JPH01111874A - 真空連続処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はプラスチック成形品たとえばＰＥＴフィルム、
天然あるいは合成ｔｉｉ、また塗装鋼板などの被処理物
を連続的に真空状態でプラズマ処理、蒸着等の処理を行
なう装置に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の真空連続処理装置には、特開昭６２−４８６６号
に記載のように、被処理物の厚さ方向のシールを行なう
シール板を分割して１作動させることにより被処理物の
幅に応じてスリット状シール部分の幅を変化させるよう
になっていた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術は、一定間隔でシール部分の幅を変化させ
るため、種々の被処理物の幅に応じた、精密なシール幅
が得られない、このため、種々の被処理物を搬送し、処
理室外からシールするスリット状シール装置において、
十分なシール性能を保持することが不可能であった。

本発明の目的は、被処理物の幅に応じて、シール幅を精
密に連続的に変化させることができ、十分なシール性能
を保つスリット状シール機構を備えた真空連続処理装置
を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、被処理物の幅方向に、少なくともその片側
に、シール幅を調整するシール板を設け。

前記シール板が、連続的に位置を移動することにより達
成される。

【作用〕

シール板は１手動あるいは自動的にその位置を被処理物
の幅に応じて連続的に移動する。これにより、被処理物
とシール板の間隙は最適なものに設定できる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例を図面により説明する。

第１図及び第２図において１は真空処理室でプラスチッ
クフィルム例えばＲＥＴのような可撓性の被処理物Ｆを
真空状態で連続的にプラズマ処理する。２は、真空処理
室１の前方側に配置される予備真空室、３は、真空処理
室１の後方側に配置される予備真空室で、前記真空処理
室内はこれに接続する真空ポンプ４により１０−”Ｔｏ
ｒｒ程度の真空度に保持するように排気導管５を介して
真空排気される。

前記予備真空室２，３は、これに接続する真空ポンプ６
により、前記真空処理室１内の真空圧力より若干高く、
かつ大気圧より階段的に減じる真空を保持するように排
気導管７を介して真空排気される。

処理される被処理物Ｆは巻出軸８より送り出され、前方
側の予備真空室内の被処理物Ｆの張力を制御するガイド
ロール９を介して前方側の予備真空室２を経て真空処理
室１へ送られ、そこでプラズマ処理される。その後、後
方側の予備真空室３を経て、張力を制御するガイドロー
ル１０を経て、巻取り軸１１にて巻き取られる。１２ａ
、１２ｂは被処理物Ｆを搬送するための駆動用ＤＣモー
タであり、前記ガイドロール９、および１０の張力検出
により、被処理物Ｆをしわなく搬送し、かつ、搬送速度
を適宜調整する。

第３図、第４図、第５図及び第６図は前記予備真空室２
及び３を構成するシール装置の主要部を示すものであり
、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図であり、第５図は、第
３図のＢ−Ｂ断面である。

また第６図は第４図のＣ詳細図である。１３は上ケース
、１４は下ケース、１５はケース１３に案内支持される
シールブロックであり、被処理物Ｆは下ケース１４とシ
ールブロック１５で形成されるスリットの間を接触しな
いで搬送される。１６はハンドルであり、これを回転す
ることにより減速機１７．歯車１８．ボールネジ１９及
びナツト２０を介してシールブロック１５と一体的に形
成されるコラム２１及びシールブロック１５を被処理物
Ｆの厚さに応じて上下方向に動かす。２２はＬＭガイド
であり、シールブロック１５の上下方向の動きを案内す
る。２３はＯリングであり、上ケース１３とシールブロ
ック１５の間をシールする。Ｏリング２３はシールブロ
ック１５の上下方向の移動（最大２ｍｍ）にもかかわら
ず上ケース１３とシールブロック１５間のシールを行な
うため、十分な弾性を有する弾性体を使用している。

上ケース１３とシールブロック１５のサイドの間隙２４
はシールブロック１５が滑らかに上下し、かつ空気の漏
れ量が小さくなるように、可能な範囲で小さく（例えば
３０μｍ）している。２５は被処理物Ｆを案内するガイ
ドロールであり、下ケース１４のシール面と被処理物Ｆ
が接触しないよう、ガイドロール２５の外周面の高さを
下ケース１４より高くしている０通常の使用では、被処
理物Ｆとシールブロック１５の間隔及び被処理物Ｆと下
ケース１４の間隔がいずれも０．１ｎｗ　となるように
ガイドロール２５とシールブロック１５の位置を決定し
ている。２６は、被処理物Ｆガイドロール２５に対する
巻きつけ角度を大きくするとともに被処理物Ｆに張力を
付与する張力付与用ロールで、シール部分で被処理物Ｆ
が振動し、シール部分の壁面に接触するのを防止してい
る。予備真空室２あるいは３は互いに相対するシール装
置で構成されており、排気導管７を介して真空ポンプ６
で排気される。

第６図及び第７図に、下ケース１４とシールブロック１
５で形成するスリットの幅を連続的に変化させるシール
板移動部の一実施例を示す。第７図は第６図のＤ−Ｄ断
面図である。このシール板移動部は、第４図の０部の少
なくとも一方に取り付ける。２７はシール板、２８はシ
ール板移動路、２９はシール板を操作する空室、３０は
シール板移動部をシールするフランジである。シール板
２７の移動は被処理物搬送及び真空排気停止時に行ない
、シールブロック１５を上方に上げた後、シール板２７
を、被処理物Ｆの幅りに応じてシール板移動路２８に沿
って矢印の方向に移動させる。

前期シール板移動にあたっては、フランジ３０を取り外
し、空室２９において操作する。被処理物Ｆとシール板
２７の間隔を最適に設定した後、シールブロック１５を
下方に下げ、シールブロック１５によりシール板２７を
固定する。

第８図はスリットの幅を連続的に変化させるシール板移
動部の他の実施例を示す。前記シール板移動部と同様第
４図の０部の少なくとも一方にとりつける。２７及び２
８は、前記の一実施例と同様シール板及びシール板移動
路を示し、３１は、ＬＭガイド、３２はＬＭガイドによ
り案内されるコラム、３３はコラム３２にシール板２７
を固定するプレート、３４はボールねじ３５上を移動す
るナツト、３６はボールねじのシャフトを支持するベア
リングハウジング、３７はボールねじ３５を回転させる
ハンドル、３８はシール板移動部を密閉するフランジ、
３９はシール板移動部とスリットをシールするＯリング
である。シール板２７の移動にあたってはシールブロッ
ク１５を上昇させ、ハンドル３７を操作し、ボールねじ
３５を回転させることにより、ナツト３４と一体になっ
て連動するコラム３２がＬ　Ｍガイド３１に沿って移動
する。前記コラム３２の移動により該コラム３２にプレ
ート３４で固定されたシール板２７が矢印の方向にシー
ル板移動路２８に沿って移動する。被処理物Ｆとシール
板２７が最適な間隔になるようにシール板２７が移動し
た時点でシールブロック１５を下降し、シール板２７を
固定する。

シール板２７には、被処理物Ｆとシールブロック１５及
び下ケース１４との間隔がそれぞれ０．１＋ｍになるよ
うな厚さのものを使用する。シール板２７の交換は、フ
ランジ３８を取り外し、プレート３４をコラム３２から
はずすことにより容易に行なうことができる。また、シ
ール板移動部とスリットのシールは０リング３９によっ
ておこなう。

第９図及び第１０図はスリットの幅を連続的に変化させ
るシール板移動部の他の実施例を示す。

第１０図は第９図のＥ　−Ｅ断面図である。前記シール
板移動部と同様第４図の０部の少なくとも一方にとりつ
ける。２７及び２８は前記の一実施例と同様シール板及
びシール板移動路を示す。４０はシール板２７を巻いた
ロール、４１はロール４０と一体になったシャフト、４
２はシャフト４１にとりつけられ一体に回転するかぎ歯
車、４３はかさ歯車４２と対をなすかさ歯車、４４はか
さ歯車４３にハンドル４７の回転を伝えるシャフト、４
５はシャフト４１１を支持するベアリングハウジング、
４６はシール板移動部を密封するフランジである。シー
ル板２７の移動は、シールブロック１５を上昇させ、ハ
ンドル４７を操作して、かさ歯車４２及び４３を回転さ
せかさ歯車４２とシャフト４１を介してロール４０を回
転させる。

このロール４０の回転によりあらかじめロール４０に巻
きつけられているシール板２７は、矢印の方向に移動し
、シール板２７が被処理物Ｆとの間隔が最適になった時
点でシールブロック１５を下降させ固定する。シール板
２７には、被処理物Ｆとシールブロック１５及び下ケー
ス１４との間隔がそれぞれ０．１ｍ　となるような厚さ
のものを使用し、シール２７の交換はフランジ４６を取
り外し、ロール４０をシール板移動部から取り外し交換
することにより容易に行なえる。またスリットとシール
板移動部とはＯリング４８によりシールされる。

第６図ないし、第１０図に示したシール板移動部を備え
たことにより、様々な幅を持った被処理物を単一の真空
連続処理装置により搬送することが可能となる。また、
第８図ないし第１０図に示した実施例によれば、真空開
放をすることなくスリットの幅を変化させることが可能
となる。さらに第９図及び第１０図の実施例によれば、
シール板移動部のスペースを小さくすることができるの
で、真空連続処理装置のスリット状シール装置の大きさ
を小型にできる。

〔発明の効果〕

本発明によれば、スリットの幅を被処理物の幅に応じて
精密に連続して変化させることが可能であるので、ひと
つのスリット状シール装置により種々の幅を持つ被処理
物を搬送でき、かつ、スリット状シール装置のシール性
能を保持できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の一実施例の連続式真空処理装置の概
略断面図、第２図は第１図の概略平面図。 第３図は本発明のシール装置断面図、第４図は第３図の
Ａ−Ａ断面図、第５図は第３図のＢ−Ｂ断面図、第６図
はシール板移動部の一実施例の概略図、第７図は第６図
のＤ−Ｄ断面図、第８図、第９図は、シール板移動部の
他の実施例の概略図で第１０図は、第９図のＥ−Ｅ断面
図である。 Ｆ・・・被処理物、１３・・・上ケース、１４・・・下
ケース、１５・・・シールブロック、２５・・・ガイド
ロール、２７・・・シール板、２８・・・シール板移動
部。 第６図 第　７　図 ２１　ｙ−ル抜 ３０　フランン 冨　９　図 ５−Ｅ ４θ　ロール ４１　　済りト ４２、ＩＬ３力゛３植 、ｔ４　　　ｙセット ｌニア０ 箒／ρ図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、真空処理室の前後方側に、被処理物を搬送し真空処
   理室を処理室外からシールするスリット状シール装置を
   有し、該シール装置の前後もしくは一方に被処理物を案
   内する案内部材を設けた予備真空室を、それぞれ少なく
   とも１ヶ配置してなる真空連続処理装置において、前記
   予備真空室のスリット状シール部分を被処理物の幅に応
   じて被処理物幅方向に可変できるシール板を備えたこと
   を特徴とする真空連続処理装置。 ２、シール板が被処理物の幅に応じて連続的に移動でき
   る特許請求の範囲第１項記載の真空連続処理装置。