JPH0110927Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 (a) 考案の技術分野 本考案は集積回路用ウエハに絶縁膜形成処理を
行う減圧CVD装置に係り、特にウエハ自動給材
機構に関するものである。

(b) 技術の背景 集積回路に用いられるウエハは厳しい管理条件
のもとで、高度の電気的、化学的処理がなされ、
しかも微細加工であるため、特に高い信頼度が要
求される。このため高品質を維持するため各加工
装置の自動化は、半導体加工技術の重要な要件で
あり、各装置間を連結するインライン方式では特
にキヤリア構造、給材機構等は重要な課題であ
り、種々の工夫対策が従来よりなされている。

(c) 従来技術と問題点 インライン方式のウエハ加工装置では、絶縁被
膜形式には減圧CVD装置、パターン形成にはレ
ジスト膜塗布、露光転写、現像、エツチング装置
等が最適の条件下に配設され、各装置間をエアベ
ルト又はゴムベルト等で自動搬送されて所定の加
工処理が順次なされる。ウエハはキヤリアに装着
されたまゝ各装置に供給され加工処理がなされる
のが理想的であるが、装置によつてバツチ処理が
必要であり、その都度手作業が介在し、装置の効
率化及びウエハ特性の安定性を欠く憾がある。

第１図は従来の減圧CVD装置を示す図である。

１は反応管、２は排気口、３はガス導入口、４
はエンドキヤツプ、５は加熱ヒータ、６はウエ
ハ、７はウエハホールダーをそれぞれ示す。

ウエハ６を縦方向に数ミリ間隔で並べてウエハ
ーホルダー７に装着し、反応管１内に配設し、エ
ンドキヤツプ４により密閉される。

反応管１に排気口２を設けて減圧し、一方反応
ガスをガス導入口３より注入し、加熱ヒータ５に
より反応管１及びウエハ６を加熱することにより
ガス反応を誘起させ、ウエハ６の表面上に絶縁膜
通常シリコン膜を形成させる。

この方法は１バツチ当り多数枚のウエハー処理
が可能であるが、ウエハ６をウエハーホルダー７
への装着及び反応管１への出入れは、半自動又は
手操作によるのが一般的で、構造上完全な自動化
は困難とされていた。

(d) 考案の目的 本考案は上記の点に鑑み、減圧CVD装置に有
効なウエハ自動給材装置の提供を目的とする。

(e) 考案の構成 上記目的は、水平のウエハを縦に複数段保持す
る縦形ウエハホルダーを有し、該ウエハ上に絶縁
皮膜を形成する縦型減圧CVD装置のウエハ給材
機構であつて、水平のウエハを縦に複数段保持す
る縦形のカセツトキヤリアを前記ウエハホルダー
へのウエハの搬入側と、前記ウエハホルダーから
のウエハの搬出側に使用し、前記ウエハホルダー
を、回転機構と、前記搬入側、搬出側に配設した
カセツトキヤリアと共に上下に移動するリフト機
構とを備えた前記縦型減圧CVD装置の底部のエ
ンドキヤツプ上に設け、前記回転機構により、前
記ウエハホルダーの開口部を、搬入時には搬入側
に、搬出時には搬出側に向けると共に、前記リフ
ト機構により、前記ウエハホルダーのウエハ保持
段と前記搬入側、搬出側に配設したカセツトキヤ
リアとのウエハ保持段とが同期して上下移動する
ようにすることを特徴とするウエハ自動給材機構
によつて達成することができる。

(f) 考案の実施例 第２図は本考案の一実施例を示す減圧CVD装
置のウエハ自動給材機構を説明するための図であ
る。

第２図の減圧CVD装置は、図示のように反応
管１１を縦に配設する縦型であり、ウエハ１６は
水平にし縦に複数段がウエハホルダー１７に収容
されるようになつており、従つて、ウエハ１６の
搬入側のカセツトキヤリアＡ１９も処理後の搬出
側のカセツトキヤリアＢ２０もウエハ１６を水平
にし縦に複数段保持するようにしたものである。

カセツトキヤリアＡ１９に収容されたウエハ１
６の反応管のウエハホルダー１７への搬入は、カ
セツトキヤリアＡ１９に収容されたウエハ１６を
順次コンベア２１にのせて搬送し、反応管１１の
駆動回転可能なエンドキヤツプ１４上の略中央に
設けられ、カセツトキヤリアＡ１９側にその開口
を向けられたウエハホルダー１７に順次搬入して
行う。

所定数に達したウエハホルダー１７はエンドキ
ヤツプ１４と共に上下移動するリフト１８に直結
されており、リフト１８により反応管１１内に導
かれエンドキヤツプ１４により密閉される。

反応管１１内では排気口１２を介して減圧し、
ガス導入口１３より反応ガスを注入し、加熱ヒー
タ１５によつてガス反応を誘起させ、絶縁膜形成
がなされる。ウエハ１６の絶縁膜形成処理が完了
し、リフト１８の下降に伴い、エンドキヤツプ１
４及びウエハホルダー１７が下降し、エンドキヤ
ツプ１４と共にウエハホルダー１７も180゜回転さ
れ、ウエハホルダー１７の開口部は搬出側の他の
カセツトキヤリアＢ２０の方に向けられ、絶縁膜
形成を完了したウエハ１６をコンベア２１を介し
て他のカセツトキヤリアＢ２０に収容され他工程
へ搬出される。カセツトキヤリアＡ１９及びカセ
ツトキヤリアＢ２０の上下運動とウエハホルダー
１７の上下運動を同期させることによつて、ウエ
ハ１６の、カセツトキヤリアＡ１９からウエハホ
ルダー１７への搬入及びウエハホルダー１７から
カセツトキヤリアＢ２０への搬出を順次自動的に
行なうことが可能となる。

このように自動化することによりウエハ１６の
被膜特性は安定し、装置の稼動効率を向上させ
る。

ウエハホルダー１７は高温の雰囲気に耐えるた
め耐熱性部材例えば石英等で構成される。

(g) 考案の効果 以上詳細に説明したよえに本考案の自動給材機
構により、減圧CVD装置へのウエハ供給は完全
自動化されるため、該装置の稼動率は向上すると
ともに安定した被膜特性が得られる優れた効果が
ある。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の減圧CVD装置を示す図である。
第２図は本考案の一実施例である減圧CVD装置
のウエハ自動給材機構を説明するための図であ
る。図において １１は反応管、１２は排気口、１３はガス導入
口、１４はエンドキヤツプ、１５は加熱ヒータ、
１６はウエハ、１７はウエハホルダ、１８はリフ
ト、１９，２０はカセツトキヤリア、２１はコン
ベアを示す。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 水平のウエハを縦に複数段保持する縦形ウエハ
   ホルダーを有し、該ウエハ上に絶縁皮膜を形成す
   る縦型減圧CVD装置のウエハ給材機構であつて、 水平のウエハを縦に複数段保持する縦形のカセ
   ツトキヤリアを前記ウエハホルダーへのウエハの
   搬入側と、前記ウエハホルダーからのウエハの搬
   出側に使用し、 前記ウエハホルダーを、回転機構と、前記搬入
   側、搬出側に配設したカセツトキヤリアと共に上
   下に移動するリフト機構とを備えた前記縦型減圧
   CVD装置の底部のエンドキヤツプ上に設け、 前記回転機構により、前記ウエハホルダーの開
   口部を、搬入時には搬入側に、搬出時には搬出側
   に向けると共に、前記リフト機構により、前記ウ
   エハホルダーのウエハ保持段と前記搬入側、搬出
   側に配設したカセツトキヤリアとのウエハ保持段
   とが同期して上下移動するようにすることを特徴
   とするウエハ自動給材機構。