9 70.9 7.7 4.0 
10.816   71.8 7.6 7.3  9.
2 69.4 7.7 6.9  9.017   7
1.6 7.7  フ、2  9.6 69.0 7.
5 6.9  8.318   71.3 7.7 7
.2 10.1 66.2 7.2  B、5  8.
319   71.1 7.8 7.2 10.6 6
8.5 7.8 6.7  9.520   70.8
 7.9 7.1  11.2 67.9 7.5 6
.5  8.921   66.5 7.8 8.1 
10.3 67.0 7.7 5.6 10.022 
  71.5 7.6 7.0  9.3  B7.4
 7.2 6.5  8.023   71.3 7.
6 6.7  9.4 69.6 7.5 6.5  
8.224   71.0 7.6 6.4  9.5
 69.6 7.4 6.1  9.125   70
.7 7.6 6.1  9.6 69.4 7.4 
5.9  8.626   71.9 7.7 7.1
  9.5 64.3 7.5 6.1  8.327
   71.9 7.9 6.9  9.7 71.0
 7.7 6.8  7.328  72.0 8.0
 6.7 10.0 69.3 7.8 6.4 8.
329   72.2 8.2 6.5 10.3 7
1.2 7.9 6.4  8.430   72.3
 8.3 6.3 10.7 68.6 7.8 5.
7 10.331   69.6 7.8 6.8 1
0.8 68.8 8.0 6.6 11.432  
 70.6 7.6 4.4 11.2 70.6 8
.0 4.2 10.933   69.5 7.6 
4.3 10.8 70.2 8.0 4.1 10.
634    B9.8 7.7 4.2 10.6 
66.2 7.7 3.8 10.435   −、−
  −、− −、− −、  −、−  −、− −0
− −、−36   70.6 7.4 3.8  9
.6 70.6 7.4 3.6  9.437   
72.8 7.4 4.0 10.2 71.7 7.
3 3.9  9.938   −、−  −、− −
、− −、−  −、−  −、− −0− −、−3
9   −、−  −、− −、− −、−  −、−
  −0− −1− −、−40   −、−  −、
− −、− −、−  −、−  −、− −、− −
、−41   67.2 7.4 3.6  9.1 
 B3.4 7.8 3.8  9.842   69
.6 8.1 6.2 10.5 68.1 7.8 
6.0 10.143   68.7 8.2 6.0
 10.8 65.8 8.3 5.6 10.9a’
Hnsrにより62/38(±5)のモル比であると推
定、熱分解ガスクロマトグラフィにより61/39(±
3)のモル比であると推定。
1釦匠L ポリ−[N −(2−シナミドエチル)−N、N−ジメ
チル−N−(4−ビニルベンジル)アンモニウムクロリ
ドコ(化合物16 >3.o4gと増感剤5L(5,7
−ジーN−プロポキシ−3−(4−シアノベンゾイル)
クマリン)0.09.とを2−エトキシエタノール(2
0+*1)中に溶解することによって、媒染剤組成物を
製造した。生成した溶液を温度上昇させ、−晩回転させ
た。溶液を0.45μ−まで濾過した。
S i O2上への2000 rpmでの回転塗布によ
って1.11μ請フイルム(屈折率=1.60)が得ら
れた。この塗膜を対流炉中で100℃において30分間
焼成した。
遮へいした密着露光を、365,405及び436nm
輻射線においてほぼ等しいピーク強度を照射し、総積分
強度10〜15nW/em’である200W高圧Hgラ
ン1を用いて、オリエール、  rM (Or+el  )露光系中で実施した。7〜25秒の
露光が全て、水/アセトン(19:’1容量比)中で6
0秒間に容易に現像される像を生じた。2μ論ラインが
鮮明に、殆んど歪みなく良好に解像された。
週治f1 30ml褐色ビン中に、増感剤82.3−(7−メドキ
シー3−クマリノイル)−1−メチルピリジニウムp−
トルエンスルホネート116B、化合物17 2.55
5g、n−プロパツール5g及び蒸留水10+rを秤り
入れ、15.1%固体含有溶液を得た。
透明な溶液が得られるまで、ビンを回転させた。
次に溶液をミレックス(Millex・)HAフィルタ
ー膜(0,45μm)を通してシリンジを用いて濾過し
た。濾過した溶液を5esX5c+*石英プレートなら
びに8000人厚さの5i02表面層を有する5cm直
径シリコーンウェファに塗布した。ヘッドウェイ(He
admay” )スピンコーター上で1000 rpm
で塗膜を形成させ、対流炉中で100℃において15分
間塗膜を乾燥させた。塗膜厚さを測定しなところ、0.
83±0.09μ−であることが分った9石英上の塗膜
に関して得られた吸収曲線は1μ請厚さ塗膜に対して0
.3光学濃度単位の増感剤による吸光度を示した。
オリエール(Ori・+ T M >モデル8089)
オドレジスト照明ヘッドを用いて、解像ターゲット−段
階タブレットの組合せを通して塗膜を露光した。
塗膜を3:1モル比のn−プロパツール/n−ブタノー
ルを用いて22℃において30秒間現像した。
現像した塗膜を上述のように100℃において、15分
間乾燥させた。残存する像の厚さを各露光レベルにおい
て測定した。得られたデータを標準化厚ざ対露光のlo
gとしてプロットした。標準化厚さの50%(Dg” 
□24.OmJ 70m2)を得るために必要な露光値
を算出することによって、「感度j値をこれらのデータ
から算出した。すなわち、現像後に形成可能な媒染剤層
の最初の厚さの半分を残すなめに必要な露光値は24.
OmJ /am’であった。
3μmラインとスペースまでの良好な現像を示した像の
顕微鏡写真が得られた。
次の変更を除いて、調合例2と同様に実施した:化合物
11を化合物17の代りに用いた。塗布溶液の固体含量
は水中12.1%であり、塗膜は200、Orp+iで
形成した。得られた塗膜厚さは1.13±o、oosμ
Iであった。現像剤組成物は4:1モル比のn−プロパ
ツール/n−ブタノールから成り、1/2 DB   =7.9槽J/cJであった。
NN−ジメ ルーN−ビニルベンζ゛し タモニウムク
ロ1ド 90:10モル   ム 22の次の変更を除
いて、調合例2と同様に実施した:化合物17の代りに
、化合物22を用いた。
塗布溶液の固体含量は4:1容量比のN、N−ジメチル
ホルムアミド/水中で15.7%であった。塗膜厚さは
0.97±0.04μ論であり、現像剤は1:19モル
比のエタノール/n−プロパツールであった。
1/2 Dg   =19.5+*J/cm” 。
次の変更を除いて、調合例2と同様に実施した:化合物
5を化合物17の代りに用いた。塗布溶液固体含量は水
中12.9%であった。2000rpHでの塗布は1.
01±0.07μ−の厚さの塗膜を形成した。塗膜を4
=1モル比のn−ブタノール/n−べ1/2 ブタノールで現像した。D 11   :14.2mJ
 / c捲2゜次の変更を除いて、調合例2と同様に実
施した:化合物44を化合物17の代りに用いた。塗布
溶液固体含量は水中13.9%であった。200Orp
mでの塗布により1.20±0.10μ輪厚さの塗膜が
得られた。塗膜を2=3モル比のn−10パノール/1
/2 n−ブタノールで現像した。DH・14.2mJ/cv
2゜10ベ ニー −NN−2゛  ルーN−ビニルベ
ンジルアンモニウム ロ1ドーローN−3−次の変更を
除いて、調合例2と同様に実施した:化合物45を化合
物17の代りに用いた。塗布溶液固体含量は水中12,
9%であρた。2000rp−での塗布は0.94±0
.10μ翔厚さの塗膜を生じた。
塗膜をn−プロパノ−ノロこよって現像した。
1/2 Dg    =4.OmJ /am”。
え 次の変更を除いて、調合例2と同様に実施した:化合物
46を化合物17の代りに用いた。塗布溶液固体含量は
水中14.95であった。200Orpmでの塗布は1
.13±0.02μ蹟厚さの塗膜を生じた。
塗膜を1:・4モル比のエタノール/n−プロパノ−1
/2 11番こよって現像した。 D 11   :4.Om
J / e輸2゜次の変更を除いて、調合例2と同様に
処理した:化合物1を化合物17の代りに用いた。塗布
溶液の固体含量は水中13.7%であり、ポリマー全体
に基づいて5.5%の増悪剤を用いた。シリコーンへの
200 rp−での塗布は1.11±0.04μ−の厚
さの塗膜を生じた。塗膜を1:2モル比のメタノール/
イソブタノールによって現像した。D、1/2・14.
8a+J / am”、石英プレート上の塗膜の吸収ス
ペクトルは1μ論厚さ塗膜に対して増感剤に起因する光
学濃度0.3を示した。塗膜を75鶴J/cm2輻射線
に対して投光露光させ、30秒間現像した。残留フィル
ムの光学濃度の測定において増感剤による吸光は示され
なかった0画像形成可能な媒染剤層の吸光は360〜7
00nmにおいて0,01光学濃度単位未満であった。
次の変更を除いて、調合例9と同様に実施した:塗布溶
液中に増悪剤S2の代りに増感剤S3.3−(ベンゾ[
f]−フマロイル)−1−メチルピリジニウムp−トル
エンスルホネートをポリマー全体に基すいて増感剤8.
0重量%の濃度で用いて、現像前に1μ−厚さ塗膜に対
して0.3の光学濃度を1/2 得た。 Dg=20.9麟J / c論2゜次の変更を
除いて、調合例9と同様に実施した:塗布溶液中に増悪
剤S2の代りに、増感剤S4.3−(5,7−シメトキ
シー3−クマリノイル)−1−メチルピリジニウムI)
−トルエンスルホネートをポリマー全体に基づいて増感
剤6.2重量%1/2 の濃度で用いた。 D!+  ”19.1mJ/e膳2
゜次の変更を除いて調合例9と同様に実施した:増感剤
S2の代りに、増感剤S5.4−(5,7−シメトキシ
ー3−クマリノイル)−1−メチルピリジニウム9−)
ルエンスルホネートをポリマー全てに基づいて増感剤8
.0重量%の濃度で用いた、塗布溶液は水中12.8重
量%の総固体含量を有した。この溶液を塗布して、0.
8μ端厚さの塗膜を得た。パーキン−エルマー(Per
hin−Elmer)SRA200、センサー・ステッ
パー(Censor@5tepper)を用いて405
1−輻射線200mJ/am”に露光させた。1;2モ
ル比のメタノール/イソブタノールによる現像後に受容
できる像が得られた。
ま1匠L1 ム       こつい  の−′ 化合物1、水中固体含量10.9重量%とS2、ポリマ
ー全体に基すいて8.0重量%を含む溶液をガラスウェ
ファ−に5000rp−でスピン塗布し、キャノン(C
anon” )P LA 501 Fアライナ−を用い
て5秒間接触露光させ、1:2モル比のメタノール/イ
ンブタノールを用いて30秒間現像し、回転乾燥した0
次にウェファ−をpH10にMPR化した水中に0.2
重量%のマゼンタ染料MD−1を含む染浴中に入れ、4
分間放置し、水中で10秒間すすぎ洗いし、次に1:1
容量比のメタノール/水中4重量%の酢酸ニッケルの溶
液中に30秒間入れ、すすぎ洗いし、回転乾燥させた。
生成したマゼンタ染色層は1.8の光学濃度を有した。
次に染色層を水浴中に10分間入れ、乾燥させた。
染料損失の証拠はなく、光学濃度は1.8に留まった。
化合物8、水中固体含量12.9重量%とS2、ポリマ
ー全体に基づいて8.4重量%とを含む溶液をガラスウ
ェファ上に2500 rpmでスピン塗布し、キヤ/ン
PLA501Fアライナ−を用いて10秒間露光させ、
n−プロパツール中で30秒間現像し、回転乾燥させた
。!&初の塗膜厚さは0.82μmであり、ゲル化点露
光(ダブリュ・エッチ・ストックマイヤー(W 、 H
、S tock@eyer 、 ZLL工A、74X、
(J、CI+em、Ph s、)ユt1944.125
頁での定義による)は1.38秒であった0次にウェフ
ァを9H10に緩衝化した水中0.5重量%イエロー染
料YD−21を含む染浴中に入れ、4分間放置し、水中
で10秒間すすぎ洗いし、回転乾燥させた。生成した黄
色着色層は光学濃度2.2を得た。
第2ガラスウエフアを染浴に入れる前に200°Cにお
いて12分間焼成した。塗膜中に染料による、検知され
うる吸光はなかった。
塗布溶液は褐色ビンに入れて室温で保存しな。
63日間後に、溶液を再び塗布し、露光させ、上述のよ
うに現像した。塗膜厚さは0.85μ論であり、ゲル化
点露光は1.38秒であり、このことは塗布溶液の安定
性を確証した。
11へ肱1 本発明は先行技術を凌駕する多くの明白な利点を提供す
る。第一に、近紫外線または可視光線によってそれ自体
で直接画像形成可能な媒染ポリマーを提供することによ
って、画像形成機能を果すためにフォトレジストを混合
する必要性がない。
これは達成可能な媒染部位の密度を高め、その結果薄層
に特定密度の被媒染物質−すなわち染料の形成を可能に
させる0本発明の画像形成可能な媒染組成物は初期調合
時とエージング後の両方で好ましい低レベルの光学濃度
を示す(低染色)0本発明の画像形成可能な媒染組成物
は溶液中と塗布後の両方で高レベルの安定性を示すとい
う利点をさらに有する0本発明ま画像形成可能な媒染組
成物は電磁スペクトルの近紫外部と可視部の波長範囲内
での画像形成露光に反応する。この画像形成媒染組成物
は公知の水性及びアルコール性現像液を用いて処理する
ことができる。
この画像形成可能な媒染組成物は多様な用途に用いるの
に容易に適合させることができる。全重量に対する媒染
及び架橋部位の割合は独立的に変えることができる0本
発明の画像形成可能な媒染組成物は、固定材料に加えて
または固定染料に代りうるちのとして、他の特定の膨潤
陰イオン物質の固定に用いることができる1画像形成可
能な媒染剤は、例えばフォトレジストによって一般に果
される耐食機能及び平面化機能(planarizin
gfunction)のような、他の用途にも役立つ0
本発明の画像形成可能な媒染組成物の他の利点は、特に
低い不純物金属濃度で容易に調合可能であることであり
、このことは半導体デバイスの再現可能な製造にとって
特に望ましい、最後に、本発明の画像形成媒染組成物は
、吸収過程によってもはや浸透性でなくなるように、塗
布後に容易に変更することが可能である。
(外4名)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、スペクトルの可視部及び近紫外部の輻射線を吸収可
    能なトリプレット増感剤と、前記トリプレット増感剤か
    ら受容されるエネルギーに反応する光架橋性ポリマーと
    から成り、前記光架橋性ポリマーが媒染部位と架橋部位
    との両方を与えるために、次式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Arは芳香族結合基であり、 Rはメチレン基であり、 R^1はそれぞれ独立に異っていても良い低級アルキル
    基であり、 R^2は2価の結合基であり、 Xは活性化ビニル成分を含む光架橋性基であり、Zは電
    荷的に平衡を与える対イオンである]で示される反復単
    位から成る、写真的にネガ型画像形成性媒染組成物。
JP63207204A 1987-08-20 1988-08-20 写真要素と画造形成可能な媒染組成物 Pending JPH01105944A (ja)

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US07/087,485 US4808510A (en) 1987-08-20 1987-08-20 Photographic element and patternable mordant composition
US87485 1987-08-20

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