JPH01112521A - 磁気ディスク用基板 - Google Patents
磁気ディスク用基板Info
- Publication number
- JPH01112521A JPH01112521A JP26911287A JP26911287A JPH01112521A JP H01112521 A JPH01112521 A JP H01112521A JP 26911287 A JP26911287 A JP 26911287A JP 26911287 A JP26911287 A JP 26911287A JP H01112521 A JPH01112521 A JP H01112521A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic disk
- hardness
- magnetic
- surface roughness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高密度記録・再生用の磁気ディスクの基板と
して使用される磁気ディスク用基板に関する。
して使用される磁気ディスク用基板に関する。
高密度記録・再生用の磁気ディスク用の基板として、Ａ
ｌ−Ｍｇ合金等のアルミニウム合金を使用することが知
られている。磁気ディスクはその回転開始時には磁気ヘ
ッドに接触するので、摩耗されないようにその基板は硬
性を有する必要がある。
ｌ−Ｍｇ合金等のアルミニウム合金を使用することが知
られている。磁気ディスクはその回転開始時には磁気ヘ
ッドに接触するので、摩耗されないようにその基板は硬
性を有する必要がある。
そしてアルミニウム合金は軟質（断面硬さＨｖが６０〜
８０）であるので、アルミニウム合金を基板として使用
する場合には、まず硬化処理のために、アルミニウム合
金にＮ１−Ｐメツキまたは陽極酸化被膜を形成し、その
上にスパッタリング法により磁性膜を被着し、磁気ディ
スクを得ていた。
８０）であるので、アルミニウム合金を基板として使用
する場合には、まず硬化処理のために、アルミニウム合
金にＮ１−Ｐメツキまたは陽極酸化被膜を形成し、その
上にスパッタリング法により磁性膜を被着し、磁気ディ
スクを得ていた。
上述した如く基板としてアルミニウム合金を使用する場
合にあっては、硬性を得るためにＮ１−Ｐメツキまたは
陽極酸化被膜を形成する必要があり、磁気ディスク製造
の工程が煩雑であるという問題点があった。
合にあっては、硬性を得るためにＮ１−Ｐメツキまたは
陽極酸化被膜を形成する必要があり、磁気ディスク製造
の工程が煩雑であるという問題点があった。
また、スパッタリング法により磁性膜をＮ１−Ｐメツキ
または陽極酸化被膜に被着する場合、基板温度が３００
℃を超えるときにはＮ１−Ｐメツキが磁性を帯びること
になり、基板温度が３５０℃を超えるときには陽極酸化
被膜に割れが生じるので、基板としてアルミニウム合金
を使用する際には基板に温度制約が存するという難点が
あった。
または陽極酸化被膜に被着する場合、基板温度が３００
℃を超えるときにはＮ１−Ｐメツキが磁性を帯びること
になり、基板温度が３５０℃を超えるときには陽極酸化
被膜に割れが生じるので、基板としてアルミニウム合金
を使用する際には基板に温度制約が存するという難点が
あった。
更に、アルミニウム合金は剛性が小さいので、例えば５
インチ磁気ディスクでは最小２龍程度の肉厚が必要であ
り、磁気ディスクの肉薄化には限界があるという問題点
があった。
インチ磁気ディスクでは最小２龍程度の肉厚が必要であ
り、磁気ディスクの肉薄化には限界があるという問題点
があった。
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、断面
硬さＨｖが２５０以上であるチタン合金を使用すること
により、磁気ディスクの製造にあたって上述したような
硬化処理が不要であり、磁性膜被着の際に温度制約がな
くなり、また肉薄の磁気ディスクを製造できる磁気ディ
スク用基板を提供することを目的とする。
硬さＨｖが２５０以上であるチタン合金を使用すること
により、磁気ディスクの製造にあたって上述したような
硬化処理が不要であり、磁性膜被着の際に温度制約がな
くなり、また肉薄の磁気ディスクを製造できる磁気ディ
スク用基板を提供することを目的とする。
本発明に係る磁気ディスク用基板は、表面粗さＲａを０
．０３μｍ以下にすべく表面が鏡面研磨され、断面硬さ
Ｈｖが２５０以上であるチタン合金からなることを特徴
とする。
．０３μｍ以下にすべく表面が鏡面研磨され、断面硬さ
Ｈｖが２５０以上であるチタン合金からなることを特徴
とする。
本発明の磁気ディスク用基板は断面硬さＩｆｖが２５０
以上であるので、この磁気ディスク用基板を使用して磁
気ディスクを製造する場合にあっては、特別の硬化処理
が不要である。
以上であるので、この磁気ディスク用基板を使用して磁
気ディスクを製造する場合にあっては、特別の硬化処理
が不要である。
以下本発明をその実施例に基づき具体的に説明する。
板厚が１．２Ｍである各種のチタン合金板から５インチ
ディスクを打抜き、これを熱処理した後、電解砥粒研磨
法によりその表面を鏡面加工して磁気ディスク用基板を
得た。このときの熱処理は純度が９９．９９％のＡｒ雰
囲気中で行い、また加熱後の冷却も同一雰囲気中にて行
った。電解砥粒研磨条件は、電解溶液：２０％硝酸ナト
リウム＋５０ｇ／ １アルミナ、電解電圧：ｔＳＶ、研
磨方式：回転ディスク方式であった。
ディスクを打抜き、これを熱処理した後、電解砥粒研磨
法によりその表面を鏡面加工して磁気ディスク用基板を
得た。このときの熱処理は純度が９９．９９％のＡｒ雰
囲気中で行い、また加熱後の冷却も同一雰囲気中にて行
った。電解砥粒研磨条件は、電解溶液：２０％硝酸ナト
リウム＋５０ｇ／ １アルミナ、電解電圧：ｔＳＶ、研
磨方式：回転ディスク方式であった。
チタン合金からなるこれらの磁気ディスク用基板におけ
る、熱処理条件、断面硬さ、性能（耐摩耗性３表面粗さ
Ｒｅ１ａｘ）を下記第１表に示す。試供材とするチタン
合金は、α型のＴｉ−５ＡＩ−２，５３ｎ （Ａ） 。
る、熱処理条件、断面硬さ、性能（耐摩耗性３表面粗さ
Ｒｅ１ａｘ）を下記第１表に示す。試供材とするチタン
合金は、α型のＴｉ−５ＡＩ−２，５３ｎ （Ａ） 。
α＋β型のＴｉ−６ＡＩ−４Ｖ （Ｂ） 、 β型の
Ｔｉ−１５Ｖ−３Ｃｒ−３ＡＩ−３Ｓｎ （Ｃ）とし、
また参考のためにＪＩＳ２種純チタン（Ｄ）についても
その結果を第１表に併せて示す、なお第１表における耐
摩耗性における評価は、耐摩耗性評価条件（荷電：
１００ｇ／ａＪ、ディスク回転数： ５００ｒｐｍ、摺
動部： Ｃｏ−Ｎ１−Ｐメツキ十カーボンコーティング
、摺動時間：２０時間）において、耐摩耗性が良好な場
合は○、不良の場合は×としている。
Ｔｉ−１５Ｖ−３Ｃｒ−３ＡＩ−３Ｓｎ （Ｃ）とし、
また参考のためにＪＩＳ２種純チタン（Ｄ）についても
その結果を第１表に併せて示す、なお第１表における耐
摩耗性における評価は、耐摩耗性評価条件（荷電：
１００ｇ／ａＪ、ディスク回転数： ５００ｒｐｍ、摺
動部： Ｃｏ−Ｎ１−Ｐメツキ十カーボンコーティング
、摺動時間：２０時間）において、耐摩耗性が良好な場
合は○、不良の場合は×としている。
第 １ 表
断面硬さＨｖが１６０である純チタン（Ｄ）を基板とし
て使用する場合には良好な耐摩耗性が得られていないの
に比較して、断面硬さｌｌｖが２５０以上であるチタン
合金（Ａ、Ｂ、Ｃ）を基板として使用する場合には良好
な耐摩耗性が得られている。また、これらのチタン合金
を基板として使用する場合において、磁気ディスクとし
て適正な表面粗さ（０，０２μｍ）を有することができ
る。
て使用する場合には良好な耐摩耗性が得られていないの
に比較して、断面硬さｌｌｖが２５０以上であるチタン
合金（Ａ、Ｂ、Ｃ）を基板として使用する場合には良好
な耐摩耗性が得られている。また、これらのチタン合金
を基板として使用する場合において、磁気ディスクとし
て適正な表面粗さ（０，０２μｍ）を有することができ
る。
更にこのようなチタン合金からなる基板に磁性膜を被着
した際にはその密着性が良好であった。
した際にはその密着性が良好であった。
なお第１表に示したチタン合金以外に、Ｔｉ−８Ｔｉ−
８ＡＩ−Ｉ Ｖ 、 Ｔ １−６Ａ ｌ−６Ｖ−２Ｓｎ
、 Ｔｉ−６Ａ ｌ−２Ｃｂ−ｌＴａ−ＩＭｏ、 Ｔ
ｉ−６＾１−１−２Ｓｎ−４Ｚｒ−２，ＴｉＴｉ−６Ａ
Ｉ−６等のα＋β型チタン合金、またはＴｉ−１１，５
ＡＩ−６Ｚｒ−４，５Ｓｎ、 Ｔｉ−３ＡｌＴｉ−３Ａ
ｌ−８Ｖ−６Ｃｒ−４等のβ型チタン合金も、その断面
硬さＨｖが２５０以上であれば、本発明のディスク用基
板として使用できる。
８ＡＩ−Ｉ Ｖ 、 Ｔ １−６Ａ ｌ−６Ｖ−２Ｓｎ
、 Ｔｉ−６Ａ ｌ−２Ｃｂ−ｌＴａ−ＩＭｏ、 Ｔ
ｉ−６＾１−１−２Ｓｎ−４Ｚｒ−２，ＴｉＴｉ−６Ａ
Ｉ−６等のα＋β型チタン合金、またはＴｉ−１１，５
ＡＩ−６Ｚｒ−４，５Ｓｎ、 Ｔｉ−３ＡｌＴｉ−３Ａ
ｌ−８Ｖ−６Ｃｒ−４等のβ型チタン合金も、その断面
硬さＨｖが２５０以上であれば、本発明のディスク用基
板として使用できる。
また本実施例では鏡面加工に電解砥粒研磨法を用いたが
、ラッピング、メカノケミカルポリッシュ、電解砥粒研
磨法を組合せてもよい。
、ラッピング、メカノケミカルポリッシュ、電解砥粒研
磨法を組合せてもよい。
チタン合金からなる本発明の磁気ディスク用基板は充分
な硬性を有しており、磁気ヘッドの接触に伴う摩耗に対
して抵抗性があるので、アルミニウム合金製の基板では
必要であったＮ１−Ｐメツキ形成または陽極酸化被膜形
成の工程が不要となり、磁気ディスクの製造工程が簡略
化する。
な硬性を有しており、磁気ヘッドの接触に伴う摩耗に対
して抵抗性があるので、アルミニウム合金製の基板では
必要であったＮ１−Ｐメツキ形成または陽極酸化被膜形
成の工程が不要となり、磁気ディスクの製造工程が簡略
化する。
またＮ１−Ｐメツキまたは陽極酸化被膜が不要となるの
で、磁性膜を被着するためのスパッタリングの際に見ら
れたＮ１−Ｐメツキの磁性化または陽極酸化被膜の割れ
発生という問題点が解消され、しかもスパッタリングの
際における基板の温度制約がなくなる。
で、磁性膜を被着するためのスパッタリングの際に見ら
れたＮ１−Ｐメツキの磁性化または陽極酸化被膜の割れ
発生という問題点が解消され、しかもスパッタリングの
際における基板の温度制約がなくなる。
更にチタン合金はアルミニウム合金に比してヤング率が
大きい（Ｔｉ ： ｌｌＸｌ０’ ｋｇｆ／ｍｕ”、Ａ
Ｉ ： ７ ｘｌｏ” ｋｇｆ／ｍｕ” ）ので、本発
明のディスク用基板では従来のアルミニウム合金製のデ
ィスク用基板に比較して、磁気ディスクの肉厚を薄肉化
することができる。またチタン合金はアルミニウム合金
またチタン合金はアルミニウム合金に比して線膨張係数
が小さい（Ｔｉ ： ９ Ｘ １０−’／ ”Ｃ、Ａｔ
： ２３．６ｘ１０−ｂ／’Ｃ）ので、温度変化に伴
う寸法変化は小さく、高精度の磁気ディスクを得ること
ができる等本発明は優れた効果を奏する。
大きい（Ｔｉ ： ｌｌＸｌ０’ ｋｇｆ／ｍｕ”、Ａ
Ｉ ： ７ ｘｌｏ” ｋｇｆ／ｍｕ” ）ので、本発
明のディスク用基板では従来のアルミニウム合金製のデ
ィスク用基板に比較して、磁気ディスクの肉厚を薄肉化
することができる。またチタン合金はアルミニウム合金
またチタン合金はアルミニウム合金に比して線膨張係数
が小さい（Ｔｉ ： ９ Ｘ １０−’／ ”Ｃ、Ａｔ
： ２３．６ｘ１０−ｂ／’Ｃ）ので、温度変化に伴
う寸法変化は小さく、高精度の磁気ディスクを得ること
ができる等本発明は優れた効果を奏する。
Claims (1)
- １、表面粗さＲａを０．０３μｍ以下にすべく表面が鏡
面研磨され、断面硬さＨｖが２５０以上であるチタン合
金からなることを特徴とする磁気ディスク用基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26911287A JPH01112521A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 磁気ディスク用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26911287A JPH01112521A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 磁気ディスク用基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01112521A true JPH01112521A (ja) | 1989-05-01 |
Family
ID=17467839
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26911287A Pending JPH01112521A (ja) | 1987-10-23 | 1987-10-23 | 磁気ディスク用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01112521A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5120615A (en) * | 1989-06-16 | 1992-06-09 | Nkk Corporation | Magnetic disk substrate and method of manufacturing the same |
| US5131995A (en) * | 1990-03-09 | 1992-07-21 | Nkk Corporation | Method of manufacturing titanium magnetic disk substrate |
| US5188677A (en) * | 1989-06-16 | 1993-02-23 | Nkk Corporation | Method of manufacturing a magnetic disk substrate |
-
1987
- 1987-10-23 JP JP26911287A patent/JPH01112521A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5120615A (en) * | 1989-06-16 | 1992-06-09 | Nkk Corporation | Magnetic disk substrate and method of manufacturing the same |
| US5188677A (en) * | 1989-06-16 | 1993-02-23 | Nkk Corporation | Method of manufacturing a magnetic disk substrate |
| US5131995A (en) * | 1990-03-09 | 1992-07-21 | Nkk Corporation | Method of manufacturing titanium magnetic disk substrate |
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