JPS59110796A - 磁気デイスク基板の製造方法 - Google Patents
磁気デイスク基板の製造方法Info
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- JPS59110796A JPS59110796A JP22058982A JP22058982A JPS59110796A JP S59110796 A JPS59110796 A JP S59110796A JP 22058982 A JP22058982 A JP 22058982A JP 22058982 A JP22058982 A JP 22058982A JP S59110796 A JPS59110796 A JP S59110796A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 38
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 9
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 18
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 abstract description 16
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 16
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007743 anodising Methods 0.000 abstract description 3
- SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N ferrosoferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]O[Fe]=O SZVJSHCCFOBDDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910001566 austenite Inorganic materials 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005339 levitation Methods 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910000765 intermetallic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Electrochemical Coating By Surface Reaction (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Heat Treatment Of Nonferrous Metals Or Alloys (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電子計算材の外部記憶装置用磁気ディスクなど
に用いられるアルミニウム合金磁気ディスク基板の製造
方法に関する。
に用いられるアルミニウム合金磁気ディスク基板の製造
方法に関する。
（１）
連続薄膜磁気記憶媒体、就中酸化物磁性薄膜磁気記憶媒
体は、これまで広く用いられてきたγ−Ｆｅ、０３微粒
子塗布膜（所謂コーテイング膜）に優る高密度磁気記録
媒体として注目されている。酸化物磁性薄膜材料として
は、当初Ｆｅ、Ｏ，もしくはＦｅ、０４−γ−Ｆｅ、０
．中間相が提案されたが、ヘッドとの接触による加圧減
磁現象、或いは磁気特性（特にＨｃ）の不安定性という
信頼性に係わる問題が生じた＼め最近ではγ−ｒｅ、
０３が専ら検討されている。
体は、これまで広く用いられてきたγ−Ｆｅ、０３微粒
子塗布膜（所謂コーテイング膜）に優る高密度磁気記録
媒体として注目されている。酸化物磁性薄膜材料として
は、当初Ｆｅ、Ｏ，もしくはＦｅ、０４−γ−Ｆｅ、０
．中間相が提案されたが、ヘッドとの接触による加圧減
磁現象、或いは磁気特性（特にＨｃ）の不安定性という
信頼性に係わる問題が生じた＼め最近ではγ−ｒｅ、
０３が専ら検討されている。
γ−Ｆｅ、０．膜媒体の製造方法としては、一旦Ｆｅ、
０．膜を作製し、これを酸化して１− Ｆｅ、 Ｑ、膜
にする方法が一般的である。このγ−Ｆｅ、０．膜への
変換には少くとも２５０℃好ましくは２７５℃以上での
加熱処理が不可欠である。
０．膜を作製し、これを酸化して１− Ｆｅ、 Ｑ、膜
にする方法が一般的である。このγ−Ｆｅ、０．膜への
変換には少くとも２５０℃好ましくは２７５℃以上での
加熱処理が不可欠である。
一方磁気記録媒体と共に磁気ディスクのもうひとつの構
成要素である基板については、当初上の如き温度条件に
耐えるものとして、ガラス、セラミックなどが用いられ
たが、実用性の観点からみると、衝撃に対して弱く、破
損の慣れがある、高（２） 価であるなどの理由から問題があった。
成要素である基板については、当初上の如き温度条件に
耐えるものとして、ガラス、セラミックなどが用いられ
たが、実用性の観点からみると、衝撃に対して弱く、破
損の慣れがある、高（２） 価であるなどの理由から問題があった。
そこで従来コーテイング膜ディスクに用いられてきたア
ルミニウム合金基板の可能性について検討が行なわれた
結果、アルミニウム合金基体の表面に記録媒体下地層と
して、陽極酸化処理によって陽極酸化皮膜を形成した基
板が提案されている。
ルミニウム合金基板の可能性について検討が行なわれた
結果、アルミニウム合金基体の表面に記録媒体下地層と
して、陽極酸化処理によって陽極酸化皮膜を形成した基
板が提案されている。
同陽極酸化皮膜はアルミニウムの酸化物である為、硬度
が高く加工性にすぐれ研磨加工によって高密度記録磁気
ディスク基板に不可欠な、良好な表面性を得易いという
特徴をもつ。
が高く加工性にすぐれ研磨加工によって高密度記録磁気
ディスク基板に不可欠な、良好な表面性を得易いという
特徴をもつ。
然しなから現在のコーテイング膜ディスクに用いられて
いるアルミニウム合金基板を上記目的の為に使用すると
、陽極酸化皮膜に多くの欠陥が発生し、到底高密度記録
用ディスク基体としての使用にたえない。この原因はア
ルミニウム合金材に含まれる８ｉ 、 Ｆｅといった不
純物が金属間化合物をつくり、それらが基板表面もしく
はその近傍にある場合、その部分で陽極酸化皮膜が成長
せずピンホール欠陥を生じる為である。
いるアルミニウム合金基板を上記目的の為に使用すると
、陽極酸化皮膜に多くの欠陥が発生し、到底高密度記録
用ディスク基体としての使用にたえない。この原因はア
ルミニウム合金材に含まれる８ｉ 、 Ｆｅといった不
純物が金属間化合物をつくり、それらが基板表面もしく
はその近傍にある場合、その部分で陽極酸化皮膜が成長
せずピンホール欠陥を生じる為である。
そこで上記不純物の混入を極力抑えた高純度化（３）
アルミニウム合金基板の開発が進められている。
これは９９．９ ％純度以上の高純度アルミニウムを母
材とし、これに所要の添加金属を加え合金化したもので
ある。ところが本発明者らの実験によれば、か＼る高純
度化アルミニウム合金を素材とし、第１図に示した連続
薄膜磁気ディスク基板の従来性なわれている製作工程に
よって製作した基板により、γ−Ｆｅ、Ｏ，膜媒体磁気
ディスクを作製したところ、ディスク表面粗さが著るし
く劣化し、甚だしい場合には磁気ヘッドの安定な浮揚が
不可能な事態となることが判明した。この原因は上記媒
体形成工程において基板中合金結晶粒の成長が起りこれ
が基板表面粗さの増加をもたらす為であることが明らか
になった。
材とし、これに所要の添加金属を加え合金化したもので
ある。ところが本発明者らの実験によれば、か＼る高純
度化アルミニウム合金を素材とし、第１図に示した連続
薄膜磁気ディスク基板の従来性なわれている製作工程に
よって製作した基板により、γ−Ｆｅ、Ｏ，膜媒体磁気
ディスクを作製したところ、ディスク表面粗さが著るし
く劣化し、甚だしい場合には磁気ヘッドの安定な浮揚が
不可能な事態となることが判明した。この原因は上記媒
体形成工程において基板中合金結晶粒の成長が起りこれ
が基板表面粗さの増加をもたらす為であることが明らか
になった。
本発明の目的は従来の酸化物磁性薄膜媒体用磁気ディス
ク基板の製造方法にみられるこのような欠点を除去し、
同薄膜媒体の形成工程を経ても表面粗さの劣化を生じな
い、磁気ディスク基板の製造方法を提供することにある
。
ク基板の製造方法にみられるこのような欠点を除去し、
同薄膜媒体の形成工程を経ても表面粗さの劣化を生じな
い、磁気ディスク基板の製造方法を提供することにある
。
本発明に係わる磁気ディスク基板の製造方法は、（４）
アルミニウム合金基板の表面に陽極酸化皮膜を形成した
後、その表面を鏡面仕上げする工程を含むアルミニウム
合金ディスク基板の製造方法において、陽極酸化皮膜形
成後、鏡面仕上げに先立って、後の媒体形成工程におい
て行なう熱処理条件に比べ、温度もしくは時間のいずれ
か或いはその双方が同じかもしくは高い（又は長い）条
件で、予め上記陽極酸化処理アルミニウム合金板に熱処
理を施こす工程を有することを％徴とする。
後、その表面を鏡面仕上げする工程を含むアルミニウム
合金ディスク基板の製造方法において、陽極酸化皮膜形
成後、鏡面仕上げに先立って、後の媒体形成工程におい
て行なう熱処理条件に比べ、温度もしくは時間のいずれ
か或いはその双方が同じかもしくは高い（又は長い）条
件で、予め上記陽極酸化処理アルミニウム合金板に熱処
理を施こす工程を有することを％徴とする。
以下実施例、比較例を掲げて本発明の詳細な説明する。
実施例１゜
高純度化アルミニウム合金板を用い、第２図に示した工
程により、陽極処理後、表面の鏡面研磨加工に先立って
３００℃、０５時間の熱処理を同合金板に施こした後、
研削及び研磨加工によりその表面をＲｍａｘ Ｏ，０２
μｍの表面粗さに仕上げた。
程により、陽極処理後、表面の鏡面研磨加工に先立って
３００℃、０５時間の熱処理を同合金板に施こした後、
研削及び研磨加工によりその表面をＲｍａｘ Ｏ，０２
μｍの表面粗さに仕上げた。
〔第３図（ａ）〕こうして得たディスク基板に、スパッ
タリングによりＦｅ、０．を主成分とする酸化鉄磁性薄
膜（〜１．７０ＯＡ厚）を形成した後、空気中にお（５
） いて２７５℃、１時間の酸化処理を施こしγ−ｒｅ、０
３を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を得た。こうして作製
した磁気ディスクの表面粗さは第３図（ｂ＞に示した如
くで、基板の表面粗さく同図（ａ））と同じであり、表
面粗さの劣化は全く認められなかった。
タリングによりＦｅ、０．を主成分とする酸化鉄磁性薄
膜（〜１．７０ＯＡ厚）を形成した後、空気中にお（５
） いて２７５℃、１時間の酸化処理を施こしγ−ｒｅ、０
３を主成分とする酸化鉄磁性薄膜を得た。こうして作製
した磁気ディスクの表面粗さは第３図（ｂ＞に示した如
くで、基板の表面粗さく同図（ａ））と同じであり、表
面粗さの劣化は全く認められなかった。
磁気ヘッドの浮揚試験においても０．２μｍ程度の狭浮
揚量で安定に浮揚した。
揚量で安定に浮揚した。
比較例
実施例１に用いたと同じ高純度アルミニウム合金板を用
い、第１図に示した従来工程によってディスク基板を作
製した。この基板に、実施例１と全く同じ条件でＦｅ
３０．膜形成、γ−Ｆｅ、０．膜への熱酸化処理を行な
い、酸化鉄薄膜磁気ディスクを得た。この磁気ディスク
の表面粗さは第４図に示した如くであり、明らかな劣化
が望められた。
い、第１図に示した従来工程によってディスク基板を作
製した。この基板に、実施例１と全く同じ条件でＦｅ
３０．膜形成、γ−Ｆｅ、０．膜への熱酸化処理を行な
い、酸化鉄薄膜磁気ディスクを得た。この磁気ディスク
の表面粗さは第４図に示した如くであり、明らかな劣化
が望められた。
実施例２゜
実施例１に同じ高純度アルミニウム合金板を用い、第２
図に示した本発明による工程により、陽極処理後、表面
のψ面研磨加工に先立って２８０ ℃３時間の熱処理を
同合金板に施こした後、研削及（６） び研磨加工により鏡面に仕上げた。こうして得たディス
ク基板に、スパッタリングによりＦｅ５０．を主成分と
する酸化鉄磁性薄膜を形成した後、空気中において３０
０℃、１時間の酸化処理を施こし、γ−Ｆｅ、０．を主
成分とする酸化鉄磁性薄膜をイ４）た。
図に示した本発明による工程により、陽極処理後、表面
のψ面研磨加工に先立って２８０ ℃３時間の熱処理を
同合金板に施こした後、研削及（６） び研磨加工により鏡面に仕上げた。こうして得たディス
ク基板に、スパッタリングによりＦｅ５０．を主成分と
する酸化鉄磁性薄膜を形成した後、空気中において３０
０℃、１時間の酸化処理を施こし、γ−Ｆｅ、０．を主
成分とする酸化鉄磁性薄膜をイ４）た。
こうして作製した磁気ディスクの表面粗さは実施例１同
様研磨仕上げ後の基板のそれと全く変らなかった。
様研磨仕上げ後の基板のそれと全く変らなかった。
上記実施例に明らかなように、本発明にか＼わる磁気デ
ィスク基板の製造方法によれば、酸化鉄磁性薄膜媒体磁
気ディスクの媒体形成工程においても表面性の劣化を生
じることのない、高性能連続薄膜磁気ディスク用ディス
ク基板の製造が可能になる。
ィスク基板の製造方法によれば、酸化鉄磁性薄膜媒体磁
気ディスクの媒体形成工程においても表面性の劣化を生
じることのない、高性能連続薄膜磁気ディスク用ディス
ク基板の製造が可能になる。
第１図は陽極酸化処理アルミニウム合金ディスク基板の
従来の製造工程を示す図。第２図は本発明による同アル
ミニウム合金ディスク基板の製造工程を示す図。第３図
（ａ）は本発明の製造工程によ（７） り製作したディスク基板の表面粗さ、同図（ｂ）はそれ
を用いて作製した酸化鉄磁性薄膜媒体磁気ディスクの表
面粗さを示す図。第４図は従来の方法により製作したデ
ィスク基板を用いて作製した磁気ディスクの表面粗さを
示す図である。 （８） 躬 Ｉ Ｍ 第２図
従来の製造工程を示す図。第２図は本発明による同アル
ミニウム合金ディスク基板の製造工程を示す図。第３図
（ａ）は本発明の製造工程によ（７） り製作したディスク基板の表面粗さ、同図（ｂ）はそれ
を用いて作製した酸化鉄磁性薄膜媒体磁気ディスクの表
面粗さを示す図。第４図は従来の方法により製作したデ
ィスク基板を用いて作製した磁気ディスクの表面粗さを
示す図である。 （８） 躬 Ｉ Ｍ 第２図
Claims (1)
- アルミニウム合金板の表面に陽極酸化皮膜を形成した後
、その表面を鏡面仕上げする工程を含むアルミニウム合
金磁気ディスク基板の製造方法において、陽極皮膜形成
後、鏡面仕上げに先立って、後の媒体形成工程において
行なう熱処理条件に比べ、温度もしくは時間のいずれか
或いはその双方が同じかもしくは高い（又は長い）条件
で、予め上記陽極処理アルミニウム合金板に熱処理を施
こす工程を有することを特徴とする磁気ディスク基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22058982A JPS59110796A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22058982A JPS59110796A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59110796A true JPS59110796A (ja) | 1984-06-26 |
Family
ID=16753339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22058982A Pending JPS59110796A (ja) | 1982-12-16 | 1982-12-16 | 磁気デイスク基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59110796A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60110852A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
| CN105112982A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-12-02 | 电子科技大学 | 一种用于制备片状电磁噪声抑制材料的磁性孔洞基片 |
-
1982
- 1982-12-16 JP JP22058982A patent/JPS59110796A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60110852A (ja) * | 1983-11-21 | 1985-06-17 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気ディスク用円板の熱処理方法 |
| CN105112982A (zh) * | 2015-07-27 | 2015-12-02 | 电子科技大学 | 一种用于制备片状电磁噪声抑制材料的磁性孔洞基片 |
| CN105112982B (zh) * | 2015-07-27 | 2017-09-26 | 电子科技大学 | 一种用于制备片状电磁噪声抑制材料的磁性孔洞基片 |
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