JPH01116076A - 真空連続処理装置 - Google Patents
真空連続処理装置Info
- Publication number
- JPH01116076A JPH01116076A JP27297487A JP27297487A JPH01116076A JP H01116076 A JPH01116076 A JP H01116076A JP 27297487 A JP27297487 A JP 27297487A JP 27297487 A JP27297487 A JP 27297487A JP H01116076 A JPH01116076 A JP H01116076A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- chamber
- preliminary
- slit
- pressure
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はプラスチック成形品たとえばＰＥＴフィルム、
天然あるいは合成繊維、または塗装鋼板などの被処理物
を連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸
着等の処理を行なう装置に関するものである。
天然あるいは合成繊維、または塗装鋼板などの被処理物
を連続的に真空状態で処理、たとえばプラズマ処理、蒸
着等の処理を行なう装置に関するものである。
この種の真空連続処理装置は、特開昭５７−３０７３３
号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的に
なっており、被処理物を一対のロールで圧着してシール
を行なっている。
号に記載のようにロールタイプのシール装置が一般的に
なっており、被処理物を一対のロールで圧着してシール
を行なっている。
上記従来技術は、被処理物を一対のロールにて圧着しな
がらシールしている為、被処理物を結果的に圧着し、処
理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また１回
転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方向
にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に悪
影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、した
がってリップ角部Ｕあるいはロールの摩耗粉が発生し。
がらシールしている為、被処理物を結果的に圧着し、処
理後の被処理物の特性に悪影響を与えている。また１回
転するロールとケース間のシールとして、ロール軸方向
にそったリップル部材を使用しているが、被処理物に悪
影響を与えないため、油等の潤滑剤が使用できず、した
がってリップ角部Ｕあるいはロールの摩耗粉が発生し。
それが被処理物に着付するという問題があった。
それゆえ、透明導電膜等の高級被処理物には不適当であ
った。
った。
本発明の目的は、被処理物に損傷を与えず減圧及び被処
理物搬送を可能にする真空連続処理装置において、大気
圧から最初に減圧するスリット状シール部の間隙での被
処理物の損傷を防ぐ為の非排気の予備室を備えたシール
装置の提供にある。
理物搬送を可能にする真空連続処理装置において、大気
圧から最初に減圧するスリット状シール部の間隙での被
処理物の損傷を防ぐ為の非排気の予備室を備えたシール
装置の提供にある。
上記目的は、真空連続処理装置に設けたスリット状シー
ル装置の蛾も大気側に位置するものについて、その大気
側に非排気の予備室を備えることにより達成される。
ル装置の蛾も大気側に位置するものについて、その大気
側に非排気の予備室を備えることにより達成される。
〔作用〕
真空連続処理装置において、減圧により被処理物搬送等
に及ぼされる影響が最も大きい場所は。
に及ぼされる影響が最も大きい場所は。
大気圧よシ減圧するスリット状シール部である。
例えば、大気圧より差圧が大きく生じるような減圧を行
なった場合、このシールを行なうスリット状シール部で
は大きな圧力勾配が生じる。このような状況下で、スリ
ット状シールの被処理物の上側と下側でギャップの大き
さが異なると、被処理物の上側と下側では圧力が異なり
、この圧力差により被処理物が変形する。この為被処理
物はスリット状シール部と接触し被処理物の搬送が停止
したり、損傷又は破断におよぶ。
なった場合、このシールを行なうスリット状シール部で
は大きな圧力勾配が生じる。このような状況下で、スリ
ット状シールの被処理物の上側と下側でギャップの大き
さが異なると、被処理物の上側と下側では圧力が異なり
、この圧力差により被処理物が変形する。この為被処理
物はスリット状シール部と接触し被処理物の搬送が停止
したり、損傷又は破断におよぶ。
前記のようなスリット状シール部における。大気側と減
圧側との大きな圧力差を段階的に下げていくため最も大
気側の予備真空室に少なくともひとつ非排気の予備室を
設ける。これにより大気からの減圧は段階的に行なわれ
るので、減圧にょシスリット状シール部に被処理物が接
触することはない。
圧側との大きな圧力差を段階的に下げていくため最も大
気側の予備真空室に少なくともひとつ非排気の予備室を
設ける。これにより大気からの減圧は段階的に行なわれ
るので、減圧にょシスリット状シール部に被処理物が接
触することはない。
以下１本発明の一実施例を図面によシ・説明する。
第１図及び第２図において、１はプラスチックフィルム
例えばＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室ｌの前方側に複数個配置される予備真空室、３
は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
２７は、予備真空室２の前方側に配置される非排気の予
備室。
例えばＰＥＴフィルムのような可撓性の被処理物Ｆを真
空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室、２は真
空処理室ｌの前方側に複数個配置される予備真空室、３
は真空処理室１の後方側に複数個配置される予備真空室
２７は、予備真空室２の前方側に配置される非排気の予
備室。
２８は、予備真空室３の後方側に配置される非排気の予
備室で、前記真空処理室はこれに接続する真空ポンプ４
により１０１トール程度の真空圧力に保持するように排
気導管５を介して真空排気される。
備室で、前記真空処理室はこれに接続する真空ポンプ４
により１０１トール程度の真空圧力に保持するように排
気導管５を介して真空排気される。
前記予備真空室２，３は、これに接続する真空ポンプ６
によシ、前記真空処理意１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
によシ、前記真空処理意１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より段階的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。
前記非排気の予備室２７．２８は、大気圧から最も大気
圧側の予備真空室２，３への減圧を段階的に行なうよう
に設ける。この非排気の予備室２７．２８内の圧力は適
切な値（約１００Ｔｏｒｒ以上）に保持するようになっ
ている。
圧側の予備真空室２，３への減圧を段階的に行なうよう
に設ける。この非排気の予備室２７．２８内の圧力は適
切な値（約１００Ｔｏｒｒ以上）に保持するようになっ
ている。
処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、前方
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９を介して前方側非排気の予備室２７．予備真空室
２を経て真空処理室１へ送られそこでプラズマ処理され
る。その後、後方側の予備真空室３．非排気の予備室２
８を経て、後方側予備真空室内の張力を制御するガイド
ロール１０を経て１巻取軸１１にて巻き取られる。１２
は被処理物を搬送する為の駆動用ＤＣモータであり、前
記ガイドロール９および１０の張力検出により、被処理
物をしわなく搬送し、かつ搬送速度を適宜調整する。
側の予備真空室内の被処理物の張力を制御するガイドロ
ール９を介して前方側非排気の予備室２７．予備真空室
２を経て真空処理室１へ送られそこでプラズマ処理され
る。その後、後方側の予備真空室３．非排気の予備室２
８を経て、後方側予備真空室内の張力を制御するガイド
ロール１０を経て１巻取軸１１にて巻き取られる。１２
は被処理物を搬送する為の駆動用ＤＣモータであり、前
記ガイドロール９および１０の張力検出により、被処理
物をしわなく搬送し、かつ搬送速度を適宜調整する。
第３図、第４図及び第５図は前期予備真空室２゜３及び
非排気の予備室２７．２８ｅ構成するシール装置の主要
部を示す。第３図は第１図の角部であり、第４図は第３
図のＢ−Ｂｌｌｉｌｒ面であり、第５図は第３図のＣ−
Ｃ断面である。尚１図に示す非排気の予備室２７．２８
は、予備真空室２．３と同じ構造をとっており、又、予
備真空室２，３及び非排気の予備室２７．２８を形成す
るスリット状シール部も同様である。１３は上ケース、
１４は下ケース、１５は上ケース１３に案内支持される
シールブロックであり、被処理物Ｆは下ケース１４とシ
ールブロック１５で形成されるスリットの間を接触しな
い搬送される。１６はノーンドルであり、これを回転さ
せることにより減速機１７゜歯車１８．ボールネジ１９
及びナツト２０を介してシールブロックと一体的に形成
されるコラム２１及びシールブロック１５１に被処理物
の厚さに応じて上下方向に動かす。２２はＬＭガイドで
あり、シールブロック１５の上下方向の動きを案内する
。２３はＯリングでアシ、上ケース１３とシールブロッ
ク１５の間のシールをする。Ｏリング２３はシールブロ
ック１５が上下方向に移動（最大２ｍ）にもかかわらず
上ケース１３とシールブロック１５間のシールを施す為
、十分な弾性体のものを使用している。上ケース１３と
シールブロック１５のサイドの間隙２４はシールブロッ
ク１５が滑らかに上下し、かつ空気の漏れ量が小さくな
るように、可能な範囲で小さく（例えば３０ミクロン）
している。
非排気の予備室２７．２８ｅ構成するシール装置の主要
部を示す。第３図は第１図の角部であり、第４図は第３
図のＢ−Ｂｌｌｉｌｒ面であり、第５図は第３図のＣ−
Ｃ断面である。尚１図に示す非排気の予備室２７．２８
は、予備真空室２．３と同じ構造をとっており、又、予
備真空室２，３及び非排気の予備室２７．２８を形成す
るスリット状シール部も同様である。１３は上ケース、
１４は下ケース、１５は上ケース１３に案内支持される
シールブロックであり、被処理物Ｆは下ケース１４とシ
ールブロック１５で形成されるスリットの間を接触しな
い搬送される。１６はノーンドルであり、これを回転さ
せることにより減速機１７゜歯車１８．ボールネジ１９
及びナツト２０を介してシールブロックと一体的に形成
されるコラム２１及びシールブロック１５１に被処理物
の厚さに応じて上下方向に動かす。２２はＬＭガイドで
あり、シールブロック１５の上下方向の動きを案内する
。２３はＯリングでアシ、上ケース１３とシールブロッ
ク１５の間のシールをする。Ｏリング２３はシールブロ
ック１５が上下方向に移動（最大２ｍ）にもかかわらず
上ケース１３とシールブロック１５間のシールを施す為
、十分な弾性体のものを使用している。上ケース１３と
シールブロック１５のサイドの間隙２４はシールブロッ
ク１５が滑らかに上下し、かつ空気の漏れ量が小さくな
るように、可能な範囲で小さく（例えば３０ミクロン）
している。
２５は被処理物を案内するガイドロールであり。
下ケース１４のシール面と被処理物が接触しないよう、
ガイドロール２５の外周面の高さを下ケース１４より高
くしている。通常の使用では、被処理物Ｆとシールブロ
ック１５の間隔及び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいず
れも０． ｌ ｖｍとなるようニカイドロール２５とシ
ールブロック１５の位置を決定している。張力付与用ロ
ール２６は、被処理物のガイドローラ２５に対する巻き
付は角度を大きくシ、シール部分で被処理物が振動し、
壁面に接触するのを防止している。予備真空室２あるい
は３は互いに相対するシール装置で構成されており、排
気導管７ｔ−介して真空ポンプ６で排気される。これに
対し、非排気の予備室２７及び２８は真空排気しない。
ガイドロール２５の外周面の高さを下ケース１４より高
くしている。通常の使用では、被処理物Ｆとシールブロ
ック１５の間隔及び被処理物Ｆと下ケースの間隔がいず
れも０． ｌ ｖｍとなるようニカイドロール２５とシ
ールブロック１５の位置を決定している。張力付与用ロ
ール２６は、被処理物のガイドローラ２５に対する巻き
付は角度を大きくシ、シール部分で被処理物が振動し、
壁面に接触するのを防止している。予備真空室２あるい
は３は互いに相対するシール装置で構成されており、排
気導管７ｔ−介して真空ポンプ６で排気される。これに
対し、非排気の予備室２７及び２８は真空排気しない。
この予備室２７．２８の圧力は１本実施例では＋ ２
００Ｔｏｒｒとし、これによシ。
００Ｔｏｒｒとし、これによシ。
大気圧から予備真空室２，３への減圧を２段階に行なっ
た。この為、大気圧と非排気の予備室２７゜２８をシー
ルするスリット状シール部内における圧力勾配は、前記
非排気の予備室を設けない場合に比べ小さくすることが
でき、これによシ被処理物Ｆにより区分されるスリット
状シール部の上部と下部の上下方向の間隙が異なる場合
被処理物Ｆにより区分されるスリット状シール部内の被
処理物Ｆの上部と下部の圧力差は、非排気の予備室を設
けない場合に比べ小さくなる。よって例えば。
た。この為、大気圧と非排気の予備室２７゜２８をシー
ルするスリット状シール部内における圧力勾配は、前記
非排気の予備室を設けない場合に比べ小さくすることが
でき、これによシ被処理物Ｆにより区分されるスリット
状シール部の上部と下部の上下方向の間隙が異なる場合
被処理物Ｆにより区分されるスリット状シール部内の被
処理物Ｆの上部と下部の圧力差は、非排気の予備室を設
けない場合に比べ小さくなる。よって例えば。
被処理物Ｆとスリット状シール部下面（下ケースの面）
がなす間隙を０．１１とした場合、被処理物Ｆに損傷を
与えず搬送する上で被処理物Ｆとスリット状シール部上
面（シールブロックの面）がなす間隙は、０．１鱈より
はるかに大きくすることが可能となった。又、真空排気
を行なわない為、真空排気系を省くことができることよ
りコスート低減を図ることが可能となった。
がなす間隙を０．１１とした場合、被処理物Ｆに損傷を
与えず搬送する上で被処理物Ｆとスリット状シール部上
面（シールブロックの面）がなす間隙は、０．１鱈より
はるかに大きくすることが可能となった。又、真空排気
を行なわない為、真空排気系を省くことができることよ
りコスート低減を図ることが可能となった。
本発明によれば、スリット状シール装置におけるギャッ
プの許容範囲が広くなり１種々のギャップにおいて被処
理物Ｆが損傷することなく搬送可能となる。ま九、真空
排気系を備えない予備室であるため、真空排気系を省く
ことによる原価低減が可能となった。
プの許容範囲が広くなり１種々のギャップにおいて被処
理物Ｆが損傷することなく搬送可能となる。ま九、真空
排気系を備えない予備室であるため、真空排気系を省く
ことによる原価低減が可能となった。
図面は本発明に係る真空連続処理装置の実施例の説明図
で第１図は真空連続処理装置の縦断面図、第２図は第１
図の平面図、第３図は第１図のＡ部図、第４図は第３図
のＢ−Ｂ断面図、第５図は第３図のＣ−Ｃ断面図である
。 Ｆ・・・被処理物、２，３・・・予備真空室、１３・・
・上ケース、２７，２８・・・非排気の予備室、１４・
・・下ケース、１５・・・シールブロック。 ゛・シ リ゛
で第１図は真空連続処理装置の縦断面図、第２図は第１
図の平面図、第３図は第１図のＡ部図、第４図は第３図
のＢ−Ｂ断面図、第５図は第３図のＣ−Ｃ断面図である
。 Ｆ・・・被処理物、２，３・・・予備真空室、１３・・
・上ケース、２７，２８・・・非排気の予備室、１４・
・・下ケース、１５・・・シールブロック。 ゛・シ リ゛
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側にそれぞれ少なくとも１個の
予備真空室を配置してなる真空連続処理装置において、
前記予備真空室は被処理物を搬送すると共に真空処理室
を処理室外からシールするスリット状のシール装置を有
し、当該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
内するガイドロールを設け、前記予備真空室が少なくと
も１個の非排気の予備室を備えていることを特徴とする
真空連続処理装置。 ２、前記非排気の予備室の圧力が１００Ｔｏｒｒ以上で
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の真空
連続処理装置。 ３、前記非排気の予備室はその圧力を１００Ｔｏｒｒ以
上にすると共に被処理物を通過させるスリット状シール
装置を有し、当該シール装置はスリットを形成する部材
を被処理物の搬送方向と垂直方向に設け、間隙を調整で
きるように構成したことを特徴とする特許請求範囲第１
項記載の真空連続処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27297487A JPH01116076A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 真空連続処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27297487A JPH01116076A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 真空連続処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01116076A true JPH01116076A (ja) | 1989-05-09 |
Family
ID=17521382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27297487A Pending JPH01116076A (ja) | 1987-10-30 | 1987-10-30 | 真空連続処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01116076A (ja) |
-
1987
- 1987-10-30 JP JP27297487A patent/JPH01116076A/ja active Pending
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